CN117479659A - 显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板。该显示面板包括显示区、传感器感光区、以及位于显示区和传感器感光区之间的过渡区;显示面板还包括基板和设置于基板上的显示功能层;显示功能层包括设置于显示区内的显示部以及设置于过渡区内的挡墙结构,挡墙结构包括挡墙层;其中,挡墙结构包括相连接的凸起子区和凹陷子区,凹陷子区内和凸起子区内均设置有挡墙层,凹陷子区内挡墙层的数量大于或等于1,且小于凸起子区内挡墙层的数量,挡墙结构在凹陷子区内的高度小于挡墙结构在凸起子区内的高度。本发明可以减小凹陷子区的宽度,减小了挡墙结构的宽度,以减小过渡区的宽度,提高了显示面板的屏占比。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板。
背景技术
有机发光二极管(organic light emitting diode,OLED)显示技术是一种可以自发光的显示技术,不需要背光,而且具有高亮度、低功耗、宽视角、高响应速度等优点,目前已广泛应用于手机面板显示行业。显示面板除了显示面以外,还有摄像头等传感器部件,也占据了相当的一部分的屏占比。如何有效增加显示面的屏占比,提高显示面板的美观性成为了目前的设计主流。
其中,通过在传感器部件对应的屏体上挖孔,以提高透光率;但是,当屏体中的有机层延伸至孔的周侧时,会形成水汽入侵通道,使得水汽由孔处延伸至屏体内,进而影响器件性能和稳定性。
目前,常通过在孔的周侧设置多圈挡墙,以阻挡有机层的延伸,但是由于多圈挡墙需要占据较大的空间,使得传感器部件所对应的区域面积增大,降低了显示面的屏占比。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板,能够减小挡墙结构的宽度,进而减小过渡区的宽度,提高显示面板的屏占比。
本发明实施例提供一种显示面板,所述显示面板包括显示区、传感器感光区、以及位于所述显示区和所述传感器感光区之间的过渡区;
所述显示面板还包括:
基板;
显示功能层,设置于所述基板上,所述显示功能层包括设置于所述显示区内的显示部以及设置于所述过渡区内的挡墙结构,所述挡墙结构包括挡墙层;
其中,所述挡墙结构包括相连接的凸起子区和凹陷子区,所述凹陷子区内和所述凸起子区内均设置有所述挡墙层,所述凹陷子区内所述挡墙层的数量大于或等于1,且小于所述凸起子区内所述挡墙层的数量,所述挡墙结构在所述凹陷子区内的高度小于所述挡墙结构在所述凸起子区内的高度。
在本发明的一种实施例中,所述挡墙层包括层叠设置的第一挡墙层、第二挡墙层以及第三挡墙层,所述第一挡墙层中设置有位于所述凹陷子区的第一开口。
在本发明的一种实施例中,所述第一挡墙层位于所述基板和所述第二挡墙层之间,所述第三挡墙层位于所述第二挡墙层远离所述第一挡墙层的一侧,其中,所述第二挡墙层和/或所述第三挡墙层覆盖所述第一开口。
在本发明的一种实施例中,所述第二挡墙层中设置有位于所述凹陷子区并与所述第一开口相连通的第二开口,所述第三挡墙层覆盖所述第一开口以及所述第二开口;
或者,所述第二挡墙层覆盖所述第一开口,所述第三挡墙层中设置有位于所述第二挡墙层远离所述基板一侧并位于所述凹陷子区的第三开口;
或者,所述第二挡墙层以及所述第三挡墙层覆盖所述第一开口。
在本发明的一种实施例中,所述第一挡墙层位于所述第二挡墙层远离所述第三挡墙层的一侧,所述第三挡墙层位于所述基板和所述第二挡墙层之间,且所述第一开口和所述基板之间至少间隔有所述第三挡墙层。
在本发明的一种实施例中,所述第二挡墙层中设置有位于所述凹陷子区并与所述第一开口相连通的第二开口。
