CN117529180A - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板及其制作方法；该显示面板包括基板、阳极、凸起结构、隔离部、发光层以及阴极；阳极设置于基板的一侧；凸起结构设置于阳极远离基板一侧的表面；隔离部包覆凸起结构；发光层设置于阳极远离基板的一侧；阴极设置于发光层远离阳极的一侧；其中，阴极与凸起结构之间设置有隔离部；本发明通过形成包覆凸起结构的隔离部，可以降低阴极和阳极之间发生短接的概率，进而提高了显示面板的良品率和显示效果。

Description

显示面板及其制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示器件由于自发光、广色域、低功耗、可实现柔性显示等优点被广泛应用。

OLED电流驱动不同于LCD的电压驱动，在OLED驱动中，需要电流激发发光材料来发光，因此，若是阳极和阴极之间短接，将会使得对应的像素无法发光。

目前，在制程中，阳极上可能会形成异物或凸起，导致阳极和阴极短接，从而导致像素成暗点。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板及其制作方法，能够降低阳极和阴极之间发生短接的概率，提高显示面板的显示效果。

本发明实施例提供一种显示面板，其包括：

基板；

阳极，设置于所述基板上；

凸起结构，设置于所述阳极远离所述基板一侧的表面；

隔离部，包覆所述凸起结构；

发光层，设置于所述阳极远离所述基板的一侧；

阴极，设置于所述发光层远离所述阳极的一侧；

其中，所述阴极与所述凸起结构之间设置有所述隔离部。

在本发明的一种实施例中，所述显示面板还包括：

像素定义层，设置于所述基板上，且所述像素定义层中设置有对应所述阳极的像素开口，所述发光层设置于所述像素开口内；

其中，所述阴极覆盖于所述像素定义层远离所述基板的一侧，所述阴极延伸至所述像素开口内，且覆盖所述发光层以及所述隔离部。

在本发明的一种实施例中，所述隔离部远离所述基板一侧的表面至所述基板的间距小于或等于所述像素定义层远离所述基板一侧的表面至所述基板的间距。

在本发明的一种实施例中，所述隔离部的材料与所述像素定义层的材料相同。

在本发明的一种实施例中，所述隔离部的材料包括负性光阻材料。

在本发明的一种实施例中，所述凸起结构与所述阳极相连接，且所述凸起结构的材料与所述阳极的材料相同；

或者，所述凸起结构包括有机物颗粒或者粉尘。

在本发明的一种实施例中，所述隔离部远离所述凸起结构一侧的表面具有疏水性，所述发光层在所述基板上的正投影与所述隔离部在所述基板上的正投影不重叠。

在本发明的一种实施例中，所述发光层覆盖所述隔离部。

根据本发明的上述目的，本发明实施例还提供一种显示面板的制作方法，其包括：

在基板上形成阳极，所述阳极远离所述基板一侧的表面上形成有至少一凸起结构；

形成包覆所述凸起结构的隔离部；

在所述阳极远离所述基板的一侧形成发光层；

在所述发光层远离所述阳极的一侧形成阴极，且所述阴极与所述凸起结构之间间隔有所述隔离部。

在本发明的一种实施例中，所述形成包覆所述凸起结构的隔离部包括：

在所述阳极远离所述基板的一侧形成光阻层，且所述光阻层覆盖所述阳极；

对所述光阻层进行图案化处理，以形成像素定义层、以及包覆所述凸起结构的所述隔离部，所述像素定义层中形成有对应所述阳极的像素开口。

本发明的有益效果：本发明通过形成包覆凸起结构的隔离部，避免凸起结构刺穿膜层而导致阴极和阳极之间发生短接，进而提高了显示面板的良品率和显示效果。

附图说明

下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本发明实施例提供的显示面板的一种结构示意图；

图2为本发明实施例提供的显示面板的另一种结构示意图；

图3为本发明实施例提供的显示面板的制作方法流程图；

图4至图10为本发明实施例提供的显示面板的制作过程结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

本发明实施例提供一种显示面板，请参照图1，该显示面板包括基板10、阳极31、凸起结构311、隔离部41、发光层32以及阴极33。

其中，阳极31设置于基板10的一侧；凸起结构311设置于阳极31远离基板10一侧的表面；隔离部41覆盖凸起结构311；发光层32设置于阳极31远离基板10的一侧；阴极33设置于发光层32远离阳极31的一侧。

