CN117295562A - 接触式清洁装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种接触式清洁装置(100),包括弹性体辊(120),该弹性体辊可旋转地安装在接触式清洁装置内,以在使用时使所述弹性体辊的外表面(123)接触地接合基板表面(112)。还提供了一种用于评估所述弹性体辊的外表面的装置,该装置包括:电磁辐射源(140),该电磁辐射源被配置成选择地将预定电磁频谱的电磁辐射发射到所述外表面的至少一个预定区域(125)上;检测器(160),该检测器被配置成接收来自所述至少一个预定区域的所述电磁辐射的至少第一反射;以及控制器(270),该控制器操作地耦接至所述检测器并适于确定至少所述第一反射的至少一个特征参数。本发明也涉及评估接触式清洁装置的方法,包括使用电磁辐射来评估弹性体辊表面。
Description
发明领域
本发明涉及一种用于评估接触式清洁装置的装置,特别是使用电磁辐射评估弹性体辊表面,例如弹性体辊表面的表面粗糙度的装置。本发明还涉及一种评估接触式清洁装置的方法,特别是使用电磁辐射评估弹性体辊表面,例如弹性体辊表面的表面粗糙度。
背景技术
接触式清洁用于清洁基板表面。一旦被清洁,基板表面可以用于各种复杂的工艺,例如用于制造电子、光伏和平板显示器的器件。必须彻底清洁这些基板表面,以使污染物不会使器件劣化或危害到器件。清洁辊,通常是橡胶或弹性体辊,用于从基板表面去除污物颗粒。然后可以使用粘合剂辊从弹性体辊上去除污物颗粒或碎屑。这允许弹性体辊表面最大限度地提高其从基板表面去除污物颗粒的效率。
某些已知的弹性体辊具有可以被微观粗糙化的表面,污物颗粒从具有污物的基板表面接收到该表面中。然而,接触式清洁装置的维护可能是困难的,因为弹性体辊的移除和更换是耗时的和/或需要装置的部分拆卸。
根据现有技术的解决方案的缺点之一是,在使用过程中,弹性体辊由于其表面接触带污物的基板表面而磨损。由于部件加工中清洁的关键性,应保持清洁效率。此外,当清洁效率显著降低时,应更换弹性体辊。然而,当使用弹性体辊时,其表面会发生磨损,这会影响清洁效率。在已知的系统中,清洁效率的降低可能仅由于后期处理步骤的损害而被注意到,从而降低了整体处理效率。
目前已知的装置可以在清洁辊的表面或内核区域内包括光学掺杂剂,该光学掺杂剂发光、发磷光或发荧光以使得能够确定表面区域的厚度。然而,这样的装置依赖于测量一定区域内的光学掺杂剂的量,并且此外,不能提供弹性体辊表面的外表面的直接分析。
在使用过程中弹性体辊表面的变化在基板是易弯的或可挠的工艺中提供了进一步的问题,例如在基板是薄膜的情况下。辊表面的磨损改变弹性体辊和基板表面之间的附着力,并且可能导致基板缠绕在辊周围。因此,必须停止机器,以清除辊子上的基板,然后重新启动机器。同样,清洁过程的效率显著受损。
因此,本发明的目的是减轻上述缺点中的一些缺点。特别地,本发明的目的是监测弹性体辊的外表面。也就是说,希望确定弹性体辊外表面是否保持提供有效清洁的能力。特别地,希望以非接触的方式监测外表面。
另一个目的是提供一种能够监测弹性体辊表面以确保其清洁表现高于预定阈值的装置。
本发明的又一目的是监测弹性体外表面的表面粗糙度。特别地,希望确保表面粗糙度保持在预定阈值之上。
发明内容
根据本发明的一个方面,提供一种用于评估弹性体辊表面的装置,该装置包括:
弹性体辊,该弹性体辊可旋转地安装在接触式清洁装置内,使得所述弹性体辊的外表面接触地接合基板表面;
电磁辐射源,该电磁辐射源被配置为选择性地将预定电磁频谱的电磁辐射发射到所述外表面的至少一个预定区域上,以及
检测器,该检测器被配置为接收来自所述至少一个预定区域的所述电磁辐射的至少第一反射。
在某些实施例中,控制器可操作地耦接到所述检测器,并且适于确定至少所述第一反射的至少一个特征参数。
根据本发明的一个方面,提供了一种接触式清洁装置,包括:
弹性体辊,该弹性体辊可旋转地安装在所述接触式清洁装置内,使得所述弹性体辊的外表面可与基板表面接触地接合;和
