CN117383966A - 一种祭红釉陶瓷及制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及日用及艺术陶瓷领域，公开了一种祭红釉陶瓷及制备方法。其制备方法包括以下步骤：S1、生料釉粉的配制；S2、熔块的制备；S3、熔块釉浆的制备；S4、施釉；S5、烧成。本发明提供的祭红釉陶瓷的制备方法，烧成的祭红釉陶瓷颜色均匀、润泽柔和、釉面匀净没有裂纹，极具艺术欣赏价值。
Description
技术领域
本发明涉及日用及艺术陶瓷领域，具体涉及一种祭红釉陶瓷及制备方法。
背景技术
随着时代的发展，人们对审美和艺术的追求不断提升，颜色釉将土与火的艺术展现得淋漓尽致，因此越来越受到人们的青睐。高温颜色釉作为一种陶瓷装饰材料，具有良好的耐蚀性和抗强碱性，近年来广泛应用于普通日用瓷、陶瓷文旅产品，其中应用于个性化餐具最为常见。高温颜色釉的种类繁多，综合起来主要分为三个色釉系统：一是以铁为主要着色剂的青釉系统；二是以钴为主要着色剂的蓝釉系统；三是以铜为主要着色剂的铜红釉系统。这三个系统的颜色釉都是在高温还原气氛中烧成的，其中青釉系统具有代表性的影青和蓝釉系统具有代表性的霁蓝的高温发色相对稳定，是目前高温颜色釉市场占有率较高的两款高温颜色釉。铜红釉作为高温颜色釉中的“瑰宝”，以其绚丽多彩的釉色而著称，自古以来都十分珍稀，深受人们的喜爱，但其烧制是最难掌握的一门“火的艺术”。铜红釉典型的代表有祭红、钧红和朗窑红。在这三种铜红釉中，祭红的烧成难度是最大的，成品率也是最低的，极大地限制了其大规模批量化生产。
长久以来，国内外很多专家学者对祭红釉进行了孜孜不倦的研究，有关其呈色机理的研究结果有Cu2O胶体着色、单质铜团聚而使釉面显红色和液-液分相使铜元素分布在某一微相中着色等。由祭红釉的发色机理可知，高温时，在还原气氛作用下，釉中的CuO被还原成Cu2O和Cu，并以胶体粒子形式存在于釉中。祭红釉在烧成过程中，一方面要控制釉中Cu2O和Cu胶体粒子的含量和分布，另一方面要保证釉料烧成后不被二次氧化，这对祭红釉的稳定发色尤为重要。因此，祭红釉烧成过程中存在诸多条件控制，例如升温速率、氧化气氛、还原气氛等。如果对上述条件控制不准确，将会导致祭红釉的颜色不稳定、不纯正。
目前，国内学者在祭红釉呈色机理研究结果的基础上，对其进行了多种方法的仿制，虽然在一定程度上改善了祭红釉陶瓷的成品率，但在制备过程中需要严格控制烧成条件才可以达到发色一致，这对于批量化生产来说，难度较大，并且要保证发色一致需要耗费大量的时间、人力和精力。因此，上述办法均从控制烧成过程中的条件来解决祭红釉陶瓷制备过程中釉色多变、釉色难以控制的技术难题，均未从根本上出发去解决。
发明内容
本发明针对现有技术中祭红釉陶瓷制备过程中釉色多变、釉色难以控制的问题，提出一种祭红釉陶瓷及制备方法，在熔块制备阶段将生料釉粉混合料在还原气氛下制成发色一致的熔块进而控制祭红釉陶瓷的颜色，利用该方法制备的祭红釉陶瓷，不仅颜色均匀、润泽柔和，釉面匀净没有裂纹，同时还提高了成品率。
为实现上述技术目的，本发明提供一种祭红釉陶瓷的制备方法，包括以下步骤：
S1、生料釉粉的配制：取基础釉与着色剂和还原辅助剂混合，得到生料釉粉；
S2、熔块的制备：将生料釉粉混合料在还原气氛下进行熔制、冷却，得到熔块；
S3、熔块釉浆的制备：将熔块破碎、加水研磨，得到熔块釉浆；
S4、施釉：将釉浆施于坯体上，再将坯体干燥，得到生坯；
S5、烧成：将生坯置于气氛为氮气和/或惰性气体中进行烧成，冷却，得到祭红釉陶瓷产品。
所述基础釉的组分包括高岭土、长石、石英和方解石。
优选的，按照基础釉的质量百分数为100％计，所述基础釉包括高岭土8％-12％、长石54％-58％、石英22％-26％和方解石12％-15％。
