CN117396723A - 涂覆厚度测量设备及方法 - Google Patents

Abstract

公开了涂覆厚度测量设备及方法。根据本公开的实施方式的涂覆厚度测量设备包括：数据获取单元，该数据获取单元被配置成在涂覆有涂覆材料的基底由涂覆辊输送时获得厚度数据，该厚度数据指示施用至基底的与涂覆辊接触的接触部分的涂覆材料的厚度；以及处理器，该处理器被配置成创建具有其中分配并存储有校正数据的多个存储区域的虚拟存储器区，并且基于预先存储在目标存储区域中的校正数据来对厚度数据进行校正，以生成校正后的厚度数据，该目标存储区域选自所述多个存储区域。

Description

涂覆厚度测量设备及方法

技术领域

本申请要求在韩国于2022年4月29日提交的韩国专利申请No.10-2022-0053732和No.10-2022-0053733以及于2023年4月19日提交的专利申请No.10-2023-0051593的优先权，其公开内容通过参引并入本文。

在本文献中公开的实施方式涉及厚度测量设备以及方法，并且更具体地，涉及能够对施用至基底的涂覆材料的涂覆厚度进行精确测量的涂覆厚度测量设备以及方法。

背景技术

目前商业化的二次电池包括镍镉电池、镍氢电池、镍锌电池和锂二次电池，并且在这些二次电池中，锂二次电池因其自由地充电和放电、非常低的自放电率和高能量密度的优点而备受关注，因为其与镍基二次电池相比不会产生记忆效应。

此外，近年来，二次电池已经被广泛用于诸如电动汽车或能量存储系统(ESS)的中大型装置中的驱动或能量存储。另外，因此，对二次电池的兴趣进一步增加，并且正在更加积极地进行相关的研究和开发。

通常，这种二次电池可以以电极组件和电解质材料容纳在电池盒中并且电池盒被密封的方式制造。在这种情况下，二次电池的电极组件可以包括正极、负极和插置在正极与负极之间的分隔件。

以这种方式，包括在二次电池的电极组件中的正极、负极和分隔件可以通过分别用预定的涂覆材料对呈片或板的形式的预定基底进行涂覆的过程来制造。例如，正极可以通过用包含比如锂基氧化物的正极活性材料的涂覆材料对诸如铝箔的基底的表面进行涂覆的过程来制造。负极可以通过用包含比如碳材料的负极活性材料的涂覆材料对诸如铜箔的基底的表面进行涂覆的过程来制造。另外，分隔件可以通过用包含无机颗粒和聚合物粘合剂的涂覆材料对多孔聚合物基底的表面进行涂覆来制造。

为了增加这些二次电池的充电容量和能量密度，每种涂覆材料都应当被涂覆成在对应基底的表面上具有均匀的厚度。即，为了制造高质量和高效率的二次电池产品，在正极、负极或分隔件由涂覆装置涂覆时，必须实时精确地测量对应涂覆材料的涂覆厚度，并且必须基于测量到的涂覆厚度来对相应的涂覆装置或后续的处理装置进行适当的管理。

然而，在常规技术中，由于涂覆有涂覆材料的基底被输送通过彼此间隔开的多个辊，因此当测量涂覆厚度时由对应的辊产生的振动导致基底晃动，并且因此，存在涂覆厚度测量值的准确性劣化的问题。

另外，由于现有技术在测量涂覆厚度时没有考虑到温度变化的影响，因此存在涂覆厚度测量值的准确性进一步劣化的问题。

发明内容

技术问题

本公开要解决的技术问题是提供涂覆厚度测量设备及方法，其能够以高水平的准确性对施用至基底的涂覆材料的厚度进行测量。

另外，本公开要解决的另一个技术问题是提供厚度测量设备及方法，其通过在测量施用至基底上的涂覆材料的厚度时考虑到温度变化的影响来对涂覆厚度测量值进行校正而能够进一步提高涂覆厚度测量值的准确性。

然而，本公开要解决的技术问题不限于上述问题，并且本领域技术人员通过下面的描述将能够清楚地理解本公开的其他技术问题。

技术解决方案

根据本公开的一方面的涂覆厚度测量设备包括：数据获取单元，该数据获取单元被配置成在涂覆有涂覆材料的基底由涂覆辊输送时获得厚度数据，该厚度数据指示施用至基底的与涂覆辊接触的接触部分的涂覆材料的厚度；以及处理器，该处理器被配置成创建具有其中分配并存储有校正数据的多个存储区域的虚拟存储器区，并且基于预先存储在目标存储区域中的校正数据来对厚度数据进行校正，以生成校正后的厚度数据，该目标存储区域选自所述多个存储区域。

在一个实施方式中，数据获取单元可以被配置成将涂覆辊的外周划分成多个部段，以进一步获得部段识别数据，该部段识别数据用于在所述多个部段中识别与基底的接触部分接触的部段，并且处理器可以被配置成在对厚度数据进行校正之前在所述多个存储区域中选择与部段识别数据相对应的存储区域作为目标存储区域。

在一个实施方式中，预先存储在目标存储区域中的校正数据可以包括与基底的接触部分接触的部段的圆度值。

在一个实施方式中，数据获取单元可以被配置成进一步获得表示涂覆辊的温度的温度数据，并且处理器可以被配置成基于预先存储在目标存储区域中的校正数据以及温度数据来对厚度数据进行校正。

在一个实施方式中，预先存储的校正数据可以包括数据表，在该数据表中记录有通过根据位置划分涂覆辊的外周而获得的多个部段中的与基底的接触部分接触的部段的在每个温度下的圆度值。

在一个实施方式中，数据获取单元可以被配置成在获得厚度数据之前，将涂覆辊的外周划分成多个部段并且获得每个部段的圆度数据，圆度数据表示对应部段的圆度，并且处理器可以被配置成对通过数据获取单元获得的圆度数据针对每个部段进行划分并且针对每个部段存储在多个存储区域中。

