CN117510069B - 一种具有凹凸效果的陶瓷岩板及制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种具有凹凸效果的陶瓷岩板及制备方法，属于陶瓷岩板技术领域，所述具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法包括：制备生坯，生坯上施底釉，预喷下陷墨水，喷亮光磨具釉，二次过喷墨机喷下陷墨水，进窑炉烧成缓慢降温并保温，最后缓慢降至室温。本发明含稀有金属无机材料功能墨水更加稳定，色系丰富，扩散梯度均匀、达到层次感更强更具立体感的效果；区别于采用“物理排开”的方式形成立体模具纹理，具有深刻凹凸纹理的陶瓷表面，其表面具有深层次的凹凸纹理，图案更清晰，硬度高，防污耐酸强。

Description

一种具有凹凸效果的陶瓷岩板及制备方法
技术领域
本发明属于陶瓷岩板技术领域，涉及一种具有凹凸效果的陶瓷岩板及制备方法。
背景技术
当前，随着全球陶瓷行业进入飞速发展的大时代以及家装行业全屋定制的盛行，全国兴起岩板热潮，由此国内岩板形成百家争鸣的局势。目前模具面陶瓷岩板主要通过以下三种工艺实现：1、在平面坯体表面辊筒印刷凸釉，该装饰效果相对单一，模纹精细程度局限；2、喷墨打印雕刻墨水后施加保护釉，其虽然可以形成立体雕刻纹理，但会导致保护釉剥开，由此保护釉烧成温度相对高且高温黏度大的特点使得保护釉施加量高会导致透感和发色较差，保护釉施加量少会导致雕刻深度低；3、采用传统模具压制成型来制备模具面岩板，存在开模成本高、优等率低的缺陷并严重限制了该工艺在工业生产上的应用。因此避免以上劣势，进一步优化具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备工艺是当前陶瓷岩板行业亟待解决的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具有凹凸效果的陶瓷岩板及制备方法，采用制备生坯，生坯上施底釉，预喷下陷墨水，喷亮光磨具釉，二次过喷墨机喷下陷墨水，进窑炉烧成并保温缓慢降温的制备步骤，具体通过以下技术方案实现：
一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
M1：制备生坯，生坯上施底釉，所述底釉包括如下重量份原料：8～13份霞石、25～35份钠长石、5～10份高岭土、2～5份球土、5～10份煅烧氧化铝、10～15份石英、5～10份碳酸钡、15～25份钾长石、3份氧化锌、15～20份低温熔块；
M2：预喷墨：先设计花纹和颜色，过喷墨机喷下陷墨水；
M3：喷亮光磨具釉；
M4：二次过喷墨机喷下陷墨水；
M5：进窑炉烧成，缓慢降温至中温，保温，最后再缓慢降温至室温。
作为本发明的优选技术方案，所述底釉的制备包括如下步骤：按照底釉原料及其重量份数称取原料，搅拌混合均匀，并加入去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素球磨6～10h，过筛，除铁制得底釉。
作为本发明的优选技术方案，所述底釉的制备步骤中的去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素占所述底釉原料的重量百分比分别为35～45％、0.2～0.5％、0.1～0.3％。
作为本发明的优选技术方案，所述亮光磨具釉包括如下重量份的化学成分：8～12份氧化铝、45～55份氧化硅、9～15份氧化钙、2～6份氧化镁、5～7份氧化钡、1～3份氧化钠、4～6份氧化钾、0.2～1份氧化硼、6～8份氧化锌。
作为本发明的优选技术方案，所述低温熔块包含如下重量份的化学成分：
8～10份氧化铝、40～50份氧化硅、12～18份氧化钙、3～5份氧化镁、10～12份氧化钡、3～5份氧化钠、0.2～1份氧化硼。
作为本发明的优选技术方案，所述下陷墨水包含如下重量份的化学成分：
4～6份氧化铝、60～65份氧化硅、13～18份氧化钙、1～2份氧化镁、1～5份氧化钾、5～8份氧化锌、0.5～2份氧化钇、2～5份五氧化二钽。
作为本发明的优选技术方案，所述底釉和亮光磨具釉施釉工艺均为喷釉，所述底釉喷釉的工艺参数为：400～500g/m2，所述亮光磨具釉喷釉的工艺参数为：300～400g/m2。
作为本发明的优选技术方案，所述窑炉温度为1100～1140℃，烧成时间为30～60min，中温温度为500～600℃，保温时间为1～3h，缓慢降温速率为10～15℃/min。
一种具有凹凸效果的陶瓷岩板，所述具有凹凸效果的陶瓷岩板由上述制备方法制备得到。
本发明的有益效果：
本发明含稀有金属无机材料功能墨水更加稳定，色系丰富，扩散梯度均匀、达到层次感更强更具立体感的效果。