更优选的，按照基础釉的质量百分数为100％计，所述基础釉包括高岭土8％，长石55％、石英22％、方解石15％。
更优选的，按照基础釉的质量百分数为100％计，所述基础釉包括高岭土9％，长石55％、石英23％、方解石13％。
更优选的，按照基础釉的质量百分数为100％计，所述基础釉包括高岭土12％，长石54％、石英22％、方解石12％。
所述着色剂选自氧化铜、碳酸铜、氢氧化铜中的一种或多种，着色剂的用量为基础釉质量的0.3％-0.8％；和/或，所述还原辅助剂包括氧化锡，还原辅助剂的用量为基础釉质量的0.5％-1.5％。
S2步骤中，所述还原气氛选自一氧化碳和氢气中的一种或者两种；和/或，所述熔制温度为1500℃-1600℃。
S3步骤中，所述水的用量为熔块质量的38％-42％。
所述研磨的方式为球磨，球磨转速为350rpm/min-480rpm/min，时间为2h-4h。
优选的，所述熔块球磨后进行过筛处理，筛网的孔径为160目-325目。
S4步骤中，所述施釉方法选自浸釉、喷釉中的一种；和/或，所述施釉厚度为0.3mm-0.5mm；和/或，所述干燥的温度为100℃-110℃，时间为4h-6h。
S5步骤中，所述烧成温度为1250℃-1300℃，烧成时间为8h-10h。
所述惰性气体选自氩气和氦气中的一种或两种；优选的，烧成气氛为氮气和/或氩气。
本发明还提供了一种祭红釉陶瓷。
本发明的技术方案具有以下有益效果：
(1)本发明提供的一种祭红釉陶瓷的制备方法，包括以下步骤：S1、生料釉粉的配制：取基础釉与着色剂和还原辅助剂混合，得到生料釉粉；S2、熔块的制备：将生料釉粉混合料在还原气氛下进行熔制、冷却，得到熔块；S3、熔块釉浆的制备：将熔块破碎、加水研磨，得到熔块釉浆；S4、施釉：将釉浆施于坯体上，再将坯体干燥，得到生坯；S5、烧成：将生坯置于气氛为氮气和/或惰性气体中进行烧成，冷却，得到祭红釉陶瓷产品。本发明方法中，通过在还原气氛下将生料釉粉混合料先制备成发色一致的熔块；利用熔块制成釉浆施于坯体上，在烧成时使用氮气和/或惰性气体气氛，避免了二次氧化造成颜色不一致的情况，使得发色稳定，同时极大地提高了成品率。因此，利用本发明方法可制得釉色一致、釉色稳定的祭红釉陶瓷，极大的简化了制备过程，使得成品率提高。
(2)本发明提供的一种祭红釉陶瓷的制备方法，通过选用高岭土8％-12％、长石54％-58％、石英22％-26％和方解石12％-15％为基础釉，制得的祭红釉陶瓷釉面硬度高、光泽度好，外观更加精美。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例1制备的祭红釉陶瓷外观示意图。
图2是本发明对比例1烧成气氛为氧气气氛制备的祭红釉陶瓷外观示意图。
图3是本发明对比例2烧成气氛为一氧化碳气氛制备的祭红釉陶瓷外观示意图。
图4是本发明对比例3熔块制备气氛为氧化气氛制备的祭红釉陶瓷外观示意图。
图5是本发明对比例4生料釉粉湿法球磨且烧成气氛为5％(体积百分数)一氧化碳和95％(体积百分数)空气气氛制备的祭红釉陶瓷外观示意图。
具体实施方式
提供下述实施例是为了更好地进一步理解本发明，并不局限于所述最佳实施方式，不对本发明的内容和保护范围构成限制，任何人在本发明的启示下或是将本发明与其他现有技术的特征进行组合而得出的任何与本发明相同或相近似的产品，均落在本发明的保护范围之内。
实施例中未注明具体实验步骤或条件者，按照本领域内的文献所描述的常规实验步骤的操作或条件即可进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规试剂产品。
实施例1
本实施例提供了一种祭红釉陶瓷的制备方法，包括以下步骤：
S1、生料釉粉的配制：按照高岭土8Kg、长石55Kg、石英22Kg、方解石15Kg、氧化铜0.3Kg、氧化锡0.5Kg称重后混合，得到生料釉粉；