用于评估所述弹性体辊的所述外表面的装置,包括:
电磁辐射源,该电磁辐射源被配置为选择性地将预定电磁频谱的电磁辐射发射到所述外表面的至少一个预定区域上;
检测器,该检测器被配置为接收来自所述至少一个预定区域的所述电磁辐射的至少第一反射;和
控制器,该控制器可操作地耦接到所述检测器并且适于确定至少所述第一反射的至少一个特征参数。
在某些实施例中,所述第一反射,或事实上任何进一步的反射,是所述检测器直接从所述外表面的所述至少一个预定区域接收的反射。
在某些实施例中,所述至少一个特征参数是来自所述至少一个预定区域的至少所述第一反射的辐射散射特征。
在某些实施例中,所述辐射散射特征对应于或代表或表征或指示所述弹性体辊的表面粗糙度,特别是所述弹性体辊的所述外表面的表面粗糙度。
在某些实施例中,所述控制器适于基于至少所述第一反射的所述至少一个特征参数确定所述弹性体辊的表面粗糙度,特别是所述弹性体辊的所述外表面的表面粗糙度。
在某些实施例中,所述控制器适于基于多个反射来监测所述弹性体辊的表面粗糙度,特别是其所述外表面的表面粗糙度。也就是说,所述控制器可以适于确定多个反射中的每一个反射的至少一个特征参数,并且基于所述多个反射的所述特征参数来监测表面粗糙度。也就是说,所述控制器可以适于监测每个反射的所述至少一个特征参数,并且基于对所述特征参数的监测来监测所述弹性体辊的表面粗糙度,特别是其所述外表面的表面粗糙度。
在某些实施例中,所述控制器适于监测所述至少一个特征参数并当所述至少一个特征参数偏离预定阈值时发出警报信号。
在某些实施例中,所述预定阈值是与所述至少一个特征参数的初始值的最大偏离。
在某些实施例中,所述控制器进一步适于从来自所述至少一个预定区域的所述电磁辐射的至少所述第一反射的强度确定所述至少一个特征参数。
在某些实施例中,所述装置可操作以将所述电磁辐射发射到所述外表面的多个预定区域。
在某些实施例中,所述控制器适于提供根据来自所述多个不同区域中的每一个区域的至少第一反射确定的所述预定特征参数的平均值。
根据本发明的一个方面,提供一种评估弹性体辊的外表面的方法,所述方法包括:
提供电磁辐射源,
提供检测器,
使用所述电磁辐射源以选择地将预定电磁频谱的电磁辐射发射到所述外表面的预定区域,以及
使用所述检测器检测来自所述预定区域的至少第一反射。
在某些实施例中,一种方法进一步包括提供控制器,并使用所述控制器来确定至少所述第一反射的至少一个特征参数。
根据本发明的一个方面,提供了一种评估用于接触式清洁装置的弹性体辊的外表面的方法,所述方法包括:
使用电磁辐射源将预定电磁频谱的电磁辐射选择性地发射到所述外表面的预定区域上;
使用检测器来检测来自所述预定区域的至少第一反射;和
使用控制器来确定至少所述第一反射的至少一个特征参数。
在某些实施例中,所述第一反射,或者实际上任何进一步的反射,是由所述检测器直接从所述外表面的所述至少一个预定区域接收的反射。
在某些实施例中,所述至少一个特征参数是来自所述至少一个预定区域的至少所述第一反射的辐射散射特性。
在某些实施例中,所述辐射散射特性对应于、或代表、或表征或指示所述弹性体辊的表面粗糙度,特别是其所述外表面的表面粗糙度。
在某些实施例中,该方法包括步骤:使用控制器基于至少所述第一反射的所述至少一个特征参数来确定所述弹性体辊的表面粗糙度,特别是其所述外表面的表面粗糙度。
在某些实施例中,该方法包括步骤:使用所述控制器基于多个反射来监测所述弹性体辊的表面粗糙度,特别是其所述外表面的表面粗糙度。也就是说,该步骤可以包括使用所述控制器来监测多个反射中的每一个反射的所述至少一个特征参数,并且基于对所述特征参数的监测来监测所述弹性体辊的表面粗糙度,特别是其所述外表面的表面粗糙度。
在某些实施例中,该方法包括步骤:响应于所述至少一个特征参数偏离预定阈值而发出警报信号。
根据本发明的一个方面,提供了一种接触式清洁装置,包括:
弹性体辊,该弹性体辊可旋转地安装在所述接触式清洁装置内,使得所述弹性体辊的外表面可与基板表面接触地接合,以及
用于评估所述弹性体辊的所述外表面的表面粗糙度的装置,包括:
电磁辐射源,该电磁辐射源被配置为选择性地将预定电磁频谱的电磁辐射发射到所述外表面的至少一个预定区域上;
检测器,该检测器被配置为接收来自所述至少一个预定区域的所述电磁辐射的至少第一反射;和
可操作地耦接到所述检测器的控制器,所述控制器适于至少基于所述第一反射来确定所述外表面的表面粗糙度。
根据本发明的一个方面,提供了一种评估弹性体辊的外表面的表面粗糙度的方法,所述方法包括:
使用电磁辐射源将预定电磁频谱的电磁辐射选择性地发射到所述外表面的预定区域上;
使用检测器来检测来自所述预定区域的至少第一反射;和
使用控制器基于至少所述第一反射的至少一个特征参数来确定所述外表面的表面粗糙度。
正如本领域技术人员将显而易见的,在此公开的本发明的各个方面是可互换的,并且相关联的具体特征可应用于所公开的各个方面而不偏离所描述的本发明。
某些实例提供了直接分析弹性体辊的外表面的清洁效率的优点。也就是说,清洁效率直接与电磁辐射从外表面反射的特征参数有关。此外,以非接触的方式分析外表面。
某些实例提供了连续监测外表面的优点。通过这种方式,可以在多步骤处理装置内监测清洁操作的表现。
清洁表现的连续监测确保在对表面基板或后续处理步骤产生影响之前检测到降低到阈值之下的任何表现。因此,由于最佳的清洁效率,基板表面的处理得以保持而不受损害。
此外,通过连续分析清洁表现,可以确定或预测清洁表现何时会降至阈值以下,或者何时不再是最佳的。然后,可以协调弹性辊的更换以在方便的时间发生,例如在计划的维护期间。
某些实例提供的优点是,可以根据被清洁的基板表面来监测外表面。换言之,根据被清洁的基板表面来设置阈值清洁性能。以这种方式,例如,用于清洁可变形或易弯基板的外表面的监测将具有阈值,该阈值在存在薄膜缠绕在辊周围的风险之前启动警报。因此,监测外表面磨损,从而在基板表面或清洁装置损坏之前迅速更换弹性体辊。
某些实例提供了监测外表面的粗糙度的优点。因此,对外表面进行监测,使其粗糙度保持在阈值以上。通过这种方式,可以确保当表面磨损时,在薄膜基板被缠绕在辊周围的重大风险之前启动警报。监测外表面的表面粗糙度,以便在基板表面或清洁装置损坏之前及时更换弹性体辊。
附图说明
下面参照附图仅通过示例来描述本发明的实施例,在附图中:
图1示出根据本发明的一个方面的接触式清洁装置的示意图;
图2示出根据本发明的一个方面的另一接触式清洁装置的示意图;
图3示出根据本发明的一个方面的又一接触式清洁装置的示意图;
图4示出根据本发明的一个方面的另一接触式清洁装置的示意图。
在附图中,相同的附图标记表示相同部件。
具体实施方式
在以下说明书中使用某些术语只是为了方便,而不是限制性的。词“内部”、“向内”和“外部”、“向外”分别指朝向和远离所描述部件的指定中心线或几何中心(例如中心轴)的方向,具体含义根据说明书的上下文中将变得显而易见。
此外,如本文所使用的,术语“耦接”和“安装”旨在包括两个构件之间的直接连接,而没有任何其他构件介于其间,以及构件之间的间接连接,其中一个或多个其他构件介于前述构件之间。术语包括前面特别提及的词、其衍生物以及具有类似意义的词。
此外,除非另有规定,否则如“第一”、“第二”和“第三”等序数形容词的使用,仅表示指向相似对象的不同实例,并不意味着如此描述的对象必须按给定的顺序,无论是在时间上、空间上、层级上还是以任何其他方式。
现在参考图1,其中展示了根据本发明的一个方面的通用装置。弹性体辊120可旋转地安装在接触式清洁装置100内,使得弹性体辊的外表面123接触地接合第一基板表面112。电磁辐射源140选择性地将预定电磁频谱的电磁辐射141发射到外表面123的区域125上,并且检测器160被配置为接收来自区域125的电磁辐射的反射光161。
电磁辐射源140被布置为将电磁辐射141发射到外表面的预定区域125上。在图1所示的例子中,预定区域125部分地围绕弹性体辊120的圆周并沿着其轴向长度的一部分延伸。电磁辐射源140相对于弹性体辊120保持固定。以这种方式,当弹性体辊120的外表面123旋转通过预定区域125时,电磁辐射141被发射到弹性体辊120的固定的预定区域125上。