在实施方式中，数据获取单元可以包括：感测模块，该感测模块具有厚度传感器；以及定位模块，该定位模块被配置成对感测模块的位置进行调节并且使感测模块通过厚度传感器对施用至基底的接触部分的涂覆材料的厚度进行感测，以生成厚度数据。

在一个实施方式中，感测模块还可以包括用于感测涂覆辊的温度的温度传感器，并且处理器可以被配置成基于预先存储在目标存储区域中的校正数据和通过温度传感器获得的温度数据来对厚度数据进行校正。

在一个实施方式中，定位模块可以包括：第一移动单元，该第一移动单元用于使感测模块沿着第一轴线移动；以及第二移动单元，该第二移动单元用于使感测模块沿着与第一轴线相交的第二轴线移动。

在一个实施方式中，定位模块还可以包括第三移动单元，该第三移动单元用于使感测模块沿着分别与第一轴线和第二轴线相交的第三轴线移动。

在一个实施方式中，定位模块还可以包括旋转单元，该旋转单元用于使感测模块围绕预定的旋转轴线在预定的旋转角度范围内旋转。

在一个实施方式中，可以包括多个数据获取单元，并且所述多个数据获取单元可以在由涂覆辊沿纵向方向传输的基底的宽度方向上彼此间隔开。

根据本公开的另一方面的涂覆系统可以包括根据上述实施方式中的任何一个实施方式的涂覆厚度测量设备。

根据本公开的又一方面的涂覆厚度测量方法由用于对施用至基底的涂覆材料的厚度进行测量的装置来执行，并且该涂覆厚度测量方法包括：创建虚拟存储器区，该虚拟存储器区具有其中分配并存储有校正数据的多个存储区域；当涂覆有涂覆材料的基底由涂覆辊输送时获得厚度数据，该厚度数据指示施用至基底的与涂覆辊接触的接触部分的涂覆材料的厚度；以及基于预先存储在目标存储区域中的校正数据来对厚度数据进行校正，以生成校正后的厚度数据，该目标存储区域选自所述多个存储区域。

在一个实施方式中，涂覆厚度测量方法还可以包括在生成校正后的厚度数据之前获得表示涂覆辊的温度的温度数据，并且生成校正后的厚度数据的步骤可以包括基于预先存储在目标存储区域中的校正数据以及温度数据来对厚度数据进行校正。

在一个实施方式中，预先存储的校正数据可以包括这样的数据表，在该数据表中记录有多个部段中的与基底的接触部分接触的部段的在每个温度下的圆度值，所述多个部段通过根据位置划分涂覆辊的外周而获得。

有利效果

根据本说明书中公开的实施方式，当涂覆有涂覆材料的基底由涂覆辊传输时，数据获取单元被配置成，对于基底的在整个基底中与涂覆辊接触的部分，获得施用至对应部分的涂覆材料的厚度数据，因此可以减少由基底的晃动而引起的测量误差，并且可以以高水平的准确性对施用至基底的涂覆材料的厚度进行测量。

另外，处理器被配置成生成具有多个存储区域的虚拟存储器区，并且基于预先存储在从多个存储区域中选择的目标存储区域中的校正数据来对由数据获取单元获得的厚度数据进行校正，因此可以缩短涂覆厚度测量时间，同时进一步提高涂覆厚度测量值的准确性。

另外，数据获取单元被配置成进一步获得表示涂覆辊的温度的温度数据，并且处理器被配置成基于温度数据和预先存储在目标存储区域中的校正数据来对厚度数据进行校正，因此温度变化的影响可以反映在涂覆厚度测量值中，并且因此，可以进一步提高涂覆厚度测量值的准确性和可靠性。

另外，数据获取单元包括用于感测涂覆材料的厚度的感测模块和用于调节感测模块的位置的定位模块，因此可以对感测模块的感测位置进行优化，并且可以根据待测量的基底的尺寸、对待测量的基底进行输送的辊的相对位置等适当地改变感测模块的位置。

此外，本领域普通技术人员将从以下描述中清楚地理解，本公开的实施方式也可以用于解决上面未提及的各种技术问题。

附图说明

附图图示了本公开的优选实施方式，并且与前述公开内容一起用于提供对本公开的技术特征的进一步理解，并且因此，本公开不应被解释为限于附图。

图1是示出了根据本公开的实施方式的涂覆厚度测量设备的框图。

图2是示出了根据本公开的实施方式的涂覆系统的视图。

图3是示出了图2所示的涂覆系统的涂覆厚度测量设备的视图。

图4是示出了适用于根据本公开的涂覆系统的涂覆辊的横截面图。

图5是示出了由根据本公开的涂覆厚度测量设备创建的虚拟存储器区的示例的视图。

图6是示出了图5所示的虚拟存储器区中的校正数据存储状态的视图。

图7是示出了存储在虚拟存储器区的存储区域中的校正数据的示例的视图。

图8是示出了图3所示的涂覆厚度测量设备的测量准备状态的视图。

图9是示出了根据本公开的修改实施方式的涂覆厚度测量设备的视图。

图10是示出了图9所示的涂覆厚度测量设备的测量准备状态的视图。

图11是示出了通过常规的位移传感器测量的涂覆厚度值的曲线图。

图12是示出了根据本公开的实施方式进行校正的涂覆厚度值的曲线图。

图13是示出了根据本公开的实施方式的涂覆系统的视图。

图14是图示了根据本公开的实施方式的涂覆厚度测量方法的流程图。

具体实施方式

在下文中，将参照附图对本公开的优选实施方式进行详细描述。在描述之前，应当理解的是，说明书和所附权利要求书中所使用的术语不应被解释为限于一般含义和词典含义，而应当在允许发明人为了最佳说明而适当限定术语的原则的基础上，基于与本公开的技术方面相对应的含义和概念来解释。

因此，本文中提出的描述只是仅出于说明目的的优选示例，而并非意在限制本公开的范围，因此应当理解的是，在不脱离本公开的范围的情况下，可以对本公开做出其他等同替换和修改。

