CN117417185A - 一种超平细腻釉面砖及其制备工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种超平细腻釉面砖及其制备工艺,属于建筑陶瓷技术领域,具有耐磨性、抗冲击性和防污的特点。本发明的超平细腻釉面砖由坯体和釉层组成,釉层又分为底釉和面釉。坯体选用吸水率低和硬度高的坯体,底釉由无机填料通过混合球磨得到细腻釉浆喷涂在坯体上,增强釉面砖的抗冲击性,而面釉则采用了纳米粒子与无机改性蒙脱土填料作为釉料,改性后的蒙脱土具有较密的孔隙率和相容性,纳米粒子之间可以更好的吸附融合,经过混合球磨后更具细腻性,而且通过涂刷与数码喷涂结合的独特涂覆方式,使釉料可以更加均匀的涂覆在坯体上,经高温烧成与抛光后制得的釉面砖具有更高的耐磨性和防污性能好的优异特点。
Description
技术领域
本发明属于建筑陶瓷技术领域,涉及一种超平细腻釉面砖及其制备工艺。
背景技术
釉面砖是指砖体表面经过烧釉处理的砖。釉面砖的色彩和图案比较丰富,防污能力强,因此受到广大消费者的欢迎。而超平釉面砖是釉面砖的一种,它是一款极具天然石材效果和微晶石质感的仿石材瓷砖,在陶瓷市场上又称为全平釉砖、超晶石、高晶石等。超平釉面砖最突出的特点是采用了硬抛技术,制造出顺滑平整的砖面,弥补了普通全抛釉产品带有水波纹、平整度不高的缺陷。虽然超平釉面砖品质比全抛釉面砖的品质好,但是仍然存在通透感和立体感较差、发色不好、气泡多、防滑防污性能差、光泽度欠佳的现象,这些不足满足不了消费者的需求。
目前釉面砖的防滑功能,主要通过两个方面进行实现。一方面,是通过调节面釉的烧成温度,使得烧成温度提高,减少玻璃相的形成,从而提高表面的粗糙感来实现防滑功能;另一方面,就是通过干粒实现砖面的粗糙感从而实现防滑功能。虽然上两种方案都能实现防滑的功能,但是在实现防滑功能的同时带来了防污性能较差、砖面刺手的问题,另外,刺手的砖面还会给试用者带来擦伤等伤害。
因此,生产一种具有防滑防污功能和具有优异的耐磨性能和抗冲击性的釉面砖是目前急需的市场需求。
发明内容
本发明的目的在于提供一种超平细腻釉面砖的制备工艺,具有耐磨性、抗冲击和防污的特点。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现:
一种超平细腻釉面砖的制备工艺,所述超平细腻釉面砖的制备工艺包括以下步骤:
S1、坯体准备:把坯体进行恒温干燥,得到干燥坯体,待用;
S2、底釉制备:将底釉的组分原料混合均匀,超声分散,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,过筛以及除铁,得到细腻底釉浆,待用;
S3、面釉制备:将面釉的组分原料混合均匀,超声分散,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,过筛以及除铁,得到细腻面釉浆,待用;
S4、釉料涂覆:将所得到的细腻底釉浆均匀喷涂在干燥坯体上,干燥得到施加底釉的第一坯体;在第一坯体上通过涂刷的方式涂刷两层细腻面釉浆,干燥,通过数码喷涂的方式喷涂最后一层细腻面釉浆,干燥得到釉面砖坯体;
S5、高温烧成:将釉面砖坯体放入烧窑中进行高温烧制,即得釉面砖初成品;
S6、打磨抛光:对所述S5中制备得到的釉面砖初成品进行打磨,抛光,即得超平细腻釉面砖;
其中所述超平细腻釉面砖包括坯体和釉层,其中釉层包括底釉和面釉,所述底釉厚度为0.1-0.5mm,面釉厚度为0.3-0.8mm,面釉位于底釉上层。
作为本发明的一种优选技术方案,在步骤S1中,所述恒温干燥条件为100℃下干燥1.5h。
作为本发明的一种优选技术方案,在步骤S2中,所述超声分散时间为15-30min,过筛筛网目数为200-300目。
作为本发明的一种优选技术方案,在步骤S3中,所述超声分散时间为30-50min,过筛筛网目数为300-450目。