S2、熔块的制备：将生料釉粉放入搅拌机进行搅拌混合，将混匀的生料釉粉置于窑炉中，于1500℃，在一氧化碳气氛下进行熔制，待生料釉粉熔化均匀后，经冷却获得熔块；
S3、熔块釉浆的制备：将上述熔块破碎后，置于球磨机中，加入熔块质量38％的水进行球磨，球磨转速为420rpm/min，时间为3h，经检查球磨细度达到：325目标准筛筛余<0.02％，出磨过180目标准筛，即获得熔块釉浆；
S4、施釉：采用浸釉的方法将熔块釉浆施于坯体上，施釉厚度0.5mm，将施好釉的坯体放入100℃的烘箱中干燥5h后获得生坯；
S5、烧成：将生坯置于氮气气氛窑炉中于1250℃烧成，烧成时间为9h，冷却后即获得祭红釉陶瓷产品。
实施例2
本实施例提供了一种祭红釉陶瓷的制备方法，与实施例1的区别在于：S1步骤中生料釉粉配方为高岭土8Kg、长石58Kg、石英22Kg、方解石12Kg、氧化铜0.5Kg、氧化锡0.8Kg；S3步骤中水的用量为熔块质量的40％；S4步骤中施釉厚度为0.4mm，其余制备方法与实施例1一致。
实施例3
本实施例提供了一种祭红釉陶瓷的制备方法，与实施例1的区别在于：S1步骤中生料釉粉配方为高岭土9Kg、长石55Kg、石英23Kg、方解石13Kg、氧化铜0.5Kg、氧化锡1.0Kg；S2步骤中熔块熔制温度为1580℃；S3步骤中水的用量为熔块质量的42％；S4步骤中施釉厚度为0.3mm；S5步骤中烧成气氛为氩气气氛，烧成温度为1280℃，其余制备方法与实施例1一致。
实施例4
本实施例提供了一种祭红釉陶瓷的制备方法，与实施例1的区别在于：S1步骤中生料釉粉配方为高岭土8Kg、长石54Kg、石英26Kg、方解石12Kg、氧化铜0.5Kg、氧化锡1.0Kg；S2步骤中熔块熔制温度为1580℃；S3步骤中水的用量为熔块质量的42％；S4步骤中施釉厚度为0.4mm；S5步骤中烧成气氛为氩气气氛，烧成温度为1280℃，其余制备方法与实施例1一致。
实施例5
本实施例提供了一种祭红釉陶瓷的制备方法，与实施例1的区别在于：S1步骤中生料釉粉配方为高岭土12Kg、长石54Kg、石英22Kg、方解石12Kg、氧化铜0.8Kg、氧化锡1.5Kg；S2步骤中熔块熔制温度为1600℃；S3步骤中水的用量为熔块质量的42％；S4步骤中施釉厚度为0.3mm；S5步骤中烧成温度为1300℃，其余制备方法与实施例1一致。
实施例6
本实施例提供了一种祭红釉陶瓷的制备方法，与实施例1的区别在于：S1步骤中生料釉粉配方为高岭土12Kg、长石54Kg、石英22Kg、方解石12Kg、氧化铜0.8Kg、氧化锡1.5Kg；S2步骤中熔块熔制温度为1600℃；S3步骤中水的用量为熔块质量的42％；S4步骤中施釉厚度为0.3mm；S5步骤中烧成气氛为氮气和氩气(体积比例1:1)，烧成温度为1300℃，其余制备方法与实施例1一致。
对比例1
本对比例提供了一种陶瓷的制备方法，与实施例1的区别在于：S5步骤中烧成气氛为氧气，其余原料用量和工艺参数均与实施例1一致。
对比例2
本对比例提供了一种陶瓷的制备方法，与实施例1的区别在于：S5步骤中烧成气氛为一氧化碳，其余原料用量和工艺参数均与实施例1一致。
对比例3
本对比例提供了一种陶瓷的制备方法，与实施例1的区别在于：S2步骤中熔块制备气氛为氧气，其余原料用量和工艺参数均与实施例1一致。
对比例4
本对比例提供了一种祭红釉陶瓷的制备方法，与实施例1的区别在于：未进行S2步骤；S3步骤中将生釉料粉加水进行湿法球磨，加工至细度为325目标准筛筛余为0.01％，得到釉浆；S5步骤中烧成气氛为5％(体积百分数)一氧化碳和95％(体积百分数)空气；其余原料用量和工艺参数均与实施例1一致。