图1是示出了根据本公开的实施方式的涂覆厚度测量设备10的框图。

如图1所示，根据本公开的实施方式的涂覆厚度测量设备10包括数据获取单元100和处理器200。根据实施方式，涂覆厚度测量设备10还可以包括输出单元300。

数据获取单元100被配置成在涂覆有涂覆材料的基底由涂覆辊输送的同时获得厚度数据，该厚度数据表示施用至基底的在整个基底中与涂覆辊接触的接触部分的涂覆材料的厚度。为此，数据获取单元100可以包括感测涂覆材料的厚度以生成涂覆材料的厚度数据的感测模块110、以及调节感测模块110的位置的定位模块120。

基底可以是构成二次电池的正极或负极的金属箔或者是构成二次电池的分隔件的多孔聚合物膜。

另外，施用至基底的涂覆材料可以是其中混合有细固体颗粒和溶剂的浆料状态的材料或者是其中混合有不同的固体颗粒的粉末状态的材料。

例如，根据实施方式，当涂覆材料是电极涂覆材料时，涂覆材料可以包含电极活性材料，并且还可以可选地包含聚合物粘合剂、导电材料、填料等。另一方面，根据实施方式，当涂覆材料是分隔件涂覆材料时，涂覆材料可以包含无机颗粒，并且还可以可选地包含聚合物粘合剂、分散剂、耐热填料等。

处理器200被配置成在数据获取单元100获得厚度数据之前生成具有多个存储区域的虚拟存储器区。在这种情况下，虚拟存储器区的多个存储区域可以被配置成与通过根据位置对涂覆辊的外周进行划分而获得的多个部段相对应。在多个存储区域中，可以分配并存储有用于厚度数据校正的校正数据。

为此，数据获取单元100可以被配置成在获得厚度数据之前将涂覆辊的整个外周分成多个部段并且针对每个部段获得表示对应部段的圆度的圆度数据。

然后，处理器200可以对获得的圆度数据针对每个部段进行划分并将其针对每个部段存储在多个存储区域中。

接下来，处理器200被配置成基于预先存储在目标存储区域中的校正数据来对由数据获取单元100获得的厚度数据进行校正以生成校正后的厚度数据，该目标储存区域选自多个存储区域。

输出单元300可以被配置成以可视、可听或可视听的方式输出由处理器200生成的校正后的厚度数据。为此，输出单元300可以可选地包括显示器、打印机、扬声器等。

在一个实施方式中，数据获取单元100可以被配置成将涂覆辊的外周分成多个部段并且进一步获得对多个部段中的与基底的接触部分接触的部段进行识别的部段识别数据。

在这种情况下，部段识别数据可以包括分配给每个部段的识别号，或者可以包括由穿过涂覆辊的中心的中心线中的预定第一中心线和穿过对应部段的第二中心线形成的角度。

另外，在对获得的厚度数据进行校正之前，处理器200可以在多个存储区域中选择与部段识别数据相对应的存储区域作为目标存储区域，并且通过使用预先存储在目标存储区域中的校正数据来对获得的厚度数据进行校正。

例如，预先存储在目标存储区域中的校正数据可以包括多个部段中的与基底的接触部分接触的部段的圆度值。在这种情况下，处理器200可以通过从由获得的厚度数据指示的涂覆厚度值中去除根据接触部分的圆度值的误差来生成校正后的厚度数据。

在一个实施方式中，数据获取单元100可以被配置成进一步获得表示涂覆辊的温度的温度数据。为此，数据获取单元100可以包括温度传感器。在这种情况下，温度传感器可以被配置为非接触式温度传感器、比如红外温度传感器。

另外，处理器200可以基于预先存储在目标存储区域中的校正数据和由数据获取单元100获得的温度数据来对获得的厚度数据进行校正。

在这种情况下，预先存储在目标存储区域中的校正数据可以包括数据表，在该数据表中记录有涂覆辊的外周根据位置被划分的多个部段中的与基底的接触部分接触的部段的在每个温度下的圆度值。

例如，处理器200可以对预先存储在目标存储区域中的数据表中的部段的与获得的温度数据相对应的圆度值进行检查并且使用检查后的圆度值来对获得的厚度数据进行校正。即，处理器200可以通过从由获得的厚度数据指示的涂覆厚度值中去除根据确认后的圆度值的误差来生成校正后的厚度数据。

图2是示出了根据本公开的实施方式的涂覆系统2的视图。

如图2所示，涂覆系统2可以包括根据本公开的涂覆厚度测量设备10和涂覆装置20。

如上所述，涂覆厚度测量设备10可以构造成对由涂覆装置20施用至基底的涂覆材料的厚度进行测量。在这种情况下，涂覆装置20可以包括对基底进行支承和传输的涂覆辊22、以及将浆料状态的涂覆材料排放到由涂覆辊22支承和接触的基底上的涂覆机24。

另外，如参照图1所描述的，涂覆厚度测量设备10可以包括数据获取单元100和处理器200。

数据获取单元100可以被配置成在涂覆有涂覆材料的基底由涂覆辊22支承并输送的同时获得厚度数据，该厚度数据表示施用至基底的在整个基底中与涂覆辊22接触的接触部分的涂覆材料的厚度。为此，数据获取单元100可以包括感测模块110和定位模块120。

感测模块110可以被配置成通过对施用至基底的涂覆材料的厚度进行感测来生成涂覆材料的厚度数据。为此，感测模块110可以包括厚度传感器。例如，厚度传感器可以包括位移传感器，该位移传感器将光或激光照射到涂覆材料上、获得反射的光或激光并对相应的涂覆材料的厚度进行测量。该厚度传感器可以联接至感测模块110的壳体H并由其支承。

定位模块120可以被配置成对感测模块110的位置进行调节。即，定位模块120可以将感测模块110的位置调节成使得感测模块110通过厚度传感器对施用至基底的与涂覆辊22接触的接触部分的涂覆材料的厚度进行感测。