作为本发明的一种优选技术方案,在步骤S5中,所述高温烧制的烧成温度为1200-1400℃,烧成周期为1-2h,
作为本发明的一种优选技术方案,所述的坯体由以下原料制成:32-40重量份长石、17-20重量份叶腊石、17-23重量份高岭土、11-20重量份白泥、8-10重量份瓷土、11-15重量份碳酸钙、2-5重量份海泥、2-6重量份镁质泥和50-60重量份去离子水。
作为本发明的一种优选技术方案,所述底釉包括以下重量份的原料:20-35重量份Al2O3、45-55重量份SiO2、30-40重量份TiO2、2-7重量份K2O、4-8重量份Na2O、5-10重量份锂辉石和8-15重量份ZrO2和30-50重量份去离子水。
作为本发明的一种优选技术方案,所述面釉包括以下重量份的原料:20-30重量份无机改性蒙脱土填料、10-15重量份纳米TiO2、5-10重量份硫酸钠、3-8重量份磷酸钙、5-10重量份精选高岭土、12-25重量份纳米SiO2和15-30重量份纳米Al2O3和30-50重量份去离子水。
作为本发明的一种优选技术方案,所述纳米TiO2的粒径为30-50nm。
作为本发明的一种优选技术方案,所述的精选高岭土为高岭土经过高温煅烧后再研磨得到,过筛,粒径为50-60nm的高岭土。
作为本发明的一种优选技术方案,所述的纳米SiO2粒径为40-60nm。
作为本发明的一种优选技术方案,所述的纳米Al2O3粒径为20-45nm。
作为本发明的一种优选技术方案,所述无机改性蒙脱土填料的制备方法包括以下步骤:
(1)分别配制硅酸钠溶液和乙醇溶液,待用;
(2)将天然蒙脱土与去离子水按照重量比为1:20混合后,超声振荡,过滤,取滤渣用乙醇溶液清洗,清洗干净后加入与去离子水同等重量的硅酸钠溶液,水浴恒温搅拌;
(3)待反应结束后,冷却至室温,静置,离心机进行固液分离,将分离后得到的固体用乙醇溶液清洗3次,然后置于80℃的恒温干燥烘箱中干燥,研磨,目筛过滤,得到无机改性蒙脱土填料。
作为本发明的一种优选技术方案,在步骤(1)中,所述硅酸钠溶液的浓度为1mol/L,乙醇溶液中乙醇质量含量为50%。
作为本发明的一种优选技术方案,在步骤(2)中,所述水浴恒温的温度为70-80℃,搅拌时间为2-3h。
作为本发明的一种优选技术方案,在步骤(3)中,所述静置时间为1-2h,离心机的离心速率为800-1000r/min,过滤目筛目数为200-350目。
本发明的有益效果:
(1)本发明的釉面砖由坯体与釉层结合而成,而釉层又由底釉和面釉结合制备,底釉采用无机填料制备,使其具有防滑防污性,而面釉中加入无机改性的蒙脱土作为填料结合纳米无机颗粒,具有强耐磨性与防污性,采用独特的釉浆涂覆方式使底釉与坯体和面釉的结合性好,制得的釉面砖的平整度好,致密度好,强度高,不易破碎不易断裂,纳米颗粒的粒径大小为20-45mm,所制备的釉面砖更具细腻性,而且具有很好的防磨、防滑和防污的使用效果。
(2)本发明的一种超平细腻釉面砖的制备工艺中,在底釉和面釉的原料中都选用了Al2O3,Al2O3作为助熔助剂,在高温烧成时Al2O3可以促进底釉与面釉之间的融合,使用了高含量的Al2O3和高温烧制,减少对温度的影响和降低烧制成品中的气泡量。本发明还采用了独特的涂覆方式,底釉原料选用无机颗粒的混合可以提高釉面砖整体的硬度,底釉采用了喷涂方式,以提高釉面砖的防滑防污功能。在面釉的原料选用了无机改性蒙脱土作为填料,改性后的蒙脱土与纳米颗粒混合,提高了分散性,防止粒子团聚发生,能有效防止釉层刺手,面釉采用了刷涂与数码喷涂相结合的涂覆方式,制得釉面砖表面平整细腻以及防滑性能优异的效果,可以避免使用者在使用的时候出现伤害。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为实现预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合实施例,对依据本发明的具体实施方式、特征及其功效,详细说明如下。