本发明的技术方案区别于采用“物理排开”的方式形成立体模具纹理，采用底釉和磨具釉穿插二次喷墨的技术方法，使釉料和墨水油水分离，有墨水的区域釉料被排开，形成具有深刻凹凸纹理的陶瓷表面，釉面不易剥开裂开，且图案更清晰，防污耐酸强；并采用保温缓慢降温步骤，提高了釉面的致密性，进一步保护釉面的稳定性。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为实现预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合实施例，对依据本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下。
实施例1
一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
M1：制备生坯，生坯上施底釉，所述底釉包括如下重量份原料：8份霞石、25份钠长石、10份高岭土、5份球土、5份煅烧氧化铝、12份石英、8份碳酸钡、22份钾长石、3份氧化锌、18份低温熔块；
M2：预喷墨：先设计花纹和颜色，过喷墨机喷下陷墨水；
M3：喷亮光磨具釉；
M4：二次过喷墨机喷下陷墨水；
M5：进窑炉烧成，缓慢降温至中温，保温，最后再缓慢降温至室温。
所述底釉的制备包括如下步骤：按照底釉原料及其重量份数称取原料，搅拌混合均匀，并加入去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素球磨8h，过筛，除铁制得底釉。
所述底釉的制备步骤中的去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素占所述底釉原料的重量百分比分别为39.5％、0.4％、0.15％。
所述亮光磨具釉包括如下重量份的化学成分：8份氧化铝、46份氧化硅、12份氧化钙、4份氧化镁、6.5份氧化钡、1.6份氧化钠、4.8份氧化钾、0.4份氧化硼、6份氧化锌。
所述低温熔块包含如下重量份的化学成分：
9.2份氧化铝、44.3份氧化硅、16.8份氧化钙、4.5份氧化镁、10份氧化钡、3份氧化钠、0.3份氧化硼。
所述下陷墨水包含如下重量份的化学成分：
5份氧化铝、62.1份氧化硅、15.8份氧化钙、1.24份氧化镁、2.5份氧化钾、6.8份氧化锌、0.6份氧化钇、2.8份五氧化二钽。
所述底釉和亮光磨具釉施釉工艺均为喷釉，所述底釉喷釉的工艺参数为：500g/m2，所述亮光磨具釉喷釉的工艺参数为：35g/m2。
所述窑炉温度为1120℃，烧成时间为60min，中温温度为550℃，保温时间为2h，缓慢降温速率为10℃/min。
一种具有凹凸效果的陶瓷岩板，所述具有凹凸效果的陶瓷岩板由上述制备方法制备得到。
实施例2
一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
M1：制备生坯，生坯上施底釉，所述底釉包括如下重量份原料：13份霞石、30份钠长石、8份高岭土、4份球土、8份煅烧氧化铝、12份石英、8份碳酸钡、20份钾长石、3份氧化锌、20份低温熔块；
M2：预喷墨：先设计花纹和颜色，过喷墨机喷下陷墨水；
M3：喷亮光磨具釉；
M4：二次过喷墨机喷下陷墨水；
M5：进窑炉烧成，缓慢降温至中温，保温，最后再缓慢降温至室温。
所述底釉的制备包括如下步骤：按照底釉原料及其重量份数称取原料，搅拌混合均匀，并加入去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素球磨8h，过筛，除铁制得底釉。
所述底釉的制备步骤中的去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素占所述底釉原料的重量百分比分别为35％、0.3％、0.2％。
所述亮光磨具釉包括如下重量份的化学成分：9.2份氧化铝、45.7份氧化硅、8份氧化钙、5份氧化镁、5.28份氧化钡、1.47份氧化钠、4.5份氧化钾、0.3份氧化硼、7.5份氧化锌。
所述低温熔块包含如下重量份的化学成分：
9份氧化铝、45份氧化硅、14份氧化钙、3.6份氧化镁、10.2份氧化钡、4份氧化钠、0.5份氧化硼。
所述下陷墨水包含如下重量份的化学成分：
5.51份氧化铝、63.67份氧化硅、16.61份氧化钙、1.32份氧化镁、2.64份氧化钾、7.25份氧化锌、1.2份氧化钇、3.18份五氧化二钽。
所述底釉和亮光磨具釉施釉工艺均为喷釉，所述底釉喷釉的工艺参数为：500g/m2，所述亮光磨具釉喷釉的工艺参数为：35g/m2。
所述窑炉温度为1120℃，烧成时间为45min，以10℃/min降温速率降至580℃，保温时间为2h，再10℃/min缓慢降至室温。
一种具有凹凸效果的陶瓷岩板，所述具有凹凸效果的陶瓷岩板由上述制备方法制备得到。