进一步地，阴极33和凸起结构311之间设置有隔离部41。

在实施应用过程中，本发明实施例通过形成包覆凸起结构311的隔离部41，避免凸起结构311刺穿膜层而导致阴极33和阳极31之间发生短接，进而提高了显示面板的良品率和显示效果。

具体地，请继续参照图1，本发明实施例提供的显示面板还包括设置于基板10上的薄膜晶体管层20、设置于薄膜晶体管层20远离基板10一侧的平坦层50、设置于平坦层50远离薄膜晶体管层20一侧的发光器件层以及像素定义层42。

其中，薄膜晶体管层20包括设置于基板10上的多个绝缘层以及被绝缘层间隔覆盖的薄膜晶体管器件；多个绝缘层包括设置于基板10上的缓冲层211、设置于缓冲层211远离基板10一侧的层间介质层212、以及设置于层间介质层212远离缓冲层211一侧的层间绝缘层213；而薄膜晶体管器件包括设置于基板10上并被缓冲层211覆盖的遮光层22、设置于缓冲层211远离基板10一侧的有源层23、设置于有源层23远离遮光层22一侧的栅极25、设置于层间介质层212远离缓冲层211一侧的漏极26和源极27；其中，薄膜晶体管层20还包括设置于栅极25和有源层23之间的栅极绝缘层24，漏极26和源极27穿过层间介质层212分别连接于有源层23的相对两端，且源极27还穿过层间介质层212以及缓冲层211与遮光层22相连接。

进一步地，薄膜晶体管层20还包括设置于层间绝缘层213远离层间介质层212一侧的转接层28，且转接层28可以连接于漏极26。

需要说明的是，漏极26和源极27表示薄膜晶体管器件的信号输入端和信号输出段，且两者位置可以进行互换。

平坦层50覆盖于层间绝缘层213远离层间介质层212的一侧，以消除或者减少薄膜晶体管层20远离基板10一侧表面的段差，以为后续膜层提供平坦表面。

像素定义层42设置于平坦层50远离层间绝缘层213的一侧，且像素定义层42中设置有多个像素开口401。

发光器件层包括层叠设置的阳极31、发光层32以及阴极33，其中，阳极31设置于平坦层50远离层间绝缘层213的一侧并穿过平坦层50与转接层28相连接，且阳极31对应像素开口401设置，像素开口401露出对应阳极31远离平坦层50一侧的表面，发光层32设置于像素开口401内并位于阳极31远离平坦层50的一侧，阴极33覆盖像素定义层42远离平坦层50的一侧，并延伸至像素开口401内且覆盖发光层32远离阳极31的一侧。

在本发明实施例中，阳极31远离平坦层50的一侧形成有至少一凸起结构311，需要说明的是，该凸起结构311可以是阳极31在进行图案化处理时所形成的凸起，则此时凸起结构311与阳极31相连接，且凸起结构311的材料与阳极31的材料相同；此外，凸起结构311也可以是在制程中掉落或者形成在阳极31上的有机物颗粒或者粉尘，在此不作限定。

且该凸起结构311可以导致阳极31和阴极33之间发生短接，使得对应的发光层32无法发光，形成暗点，因此，本发明实施例中在阳极31远离平坦层50的一侧形成隔离部41，且隔离部41包覆凸起结构311，进而阴极33延伸至像素开口401内覆盖隔离部41，阴极33与阳极31之间间隔有隔离部41，进而可以有效避免阴极33与阳极31之间发生短接，提高了显示面板的良品率和稳定性，提高了显示面板的显示效果。

需要说明的是，阴极33覆盖隔离部41并不一定表示阴极33覆盖隔离部41的表面，也可以是隔离部41位于阴极33的膜层覆盖范围内，中间可以间隔其他膜层。

在一种实施例中，隔离部41的材料与像素定义层42的材料相同，即隔离部41和像素定义层42可以在同一制程中形成。

进一步地，隔离部41的材料可以包括负性光阻材料。

在一种实施例中，隔离部41远离阳极31一侧的表面具有疏水性，进而发光层32在基板10上的正投影与隔离部41在基板10上的正投影不重叠，如图1所示。

在另一种实施例中，隔离部41远离阳极31一侧的表面不具有疏水性，则发光层32覆盖阳极31远离平坦层50一侧的表面，同时，发光层32还覆盖隔离部41，如图2所示。

在一种实施例中，隔离部41远离基板10一侧的表面到基板10的距离小于或等于像素定义层42远离基板10一侧的表面到基板10的距离，进而可以避免隔离部41凸起于像素定义层42的表面以产生较大段差。

