CN117265502B - 一种cvd镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法 - Google Patents

一种cvd镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法 Download PDF

Info

Publication number
CN117265502B
CN117265502B CN202311236399.9A CN202311236399A CN117265502B CN 117265502 B CN117265502 B CN 117265502B CN 202311236399 A CN202311236399 A CN 202311236399A CN 117265502 B CN117265502 B CN 117265502B
Authority
CN
China
Prior art keywords
furnace tube
movable
ring
along
furnace
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202311236399.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN117265502A (zh
Inventor
秦臻
许佳平
邢军
韩宜辰
朱皓杰
张田
黄胜
张岳琦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anhui Xuhe New Energy Technology Co ltd
Original Assignee
Anhui Xuhe New Energy Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anhui Xuhe New Energy Technology Co ltd filed Critical Anhui Xuhe New Energy Technology Co ltd
Priority to CN202311236399.9A priority Critical patent/CN117265502B/zh
Publication of CN117265502A publication Critical patent/CN117265502A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN117265502B publication Critical patent/CN117265502B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4401Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
    • C23C16/4405Cleaning of reactor or parts inside the reactor by using reactive gases

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种CVD镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法,包括炉管和涂设于其上的金属涂层,还包括:小车框架,其上转动连接有移动内胆,所述移动内胆上设置有螺旋导线;所述移动内胆随所述小车框架移动沿所述炉管伸入并封堵,以使所述螺旋导线与所述金属涂层电感交互。本发明提供的CVD镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法,通过小车框架来将移动内胆插入炉管内,能在需要清洁的时候插入,并通过螺旋导线的电场交互对炉管内壁的介质薄膜进行清除,而在不需要清洁时拔出移动内胆,以避免螺旋导线滞留于炉管内,避免介质薄膜的附着,以维持电场交互的效果,还不会影响炉管单次运作的承载量。