实施例1
一种超平细腻釉面砖,所述超平细腻釉面砖包括坯体和釉层,其中釉层包括底釉和面釉,所述底釉厚度为0.5mm,面釉厚度为0.35mm,面釉位于底釉上层。
所述的坯体由以下原料制成:35重量份长石、18重量份叶腊石、17重量份高岭土、11重量份白泥、8重量份瓷土、15重量份碳酸钙、3重量份海泥、5重量份镁质泥和60重量份去离子水。
所述底釉包括以下重量份的原料:20重量份Al2O3、45重量份SiO2、30重量份TiO2、5重量份K2O、7重量份Na2O、10重量份锂辉石和10重量份ZrO2和50重量份去离子水。
所述面釉包括以下重量份的原料:20重量份无机改性蒙脱土填料、10重量份纳米TiO2、7重量份硫酸钠、5重量份磷酸钙、5重量份精选高岭土、15重量份纳米SiO2、25重量份纳米Al2O3和50重量份去离子水;其中纳米TiO2粒径为30nm,纳米SiO2粒径为45nm,纳米Al2O3粒径为25nm,精选高岭土为高岭土经过高温煅烧后再研磨得到,粒径为50nm。
所述无机改性蒙脱土填料的制备方法包括以下步骤:
(1)分别配制浓度为1mol/L的硅酸钠溶液和50%质量浓度的乙醇溶液,待用;
(2)将天然蒙脱土与去离子水按照重量比为1:20混合均匀后,超声振荡,过滤,取滤渣用50%质量浓度的乙醇溶液清洗,清洗干净后加入与去离子水同等重量的1mol/L的硅酸钠溶液,80℃水浴恒温搅拌3h;
(3)待反应结束后,冷却至室温,静置2h,用转速为900r/min的离心机进行固液分离,将分离后得到的固体用50%质量浓度的乙醇溶液清洗3次,然后置于80℃的恒温干燥烘箱中干燥,研磨,用300目的筛网过滤,得到无机改性蒙脱土填料。
一种超平细腻釉面砖,其制备工艺步骤如下:
S1、坯体准备:把坯体在100℃下进行恒温干燥1.5h,除去坯体表面的水分,得到干燥坯体,待用;
S2、底釉制备:将底釉的组分原料混合均匀,超声分散20min,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,用250目筛网过筛,除铁,得到细腻底釉浆,待用;
S3、面釉制备:将面釉的组分原料混合均匀,超声分散45min,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,用400目筛网过筛,除铁,得到细腻面釉浆,待用;
S4、釉料涂覆:将所得到的细腻底釉浆均匀喷涂在干燥坯体上,喷涂厚度为0.5mm,干燥,得到施加底釉的第一坯体;在第一坯体上通过涂刷的方式涂刷两层细腻面釉浆,涂刷的两层面釉浆厚度均为0.15mm,干燥,通过数码喷涂的方式喷涂最后一层厚度为0.05mm的细腻面釉浆,干燥得到釉面砖坯体;
S5、高温烧成:将釉面砖坯体放入烧窑中进行高温烧制,烧成温度为1300℃,烧成周期为2h,即得釉面砖初成品;
S6、打磨抛光:对上述S5中制备得到的釉面砖初成品进行打磨,抛光,即得超平细腻釉面砖。
实施例2
一种超平细腻釉面砖,所述超平细腻釉面砖包括坯体和釉层,其中釉层包括底釉和面釉,所述底釉厚度为0.5mm,面釉厚度为0.35mm,面釉位于底釉上层。
所述的坯体由以下原料制成:35重量份长石、18重量份叶腊石、17重量份高岭土、11重量份白泥、8重量份瓷土、15重量份碳酸钙、3重量份海泥、5重量份镁质泥和60重量份去离子水。
所述底釉包括以下重量份的原料:30重量份Al2O3、50重量份SiO2、35重量份TiO2、7重量份陶瓷废料、3重量份SrO、5重量份K2O、7重量份Na2O、10重量份锂辉石和10重量份ZrO2和50重量份去离子水。
