CN117380336A - 一种提取物制备研磨处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及研磨领域，具体的为一种提取物制备研磨处理装置，包括研磨容器、下研磨盘、一级研磨盘、二级研磨盘、导料管和导向组件，下研磨盘设置于研磨容器的下部，一级研磨盘设置于研磨容器内且位于下研磨盘的上方第一预设距离处。本发明设置了研磨容器、下研磨盘、一级研磨盘、二级研磨盘、导料管和导向组件，当二级研磨盘和下研磨盘之间的间距开始从最大间距向最小间距切换时，二级研磨盘和下研磨盘之间的间距逐渐减小，位于二级研磨盘和下研磨盘之间的物料不仅被研磨而且被挤压，在挤压力作用下，粒径小于出液孔孔径的物料通过出液孔排出到二级研磨盘的上端，因此出液效率更高。

Description

一种提取物制备研磨处理装置

技术领域

本发明涉及研磨领域，特别是涉及一种提取物制备研磨处理装置。

背景技术

从植物产品中提取和分离生物活性物质，是开发、研制保健类的绿色植物饮品的有效途径。例如通过对蔓越莓物料进行研磨，可以提取到蔓越莓原浆，通过将蔓越莓原浆按照适当的比例添加到饮品配方中，便可以获得具有较高食用价值的蔓越莓保健饮品。

为制备诸如蔓越莓此类的植物原浆，现有技术中都是使用多级研磨机来对果蔬类的原料进行研磨，诸如申请公布号为CN112718204A的中国发明专利申请公开了一种核桃浆液多级细化装置，该装置自上而下的分为多个小腔室，从而能够对核桃浆液进行多级破碎研磨，提高核桃浆液的细化效果，但是该发明仍具有以下缺陷：该装置对植物原料加工研磨时，植物原浆的出液效率低，半成品的物料在多级研磨机构之间传递时，用时较长。

发明内容

基于此，有必要针对目前的研磨装置所存在的问题，提供一种提取物制备研磨处理装置，该装置在研磨的同时能够逐渐对物料进行挤压，使得物料中的原浆被挤出，因此出液效率更高，而且在下研磨盘和二级研磨盘之间的间距增加时，物料能够从与其相邻的下研磨盘和一级研磨盘之间直接流到下研磨盘和二级研磨盘之间，用时更短，传递效果高。

上述目的通过下述技术方案实现：

一种提取物制备研磨处理装置包括：

研磨容器；

下研磨盘，下研磨盘设置于研磨容器的下部；

一级研磨盘，一级研磨盘设置于研磨容器内且位于下研磨盘的上方第一预设距离处，一级研磨盘能够绕其轴线转动；

二级研磨盘，二级研磨盘与一级研磨盘同心，二级研磨盘上开设有多个上下贯通的出液孔，且二级研磨盘配置成能够与一级研磨盘同步转动同时能够沿其轴线向下移动第二预设距离；

导料管，导料管固定连接在一级研磨盘上，用于将物料输送至一级研磨盘和下研磨盘之间；

导向组件，导向组件连接在下研磨盘和二级研磨盘之间，导向组件用于驱动二级研磨盘沿其轴线往复移动。

在其中一个实施例中，所述导向组件包括凸轮和导杆，凸轮与下研磨盘同心连接，凸轮的上端面为导向面，导向面包括多个上升弧面和多个下降弧面，上升弧面和下降弧面依次顺滑连接，导杆固定连接在二级研磨盘上，导杆与导向面始终抵接。

在其中一个实施例中，所述上升弧面的斜度大于下降弧面的斜度。

在其中一个实施例中，所述出液孔倾斜设置，出液孔的倾斜方向与二级研磨盘的转动方向相适配，用于加速物料从出液孔向外排出。

在其中一个实施例中，所述研磨容器内还设置有动力组件，动力组件用于驱动一级研磨盘绕其轴线转动。

在其中一个实施例中，所述动力组件包括动力源、第一锥齿轮和第二锥齿轮，动力源设置在研磨容器的内壁上，动力源的输出端与第一锥齿轮固定连接，第一锥齿轮与第二锥齿轮啮合，第二锥齿轮固定设置在导料管上。