电磁辐射源140是发射电磁辐射141的发光二极管(LED)。在所示的示例中,LED将可见光(在该示例中为红光)发射到预定区域125上。
检测器160被提供为与暴露于电磁辐射141的表面区域125相邻。检测器160被布置为接收来自表面区域125的电磁辐射141的反射光161。以这种方式,来自表面区域125的一定比例的电磁辐射反射光161被检测器160接收和收集。
在替代布置中,电磁辐射源140可以被配置为将电磁辐射发射到外表面123的多个预定区域上。预定区域可以布置在弹性体辊120周围或横跨弹性体辊的任何合适位置处。预定区域可以布置在任何合适的圆周方向上或沿着弹性体辊120的轴向长度布置。
在替代布置中,例如本文所述的图4的示例,电磁辐射源可以适于相对于弹性体辊移动,例如通过相对于弹性体辊轴向或圆周移动。因此,电磁辐射源可以适于扫描弹性体辊,例如通过在弹性体辊周围或沿着弹性体辊扫描。以这种方式,电磁辐射源可以将辐射发射到外表面的多个预定区域上。辐射可以在扫描时连续发射,也可以以离散的间隔发射。例如,电磁辐射源可以在平行于弹性体辊120轴向长度的方向上越过,以便将电磁辐射发射到横跨弹性体辊120的外表面的一系列分度的区域125上。
在电磁辐射源或多个电磁辐射源的任何布置中,一个或多个检测器可以适当地布置成接收来自外表面123的正被电磁辐射源照射的一个或更多个区域的反射。特别地,在电磁辐射源适于扫描弹性体辊的情况下,检测器可以适于相应地移动。以这种方式,检测器可以是扫描检测器。
以这些方式,电磁辐射源和检测器可以被配置为提供对任何合适比例的弹性体辊120外表面123的分析。也就是说,该装置可以被配置为连续地或以预定的时间间隔提供对外表面的代表性区域的分析。或者,该装置可以被配置为使用来自外表面123的一系列预定区域的反射来提供对整个外表面123的分析。
在使用中,清洁装置100被配置为在图1的箭头所示的方向上传送片状基板110。片状基板110由一个或多个已知的驱动装置传送,例如,传送带或多个从动的处理辊(未示出),其适当地定位在清洁装置100之前、之内和/或之后。另外,片材基板110可以通过驱动弹性体辊120的旋转被传送。弹性体辊120可以通过使用直接驱动系统来驱动,或者可以由于与从动粘合辊的旋转接合而被驱动。
片状基板110由弹性体辊120接收,使得片状基板110的第一表面112接触弹性体辊的外表面123,也被称为清洁表面。由于弹性体辊120外表面123收集污物的倾向,当弹性体辊120旋转时,污物从第一表面112被去除。
弹性体辊120旋转,使得外表面123移离片材基板。外表面123的一部分朝向预定区域125旋转,然后旋转到预定区域125中。当外表面123的这个部分在预定区域125内时,它被来自辐射源140的电磁辐射141照射。
电磁辐射被发射到外表面123的预定区域125上,使得电磁辐射从该预定区域反射。从预定区域125反射的一定比例的电磁辐射141被检测器160接收。也就是说,反射光161被检测器160接收。
反射光161从外表面123反射,使得电磁辐射141的特征参数由于外表面123而被赋予反射光161。以这种方式,反射光161提供了对外表面123的直接而非间接的分析。
检测器160适于连续地接收来自外表面123的预定区域125的电磁辐射141的反射光161。因此,该装置提供了外表面123的实时分析。
如前所述,一系列检测器可以布置在弹性体辊120周围或横跨弹性体辊120布置,从而提供对外表面123的各个预定区域的相对清洁表现的分析。因此,这一系列检测器提供了来自预定区域的相当反射,使得从一个预定区域到另一个区域的变化可以指示弹性体辊120不再有效地提供片材基板110的最佳清洁。