所述面釉包括以下重量份的原料:25重量份无机改性蒙脱土填料、10重量份纳米TiO2、7重量份硫酸钠、5重量份磷酸钙、8重量份精选高岭土、20重量份纳米SiO2和28重量份纳米Al2O3和50重量份去离子水;其中纳米TiO2粒径为30nm,纳米SiO2粒径为45nm,纳米Al2O3粒径为25nm,精选高岭土为高岭土经过高温煅烧后再研磨得到,粒径为50nm。
所述无机改性蒙脱土填料的制备方法包括以下步骤:
(1)分别配制浓度为1mol/L的硅酸钠溶液和50%质量浓度的乙醇溶液,待用;
(2)将天然蒙脱土与去离子水按照重量比为1:20混合均匀后,超声振荡,过滤,取滤渣用50%质量浓度的乙醇溶液清洗,清洗干净后加入与去离子水同等重量的1mol/L的硅酸钠溶液,80℃水浴恒温搅拌3h;
(3)待反应结束后,冷却至室温,静置2h,用转速为900r/min的离心机进行固液分离,将分离后得到的固体用50%质量浓度的乙醇溶液清洗3次,然后置于80℃的恒温干燥烘箱中干燥,研磨,用300目的筛网过滤,得到无机改性蒙脱土填料。
一种超平细腻釉面砖,其制备工艺步骤如下:
S1、坯体准备:把坯体在100℃下进行恒温干燥1.5h,除去坯体表面的水分,得到干燥坯体,待用;
S2、底釉制备:将底釉的组分原料混合均匀,超声分散20min,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,用250目筛网过筛,除铁,得到细腻底釉浆,待用;
S3、面釉制备:将面釉的组分原料混合均匀,超声分散45min,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,用400目筛网过筛,除铁,得到细腻面釉浆,待用;
S4、釉料涂覆:将所得到的细腻底釉浆均匀喷涂在干燥坯体上,喷涂厚度为0.5mm,干燥,得到施加底釉的第一坯体;在第一坯体上通过涂刷的方式涂刷两层细腻面釉浆,涂刷的两层面釉浆厚度均为0.15mm,干燥,通过数码喷涂的方式喷涂最后一层厚度为0.05mm的细腻面釉浆,干燥得到釉面砖坯体;
S5、高温烧成:将釉面砖坯体放入烧窑中进行高温烧制,烧成温度为1300℃,烧成周期为2h,即得釉面砖初成品;
S6、打磨抛光:对上述S5中制备得到的釉面砖初成品进行打磨,抛光,即得超平细腻釉面砖。
实施例3
一种超平细腻釉面砖,所述超平细腻釉面砖包括坯体和釉层,其中釉层包括底釉和面釉,所述底釉厚度为0.5mm,面釉厚度为0.35mm,面釉位于底釉上层。
所述的坯体由以下原料制成:35重量份长石、18重量份叶腊石、17重量份高岭土、11重量份白泥、8重量份瓷土、15重量份碳酸钙、3重量份海泥、5重量份镁质泥和60重量份去离子水。
所述底釉包括以下重量份的原料:35重量份Al2O3、55重量份SiO2、40重量份TiO2、5重量份K2O、7重量份Na2O、10重量份锂辉石和10重量份ZrO2和50重量份去离子水。
所述面釉包括以下重量份的原料:30重量份无机改性蒙脱土填料、10重量份纳米TiO2、7重量份硫酸钠、5重量份磷酸钙、10重量份精选高岭土、25重量份纳米SiO2和30重量份纳米Al2O3和50重量份去离子水;其中纳米TiO2粒径为30nm,纳米SiO2粒径为45nm,纳米Al2O3粒径为25nm,精选高岭土为高岭土经过高温煅烧后再研磨得到,粒径为50nm。
所述无机改性蒙脱土填料的制备方法包括以下步骤:
(1)分别配制浓度为1mol/L的硅酸钠溶液和50%质量浓度的乙醇溶液,待用;
(2)将天然蒙脱土与去离子水按照重量比为1:20混合均匀后,超声振荡,过滤,取滤渣用50%质量浓度的乙醇溶液清洗,清洗干净后加入与去离子水同等重量的1mol/L的硅酸钠溶液,80℃水浴恒温搅拌3h;
(3)待反应结束后,冷却至室温,静置2h,用转速为900r/min的离心机进行固液分离,将分离后得到的固体用50%质量浓度的乙醇溶液清洗3次,然后置于80℃的恒温干燥烘箱中干燥,研磨,用300目的筛网过滤,得到无机改性蒙脱土填料。