在其中一个实施例中，所述研磨容器的外周壁上还设置有排料口，排料口用于将出液孔排出的物料排出到研磨容器外。

在其中一个实施例中，所述研磨容器的顶部还设置有漏斗，漏斗连通导料管。

在其中一个实施例中，所述研磨容器内还设置有支撑组件，支撑组件包括支撑盘和限位环，支撑盘固定连接在研磨容器的内周壁上，限位环固定连接在导料管的外周壁上，导料管与支撑盘转动接触。

在其中一个实施例中，所述下研磨盘和研磨容器的底部之间设置有液压缸，液压缸的固定端固定连接在研磨容器的底部，液压缸的伸缩端与下研磨盘的底部固定连接。

本发明的有益效果是：

本发明设置了研磨容器、下研磨盘、一级研磨盘、二级研磨盘、导料管和导向组件，当二级研磨盘和下研磨盘之间的间距从最小间距向最大间距切换时，位于下研磨盘和一级研磨盘之间的物料向下研磨盘和二级研磨盘之间流动，此时用于进料，当二级研磨盘和下研磨盘之间的间距开始从最大间距向最小间距切换时，二级研磨盘和下研磨盘之间的间距逐渐减小，位于二级研磨盘和下研磨盘之间的物料不仅被研磨而且被挤压，在挤压力作用下，粒径小于出液孔孔径的物料通过出液孔排出到二级研磨盘的上端，因此出液效率更高，而且初步研磨后的物料在下研磨盘和二级研磨盘之间的间距增加时，能够直接流到下研磨盘和二级研磨盘之间，用时更短。

附图说明

图1为本发明一种提取物制备研磨处理装置的整体示意图；

图2为本发明一种提取物制备研磨处理装置的侧视图；

图3为图2中A-A截面剖视图；

图4为图3中B处放大的结构示意图；

图5为本发明一种提取物制备研磨处理装置中一级研磨盘、二级研磨盘和下研磨盘的分解图。

其中：

100、研磨容器；110、排料口；120、漏斗；200、下研磨盘；300、一级研磨盘；310、花键块；400、二级研磨盘；410、出液孔；420、花键槽；500、导料管；600、导向组件；610、凸轮；611、上升弧面；612、下降弧面；620、导杆；700、动力组件；710、动力源；720、第一锥齿轮；730、第二锥齿轮；800、支撑组件；810、支撑盘；820、限位环；900、液压缸。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下通过实施例，并结合附图，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本文中为组件所编序号本身，例如“第一”、“第二”等，仅用于区分所描述的对象，不具有任何顺序或技术含义。而本申请所说“连接”、“联接”，如无特别说明，均包括直接和间接连接（联接）。在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

如图1-图5所示，一种提取物制备研磨处理装置包括研磨容器100、下研磨盘200、一级研磨盘300、二级研磨盘400、导料管500和导向组件600，下研磨盘200设置于研磨容器100的下部，一级研磨盘300设置于研磨容器100内且位于下研磨盘200的上方第一预设距离处，第一预设距离为一级研磨盘300和下研磨盘200之间的间距，该间距用于一级研磨，一级研磨盘300能够绕其轴线转动，通过一级研磨盘300和下研磨盘200的相对转动来对一级研磨盘300和下研磨盘200之间的物料进行研磨，二级研磨盘400为环形并且二级研磨盘400与一级研磨盘300同心，二级研磨盘400上开设有多个上下贯通的出液孔410，二级研磨盘400配置成能够与一级研磨盘300同步转动同时能够沿其轴线向下移动第二预设距离，导料管500固定连接在一级研磨盘300上，用于将物料输送至一级研磨盘300和下研磨盘200之间，导向组件600连接在下研磨盘200和二级研磨盘400之间，导向组件600用于驱动二级研磨盘400沿其轴线往复移动。