现在参考图2,其中示出了根据本发明的一个方面的第二示例装置200。在其特征与前面的示例相同的情况下,附图标记也保持不变,但以“2”作为起始数字。在图2的示列中,弹性体辊220、电磁辐射源240和检测器260与图1的示列基本相同。清洁系统200还包括控制器270,控制器270可操作地耦接到检测器260并且适于确定来自弹性体辊220的外表面223的预定部分225的反射261的至少一个特征参数。
在图2的示列中,电磁辐射源240是红光LED,其发射的电磁辐射的强度在660nm的波长处具有峰值。检测器260适于确定反射的强度,也就是说,检测器测量在相应波长下的反射强度。
控制器270在使用中被配置为将反射强度与发射强度进行比较。发射强度和反射强度的比较提供了外表面223的预定部分225的表面粗糙度的度量。
当弹性体辊220首次安装在接触式清洁装置中时,控制器270执行发射强度和反射强度的初始比较,以确定外表面223的初始表面粗糙度。控制器270执行随后的比较,以在弹性体辊220运行时监测表面粗糙度。当监测到的表面粗糙度与初始粗糙度偏离预定阈值时,控制器270启动警报。
替代地,初始表面粗糙度可被省去。在这种情况下,可以适当地将预定阈值设定为与最佳清洁效率对应的表面粗糙度。
检测器270适于连续地接收来自外表面223的电磁辐射241的反射光261。以这种方式,控制器270被配置为连续地比较测量的表面粗糙度与初始表面粗糙度的偏差。因此,装置200由此提供外表面223的实时分析,并且当表面粗糙度偏离最佳效率达预定量时启动警报。
通过这些方式,该装置能够监测弹性体辊,并在存在基板缠绕在辊周围的风险之前启动警报。因此,在基板表面或清洁装置损坏之前,弹性体辊将被及时地更新。
在其他示例中,控制器270还可以适于计算表面粗糙度的平均值或平均偏差。平均值可以根据来自外表面一个预定区域的一系列反射来确定,或者根据来自延伸过外表面的一系列预定区域的多个反射来确定,如由前面针对图1的示例描述的电磁辐射源和检测器的各种布置所提供的。
现在参考图3,其中示出了根据本发明的一个方面的第三示例装置300。在其特征与前面的示例相同的情况下,附图标记也保持不变,但以“3”作为起始数字。在图3的示例中,弹性体辊320、电磁辐射源340和检测器360与图2的示例中的基本相同。清洁系统300还包括粘合辊380和处理辊390,粘合辊380被布置为从弹性体辊320的外表面323去除污物,处理辊390与弹性体辊相对布置以接收片材基板310以进行清洁。
粘合辊380可旋转地安装在清洁装置300内。粘合辊380具有大体圆柱形的外表面,也被称为粘合表面383,其被布置为使得粘合表面383的一部分与弹性体辊320的外表面323的一部分接触。粘合表面383适于在弹性体辊320和粘合辊380相对于彼此旋转时从外表面323去除积聚的污物。以这种方式,粘合表面383持续刷新外表面323,以最佳地清洁片状基板310。
处理辊390安装在清洁装置300内。处理辊390具有通常为圆柱形的外表面,被称为支撑表面393,该外表面被布置成当片材基板310被弹性体辊320接收时接触片材基板310的第二表面314。也就是说,处理辊390在片材基板310与弹性体辊320接合时支撑片材基板310。
处理辊390和弹性体辊320相对设置,其间具有间隔或夹隙。因此,处理辊390和弹性体辊320被布置成当片材基板310被装置300接收时分别接合片材基板310的第一表面312和第二表面314的相对部分。
在图3所示的示例中,电磁辐射源340和检测器360都相对于弹性体辊320定位,使得预定区域325在外表面323与片状基板310接合之后。也就是说,当弹性体辊320旋转时,电磁辐射源340和检测器360都可操作地设置在夹隙和粘合辊380之间。然而,电磁辐射源340或检测器360中的一个或两个可以可操作地布置在粘合辊380之后。以这种方式,可以在通过粘合辊380清洁弹性体辊320之前或之后对弹性体辊320的外表面323进行辐射。
检测器360被配置为以与图1的示例相同的方式接收来自弹性体辊320的外表面323的电磁辐射341的反射光361。因此,反射光361被检测器360接收,以便提供对外表面323的直接分析。检测器360适于连续地接收来自外表面323的电磁辐射341的反射光361,以提供对外表面323的实时分析。