在本发明的一种实施例中,所述第一挡墙层设置于所述第二挡墙层和所述第三挡墙层之间,所述第二挡墙层设置于所述基板和所述第一挡墙层之间。
在本发明的一种实施例中,所述第一挡墙层包括层叠设置的多个子层,且所述第一开口穿过多个所述子层中的部分或全部。
在本发明的一种实施例中,所述显示面板在所述传感器感光区内设置有透光孔,所述挡墙结构包括至少两个所述凸起子区,所述凹陷子区位于相邻的所述凸起子区之间,其中,所述挡墙结构环绕所述透光孔设置,且所述凹陷子区环绕所述透光孔设置。
在本发明的一种实施例中,所述显示面板还包括封装层,且所述封装层包括至少两个无机封装子层以及夹设于相邻两个所述无机封装子层之间的有机封装子层,其中:
所述有机封装子层的覆盖边界位于所述凹陷子区内,或者位于所述凸起子区内,或者位于所述挡墙结构远离所述透光孔的一侧。
本发明的有益效果:本发明通过对挡墙结构在凸起子区和凹陷子区内的挡墙层数量进行差异化设置,以在挡墙结构中形成凹凸的形貌,以使得挡墙结构对膜层材料的阻挡作用接近于相关技术中一个以上的挡墙所具备的阻挡作用;同时,本发明中可以通过对挡墙结构中的挡墙层进行蚀刻,以选择性去除凹陷子区内的部分挡墙层,相对于相关技术,不需要蚀刻所有膜层,减少了蚀刻次数,进而降低了蚀刻工艺精度波动的影响,不需要预留较大空间来缓冲蚀刻工艺精度波动的影响,进而可以减小凹陷子区的宽度,减小了挡墙结构的宽度,以减小过渡区的宽度,提高了显示面板的屏占比。
附图说明
下面结合附图,通过对本发明的具体实施方式详细描述,将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为相关技术中提供的一种显示面板的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的显示面板的一种结构示意图;
图3为本发明实施例提供的显示面板的一种平面分布示意图;
图4为本发明实施例提供的挡墙结构的一种结构示意图;
图5为本发明实施例提供的挡墙结构的另一种结构示意图;
图6为本发明实施例提供的挡墙结构的另一种结构示意图;
图7为本发明实施例提供的挡墙结构的另一种结构示意图;
图8为本发明实施例提供的挡墙结构的另一种结构示意图;
图9为本发明实施例提供的挡墙结构的一种制程结构示意图;
图10为本发明实施例提供的挡墙结构的另一种结构示意图;
图11为本发明实施例提供的挡墙结构的另一种结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本发明。此外,本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
请参照图1,显示面板包括基板1、设置于基板1上的显示器件层2和驱动电路3、显示区AA、边框区BA以及位于透光区TA,其中,并对应透光区AA设置摄像头等器件,来实现显示面板的多功能化;因此,常在显示面板的透光区TA设置开孔,以提高透光率,为了避免封装层中的有机层在开孔侧壁处形成水汽入侵通道,常通过在透光区TA周侧的边框区BA内设置多个挡墙;例如第一挡墙4和第二挡墙5;需要说明的是,由于第一挡墙4和第二挡墙5是与显示器件层2中的部分膜层一起形成,即第一挡墙4和第二挡墙5各自都是多个膜层堆叠而成,且通过各膜层的光刻工艺得到,但是,由于第一挡墙4和第二挡墙5中的膜层数量较多,且每个膜层在光刻工艺中需要考虑到精度波动的问题,因此,需要在第一挡墙4和第二挡墙5之间预留一定宽度,来缓冲光刻工艺精度波动带来的影响,且一般第一挡墙4和第二挡墙5之间的间距在25微米到30微米之间;导致边框区BA需要预留较宽的位置来设置挡墙,进而增加了该边框区BA的宽度,降低了显示面板的屏占比。