一种超平细腻釉面砖,其制备工艺步骤如下:
S1、坯体准备:把坯体在100℃下进行恒温干燥1.5h,除去坯体表面的水分,得到干燥坯体,待用;
S2、底釉制备:将底釉的组分原料混合均匀,超声分散20min,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,用250目筛网过筛,除铁,得到细腻底釉浆,待用;
S3、面釉制备:将面釉的组分原料混合均匀,超声分散45min,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,用400目筛网过筛,除铁,得到细腻面釉浆,待用;
S4、釉料涂覆:将所得到的细腻底釉浆均匀喷涂在干燥坯体上,喷涂厚度为0.5mm,干燥,得到施加底釉的第一坯体;在第一坯体上通过涂刷的方式涂刷两层细腻面釉浆,涂刷的两层面釉浆厚度均为0.15mm,干燥,通过数码喷涂的方式喷涂最后一层厚度为0.05mm的细腻面釉浆,干燥得到釉面砖坯体;
S5、高温烧成:将釉面砖坯体放入烧窑中进行高温烧制,烧成温度为1300℃,烧成周期为2h,即得釉面砖初成品;
S6、打磨抛光:对上述S5中制备得到的釉面砖初成品进行打磨,抛光,即得超平细腻釉面砖。
实施例4
一种超平细腻釉面砖,所述超平细腻釉面砖包括坯体和釉层,其中釉层包括底釉和面釉,所述底釉厚度为0.5mm,面釉厚度为0.35mm,面釉位于底釉上层。
所述的坯体由以下原料制成:35重量份长石、18重量份叶腊石、17重量份高岭土、11重量份白泥、8重量份瓷土、15重量份碳酸钙、3重量份海泥、5重量份镁质泥和60重量份去离子水。
所述底釉包括以下重量份的原料:20重量份Al2O3、45重量份SiO2、30重量份TiO2、5重量份K2O、7重量份Na2O、10重量份锂辉石和10重量份ZrO2和50重量份去离子水。
所述面釉包括以下重量份的原料:20重量份无机改性蒙脱土填料、10重量份纳米TiO2、7重量份硫酸钠、5重量份磷酸钙、5重量份精选高岭土、15重量份纳米SiO2和25重量份纳米Al2O3和50重量份去离子水;其中纳米TiO2粒径为30nm,纳米SiO2粒径为45nm,纳米Al2O3粒径为25nm,精选高岭土为高岭土经过高温煅烧后再研磨得到,粒径为50nm。
所述无机改性蒙脱土填料的制备方法包括以下步骤:
(1)分别配制浓度为1mol/L的硅酸钠溶液和50%质量浓度的乙醇溶液,待用;
(2)将天然蒙脱土与去离子水按照重量比为1:20混合均匀后,超声振荡,过滤,取滤渣用50%质量浓度的乙醇溶液清洗,清洗干净后加入与去离子水同等重量的1mol/L的硅酸钠溶液,80℃水浴恒温搅拌3h;
(3)待反应结束后,冷却至室温,静置2h,用转速为900r/min的离心机进行固液分离,将分离后得到的固体用50%质量浓度的乙醇溶液清洗3次,然后置于80℃的恒温干燥烘箱中干燥,研磨,用300目的筛网过滤,得到无机改性蒙脱土填料。
一种超平细腻釉面砖,其制备工艺步骤如下:
S1、坯体准备:把坯体在100℃下进行恒温干燥1.5h,除去坯体表面的水分,得到干燥坯体,待用;
S2、底釉制备:将底釉的组分原料混合均匀,超声分散20min,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,用250目筛网过筛,除铁,得到细腻底釉浆,待用;
S3、面釉制备:将面釉的组分原料混合均匀,超声分散45min,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,用400目筛网过筛,除铁,得到细腻面釉浆,待用;