实施例3
一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
M1：制备生坯，生坯上施底釉，所述底釉包括如下重量份原料：11份霞石、30份钠长石、8份高岭土、3份球土、8份煅烧氧化铝、12份石英、8份碳酸钡、22份钾长石、3份氧化锌、18份低温熔块；
M2：预喷墨：先设计花纹和颜色，过喷墨机喷下陷墨水；
M3：喷亮光磨具釉；
M4：二次过喷墨机喷下陷墨水；
M5：进窑炉烧成，缓慢降温至中温，保温，最后再缓慢降温至室温。
所述底釉的制备包括如下步骤：按照底釉原料及其重量份数称取原料，搅拌混合均匀，并加入去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素球磨8h，过筛，除铁制得底釉。
所述底釉的制备步骤中的去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素占所述底釉原料的重量百分比分别为42％、0.3％、0.1％。
所述亮光磨具釉包括如下重量份的化学成分：10.3份氧化铝、51.2份氧化硅、12份氧化钙、3份氧化镁、5.6份氧化钡、2.5份氧化钠、5份氧化钾、0.5份氧化硼、6.9份氧化锌。
所述低温熔块包含如下重量份的化学成分：
9份氧化铝、42份氧化硅、15.2份氧化钙、3.7份氧化镁、11份氧化钡、4份氧化钠、0.8份氧化硼。
所述下陷墨水包含如下重量份的化学成分：
4份氧化铝、63份氧化硅、15份氧化钙、2份氧化镁、1份氧化钾、5份氧化锌、0.5份氧化钇、3份五氧化二钽。
所述底釉和亮光磨具釉施釉工艺均为喷釉，所述底釉喷釉的工艺参数为：500g/m2，所述亮光磨具釉喷釉的工艺参数为：35g/m2。
所述窑炉温度为1140℃，烧成时间为60min，中温温度为550℃，保温时间为2h，缓慢降温速率为10℃/min。
一种具有凹凸效果的陶瓷岩板，所述具有凹凸效果的陶瓷岩板由上述制备方法制备得到。
实施例4
一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
M1：制备生坯，生坯上施底釉，所述底釉包括如下重量份原料：10份霞石、28份钠长石、9份高岭土、2份球土、8份煅烧氧化铝、12份石英、8份碳酸钡、20份钾长石、3份氧化锌、18份低温熔块；
M2：预喷墨：先设计花纹和颜色，过喷墨机喷下陷墨水；
M3：喷亮光磨具釉；
M4：二次过喷墨机喷下陷墨水；
M5：进窑炉烧成，缓慢降温至中温，保温，最后再缓慢降温至室温。
所述底釉的制备包括如下步骤：按照底釉原料及其重量份数称取原料，搅拌混合均匀，并加入去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素球磨10h，过筛，除铁制得底釉。
所述底釉的制备步骤中的去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素占所述底釉原料的重量百分比分别为40％、0.5％、0.3％。
所述亮光磨具釉包括如下重量份的化学成分：10份氧化铝、48份氧化硅、12份氧化钙、2份氧化镁、7份氧化钡、2份氧化钠、5份氧化钾、0.5份氧化硼、7份氧化锌。
所述低温熔块包含如下重量份的化学成分：
9份氧化铝、42份氧化硅、12份氧化钙、3份氧化镁、10份氧化钡、5份氧化钠、0.2份氧化硼。
所述下陷墨水包含如下重量份的化学成分：
6份氧化铝、62份氧化硅、13份氧化钙、2份氧化镁、2份氧化钾、7份氧化锌、0.5份氧化钇、2份五氧化二钽。
所述底釉和亮光磨具釉施釉工艺均为喷釉，所述底釉喷釉的工艺参数为：500g/m2，所述亮光磨具釉喷釉的工艺参数为：350g/m2。
所述窑炉温度为1130℃，烧成时间为60min，中温温度为580℃，保温时间为2h，缓慢降温速率为10℃/min。
一种具有凹凸效果的陶瓷岩板，所述具有凹凸效果的陶瓷岩板由上述制备方法制备得到。
对比例1
在实施例1的基础上，不进行预喷墨。
对比例2
在实施例1的基础上，烧成后不进行保温，烧成后自然降温至室温。
对比例3
在实施例1的基础上，下陷墨水中不添加稀有金属氧化物氧化钇、五氧化二钽。
对比例4
在实施例1的基础上，下陷墨水中氧化钇用等重量份数的五氧化二钽代替。
对比例5
在实施例1的基础上，下陷墨水中五氧化二钽用等重量份数的氧化钇代替。
性能测试：
1.耐磨性能的测试
试验材料：由实施例1～4以及对比例1～2所制得的陶瓷岩板。
试验方法：依据GB/T3810.7-2006的方法测定陶瓷岩板表面的耐磨性进行测定。
试验结果：结果如表1所示。
表1耐磨性能测试结果
组别 耐磨等级
实施例1 5
实施例2 5
实施例3 5
实施例4 5
对比例1 3
对比例2 4