请结合图2和图3,本发明实施例提供一种显示面板,该显示面板包括显示区101、传感器感光区102、以及位于显示区101和传感器感光区102之间的过渡区103。
进一步地,该显示面板还包括基板10以及显示功能层30,该显示功能层30设置于基板10上,并包括设置于显示区101内的显示部31以及设置于过渡区103内的挡墙结构20,挡墙结构20包括挡墙层。
其中,挡墙结构20包括相连接的凸起子区201和凹陷子区202,凹陷子区202内和凸起子区201内均设置有挡墙层,凹陷子区202内挡墙层的数量大于或等于1,且小于凸起子区201内挡墙层的数量,挡墙结构20在凹陷子区202内的高度小于挡墙结构20在凸起子区201内的高度。
在实施应用过程中,本发明实施例通过对挡墙结构20在凸起子区201和凹陷子区202内的挡墙层数量进行差异化设置,可以选择性去除凹陷子区202内的部分挡墙层,以在挡墙结构20中形成凹凸的形貌,以使得挡墙结构20对膜层材料的阻挡作用接近于相关技术中一个以上的挡墙所具备的阻挡作用;同时,本发明实施例中可以通过对挡墙结构20中的部分挡墙层进行蚀刻,以选择性去除凹陷子区202内的部分挡墙层,相对于相关技术,不需要蚀刻所有膜层,减少了蚀刻次数,进而降低了蚀刻工艺精度波动的影响,不需要预留较大空间来缓冲蚀刻工艺精度波动的影响,进而可以减小凹陷子区202的宽度,减小了挡墙结构20的宽度,以减小过渡区103的宽度,提高了显示面板的屏占比。
具体地,请继续结合图2和图3,在本发明实施例中,该显示面板包括显示区101、传感器感光区102以及过渡区103;其中,显示区101为显示面板进行画面显示的区域,而传感器感光区102为显示面板对应放置传感器的区域,例如摄像头等器件,而过渡区103位于显示区101和传感器感光区102之间。
需要说明的是,该显示面板包括设置于传感器感光区102之间的透光孔,该透光孔可以有效提高显示面板在传感器感光区102内的透光率,以提高传感器的传感效果,且过渡区103环绕透光孔设置,可视为透光孔的边框区域。
进一步地,显示面板还包括基板10以及设置于基板10上的显示功能层30,该显示功能层30包括位于显示区101内的显示部31、位于过渡区103内的驱动电路单元32以及挡墙结构20。
在一种实施例中,透光孔可以穿过至少部分基板10和至少部分显示功能层30,具体可以根据实际透光率需求进行选择,在此不作限定。
其中,显示部31包括设置于显示区101内的薄膜晶体管阵列层、平坦层、像素定义层、隔垫层(PhotoSpacer,PS)、阳极层、有机发光层以及阴极层等;驱动电路单元32可以包括设置在过渡区103内的薄膜晶体管器件、信号走线以及电容器等器件组成的电路结构,并可以与显示部31相连接。
挡墙结构20设置于驱动电路单元32远离显示部31的一侧;需要说明的是,显示面板还包括设置于显示功能层30远离基板10一侧的封装层(图中并未示出),且封装层包括至少两个无机封装子层以及夹设于相邻两个无机封装子层之间的有机封装子层,其中,有机封装子层可以采用有机材料制成,可以使得提高显示面板的膜层平坦度,同时,可以起到缓冲应力的作用;但是,由于有机封装子层不具备阻水效果,其内可以形成水汽入侵通道。为了避免由于有机封装子层延伸至传感器感光区102的透光孔处,而水汽由透光孔处的有机封装子层入侵至显示面板内部导致显示面板失效的现象发生,本发明实施例将挡墙结构20设置在透光孔和显示部31、驱动电路单元32之间,以起到阻挡有机封装子层的作用。