为此，定位模块120可以包括第一移动单元122和第二移动单元124。根据实施方式，定位模块120还可以包括第三移动单元126。

第一移动单元122可以构造成使感测模块110沿着第一轴线(例如，X轴)移动。为此，第一移动单元122可以包括第一致动器122a和通过第一致动器122a沿第一轴线方向移动的第一支承结构件122b。

第二移动单元124可以构造成使感测模块110沿着与第一轴线相交的第二轴线(例如，Z轴)移动。为此，第二移动单元124可以包括联接至第一支承结构件122b的第二致动器124a和通过第二致动器124a沿第二轴线方向移动的第二支承结构件124b。在这种情况下，感测模块110可以联接至第二移动单元124的第二支承结构件124b。

第三移动单元126可以构造成使感测模块110沿着分别与第一轴线和第二轴线相交的第三轴线(例如，Y轴)移动。为此，第三移动单元126可以包括沿第三轴线方向延伸的导引轨道126a和构造成能够沿着导引轨道126a移动的基部结构件126b。

第三移动单元126的导引轨道126a可以联接并固定至涂覆机24的外表面。另外，第一移动单元122的第一致动器122a可以联接至第三移动单元126的基部结构件126b。

同时，涂覆厚度测量设备10可以包括多个上述数据获取单元100。在这种情况下，多个数据获取单元100可以在由涂覆辊22沿纵向方向传输的基底的宽度方向(X轴方向)上彼此间隔开。另外，数据获取单元之间的距离可以通过第三移动单元126进行调节。

在一个实施方式中，涂覆厚度测量设备10还可以包括旋转检测模块400。旋转检测模块400可以被配置成对涂覆辊22的旋转角度和旋转速度中的至少一者进行检测。为此，旋转检测模块400可以包括旋转编码器。

旋转检测模块400可以对涂覆辊22的旋转角度或旋转速度进行检测，并对构成涂覆辊22的外周的多个部段中的与施加有涂覆材料的基底的接触部分接触的部段进行感测，并且生成识别感测部段的部段识别数据。旋转检测模块400可以将生成的部段识别数据提供给数据获取单元100。

然后，数据获取单元100可以将施用至基底的接触部分的涂覆材料的厚度数据和与基底的接触部分接触的部段的部段识别数据传递至处理器200。为此，数据获取单元100可以被配置成与处理器200以有线或无线的方式进行通信。

处理器200可以在虚拟存储器区的多个存储区域中选择与部段识别数据对应的目标存储区域，并且基于预先存储在目标存储区域中的校正数据来对厚度数据进行校正。

处理器200可以选择性地包括中央处理单元(CPU)、专用集成电路(ASIC)、芯片组、逻辑电路、寄存器等，以便执行本公开所需的各种控制逻辑。由处理器200执行的控制逻辑可以实现为软件，并且对应的软件可以存储在内置于处理器200中的存储器中或者存储在位于处理器200外部的存储器中。处理器200可以设置在数据获取单元100的壳体H中或者设置在位于数据获取单元100外部的预定终端中。

在一个实施方式中，涂覆厚度测量设备10可以构造成在基底上执行涂覆过程之前执行校正数据获取程序。

在这种情况下，数据获取单元100可以在执行涂覆过程之前使用位移传感器针对涂覆辊22的每个部段获得指示对应部段的圆度值的圆度数据，并且将每个部段的圆度数据和部段识别数据发送至处理器200。

然后，处理器200可以对从数据获取单元100发送的圆度数据和部段识别数据针对每个部段进行划分并将其存储在虚拟存储器区的多个存储区域中。

另外，涂覆厚度测量设备10可以在改变涂覆辊22的温度的同时重复上述校正数据获取程序。

在一个实施方式中，涂覆厚度测量设备10还可以包括振动测量模块500。振动测量模块500可以被配置成对由涂覆装置20产生的振动的固有频率进行测量。为此，振动测量模块500可以包括振动传感器。

基于测量到的固有频率，振动测量模块500可以生成与由振动引起的针对涂覆辊22的每个部段的误差相关的校正数据，并将该数据提供给数据获取单元100。然后，数据获取单元100可以将针对每个部段的误差的校正数据传递至处理器200，并且处理器200可以将针对每个部段的误差的校正数据针对每个部段分开并存储在虚拟存储器区的多个存储区域中。

图3是示出了图2所示的涂覆系统的涂覆厚度测量设备10的视图。

如图3所示，涂覆厚度测量设备10的数据获取单元100可以包括感测模块110和定位模块120。

感测模块110可以对基底BM的与涂覆辊22的外周接触的接触部分C1的一部分的涂覆厚度进行测量。为此，感测模块110可以包括厚度传感器112a、112b。

在一个实施方式中，感测模块110的厚度传感器112a、112b可以被配置为非接触式位移传感器。在这种情况下，厚度传感器112a、112b可以包括光施加单元112a和光获取单元112b。

光施加单元112a可以构造成将光或激光施加至施用至基底BM的涂覆材料CM的表面。为此，光施加单元112a可以包括设置在壳体H内部的光源和用于将由光源产生的光施加至基底BM的表面的透镜。

特别地，光施加单元112a可以构造成将光施加至基底BM的在整个基底BM中与涂覆辊22接触的接触部分C1。例如，在图3中，基底BM的与涂覆辊22接触的部分是位于涂覆辊22的竖向中心线L1的左侧的部分，并且作为涂覆厚度测量的目标的接触部分C1是基于水平中心线L2位于上侧的部分。

光获取单元112b可以构造成获得由光施加单元112a施加并从涂覆材料CM的表面反射的光。为此，光获取单元112b可以包括构造成对反射的光或激光进行收集的透镜以及诸如光电二极管或互补金属氧化物半导体(CMOS)的光接收元件。在这种情况下，从涂覆材料CM的表面反射并穿过光接收透镜的光可以被设置在壳体H内部的光接收元件接收并转换为电信号。