S4、釉料涂覆:将所得到的细腻底釉浆均匀喷涂在干燥坯体上,喷涂厚度为0.5mm,干燥,得到施加底釉的第一坯体;在第一坯体上通过涂刷的方式涂刷两层细腻面釉浆,涂刷的两层面釉浆厚度均为0.15mm,干燥,通过数码喷涂的方式喷涂最后一层厚度为0.05mm的细腻面釉浆,干燥得到釉面砖坯体;
S5、高温烧成:将釉面砖坯体放入烧窑中进行高温烧制,烧成温度为1400℃,烧成周期为2h,即得釉面砖初成品;
S6、打磨抛光:对上述S5中制备得到的釉面砖初成品进行打磨,抛光,即得超平细腻釉面砖。
对比例1
与实施例1相比,对比例1的区别之处在于,在面釉原料中将无机改性蒙脱土填料用蒙脱土替代。
对比例2
与实施例1相比,对比例2的区别之处在于,在面釉原料中将无机改性蒙脱土填料用膨润土替代。
对比例3
与实施例1相比,对比例3的区别之处在于,在超平细腻釉面砖的制备工艺的釉料涂覆步骤上,不进行底釉浆的涂覆,只进行面釉浆的涂覆,面釉浆涂覆的总厚度为0.85mm。
对比例4
与实施例1相比,对比例4的区别之处在于,在超平细腻釉面砖的制备工艺的釉料涂覆步骤上,在面釉浆的涂覆上,只进行两层面釉浆的刷涂,底釉浆与两层面釉浆的刷涂总厚度为0.85mm。
对比例5
与实施例1相比,对比例5的区别之处在于,在超平细腻釉面砖的制备工艺的釉料涂覆步骤上,在面釉浆的涂覆上,只进行一层面釉浆的数码喷涂,底釉浆与一层面釉浆的刷涂总厚度为0.85mm。
对比例6
与实施例1相比,对比例6的区别之处在于,把面釉原料中的无机纳米材料都替换为粒径为100nm的无机材料。
对实施例1-4与对比例1-6所制备的超平细腻釉面砖进行相关的性能测试,包含表面平整度测试、防污等级测试、抗冲击力和耐磨性测试。表面平整度测试:用手触摸,感受平整细腻度对比;防污等级测试:用油性笔在干净的釉面砖表面涂抹或者在干净的釉面砖上泼一层墨水,过10分钟后用纸巾进行擦拭,通过擦拭干净程度来判断防污等级(分为A、B、C、D四个等级,最好的为“A”级,最差为“D”级);抗冲击力测试:取同一样品的两片40mm×40mm的正方形小样互相轻敲,声音越清脆利落,听着像金属敲击的瓷砖,硬度就越好;耐磨性测试:使用尖锐的小刀在瓷砖表面用50N的力去划刻50次,看是否会在瓷砖表面留下刮痕;防滑性能测试:在釉面砖表面抹水,然后在砖表面放一个装有水的纸杯,慢慢倾斜瓷砖,看纸杯是否下滑来判断防滑程度。把所有实验测试结果记录在下表1中。
表1实施例1-4与对比例1-6的相关性能测试结果
测试结果 | 表面平整度 | 防污等级 | 抗冲击力 | 耐磨性 | 防滑性 |
实施例1 | 较细腻 | B级 | 清脆 | 光滑 | 稳定 |
实施例2 | 细腻 | A级 | 清脆 | 光滑 | 稳定 |
实施例3 | 细腻 | A级 | 清脆 | 光滑 | 稳定 |
实施例4 | 细腻 | A级 | 清脆 | 光滑 | 稳定 |
对比例1 | 较细腻 | B级 | 清脆 | 少许划痕 | 稳定 |
对比例2 | 较细腻 | B级 | 清脆 | 少许划痕 | 稳定 |
对比例3 | 细腻 | C级 | 沙哑 | 光滑 | 下滑 |
对比例4 | 较细腻 | C级 | 沙哑 | 少许划痕 | 下滑 |
对比例5 | 略粗 | C级 | 沙哑 | 光滑 | 下滑 |
对比例6 | 略粗 | B级 | 沙哑 | 少许划痕 | 稳定 |