由表1的数据可知实施例1～4相对于对比例1～2制得的陶瓷岩板具有更优的耐磨性能。
2.耐酸性能测试
试验材料：实施例1～4和对比例1～2制得的陶瓷岩板。
试验方法：依据标GB/T 7938-2013测定瓷层耐酸性能。
试验结果：依法测定6批样品，结果见表2。
表2耐酸性能测定结果
由表2的数据可知，实施例1～4比对比例1～2制得的陶瓷岩板具有更优异的耐酸性能。
3.照射试验
将实施例1～4以及对比例1、3～5制备得到的陶瓷材料作为试样，在400W的白炽灯直射，直射距离25cm，考察白炽灯直射条件下以及自然光(中午12-14点)下，观察到的图案颜色情况；具体观察结果如下表3所示：
表3照射测试结果
试样 白炽灯(纹理图案) 自然光(纹理图案)
实施例1 +++++ +++++
实施例2 +++++ +++++
实施例3 +++++ +++++
实施例4 +++++ +++++
对比例1 +++ ++
对比例3 ++++ +++
对比例4 ++++ +++
对比例5 ++++ +++
注：“+”为清晰可见度，越多清晰可见度越大，越少则反之。
从表3的照射结果中可以看出，实施例1～4的制备的陶瓷材料在白炽灯和自然光下纹理图案都清晰可见，富有通透感，显示出明显的立体感。对比例1、3～5在白炽灯直射下纹理图案清晰度稍弱，立体感下降。自然光下纹理图案清晰度较弱。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然而并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简介修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (6)

1.一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
M1：制备生坯，生坯上施底釉，所述底釉包括如下重量份原料：8~13份霞石、25~35份钠长石、5~10份高岭土、2~5份球土、5~10份煅烧氧化铝、10~15份石英、5~10份碳酸钡、15~25份钾长石、3份氧化锌、15~20份低温熔块；
M2：预喷墨：先设计花纹和颜色，过喷墨机喷下陷墨水；
M3：喷亮光磨具釉；
M4：二次过喷墨机喷下陷墨水；
M5：进窑炉烧成，缓慢降温至中温，保温，最后再缓慢降温至室温；
所述亮光磨具釉包括如下重量份的化学成分：8~12份氧化铝、45~55份氧化硅、9~15份氧化钙、2~6份氧化镁、5~7份氧化钡、1~3份氧化钠、4~6份氧化钾、0.2~1份氧化硼、6~8份氧化锌；
所述下陷墨水包含如下重量份的化学成分：
4~6份氧化铝、60~65份氧化硅、13~18份氧化钙、1~2份氧化镁、1~5份氧化钾、5~8份氧化锌、0.5~2份氧化钇、2~5份五氧化二钽；
所述窑炉温度为1100~1140℃，烧成时间为30~60 min，中温温度为500~600℃，保温时间为1~3 h，缓慢降温速率为10～15℃/min。
2.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法，其特征在于，所述底釉的制备包括如下步骤：按照底釉原料及其重量份数称取原料，搅拌混合均匀，并加入去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素球磨6~10 h，过筛，除铁制得底釉。
3.根据权利要求2所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法，其特征在于，所述底釉的制备步骤中的去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素占所述底釉原料的重量百分比分别为35~45%、0.2~0.5%、0.1~0.3%。
4.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法，其特征在于，所述低温熔块包含如下重量份的化学成分：
8~10份氧化铝、40~50份氧化硅、12~18份氧化钙、3~5份氧化镁、10~12份氧化钡、3~5份氧化钠、0.2~1份氧化硼。
5.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法，其特征在于，所述底釉和亮光磨具釉施釉工艺均为喷釉，所述底釉喷釉的工艺参数为：400~500 g/m2，所述亮光磨具釉喷釉的工艺参数为：300~400 g/m2。
6.一种具有凹凸效果的陶瓷岩板，其特征在于，所述具有凹凸效果的陶瓷岩板由权利要求1~5任一项所述制备方法制备得到。
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