需要说明的是，该显示面板还可以包括设置于阴极33远离基板10一侧的封装层、触控层、偏光片以及保护盖板中的至少一者，在此不作限定。

承上，本发明实施例通过形成包覆凸起结构311的隔离部41，避免凸起结构311刺穿膜层而导致使得阴极33和阳极31之间发生短接，进而提高了显示面板的良品率和显示效果。

进一步地，请结合图3、图4至图10，本发明实施例还提供一种上述实施例中所述的显示面板的制作方法，该显示面板的制作方法包括以下步骤：

S10、在基板10上形成阳极31，阳极31远离基板10一侧的表面上形成有至少一凸起结构311。

S20、形成包覆凸起结构311的隔离部41。

S30、在阳极31远离基板10的一侧形成发光层32。

S40、在发光层32远离阳极31的一侧形成阴极33，且阴极33与凸起结构311之间间隔有隔离部41。

在步骤S10中，提供基板10，且基板10可以包括刚性基板或者柔性基板。

在基板10上形成薄膜晶体管层20，具体包括在基板10上形成图案化的遮光层22、形成覆盖遮光层22的缓冲层211、在缓冲层211上形成有源层23、在有源层23上形成栅极绝缘层24、在栅极绝缘层24上形成栅极25、形成覆盖有源层23、栅极绝缘层24以及栅极25的层间介质层212、形成穿过层间介质层212的第一过孔以及穿过层间介质层212和缓冲层211的第二过孔、在层间介质层212上形成漏极26和源极27，其中，漏极26和源极27分别穿过第一过孔与有源层23的相对两端搭接，源极27还穿过第二过孔于遮光层22搭接。

在层间介质层212上形成层间绝缘层213，并在层间绝缘层213中形成第三过孔，在层间绝缘层213远离层间介质层212的一侧形成转接层28，而转接层28穿过第三过孔连接于漏极26。

在层间绝缘层213远离层间介质层212的一侧形成平坦层50，且平坦层50覆盖转接层28。

接着，对平坦层50进行图案化处理，以对应转接层28形成第四过孔，然后在平坦层50上形成阳极31，且阳极31穿过第四过孔与转接层28连接，如图4所示。

其中，阳极31远离平坦层50一侧的表面上形成有至少一凸起结构311，需要说明的是，该凸起结构311可以是阳极31在进行图案化处理时所形成的凸起，则此时凸起结构311与阳极31相连接，且凸起结构311的材料与阳极31的材料相同；此外，凸起结构311也可以是在制程中掉落或者形成在阳极31上的有机物颗粒或者粉尘，在此不作限定。

接着，通过检测设备对显示面板进行检测，以确认阳极31表面上凸起结构311的位置，并记录和保存凸起结构311的位置坐标点。

在步骤S20中，在平坦层50上涂布光阻层40，且光阻层40覆盖阳极31以及凸起结构311，如图5所示。

在一种实施例中，光阻层40的材料包括负性光阻材料。

然后，在光阻层40远离平坦层50的一侧设置掩模版60，且掩模版60包括对应阳极31的第一部分61以及连接于第一部分的第二部分62，其中，第一部分61为不透光，第二部分62为透光，并对光阻层40进行第一次曝光处理，如图6所示。

接着，去除掩模版60，并采用曝光设备70对应凸起结构311的位置进行点对点曝光，如图7所示。

然后，去除未被曝光的光阻层40，以在平坦层50上形成像素定义层42以及包覆凸起结构311的隔离部41，其中，第一次曝光形成像素定义层42以及像素开口401，而点对点曝光可以在像素开口401内形成包覆凸起结构311的隔离部41，如图8所示。