在本发明实施例中,挡墙结构20包括相连接的凸起子区201和凹陷子区202,且挡墙结构20在凹陷子区202内的高度小于挡墙结构20在凸起子区201内的高度,以在挡墙结构20中形成凹凸的形貌,以使得挡墙结构20对膜层材料的阻挡作用接近于相关技术中一个以上的挡墙所具备的阻挡作用;同时,本发明实施例中可以通过对挡墙结构20中的挡墙层进行蚀刻,以选择性去除凹陷子区202内的部分挡墙层,相对于相关技术,不需要蚀刻所有膜层,减少了蚀刻次数,进而降低了蚀刻工艺精度波动的影响,不需要预留较大空间来缓冲蚀刻工艺精度波动的影响,进而可以减小凹陷子区202的宽度,减小了挡墙结构20的宽度,以减小过渡区103的宽度,提高了显示面板的屏占比。
在一种实施例中,有机封装子层的覆盖边界位于凹陷子区202内,或者位于凸起子区201内,或者位于挡墙结构20远离透光孔的一侧。
在一种实施例中,挡墙结构20可以包括多个凸起子区201以及位于相邻的凸起子区201之间的凹陷子区202,进而可以在相邻挡墙结构20中位于凹陷子区202的位置形成凹槽,以增大挡墙结构20对有机封装子层的阻挡作用。
可理解的是,过渡区103以及挡墙结构20皆环绕透光孔设置,则凹陷子区202内形成的凹槽也环绕透光孔设置。
进一步地,挡墙结构20包括至少两个挡墙层,即挡墙结构20由至少两个挡墙层堆叠形成。具体地,各挡墙层可以选择与显示部31中的部分膜层为同一膜层,并可以在同一道光罩中形成,例如挡墙层可以与显示部31中的平坦层、像素定义层以及隔垫层为同一膜层,并在同一道光罩中形成。
可以理解的是,凹陷子区202内挡墙层的数量大于1,且小于凸起子区201内挡墙层的数量,进而可以减少挡墙结构20在形成过程中的蚀刻次数。
在一种实施例中,挡墙层的数量可以大于或等于3,以使得挡墙结构20在凹陷子区202内形成的凹槽具有一定的深度,可以对有机封装子层的起到有效的阻挡作用。
在一种实施例中,挡墙结构20的数量可以为一个,即本发明实施例通过设置一个挡墙结构20,并通过在挡墙结构20中形成凹凸的形貌,使其对有机封装子层的作用可以接近于相关技术中的两个挡墙,以进一步缩减过渡区103的宽度。
在本发明的一种实施例中,请结合图2和图4,挡墙层包括层叠设置的第一挡墙层21、第二挡墙层22以及第三挡墙层23,其中,第一挡墙层21位于基板10和第二挡墙层22之间,第三挡墙层23位于第二挡墙层22远离第一挡墙层21的一侧;凸起子区201内设置有第一挡墙层21、第二挡墙层22以及第三挡墙层23,而凹陷子区202内设置有第二挡墙层22以及第三挡墙层23。
具体地,挡墙结构20包括两个凸起子区201以及位于两个凸起子区201之间的凹陷子区202。
第一挡墙层21中设置有位于凹陷子区202的第一开口210,即第一挡墙层21在凹陷子区202内隔断,以形成环绕透光孔设置的第一开口210,而第二挡墙层22和第三挡墙层23覆盖第一挡墙层21以及第一开口210。
需要说明的是,第一挡墙层21位于挡墙结构20的最下层,而第二挡墙层22和第三挡墙层23在覆盖第一开口210后会形成凹槽,由于各挡墙层具有一定的厚度,则凹槽的尺寸会小于第一开口210的尺寸,而本发明实施例附图中凹陷子区202的划分范围是根据凹槽划分而成,因此,图中显示第一开口210的尺寸会稍大于凹陷子区202的尺寸;同理,在后续实施例中,在覆盖挡墙层中形成的开口之后,若有其他挡墙层覆盖该开口,则会导致当挡墙结构20中形成的凹槽的尺寸小于该开口的尺寸。
在本实施例中,由于在挡墙结构20中形成了凹槽,且该凹槽是去除了位于凹陷子区202内的第一挡墙层21形成的,因此,本实施例中在形成挡墙结构20时仅需要进行一道光刻工艺,相对于图1所示的相关技术而言,减少了光刻工艺的次数,降低了光刻工艺精度波动的影响,则不需要为形成凹槽预留较大宽度,减小了凹槽的宽度,减小了过渡区103的宽度,提高了显示面板的屏占比。