可以理解的是，下研磨盘200的上表面、一级研磨盘300以及二级研磨盘400的下表面均具有研磨齿，研磨齿用于对物料进行研磨破碎。

使用时，先使得一级研磨盘300转动，一级研磨盘300带动二级研磨盘400转动，此时在导向组件600的导向作用下，二级研磨盘400跟随一级研磨盘300同步转动并沿着二级研磨盘400的轴线上下往复移动，然后工作人员将经过液氮低温处理过的提取物物料加入到导料管500内，在物料的自身重力作用下，提取物物料沿导料管500内壁向下流动到一级研磨盘300和下研磨盘200之间，一级研磨盘300和下研磨盘200的相对转动使得一级研磨盘300和下研磨盘200表面的研磨齿对提取物物料进行初步研磨，使得提取物物料的果粒粒径减小，在二级研磨盘400上下往复移动过程中，二级研磨盘400和下研磨盘200之间的间距在最大间距和最小间距之间往复的切换，当二级研磨盘400和下研磨盘200之间的间距从最小间距向最大间距切换时，随着下研磨盘200和二级研磨盘400之间的间距增加，位于下研磨盘200和一级研磨盘300之间的物料向下研磨盘200和二级研磨盘400之间流动，此时为进料过程，当二级研磨盘400向上移动至下研磨盘200和二级研磨盘400之间的间距达到最大间距后，二级研磨盘400和下研磨盘200之间的间距开始从最大间距向最小间距切换，此时随着二级研磨盘400逐渐向下移动，二级研磨盘400和下研磨盘200之间的间距逐渐减小，因此位于二级研磨盘400和下研磨盘200之间的物料不仅被研磨而且被挤压，在挤压力作用下，粒径小于出液孔410孔径的物料通过出液孔410排出到二级研磨盘400的上端，此时便实现研磨后的原浆和被研磨的物料的分离，出液效率更高，而且被下研磨盘200和一级研磨盘300研磨后的物料能够直接流到下研磨盘200和二级研磨盘400之间，物料在一级研磨盘300和二级研磨盘400之间的传递用时更短，效率更高，原浆从出液孔410挤出后，进一步的将研磨后的原浆抽出研磨容器100便得到提取物。

要补充的是，通过交替进料和研磨挤压的形式，能够在每次进料后及时对物料进行研磨挤压，避免一次加入物料过多而造成物料被过度研磨，进而造成物料的温度过高，而使得提取物中的化学成分被破坏。

还有补充的是，为了使得二级研磨盘400和一级研磨盘300的同步转动且能够沿二级研磨盘400的轴线相对移动，具体地，在二级研磨盘400的内周面上开设有花键槽420，在一级研磨盘300的外周面上开设有花键块310，花键块310滑动连接在花键槽420内。

在进一步的实施例中，如图3和图5所示，导向组件600包括凸轮610和导杆620，凸轮610与下研磨盘200同心连接，凸轮610的上端面为导向面，导向面包括多个上升弧面611和多个下降弧面612，上升弧面611和下降弧面612依次顺滑连接，导杆620固定连接在二级研磨盘400上，导杆620与导向面始终抵接。

当导杆620跟随二级研磨盘400转动到上升弧面611的所在区域时，此时随着导杆620的继续转动，导杆620带动二级研磨盘400沿上升弧面611逐渐向上移动，二级研磨盘400和下研磨盘200之间的间距增加，此时位于下研磨盘200和一级研磨盘300之间的物料逐渐的流入到下研磨盘200和二级研磨盘400之间，当导杆620从上升弧面611移动到下降弧面612后，随着导杆620带动二级研磨盘400沿下降弧面612逐渐向下移动，二级研磨盘400和下研磨盘200之间的间距逐渐的减小，此时二级研磨盘400的自重用于对物料施加挤压作用力，使得粒径小于出液孔410的物料通过出液孔410排出到二级研磨盘400上端。