感测模块110可以基于由光获取单元112b获得的光来生成关于涂覆材料CM的厚度的厚度数据。

作为示例，感测模块110可以获得与由光接收元件接收的光的振幅比或相位差有关的波长域光谱并对其执行快速傅立叶变换以计算涂覆材料CM的厚度值。作为另一示例，感测模块110可以对由光施加单元112a施加并由光获取单元112b获得的光的TOF(飞行时间)进行测量，并且将测量到的TOF转换为距离以计算涂覆材料CM的厚度值。

在常规的涂覆厚度测量设备的情况下，由于厚度是针对基底的在输送涂覆基底的两个辊之间的空气中移动的一部分测量的，因设备的振动或辊之间的圆度差异等而在基底上产生抖动，并且因此，难以精确地测量基底的涂覆厚度。

另一方面，根据本公开的涂覆厚度测量设备10构造成对施用至基底的在整个基底BM中抖动被最小化的一部分——即基底的被支承成与涂覆辊22接触的接触部分——的涂覆材料CM的厚度进行测量，因此可以减少因基底的抖动而引起的测量误差并且可以提高测量准确性。

例如，感测模块110可以被配置成对关于接触部分C1的端部A1的涂覆材料CM的厚度进行测量，该端部A1在基底BM的被支承成与涂覆辊22接触的接触部分C1中具有最小的曲率。以这种方式，可以通过对关于接触部分C1的抖动较小且弯曲程度最小的端部A1的涂覆厚度进行测量来进一步提高测量准确性。

在一个实施方式中，感测模块110还可以包括用于感测涂覆辊22的温度的温度传感器114。温度传感器114可以被配置为非接触式温度传感器、比如红外温度传感器。

另外，涂覆厚度测量设备10的处理器200可以基于预先存储在虚拟存储器区的多个存储区中的目标存储区中的校正数据和通过温度传感器114获得的温度数据来对由数据获取单元100获得的厚度数据进行校正。

在这种情况下，预先存储在目标存储区域中的校正数据可以包括数据表，在该数据表中，记录有通过对涂覆辊22的外周进行划分而获得的多个部段中的与基底的厚度测量目标接触的部段的在每个温度下的圆度值。

例如，处理器200可以对预先存储在目标存储区域中的数据表中的部段的与获得的温度数据相对应的圆度值进行检查并且使用检查后的圆度值来对获得的厚度数据进行校正。

在一个实施方式中，涂覆厚度测量设备10还可以包括涂覆检测模块116。涂覆检测模块116可以被配置成对施用至基底BM的涂覆材料CM进行检测。例如，涂覆检测模块116可以被配置成对涂覆材料是否被施用、施用位置以及施用的涂覆材料的宽度中的至少一者进行检测。为此，涂覆检测模块116可以包括光电传感器。

在这种情况下，感测模块110可以被配置成在涂覆检测模块116对涂覆材料CM进行检测之后开始测量涂覆材料CM的厚度。

涂覆检测模块116可以设置在感测模块110的壳体H中，或者可以设置在使感测模块110移动的第二移动单元124的第二支承结构件124b中。

同时，定位模块120可以在感测模块110对涂覆材料的厚度CM进行感测之前调节感测模块110的位置。即，定位模块120可以将感测模块110的位置调节成使得感测模块110对施用至基底的在整个基底BM中与涂覆辊22接触的接触部分的涂覆材料CM的厚度进行感测。

在一个实施方式中，定位模块120可以被配置成根据涂覆检测模块116对涂覆材料进行检测的结果来调节感测模块110的位置。

另外，如上面参照图2所描述的，定位模块120可以包括第一移动单元122和第二移动单元124。根据实施方式，定位模块120还可以包括第三移动单元126。

第一移动单元122可以使感测模块110沿着第一轴线(例如，X轴)移动。为此，第一移动单元122可以包括第一致动器122a和通过第一致动器122a沿第一轴线方向移动的第一支承结构件122b。

第二移动单元124可以使感测模块110沿着与第一轴线相交的第二轴线(例如，Z轴)移动。为此，第二移动单元124可以包括联接至第一支承结构件122b的第二致动器124a和通过第二致动器124a沿第二轴线方向移动的第二支承结构件124b。在这种情况下，感测模块110可以联接至第二移动单元124的第二支承结构件124b。

第三移动单元126可以使感测模块110沿着分别与第一轴线和第二轴线相交的第三轴线(例如，Y轴)移动。为此，第三移动单元126可以包括沿第三轴线方向延伸的导引轨道126a和构造成能够沿着导引轨道126a移动的基部结构件126b。

第三移动单元126的导引轨道126a可以联接并固定至涂覆机24的外表面。另外，第一移动单元122的第一致动器122a可以联接至第三移动单元126的基部结构件126b。

同时，涂覆装置20的涂覆辊22具有筒形形状，并且可以对与其外周接触的基底BM进行支承和传输。

另外，涂覆装置20的涂覆机24可以将涂覆材料CM连续地施用至基底BM的支承成与涂覆辊22的外周接触的表面。在这种情况下，涂覆机24可以被实现为通过槽排出浆料状态的涂覆材料CM的槽模涂覆机。

涂覆机24可以设置在涂覆辊22的一侧并朝向涂覆辊22排出涂覆材料CM。例如，涂覆机24可以设置在涂覆辊22的水平中心线L2上，但不限于此。

图4是示出了适用于根据本公开的涂覆系统2的涂覆辊的横截面图。

如图4所示，理想的涂覆辊CR_o的横截面具有半径为R且以涂覆辊CR_o的旋转中心CR作为圆的中心的正圆形状。

然而，实际的涂覆辊CR的横截面不是正圆，并且涂覆辊CR的每个部段根据圆度具有误差(ΔR1、ΔR2)。因此，当对涂覆在基底的与实际的涂覆辊CR的外周接触的部分上的涂覆材料的厚度进行测量时，对应的测量值包括由于圆度而引起的误差，从而使对应的测量值的准确性和可靠性劣化。