可选的,第一开口210沿平行于基板10方向上的长度可以大于或等于10微米,且小于或等于15微米,相对于图1所示的第一挡墙4和第二挡墙5之间的间距,本发明实施例中第一开口210的长度得到了有效的缩减,可以有效减小过渡区103的宽度。
进一步地,在图1所示的相关技术中,由于第一挡墙4或者第二挡墙5两侧处的空间较大,进而在形成挡墙的堆叠膜层时,膜层材料容易相挡墙两侧的位置流动,使得第一挡墙4和第二挡墙5不容易成型,为了提高其成型稳定性,相关技术中需要增大第一挡墙4和第二挡墙5各自的宽度,使得膜层材料即使发生流动也可以形成挡墙的凸起结构,例如相关技术第一挡墙4和第二挡墙5的宽度一般需要设置为30微米至40微米之间。
但是,在本发明实施例中,由于挡墙结构20的中间为一凹槽,其空间较小,因此,在第一挡墙层21上形成第二挡墙层22和第三挡墙层23时,膜层材料向凹槽侧流动的空间较少,使得膜层材料的流动范围减小,进而挡墙结构20中的第二挡墙层22和第三挡墙层23更容易成型,则挡墙结构20沿平行于基板10方向上的长度可以做得更小,且小于30微米,进一步减小过渡区103的宽度,提高屏占比。
可选的,为了保证挡墙结构20对有机封装子层的材料的阻挡效果,当挡墙结构20沿平行于基板10方向上的长度还需要大于或等于20微米。
在一种实施例中,第一挡墙层21可以与显示部31中的平坦层为同一膜层结构,并与平坦层在同一道光罩中形成,第二挡墙层22可以与显示部31中的像素定义层为同一膜层结构,并与像素定义层在同一道光罩中形成,第三挡墙层23可以与显示部31中的隔垫层为同一膜层结构,并与隔垫层在同一道光罩中形成。
在本发明的另一种实施例中,请结合图2和图5,本实施例与图4所示实施例的区别之处在于:第二挡墙层22中设置有位于凹陷子区202的第二开口220,且第二开口220与第一开口210相连通,第三挡墙层23覆盖第一开口210和第二开口220。
本实施例相对于图4所示实施例中,增加了挡墙结构20中凹槽的深度,进而提高了挡墙结构20对有机封装子层的膜层材料的阻挡效果。
在本发明的另一种实施例中,请结合图2和图6,本实施例与图4所示实施例的区别之处在于:第三挡墙层23中设置有位于凹陷子区202的第三开口230,且第三开口230和基板10之间间隔有第二挡墙层22。
具体地,第二挡墙层22覆盖第一挡墙层21的侧壁以及第一开口210,第三挡墙层23覆盖第二挡墙层22的侧壁,而第三开口230的底部露出第二挡墙层22的部分上表面。
在本发明的另一种实施例中,请结合图2和图7,本实施例与图4所示实施例的区别之处在于:第一挡墙层21包括多个子层,且第一挡墙层21中的第一开口210穿过多个子层中的部分或全部。
具体地,第一挡墙层21包括层叠设置的第一子层211和第二子层212,且第一子层211位于第二子层212和基板10之间,而第一开口210穿过了第一子层211和第二子层212。
可以理解的是,相对应的,显示部31中的平坦层也为多个平坦子层的层叠结构,且多个平坦子层的数量可以与第一挡墙层21中多个子层的数量相同。
在其他实施例中,第一开口210也可以穿过第一子层211和第二子层212中的任一者,以及第一挡墙层21还可以包括更多数量的子层,在此不作限定。
在本发明的另一种实施例中,请结合图2、图8和图9,本实施例与图4所示实施例的区别之处在于:第一挡墙层21位于第二挡墙层22远离第三挡墙层23的一侧,而第三挡墙层23位于基板10和第二挡墙层22之间,且第一挡墙层21中设置有位于凹陷子区202的第一开口210,且第一开口210和基板10之间间隔有第二挡墙层22和第三挡墙层23。