在进一步的实施例中，如图5所示，上升弧面611的斜度大于下降弧面612的斜度。

如此能够在二级研磨盘400转动一周的情况下，从最大间距向最小间距切换的时间占比大于从最小间距向最大间距切换的时间占比，因此能够逐渐的对二级研磨盘400和下研磨盘200之间的物料进行挤压，使得物料中的原浆逐渐的被挤出，使得出浆率以及出浆效率更高。

在进一步的实施例中，如图4所示，出液孔410倾斜设置，出液孔410的倾斜方向与二级研磨盘400的转动方向相适配，用于加速物料从出液孔410向外排出。

在二级研磨盘400转动的过程中，进入到出液孔410内的原浆会沿着出液孔410的孔壁向出液孔410的孔口处移动，从而加速进入到出液孔410内的原浆的排出，进一步的提高出浆的效率。

在进一步的实施例中，如图3所示，研磨容器100内还设置有动力组件700，动力组件700用于驱动一级研磨盘300绕其轴线转动。

使用时，启动动力组件700，使得动力组件700向外输出转矩，从而带动一级研磨盘300绕其轴线转动。

在进一步的实施例中，如图3所示，动力组件700包括动力源710、第一锥齿轮720和第二锥齿轮730，动力源710设置在研磨容器100的内壁上，动力源710的输出端与第一锥齿轮720固定连接，第一锥齿轮720与第二锥齿轮730啮合，第二锥齿轮730固定设置在导料管500上。动力源710可以为伺服电机、液压马达或者其他能够向外输出转矩的动力源710。

使用时，启动动力源710，动力源710带动第一锥齿轮720转动，第一锥齿轮720带动第二锥齿轮730转动，第二锥齿轮730带动导料管500转动，导料管500带动一级研磨盘300转动，从而使得一级研磨盘300能够绕其轴线转动。

还有补充的是，在其他实施例中，导料管500的外周壁上还可以固定连接有第一皮带轮，第一皮带轮与第二皮带轮传动连接，动力源710固定设置在研磨容器100内周壁上，研磨容器100的输出轴固定连接有第二皮带轮，从而通过动力源710带动第一皮带轮转动，第一皮带轮带动第二皮带轮转动，第二皮带轮带动导料管500转动，导料管500带动一级研磨盘300转动，从而使得一级研磨盘300绕其轴线转动。

在进一步的实施例中，研磨容器100的外周壁上还设置有排料口110，排料口110用于将出液孔410排出的物料排出到研磨容器100外。

在进一步的实施例中，如图3所示，研磨容器100的顶部还设置有漏斗120，漏斗120连通导料管500，漏斗120的下部与导料管500转动连接，设置漏斗120是为了方便向导料管500内添加物料。

在进一步的实施例中，如图3和图5所示，研磨容器100内还设置有支撑组件800，支撑组件800包括支撑盘810和限位环820，支撑盘810固定连接在研磨容器100的内周壁上，支撑盘810上开设有贯穿孔，贯穿孔与导料管500的直径相适配，限位环820固定连接在导料管500的外周壁上，导料管500与支撑盘810转动接触。

设置支撑组件800用于对导料管500进行限位支撑，通过支撑盘810和限位环820的纤维支撑，使得导料管500能够保持在所处的高度位置并能够相对于支撑盘810转动。

在进一步的实施例中，如图3所示，下研磨盘200和研磨容器100的底部之间设置有液压缸900，液压缸900的固定端固定连接在研磨容器100的底部，液压缸900的伸缩端与下研磨盘200的底部固定连接。

在初次进料时，使得液压缸900带动下研磨盘200向下移动，使得液压缸900和下研磨盘200之间的间距大于第一预设间距，在物料加入到下研磨盘200和一级研磨盘300之间后再使得液压缸900带动下研磨盘200向上移动，使得下研磨盘200和一级研磨盘300之间的间距达到第一预设间距，如此能够增加首次进入到下研磨盘200和一级研磨盘300之间的物料的量，提高研磨效率。