因此，根据本公开的实施方式的涂覆厚度测量设备10可以将涂覆辊的外周分成多个部段，预先获得表示每个部段的圆度值的圆度数据，并且通过使用包括获得的圆度数据的校正数据来对与稍后获得的涂覆厚度相关的厚度数据进行校正。

图5是示出了由根据本公开的涂覆厚度测量设备创建的虚拟存储器区Z1的示例的视图。

如图5所示，虚拟存储器区Z1可以具有多个存储区域M1、M2、M3等。在这种情况下，所述多个存储区域可以分别对应于通过根据圆周上的位置对涂覆辊22的外周进行划分而获得的多个部段。例如，当涂覆辊22的外周被分成100,000个部段时，虚拟存储器区Z1可以具有100,000个存储区域。

另外，可以在每个存储区域中存储包括对应部段的圆度值的校正数据。

图6是示出了图5所示的虚拟存储器区Z1中的校正数据存储状态的视图。

如图6所示，根据位置对涂覆辊22的外周进行划分的多个部段中的第一部段的圆度值(例如3.8)可以存储在虚拟存储器区Z1的多个存储区域中的第一存储区域M1中。

另外，多个部段中的第50004部段的圆度值(例如3.4)可以存储在虚拟存储器区Z1的多个存储区域中的第50004存储区域M50K4中。

以这种方式，涂覆辊22的每个部段的圆度值可以针对每个部段进行划分并存储在虚拟存储器区Z1的多个存储区域中。

图7是示出了存储在虚拟存储器区的存储区域中的校正数据的示例的视图。

如图7所示，存储在虚拟存储器区Z1的每个存储区域中的校正数据可以包括数据表，在该数据表中记录有通过根据位置对涂覆辊22的外周进行划分而获得的多个部段中的与存储区域对应的部段的在每个温度下的圆度值。

例如，存储在虚拟存储器区Z1的第一存储区域中的数据表可以包括与涂覆辊22的多个部段中的和第一存储区域对应的部段的在每个温度下的圆度值。

图8是示出了图3所示的涂覆厚度测量设备10的测量准备状态的视图。

如图8所示，涂覆厚度测量设备10的数据获取单元100可以执行测量准备操作，以对由涂覆装置20施用至基底BM的涂覆材料CM的厚度进行测量。

即，数据获取单元100的定位模块120可以将感测模块110的位置调节成使得感测模块110对施用至基底的在整个基底BM中与涂覆辊22接触的接触部分C1的涂覆材料CM的厚度、特别是对应的接触部分C1的端部A1的涂覆材料CM的厚度进行感测。作为参考，接触部分C1的位置或者接触部分C1的端部A1的位置可以根据基底BM的传输方向D1、D2而变化。

例如，定位模块120的第一移动单元122可以使感测模块110沿着X轴向右移动并将感测模块110置于接触部分C1的端部A1的上方。为此，第一移动单元122可以包括第一致动器122a和通过第一致动器122a沿X轴方向移动的第一支承结构件122b。

接下来，定位模块120的第二移动单元124可以使感测模块110沿着Z轴向下移动，以使感测模块110靠近接触部分C1的端部A1。为此，第二移动单元124可以包括联接至第一支承结构件122b的第二致动器124a和通过第二致动器124a沿Z轴方向移动的第二支承结构件124b。在这种情况下，感测模块110可以联接至第二移动单元124的第二支承结构件124b。

图9是示出了根据本公开的修改实施方式的涂覆厚度测量设备的视图。

如图9所示，与上述数据获取单元100类似，根据本公开的修改实施方式的涂覆厚度测量设备的数据获取单元100A可以包括感测模块110和定位模块120。

应当注意，数据获取单元100A的定位模块120还可以包括旋转单元128。定位模块120还可以包括使感测模块110围绕预定的旋转轴线在预定的旋转角度范围内旋转的旋转单元128。为此，旋转单元128可以包括伺服马达和旋转轴，以用于通过伺服马达的驱动力来使感测模块110旋转。

例如，当沿竖向方向(Z轴方向)引入的基底BM在经过涂覆辊22的同时被涂覆之后与水平方向(X轴方向)成预定角度(θ)移动时，基底的与涂覆辊22接触的接触部分C1’的长度以及对应的接触部分C1’的端部A1’的位置与图8中的长度和位置不同。即，接触部分C1’的长度减小，并且对应的接触部分C1的端部A1位于沿逆时针方向远离竖向中心线L1预定角度(θ)的点处。

图10是示出了图9所示的涂覆厚度测量设备的测量准备状态的视图。

如图10所示，定位模块120的旋转单元128使感测模块110沿逆时针方向旋转预定角度(θ)，使得施用至基底BM的接触部分(C1’)的端部(A1’)的涂覆材料CM的厚度方向与感测模块110的感测方向可以相匹配。

即，根据本公开的修改实施方式的涂覆厚度测量设备可以应用于各种结构的涂覆系统，并且无论基底的输送方向如何，都可以以高水平的准确性对施用至对应基底的涂覆材料的厚度进行测量。

图11是示出了通过常规的位移传感器测量的涂覆厚度值的曲线图。

如图11所示，当涂覆辊22的外周根据在圆周上的位置被分成1000个部段时，针对基底的与每个部段接触的接触部分测量的涂覆厚度值包括根据对应部段的圆度的误差。因此，即使当施用至基底的涂覆材料的厚度实际上是均匀的时，通过位移传感器连续测量的涂覆厚度值彼此之间也呈现出较大偏差。

图12是示出了根据本公开的实施方式进行校正的涂覆厚度值的曲线图。

如图12所示，由于根据本公开的实施方式进行校正的涂覆厚度值不包括由于测量时的涂覆辊的温度和每个部段的圆度而引起的误差，因此涂覆厚度值仅呈现出与涂覆材料的实际厚度的差异对应的偏差。