通过表1中数据对比,可知在把无机改性蒙脱土填料改为蒙脱土或者膨润土时,所制备的釉面砖的表面平整度和耐磨性能下降,但对于釉面砖釉料的原料选择以及喷涂方式进行改变时,釉面砖的性能受到不同程度的影响。在改变釉面砖的底釉时,釉面砖的防污和防滑性能受到较大影响,在改变釉面砖的面釉时,釉面砖的表面平整度、耐磨性以及抗冲击力受到影响,特别是只进行釉面浆的表面涂刷或数码喷涂时,釉面砖的表面平整度和耐磨性出现一定程度下降。本发明的一种超平细腻釉面砖的制备工艺中,通过在坯体上先涂覆一层底釉,以提高釉面砖的防滑防污功能,底釉原料选用无机颗粒的混合可以提高釉面砖整体的硬度。在面釉的原料选择上,选用了无机改性蒙脱土作为填料,改性后的蒙脱土与纳米颗粒混合,可以增加粒子间的分散性,减少团聚,能有效防止釉层刺手,制得表面平整细腻以及防滑性能优异的效果,可以避免使用者在使用的时候出现伤害,在建筑装修领域具有良好的发展前景。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭示如上,然而并非用以限定本发明,任何本领域技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简介修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (6)
1.一种超平细腻釉面砖的制备工艺,其特征在于:所述超平细腻釉面砖的制备工艺包括以下步骤:
S1、坯体准备:把坯体进行恒温干燥,得到干燥坯体,待用;
S2、底釉制备:将底釉的组分原料混合均匀,超声分散,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,过筛以及除铁,得到细腻底釉浆,待用;
S3、面釉制备:将面釉的组分原料混合均匀,超声分散,装入带有磨球的球磨罐进行球磨,过筛以及除铁,得到细腻面釉浆,待用;
S4、釉料涂覆:将所得到的细腻底釉浆均匀喷涂在干燥坯体上,干燥得到施加底釉的第一坯体;在第一坯体上通过涂刷的方式涂刷两层细腻面釉浆,干燥,然后通过数码喷涂的方式喷涂最后一层细腻面釉浆,干燥得到釉面砖坯体;
S5、高温烧成:将釉面砖坯体放入烧窑中进行高温烧制,即得釉面砖初成品;
S6、打磨抛光:对所述S5中制备得到的釉面砖初成品进行打磨,抛光,即得超平细腻釉面砖;
所述超平细腻釉面砖包括坯体和釉层,其中釉层包括底釉和面釉,所述底釉厚度为0.1-0.5mm,面釉厚度为0.3-0.8mm,面釉位于底釉上层。
2.根据权利要求1所述的一种超平细腻釉面砖的制备工艺,其特征在于:所述的坯体由以下原料制成:32-40重量份长石、17-20重量份叶腊石、17-23重量份高岭土、11-20重量份白泥、8-10重量份瓷土、11-15重量份碳酸钙、2-5重量份海泥、2-6重量份镁质泥和50-60重量份去离子水。
3.根据权利要求1所述的一种超平细腻釉面砖及其制备工艺,其特征在于:所述底釉包括以下重量份的原料:20-35重量份Al2O3、45-55重量份SiO2、30-40重量份TiO2、2-7重量份K2O、4-8重量份Na2O、5-10重量份锂辉石和8-15重量份ZrO2和30-50重量份去离子水。
4.根据权利要求1所述的一种超平细腻釉面砖的制备工艺,其特征在于:所述面釉包括以下重量份的原料:20-30重量份无机改性蒙脱土填料、10-15重量份纳米TiO2、5-10重量份硫酸钠、3-8重量份磷酸钙、5-10重量份精选高岭土、12-25重量份纳米SiO2和15-30重量份纳米Al2O3和30-50重量份去离子水。
5.根据权利要求4所述的一种超平细腻釉面砖的制备工艺,其特征在于:所述无机改性蒙脱土填料的制备方法包括以下步骤:
(1)分别配制硅酸钠溶液和乙醇溶液,待用;
(2)将天然蒙脱土与去离子水按照重量比为1:20混合后,超声振荡,过滤,取滤渣用乙醇溶液清洗,清洗干净后加入与去离子水同等重量的硅酸钠溶液,水浴恒温搅拌;
(3)待反应结束后,冷却至室温,静置,离心机进行固液分离,将分离后得到的固体用乙醇溶液清洗3次,然后置于80℃的恒温干燥烘箱中干燥,研磨,目筛过滤,得到无机改性蒙脱土填料。
6.一种超平细腻釉面砖,其特征在于:所述的超平细腻釉面砖根据权利要求1-5任一项所述的制备工艺制备得到。
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