可选地,装置300可以包括以如上所述的方式布置的一系列检测器,以提供对延伸过或围绕外表面323的一系列预定区域的相对清洁表现的分析。
可选地,控制器(未展示)可以以图2示例的控制器270的方式可操作地耦接到检测器。通过这种方式,可以将控制器和弹性体辊320的外表面323的辐射散射特性的分析结合到图3所示的示例中。
现在参考图4,其中示出了根据本发明的一个方面的第四示例装置400。在其特征与前面的示例相同的情况下,附图标记也保持不变,但以“4”作为起始数字。在图4的示例中,弹性体辊420、电磁辐射源440和检测器460与图1的示例中的基本相同。电磁辐射源440和检测器460都被安装到壳体490上。以这种方式,电磁辐射源440相对于检测器460的相对定向由壳体490保持。
壳体490适于相对于弹性体辊420移动。因此,壳体490适于通过在平行于弹性体辊420轴向长度的方向上扫描来扫描弹性体辊420。作为附加或替代,壳体可以适于圆周地扫描弹性体辊。通过这些方式,电磁辐射源440和检测器460的相对定向在它们相对于弹性体辊420移动时被保持。因此,电磁辐射源440和检测器460的固定几何布置确保了由在移动时保持的检测器460对反射光461的精确测量。
在本文件的整个说明书和权利要求书中,词“包括”和“包含”及其变化形式表示“包括但不限于”,并且它们不旨在(也不)排除其他部分、添加物、部件、整体或步骤。在本文件的说明书和权利要求书中,除非上下文另有要求,否则单数包含复数。特别是,在使用不定冠词的情况下,除非上下文另有要求,否则说明书应被理解为考虑复数和单数。
结合本发明的特定方面、实施例或示例描述的特征、整体、特性或组应被理解为可应用于本文描述的任何其他方面、实施例或示例,除非与之不相容。本说明书中公开的所有特征(包括任何随附的权利要求、摘要和附图)和/或如此公开的任何方法或过程的所有步骤可以以任何组合进行组合,除了这些特征和/或步骤中的至少一些相互排斥的组合。本发明不限于任何前述实施例的细节。本发明延伸到本说明书中公开的特征的任何新颖的一个或任何新颖的组合(包括任何随附的权利要求、摘要或附图),或者延伸到如此公开的任何方法或工艺的步骤的任何新颖的一个或任何新颖的组合。
本领域技术人员将理解,以上实施例仅通过示例而非任何限制性意义上的描述,并且在不脱离所附权利要求所限定的本发明的范围的情况下,各种改变和修改是可能的。对如上所述的详细设计的各种修改是可能的。
在某些示例中,本发明由下列具有编号的条款中的任一条款限定:
条款1.一种用于评估弹性体辊表面的装置,包括:
弹性体辊,该弹性体辊可旋转地安装在接触式清洁装置内,使得所述弹性体辊的外表面接触地接合基板表面;
电磁辐射源,该电磁辐射源被配置为选择性地将预定电磁频谱的电磁辐射发射到所述外表面的至少一个预定区域上,以及
检测器,该检测器被配置为接收来自所述至少一个预定区域的所述电磁辐射的至少第一反射。
条款2.根据条款1所述的装置,还包括控制器,控制器可操作地耦接到所述检测器,并且适于确定至少所述第一反射的至少一个特征参数。
条款3.根据条款2所述的装置,其中所述至少一个特征参数是来自所述至少一个预定区域的至少所述第一反射的辐射散射特性。
条款4.根据条款2和3中任一个所述的装置,其中所述控制器适于监测所述至少一个特征参数并当所述至少一个特征参数偏离预定阈值时发出警报信号。
条款5.根据条款4所述的装置,其中所述控制器适于连续地监测所述特征参数。
条款6.根据条款4和5中任一个所述的装置,其中所述预定阈值是与所述至少一个特征参数的初始值的最大偏离。
条款7.根据条款2-6中任一个所述的装置,其中所述控制器进一步适于从来自所述至少一个预定区域的所述电磁辐射的至少所述第一反射的强度确定所述至少一个特征参数。
条款8.根据前述条款中任一个所述的装置,其中所述装置工作以将所述电磁辐射发射到所述外表面的多个预定区域。