此外，当需要对下研磨盘200、一级研磨盘300以及二级研磨盘400的研磨面进行清洗时，还可以使得液压缸900带动下研磨盘200向下移动，使得下研磨盘200和一级研磨盘300之间的间距更大，能够容纳更多的清洁液体，使得清洁液体对下研磨盘200、一级研磨盘300以及二级研磨盘400的清洁效果更好。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种提取物制备研磨处理装置，其特征在于，包括：

研磨容器（100）；

下研磨盘（200），下研磨盘（200）设置于研磨容器（100）的下部；

一级研磨盘（300），一级研磨盘（300）设置于研磨容器（100）内且位于下研磨盘（200）的上方第一预设距离处，一级研磨盘（300）能够绕其轴线转动；

二级研磨盘（400），二级研磨盘（400）与一级研磨盘（300）同心，二级研磨盘（400）上开设有多个上下贯通的出液孔（410），且二级研磨盘（400）配置成能够与一级研磨盘（300）同步转动同时能够沿其轴线向下移动第二预设距离；

导料管（500），导料管（500）固定连接在一级研磨盘（300）上，用于将物料输送至一级研磨盘（300）和下研磨盘（200）之间；

导向组件（600），导向组件（600）连接在下研磨盘（200）和二级研磨盘（400）之间，导向组件（600）用于驱动二级研磨盘（400）沿其轴线往复移动。

2.根据权利要求1所述的一种提取物制备研磨处理装置，其特征在于，所述导向组件（600）包括凸轮（610）和导杆（620），凸轮（610）与下研磨盘（200）同心连接，凸轮（610）的上端面为导向面，导向面包括多个上升弧面（611）和多个下降弧面（612），上升弧面（611）和下降弧面（612）依次顺滑连接，导杆（620）固定连接在二级研磨盘（400）上，导杆（620）与导向面始终抵接。

3.根据权利要求2所述的一种提取物制备研磨处理装置，其特征在于，所述上升弧面（611）的斜度大于下降弧面（612）的斜度。

4.根据权利要求1所述的一种提取物制备研磨处理装置，其特征在于，所述出液孔（410）倾斜设置，出液孔（410）的倾斜方向与二级研磨盘（400）的转动方向相适配，用于加速物料从出液孔（410）向外排出。

5.根据权利要求1所述的一种提取物制备研磨处理装置，其特征在于，所述研磨容器（100）内还设置有动力组件（700），动力组件（700）用于驱动一级研磨盘（300）绕其轴线转动。

6.根据权利要求5所述的一种提取物制备研磨处理装置，其特征在于，所述动力组件（700）包括动力源（710）、第一锥齿轮（720）和第二锥齿轮（730），动力源（710）设置在研磨容器（100）的内壁上，动力源（710）的输出端与第一锥齿轮（720）固定连接，第一锥齿轮（720）与第二锥齿轮（730）啮合，第二锥齿轮（730）固定设置在导料管（500）上。

7.根据权利要求1所述的一种提取物制备研磨处理装置，其特征在于，所述研磨容器（100）的外周壁上还设置有排料口（110），排料口用于将出液孔（410）排出的物料排出到研磨容器（100）外。

8.根据权利要求1所述的一种提取物制备研磨处理装置，其特征在于，所述研磨容器（100）的顶部还设置有漏斗（120），漏斗（120）连通导料管（500）。

9.根据权利要求1所述的一种提取物制备研磨处理装置，其特征在于，所述研磨容器（100）内还设置有支撑组件（800），支撑组件（800）包括支撑盘（810）和限位环（820），支撑盘（810）固定连接在研磨容器（100）的内周壁上，限位环（820）固定连接在导料管（500）的外周壁上，导料管（500）与支撑盘（810）转动接触。

10.根据权利要求1所述的一种提取物制备研磨处理装置，其特征在于，所述下研磨盘（200）和研磨容器（100）的底部之间设置有液压缸（900），液压缸（900）的固定端固定连接在研磨容器（100）的底部，液压缸（900）的伸缩端与下研磨盘（200）的底部固定连接。