图13是示出了根据本公开的实施方式的涂覆系统2的视图。

如图13所示，根据本公开的实施方式的涂覆系统2包括上述涂覆厚度测量设备10和涂覆装置20，并且还可以包括根据实施方式的管理服务器30。

管理服务器30可以通过通信网络与涂覆厚度测量设备10和涂覆装置20进行通信，并且可以被配置成对涂覆厚度测量设备10和涂覆装置20进行管理。在这种情况下，通信网络可以包括各种类型的有线或无线网络，比如局域网(LAN)、广域网(WAN)、移动无线电通信网络和无线宽带互联网(Wibro)。

例如，管理服务器30可以通过使用从涂覆厚度测量设备10提供的厚度数据来确定涂覆装置20是否正常操作。当确定涂覆装置20异常操作时，管理服务器30可以通过显示器或扬声器生成警报或者使涂覆装置20停止。

在一个实施方式中，管理服务器30可以被配置成在显示器上显示从涂覆厚度测量设备10提供的厚度数据并将由管理者输入的反馈信息传递至涂覆厚度测量设备10。在这种情况下，发送至涂覆厚度测量设备10的反馈信息可以包括用于对厚度数据进行校正的校正数据因子(例如，温度、圆度、振动等)中的一个或两个或更多个校正数据因子的权重信息。接收反馈信息的涂覆厚度测量设备10可以在对厚度数据进行校正时反映权重信息。

管理服务器30可以实现为计算机，比如台式计算机、膝上型计算机或笔记本计算机，但不限于此，并且可以实现为具有计算功能和通信功能的任何类型的计算装置。

图14是图示了根据本公开的实施方式的涂覆厚度测量方法的流程图。在下文中，将参照图14按时间顺序对上述涂覆厚度测量设备10的详细操作进行描述。

如图14所示，在对基底执行涂覆过程之前，构造成对施用至基底的涂覆材料的厚度进行测量的涂覆厚度测量设备10获得用于校正厚度数据的校正数据(S10)。

即，涂覆厚度测量设备10的数据获取单元100、100A可以使用位移传感器来针对涂覆辊22的每个部段获得指示对应部段的圆度值的圆度数据，并且可以将包括每个部段的圆度数据和部段识别数据的校正数据发送至处理器200。

然后，涂覆厚度测量设备10的处理器200可以生成虚拟存储器区，该虚拟存储器区具有其中分配并存储有校正数据的多个存储区域。例如，处理器200可以生成具有多个存储区域的虚拟存储器区，并且将从数据获取单元100发送的校正数据针对每个部段存储在虚拟存储器区的多个存储区域中。

另外，涂覆厚度测量设备10可以在改变涂覆辊22的温度的同时重复上述校正数据获取程序。

接下来，当涂覆有涂覆材料的基底正在由涂覆辊22输送时，涂覆厚度测量设备10的数据获取单元100、100A获得表示施用至基底的与涂覆辊22接触的接触部分的涂覆材料的厚度的厚度数据(S20)。

在这种情况下，数据获取单元100的定位模块120可以将数据获取单元100、100A的感测模块110的位置调节成使得感测模块110对在整个基底中与涂覆辊22接触的基底的涂覆材料的厚度、特别是对应的接触部分的端部的涂覆材料的厚度进行感测。

另外，数据获取单元100、100A还可以在获得厚度数据的同时通过使用温度传感器114来获得表示涂覆辊22的温度的温度数据(S30)。

接下来，涂覆厚度测量设备10的处理器200从虚拟存储器区的多个存储区中选择目标存储区域，并且基于预先存储在目标存储区域中的校正数据来对厚度数据进行校正，以生成校正后的厚度数据(S40)。

例如，处理器200可以基于预先存储在虚拟存储器区的多个存储区域中的目标存储区域中的校正数据以及通过温度传感器114获得的温度数据来对由数据获取单元100获得的厚度数据进行校正。

为此，预先存储在目标存储区域中的校正数据可以包括数据表，在该数据表中记录有通过根据位置对涂覆辊22的外周进行划分而获得的多个部段中的与基底的厚度测量目标接触的部段的在每个温度下的圆度值。即，处理器200可以对预先存储在目标存储区域中的数据表中的部段的与获得的温度数据相对应的圆度值进行检查，并且使用检查后的圆度值来对获得的厚度数据进行校正。

然后，涂覆厚度测量设备10可以通过显示器或扬声器输出校正后的厚度数据，或者将校正后的厚度数据发送至诸如管理服务器的外部装置(S50)。

然后，涂覆厚度测量设备10可以重复上述过程，直至涂覆过程停止为止(S60)。

如上所述，根据本说明书中公开的实施方式，当涂覆有涂覆材料的基底由涂覆辊传输时，对于基底的在整个基底中与涂覆辊接触的部分，数据获取单元被配置成获得施用至对应部段的涂覆材料的厚度数据，因此可以减少由基底的抖动而引起的测量误差，并且可以以高水平的准确性对施用至基底的涂覆材料的厚度进行测量。

另外，处理器被配置成生成具有多个存储区域的虚拟存储器区，并且基于预先存储在从多个存储区域中选择的目标存储区域中的校正数据来对由数据获取单元获得的厚度数据进行校正，因此可以缩短涂覆厚度测量时间，同时进一步提高涂覆厚度测量值的准确性。

另外，数据获取单元被配置成进一步获得表示涂覆辊的温度的温度数据，并且处理器被配置成基于温度数据和预先存储在目标存储区域中的校正数据来对厚度数据进行校正，因此温度变化的影响可以反映在涂覆厚度测量值中，并且因此，可以进一步提高涂覆厚度测量值的准确性和可靠性。

另外，数据获取单元包括用于感测涂覆材料的厚度的感测模块和用于调节感测模块的位置的定位模块，因此可以对感测模块的感测位置进行优化，并且可以根据待测量的基底的尺寸、对待测量的基底进行输送的辊的相对位置等适当地改变感测模块的位置。