条款9.当依赖于条款2-7中任一个时根据条款8所述的装置,其中所述控制器适于提供根据来自所述多个不同区域中的每一个区域的至少第一反射确定的所述预定特征参数的平均值。
条款10.一种评估弹性体辊的外表面的方法,所述方法包括:
使用所述电磁辐射源以选择地将预定电磁频谱的电磁辐射发射到所述外表面的预定区域,以及
使用所述检测器检测来自所述预定区域的至少第一反射。
条款11.根据条款10所述的方法,所述方法还包括:
提供可操作地耦接到所述检测器的控制器;以及
使用所述控制器来确定至少所述第一反射的至少一个特征参数。
Claims (15)
1.一种接触式清洁装置,包括:
弹性体辊,所述弹性体辊可旋转地安装在所述接触式清洁装置内,使得所述弹性体辊的外表面可与基板表面接触地接合;和
用于评估所述弹性体辊的所述外表面的装置,包括:
电磁辐射源,所述电磁辐射源被配置为选择性地将预定电磁频谱的电磁辐射发射到所述外表面的至少一个预定区域上;
检测器,所述检测器被配置为接收来自所述至少一个预定区域的所述电磁辐射的至少第一反射;和
控制器,所述控制器可操作地耦接到所述检测器并且适于确定至少所述第一反射的至少一个特征参数。
2.如权利要求1所述的接触式清洁装置,其中所述至少一个特征参数是来自所述至少一个预定区域的至少所述第一反射的辐射散射特征。
3.如权利要求1或2所述的接触式清洁装置,其中所述控制器适于基于所述至少一个特征参数确定所述弹性体辊的表面粗糙度。
4.如前述任一项权利要求所述的接触式清洁装置,其中所述控制器适于监测所述至少一个特征参数并当所述至少一个特征参数偏离预定阈值时发出警报信号。
5.如权利要求4所述的接触式清洁装置,其中所述控制器适于连续地监测所述特征参数。
6.如权利要求4和5中任一项所述的接触式清洁装置,其中所述预定阈值是相对于所述至少一个特征参数的初始值的最大偏差。
7.如前述任一项权利要求所述的接触式清洁装置,其中所述控制器进一步适于从来自所述至少一个预定区域的所述电磁辐射的至少所述第一反射的强度来确定所述至少一个特征参数。
8.如前述任一项权利要求所述的接触式清洁装置,其中所述装置操作以将所述电磁辐射发射到所述外表面的多个预定区域上。
9.根据权利要求8所述的接触式清洁装置,其中,所述控制器适于提供根据来自所述多个不同区域中的每一个的至少第一反射确定的所述预定特性参数的平均值。
10.一种评估用于接触式清洁装置的弹性体辊的外表面的方法,所述方法包括:
使用电磁辐射源将预定电磁频谱的电磁辐射选择性地发射到所述外表面的预定区域上;
使用检测器来检测来自所述预定区域的至少第一反射;和
使用控制器来确定至少所述第一反射的至少一个特征参数。
11.如权利要求10所述的方法,其中所述至少一个特征参数是来自所述至少一个预定区域的至少所述第一反射的辐射散射特性。
12.如权利要求11所述的方法,其中所述辐射散射特性对应于所述弹性体辊的表面粗糙度。
13.如权利要求10-12中任一项所述的方法,还包括步骤:响应于所述至少一个特征参数偏离预定阈值而发出警报信号。
14.一种接触式清洁装置,包括:
弹性体辊,所述弹性体辊可旋转地安装在所述接触式清洁装置内,使得所述弹性体辊的外表面可与基板表面接触地接合,以及
用于评估所述弹性体辊的所述外表面的表面粗糙度的装置,包括:
电磁辐射源,所述电磁辐射源被配置为选择性地将预定电磁频谱的电磁辐射发射到所述外表面的至少一个预定区域上;
检测器,所述检测器被配置为接收来自所述至少一个预定区域的所述电磁辐射的至少第一反射;和
可操作地耦接到所述检测器的控制器,所述控制器适于至少基于所述第一反射来确定所述外表面的表面粗糙度。
15.一种评估弹性体辊的外表面的表面粗糙度的方法,所述方法包括:
使用电磁辐射源将预定电磁频谱的电磁辐射选择性地发射到所述外表面的预定区域上;
使用检测器来检测来自所述预定区域的至少第一反射;和
使用控制器基于至少所述第一反射的至少一个特征参数来确定所述外表面的表面粗糙度。
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