需要说明的是，本发明实施例中要通过光阻层40图案化形成隔离部41，进而采用负性光阻材料，可以采用点对点曝光来形成隔离部41，因此，本发明实施例中的光阻层40不能采用正性光阻材料来制备，因此正性光阻材料需要将未曝光的部分保留，而凸起结构311通常为孤岛状形成于阳极31表面，但是掩模版中无法形成悬浮的一部分来遮挡凸起结构311的位置，以形成包覆凸起结构311的光阻。

在步骤S30中，对应像素开口401形成发光层32，且发光层32覆盖阳极31远离平坦层50一侧的表面。

在一种实施例中，隔离部41远离阳极31一侧的表面具有疏水性，进而发光层32在基板10上的正投影与隔离部41在基板10上的正投影不重叠，如图9所示。

在另一种实施例中，隔离部41远离阳极31一侧的表面不具有疏水性，则发光层32覆盖阳极31远离平坦层50一侧的表面，同时，发光层32还覆盖隔离部41，如图10所示。

需要说明的是，由于光阻层40的材料中具有氟离子，当曝光量充足时，则可以将氟离子锁定在形成的隔离部41的表面，使得隔离部41远离阳极31一侧的表面呈疏水性，当曝光量不足时，则无法将氟离子锁定在隔离部41表面，使得隔离部41远离阳极31一侧的表面不具备疏水性。

在步骤S40中，在发光层32和像素定义层42远离薄膜晶体管层20的一侧形成阴极33，且阴极33覆盖像素定义层42远离薄膜晶体管层20的一侧，并延伸至像素开口401内以覆盖发光层32以及隔离部41，如图1或者图2所示。

综上所述，本发明实施例通过采用负性光阻材料来制备隔离部41和像素定义层42，在不增加材料使用的基础上，可以通过点对点曝光来形成包覆凸起结构311的隔离部41，降低了阳极31和阴极33之间发生短接的概率，提高了显示面板的良品率和显示效果。

另外，本发明实施例还提供一种显示装置，且显示装置包括上述实施例中所述的显示面板。

可以理解的是，由于该显示装置具有与上述实施例中相同的显示面板，因此，该显示装置具有与上述实施例中所述的显示面板相同的有益效果，在此不再赘述。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及其制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板；

阳极，设置于所述基板上；

凸起结构，设置于所述阳极远离所述基板一侧的表面；

隔离部，包覆所述凸起结构；

发光层，设置于所述阳极远离所述基板的一侧；

阴极，设置于所述发光层远离所述阳极的一侧；

其中，所述阴极与所述凸起结构之间设置有所述隔离部。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

像素定义层，设置于所述基板上，且所述像素定义层中设置有对应所述阳极的像素开口，所述发光层设置于所述像素开口内；

其中，所述阴极覆盖于所述像素定义层远离所述基板的一侧，所述阴极延伸至所述像素开口内，且覆盖所述发光层以及所述隔离部。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述隔离部远离所述基板一侧的表面至所述基板的间距小于或等于所述像素定义层远离所述基板一侧的表面至所述基板的间距。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述隔离部的材料与所述像素定义层的材料相同。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔离部的材料包括负性光阻材料。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凸起结构与所述阳极相连接，且所述凸起结构的材料与所述阳极的材料相同；

或者，所述凸起结构包括有机物颗粒或者粉尘。

7.根据权利要求1至6任一项所述的显示面板，其特征在于，所述隔离部远离所述凸起结构一侧的表面具有疏水性，所述发光层在所述基板上的正投影与所述隔离部在所述基板上的正投影不重叠。

8.根据权利要求1至6任一项所述的显示面板，其特征在于，所述发光层覆盖所述隔离部。

9.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上形成阳极，所述阳极远离所述基板一侧的表面上形成有至少一凸起结构；

形成包覆所述凸起结构的隔离部；

在所述阳极远离所述基板的一侧形成发光层；

在所述发光层远离所述阳极的一侧形成阴极，且所述阴极与所述凸起结构之间间隔有所述隔离部。

10.根据权利要求9所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述形成包覆所述凸起结构的隔离部包括：

在所述阳极远离所述基板的一侧形成光阻层，且所述光阻层覆盖所述阳极；

对所述光阻层进行图案化处理，以形成像素定义层、以及包覆所述凸起结构的所述隔离部，所述像素定义层中形成有对应所述阳极的像素开口。