此外，本领域普通技术人员将从以下描述中清楚地理解，本公开的实施方式也可以用于解决上面未提及的各种技术问题。

已经参照具体实施方式描述了本公开。然而，本领域普通技术人员将理解，可以在本公开的范围内进行各种修改。因此，所公开的实施方式应当仅被认为是描述性意义的，而不是出于限制的目的。即，本公开的范围仅由以下权利要求限定，并且该范围内的所有差异将被解释为包括在本公开中。

Claims (15)

1.一种涂覆厚度测量设备，包括：

数据获取单元，所述数据获取单元被配置成在涂覆有涂覆材料的基底由涂覆辊输送时获得厚度数据，所述厚度数据指示施用至所述基底的与所述涂覆辊接触的接触部分的所述涂覆材料的厚度；以及

处理器，所述处理器被配置成创建具有其中分配并存储有校正数据的多个存储区域的虚拟存储器区，并且基于预先存储在目标存储区域中的校正数据来对所述厚度数据进行校正，以生成校正后的厚度数据，所述目标存储区域选自所述多个存储区域。

2.根据权利要求1所述的涂覆厚度测量设备，

其中，所述数据获取单元被配置成将所述涂覆辊的外周分成多个部段以进一步获得部段识别数据，所述部段识别数据用于在所述多个部段中识别与所述基底的所述接触部分接触的部段，并且

其中，所述处理器被配置成在对所述厚度数据进行校正之前在所述多个存储区域中选择与所述部段识别数据相对应的存储区域作为所述目标存储区域。

3.根据权利要求2所述的涂覆厚度测量设备，

其中，预先存储在所述目标存储区域中的所述校正数据包括与所述基底的所述接触部分接触的部段的圆度值。

4.根据权利要求1所述的涂覆厚度测量设备，

其中，所述数据获取单元被配置成进一步获得表示所述涂覆辊的温度的温度数据，并且

其中，所述处理器被配置成基于预先存储在所述目标存储区域中的所述校正数据以及所述温度数据来对所述厚度数据进行校正。

5.根据权利要求4所述的涂覆厚度测量设备，

其中，预先存储的所述校正数据包括数据表，在所述数据表中记录有多个部段中的与所述基底的所述接触部分接触的部段的在每个温度下的圆度值，所述多个部段通过根据位置划分所述涂覆辊的外周而获得。

6.根据权利要求1所述的涂覆厚度测量设备，

其中，所述数据获取单元被配置成在获得所述厚度数据之前，将所述涂覆辊的外周划分成多个部段并且获得每个部段的圆度数据，所述圆度数据表示对应部段的圆度，并且

其中，所述处理器被配置成对通过所述数据获取单元获得的所述圆度数据针对每个部段进行划分并且针对每个部段存储在所述多个存储区域中。

7.根据权利要求1所述的涂覆厚度测量设备，

其中，所述数据获取单元包括：

感测模块，所述感测模块具有厚度传感器；以及

定位模块，所述定位模块被配置成调节所述感测模块的位置并且使所述感测模块通过所述厚度传感器对施用至所述基底的所述接触部分的所述涂覆材料的厚度进行感测，以生成所述厚度数据。

8.根据权利要求7所述的涂覆厚度测量设备，

其中，所述感测模块还包括用于感测所述涂覆辊的温度的温度传感器，并且

其中，所述处理器被配置成基于预先存储在所述目标存储区域中的所述校正数据和通过所述温度传感器获得的温度数据来对所述厚度数据进行校正。

9.根据权利要求7所述的涂覆厚度测量设备，

其中，所述定位模块包括：

第一移动单元，所述第一移动单元用于使所述感测模块沿着第一轴线移动；以及

第二移动单元，所述第二移动单元用于使所述感测模块沿着与所述第一轴线相交的第二轴线移动。

10.根据权利要求9所述的涂覆厚度测量设备，

其中，所述定位模块还包括第三移动单元，所述第三移动单元用于使所述感测模块沿着分别与所述第一轴线和所述第二轴线相交的第三轴线移动。

11.根据权利要求9所述的涂覆厚度测量设备，

其中，所述定位模块还包括旋转单元，所述旋转单元用于使所述感测模块围绕预定的旋转轴线在预定的旋转角度范围内旋转。

12.根据权利要求1所述的涂覆厚度测量设备，

其中，包括多个所述数据获取单元，并且多个所述数据获取单元在由所述涂覆辊沿纵向方向传输的所述基底的宽度方向上彼此间隔开。

13.一种涂覆厚度测量方法，所述涂覆厚度测量方法通过用于对施用至基底的涂覆材料的厚度进行测量的装置来执行，所述涂覆厚度测量方法包括：

创建虚拟存储器区，所述虚拟存储器区具有其中分配并存储有校正数据的多个存储区域；

在涂覆有所述涂覆材料的所述基底由涂覆辊输送时获得厚度数据，所述厚度数据指示施用至所述基底的与所述涂覆辊接触的接触部分的涂覆材料的厚度；以及

基于预先存储在目标存储区域中的所述校正数据对所述厚度数据进行校正，以生成校正后的厚度数据，所述目标存储区域选自所述多个存储区域。

14.根据权利要求13所述的涂覆厚度测量方法，还包括：

在生成所述校正后的厚度数据之前，获得表示所述涂覆辊的温度的温度数据，

其中，生成所述校正后的厚度数据的步骤包括基于预先存储在所述目标存储区域中的所述校正数据以及所述温度数据来对所述厚度数据进行校正。

15.根据权利要求14所述的涂覆厚度测量方法，

其中，预先存储的所述校正数据包括数据表，在所述数据表中记录有多个部段中的与所述基底的所述接触部分接触的部段的在每个温度下的圆度值，所述多个部段通过根据位置划分所述涂覆辊的外周而获得。