分别按照实施例1-6和对比例1-4的方法制备陶瓷，各组均制得50批次的陶瓷，进行外观测评，若祭红釉陶瓷的釉面光亮、无裂纹，呈纯正红色且均匀细腻，记为成品，否则记为不合格品，计算各组制备的50个祭红釉陶瓷的成品率。
表1祭红釉陶瓷情况汇总
本发明实施例1-6制得的祭红釉陶瓷大多符合釉面光亮、无裂纹，呈纯正红色且均匀细腻的要求，成品率达到91-95％，参见图1。而对比例1-3制得的颜色呈现绿色或者灰黑色，无祭红效果，参见图2-4。说明在烧成步骤中使用不同气体的气氛导致图1-4的祭红釉陶瓷颜色区别较大。此外与传统的生料釉还原气氛一次烧成相比(图5)，利用本发明制得的祭红釉陶瓷釉色更为纯正，成品率更高。因此，利用本发明的制备方法可以制得釉色纯正、成品率高的祭红釉陶瓷。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。
Claims (10)
1.一种祭红釉陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、生料釉粉的配制：取基础釉与着色剂和还原辅助剂混合，得到生料釉粉；
S2、熔块的制备：将生料釉粉混合料在还原气氛下进行熔制、冷却，得到熔块；
S3、熔块釉浆的制备：将熔块破碎、加水研磨，得到熔块釉浆；
S4、施釉：将釉浆施于坯体上，再将坯体干燥，得到生坯；
S5、烧成：将生坯置于气氛为氮气和/或惰性气体中进行烧成，冷却，得到祭红釉陶瓷产品。
2.根据权利要求1所述的祭红釉陶瓷的制备方法，其特征在于，所述基础釉的组分包括高岭土、长石、石英和方解石；
优选的，按照基础釉的质量百分数为100％计，所述基础釉包括高岭土8％-12％、长石54％-58％、石英22％-26％和方解石12％-15％；更优选的，按照基础釉的质量百分数为100％计，所述基础釉包括高岭土8％，长石55％、石英22％、方解石15％；或者，包括高岭土9％，长石55％、石英23％、方解石13％；或者，包括高岭土12％，长石54％、石英22％、方解石12％。
3.根据权利要求1或2所述的祭红釉陶瓷的制备方法，其特征在于，所述着色剂选自氧化铜、碳酸铜、氢氧化铜中的一种或多种，所述着色剂的用量为所述基础釉质量的0.3％-0.8％；和/或，所述还原辅助剂包括氧化锡，还原辅助剂的用量为基础釉质量的0.5％-1.5％。
4.根据权利要求1-3中任一所述的祭红釉陶瓷的制备方法，其特征在于，S2步骤中，所述还原气氛选自一氧化碳和氢气中的一种或者两种；和/或，所述熔制温度为1500℃-1600℃。
5.根据权利要求1-4中任一所述的祭红釉陶瓷的制备方法，其特征在于，S3步骤中，所述水的用量为熔块质量的38％-42％。
6.根据权利要求1-5中任一所述的祭红釉陶瓷的制备方法，其特征在于，S3步骤中，所述研磨的方式为球磨，球磨转速为350rpm/min-480rpm/min，时间为2h-4h；优选的，所述熔块球磨后进行过筛处理，筛网的孔径为160目-325目。
7.根据权利要求1-6中任一所述的祭红釉陶瓷的制备方法，其特征在于，S4步骤中，所述施釉方法选自浸釉、喷釉中的一种；和/或，所述施釉厚度为0.3mm-0.5mm；和/或，所述干燥的温度为100℃-110℃，时间为4h-6h。
8.根据权利要求1-7中任一所述的祭红釉陶瓷的制备方法，其特征在于，S5步骤中，所述烧成温度为1250℃-1300℃，烧成时间为8h-10h。
9.根据权利要求1-8中任一所述的祭红釉陶瓷的制备方法，其特征在于，S5步骤中，所述惰性气体选自氩气和氦气中的一种或两种；优选的，所述烧成气氛为氮气和/或氩气。
10.一种根据权利要求1-9中任一所述的方法制备得到祭红釉陶瓷。
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