其中,第三挡墙层23可以与显示部31中的平坦层为同一膜层结构,并与平坦层在同一道光罩中形成,第二挡墙层22可以与显示部31中的像素定义层为同一膜层结构,并与像素定义层在同一道光罩中形成,第一挡墙层21可以与显示部31中的隔垫层为同一膜层结构,并与隔垫层在同一道光罩中形成。
在本实施例中,第一开口210即是挡墙结构20中的凹槽,进而在制程中,当在基板10上依次形成层叠的第一挡墙层21、第二挡墙层22以及第三挡墙层23之后,可以在第三挡墙层23远离第二挡墙层22的一侧形成掩模版40,且掩模版40可以包括第一区域41和第二区域42,根据第一区域41和第二区域42的透光率的差异,来实现光刻工艺的图案化过程,以去除凸起子区201以外的第一挡墙层21,进而在凹陷子区202内形成第一开口210,即形成凹槽。
在本发明的另一种实施例中,请结合图2和图10,本实施例与图8所示实施例的区别之处在于:第二挡墙层22中设置有位于凹陷子区202的第二开口220,且第二开口220和第一开口210相连通,其中,第一开口210(第二开口220)和基板10之间间隔有第三挡墙层23。
具体地,第一挡墙层21覆盖第二挡墙层22的侧壁以及第二开口220的侧壁,且第一开口210沿平行于基板10方向上的长度小于第二开口220沿平行于基板10方向上的长度。
在本发明的另一种实施例中,请结合图2和图11,本实施例与图4所示实施例的区别之处在于:第一挡墙层21位于第二挡墙层22和第三挡墙层23之间,第二挡墙层22位于基板10和第一挡墙层21之间。
其中,第二挡墙层22可以与显示部31中的平坦层为同一膜层结构,并与平坦层在同一道光罩中形成,第一挡墙层21可以与显示部31中的像素定义层为同一膜层结构,并与像素定义层在同一道光罩中形成,第三挡墙层23可以与显示部31中的隔垫层为同一膜层结构,并与隔垫层在同一道光罩中形成。
进一步地,第一开口210和基板10之间间隔有第二挡墙层22,第三挡墙层23覆盖第一挡墙层21和第一开口210。
在本发明的其他实施例中,显示面板还包括邻接于环绕显示区101的边框区(图中并未示出),而该挡墙结构20还可以设置在边框区内,并环绕显示区101设置,同样可以对有机封装子层起到阻挡作用,使得有机封装子层被限制在挡墙结构20靠近显示区101的一侧。
需要说明的是,在本发明实施例中,挡墙结构20还可以包括多个凸起子区201和多个凹陷子区202,且多个凸起子区201和多个凹陷子区202交替设置,即凸起子区201与凹陷子区202相邻,而凸起子区201和凸起子区201之间可以间隔一个凹陷子区202,凹陷子区202与凹陷子区202之间可以间隔一个凸起子区201;其中,挡墙结构20在不同凸起子区201内的高度可以相同也可以不同,同理,挡墙结构20在不同凹陷子区202内的高度可以相同也可以不同,但是,挡墙结构20在任意凸起子区201内的高度大于挡墙结构20在任意凹陷子区202内的高度。
承上,本发明实施例通过对挡墙结构20在凸起子区201和凹陷子区202内的挡墙层数量进行差异化设置,可以选择性去除凹陷子区202内的部分挡墙层,以在挡墙结构20中形成凹凸的形貌,以使得挡墙结构20对膜层材料的阻挡作用接近于相关技术中一个以上的挡墙所具备的阻挡作用;同时,本发明实施例中可以通过对挡墙结构20中的部分挡墙层进行蚀刻,以选择性去除凹陷子区202内的部分挡墙层,相对于相关技术,不需要蚀刻所有膜层,减少了蚀刻次数,进而降低了蚀刻工艺精度波动的影响,不需要预留较大空间来缓冲蚀刻工艺精度波动的影响,进而可以减小凹陷子区202的宽度,减小了挡墙结构20的宽度,以减小过渡区103的宽度,提高了显示面板的屏占比。
另外,本发明实施例还提供一种显示装置,该显示装置包括上述实施例中所述的显示面板。
该显示装置可以为手机、电视、电脑、平板以及手表等显示设备。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示区、传感器感光区、以及位于所述显示区和所述传感器感光区之间的过渡区;
所述显示面板还包括:
基板;
显示功能层,设置于所述基板上,所述显示功能层包括设置于所述显示区内的显示部以及设置于所述过渡区内的挡墙结构,所述挡墙结构包括挡墙层;
其中,所述挡墙结构包括相连接的凸起子区和凹陷子区,所述凹陷子区内和所述凸起子区内均设置有所述挡墙层,所述凹陷子区内所述挡墙层的数量大于或等于1,且小于所述凸起子区内所述挡墙层的数量,所述挡墙结构在所述凹陷子区内的高度小于所述挡墙结构在所述凸起子区内的高度。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述挡墙层包括层叠设置的第一挡墙层、第二挡墙层以及第三挡墙层,所述第一挡墙层中设置有位于所述凹陷子区的第一开口。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一挡墙层位于所述基板和所述第二挡墙层之间,所述第三挡墙层位于所述第二挡墙层远离所述第一挡墙层的一侧,其中,所述第二挡墙层和/或所述第三挡墙层覆盖所述第一开口。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第二挡墙层中设置有位于所述凹陷子区并与所述第一开口相连通的第二开口,所述第三挡墙层覆盖所述第一开口以及所述第二开口;
或者,所述第二挡墙层覆盖所述第一开口,所述第三挡墙层中设置有位于所述第二挡墙层远离所述基板一侧并位于所述凹陷子区的第三开口;
或者,所述第二挡墙层以及所述第三挡墙层覆盖所述第一开口。
5.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一挡墙层位于所述第二挡墙层远离所述第三挡墙层的一侧,所述第三挡墙层位于所述基板和所述第二挡墙层之间,且所述第一开口和所述基板之间至少间隔有所述第三挡墙层。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第二挡墙层中设置有位于所述凹陷子区并与所述第一开口相连通的第二开口。
7.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一挡墙层设置于所述第二挡墙层和所述第三挡墙层之间,所述第二挡墙层设置于所述基板和所述第一挡墙层之间。
8.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一挡墙层包括层叠设置的多个子层,且所述第一开口穿过多个所述子层中的部分或全部。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板在所述传感器感光区内设置有透光孔,所述挡墙结构包括至少两个所述凸起子区,所述凹陷子区位于相邻的所述凸起子区之间,其中,所述挡墙结构环绕所述透光孔设置,且所述凹陷子区环绕所述透光孔设置。
10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括封装层,且所述封装层包括至少两个无机封装子层以及夹设于相邻两个所述无机封装子层之间的有机封装子层,其中:
所述有机封装子层的覆盖边界位于所述凹陷子区内,或者位于所述凸起子区内,或者位于所述挡墙结构远离所述透光孔的一侧。
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