Description

一种CVD镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法
技术领域
本发明涉及太阳能电池生产技术领域,具体来说涉及一种CVD镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法。
背景技术
CVD镀膜炉管,是用于晶体硅太阳电池的生产制造过程中,在硅片的表面沉积各种不同类型的介质薄膜的设备。
根据专利号CN206109532U,公开(公告)日:2017-04-19,公开的一种CVD炉内气体对流系统,包括:石英管,其内水平放置有沿所述石英管轴向可移动的石英舟,所述石英舟上安装有硅片;所述石英管内表面设有若干个石英导流管,每个所述石英导流管朝向所述石英舟的一侧设有间隙排列的导流孔;不锈钢气管,其连接到所述石英导流管两端;其中,所述石英导流管与所述石英舟存在间隙。本实用新型通过石英管内表面设置的若干个石英导流管,每个石英导流管朝向石英舟的一侧设有间隙排列的导流孔;使得石英管内硅片表面镀膜均匀性提高,进一步提高成品耐压的一致性。
包括上述专利的现有技术中,会通过螺旋导线和金属涂层的交互电场,影响刻蚀气体的等离子体,等离子体不断轰击、刻蚀炉管内壁的介质薄膜,从而去除内壁的介质薄膜,螺旋导线长时间设置于炉管内,在炉管运作介质沉淀时也会附着于螺旋导线上,在长时间使用后螺旋导线也会附着介质,影响电场交互,并且螺旋导线会占据炉管内体积,减少炉管单次运作的承载量。
发明内容
本发明的目的是提供一种CVD镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法,旨在解决螺旋导线在运作时也会附着介质薄膜的问题。
为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种CVD镀膜炉管,包括炉管和涂设于其上的金属涂层,还包括:
小车框架,其上转动连接有移动内胆,所述移动内胆上设置有螺旋导线;
所述移动内胆随所述小车框架移动沿所述炉管伸入并封堵,以使所述螺旋导线与所述金属涂层电感交互。
作为优选的,还包括封堵通气机构,其包括活动设置于所述移动内胆上的移动封堵环,所述炉管包括进气管,所述进气管受驱通气以驱动所述移动封堵环移动封堵所述炉管后充气。
作为优选的,所述封堵通气机构还包括设置于移动内胆上的基环,所述基环固定连通所述进气管,所述基环和所述移动封堵环之间设置有弹性折叠环,所述进气管受驱通气入所述弹性折叠环使其膨胀推抵所述移动封堵环后,将连通所述移动封堵环。
作为优选的,所述基环上呈圆周阵列固定连通有多个组合气管,所述组合气管包括固定管和移动内芯,所述固定管上开设有折叠向槽,所述移动内芯随所述移动封堵环移动,以封堵所述折叠向槽,并使所述固定管与所述移动封堵环连通。
作为优选的,所述移动内胆上开设有与所述螺旋导线对应的螺纹导槽,所述螺纹导槽上滑动连接有滑动封堵块,所述滑动封堵块受驱沿螺纹导槽滑动,以刮擦所述炉管内壁。
作为优选的,所述移动内胆内滑动连接有组合锁链,所述滑动封堵块和所述组合锁链固定连接,所述组合锁链受驱沿所述螺纹导槽滑动,以覆盖或露出所述螺旋导线。
作为优选的,所述移动内胆内开设有滑动通道、对接通道和氦气通道,所述对接通道和所述氦气通道之间转动连接有桨轮,所述桨轮旋转带动所述组合锁链沿所述滑动通道滑动。
作为优选的,还包括桨轮,所述螺纹导槽上开设有引导槽,所述组合锁链上对称设置有侧锁板,所述侧锁板被用于以下两个工位:
第一工位:所述侧锁板与所述组合锁链垂直,以啮合所述桨轮;
第二工位:所述侧锁板与所述组合锁链倾斜,以滑入所述引导槽内。
作为优选的,所述侧锁板和所述组合锁链之间设置有弹性板,所述侧锁板包括固定杆和设置于所述固定杆的转动盘,所述固定杆上滑动连接有锁止板,所述锁止板随所述固定杆翻转垂直,以贴合所述转动盘锁止。
一种炉壁薄膜的清除方法,具体清除方法如下:
S01、将移动内胆通过小车框架插入炉管内;
S02、通过进气管将NF3、SF6或者CCl4等反应刻蚀气体通入炉管内,通过移动封堵环封堵炉管,控制炉管内压力50-400Pa之间;
S03、将炉管升温并保持温度稳定在400-600℃之间;
S04、将螺旋导线接通射频电源,以与金属涂层产生交互电池,产生反应刻蚀气体的等离子体,等离子体不断轰击、刻蚀炉管内壁的介质薄膜;
S05、关闭射频电源,关闭NF3、SF6或者CCl4等反应刻蚀气体,并通入氮气炉管吹扫。
在上述技术方案中,本发明提供的一种CVD镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法,具备以下有益效果:通过小车框架来将移动内胆插入炉管内,能在需要清洁的时候插入,并通过螺旋导线的电场交互对炉管内壁的介质薄膜进行清除,而在不需要清洁时拔出移动内胆,以避免螺旋导线滞留于炉管内,避免介质薄膜的附着,以维持电场交互的效果,还不会影响炉管单次运作的承载量。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的整体示意图;
图2为本发明实施例提供的炉管爆炸示意图;
图3为本发明实施例提供的移动内胆和小车框架结构示意图;
图4为本发明实施例提供的封堵通气机构爆炸示意图;
图5为本发明实施例提供的移动内胆和小车框架剖面示意图;
图6为图5中A处放大示意图;
图7为图5中B处放大示意图;
图8为本发明实施例提供的移动内胆剖面示意图;
图9为图8中C处放大示意图;
图10为本发明实施例提供的组合锁链和桨轮示意图;
图11为本发明实施例提供的组合锁链爆炸示意图;
图12为本发明实施例提供的移动内胆透视图。
附图标记说明:
1、炉管;11、金属涂层;12、尾气管;13、进气管;14、底座;15、氦气管;2、移动内胆;20、对接口;21、螺纹导槽;211、引导槽;212、螺旋导线;22、滑动封堵块;221、斜面板;222、出气口;23、氦气通道;231、封堵收拢块;232、滑动通道;24、对接通道;241、连通槽;242、桨轮;25、组合锁链;251、通气套;252、变形套;2521、竖纹变形槽;253、侧通槽;254、圆弧块;26、侧锁板;261、弹性板;262、封闭部;263、转动盘;264、固定杆;265、滑动部;266、锁止板;3、封堵通气机构;31、基环;311、进气连通管;312、封堵螺钉;32、移动封堵环;33、弹性折叠环;34、组合气管;341、固定管;342、移动内芯;343、折叠向槽;344、封堵部;345、充气口;4、小车框架;41、底板;42、转动支架;421、连接三角板;43、收卷架。
具体实施方式
为了使得本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本公开实施例的附图,对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本公开的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本公开保护的范围。
实施例一
如图1-12所示,一种CVD镀膜炉管,包括炉管1和涂设于其上的金属涂层11,还包括:
小车框架4,其上转动连接有移动内胆2,移动内胆2上设置有螺旋导线212;
移动内胆2随小车框架4移动沿炉管1伸入并封堵,以使螺旋导线212与金属涂层11电感交互。
具体的,小车框架4包括底板41,底板41上转动连接有转动支架42,转动支架42设置有连接三角板421,连接三角板421设置于移动内胆2内,起到固定的效果,炉管1上固定连通有尾气管12和进气管13,炉管1上设置有底座14,底座14用于托起石英或陶瓷材质的炉管1,炉管1第一端(以图2为参考,第一端为左端)为炉口,在使用时,首先将炉口打开,并沿转动支架42旋转移动内胆2,紧接着移动小车框架4,将移动内胆2沿炉口插入炉管1内进行封堵,此时螺旋导线212和金属涂层11同轴,而后通过进气管13通入蚀刻气体(蚀刻气体可以为NF3、SF6或者CCl4),随后将螺旋导线212两端电性连接射频电源,以使螺旋导线212和金属涂层11产生交变电场,使得离化形成等离子体,因为离子化的反应气体具有很高的反应活性,在轰击炉管1内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉。
上述技术方案中,通过小车框架4来将移动内胆2插入炉管1内,能在需要清洁的时候插入,并通过螺旋导线212的电场交互对炉管1内壁的介质薄膜进行清除,而在不需要清洁时拔出移动内胆2,以避免螺旋导线212滞留于炉管1内,避免介质薄膜的附着,以维持电场交互的效果,还不会影响炉管1单次运作的承载量。
作为本发明提供的再一个实施例,还包括封堵通气机构3,其包括活动设置于移动内胆2上的移动封堵环32,炉管1包括进气管13,进气管13受驱通气以驱动移动封堵环32移动封堵炉管1后充气。
具体的,移动内胆2上开设有对接通道24,对接通道24一端为对接口20,由对接口20对接进气管13,对接通道24活动连通移动封堵环32,当移动内胆2随小车框架4移动插入炉管1时,进气管13会沿对接通道24滑动,并随移动内胆2到达预定位置(预定位置为螺旋导线212和金属涂层11重合时),进气管13与对接通道24连通,而后进气管13将蚀刻气体沿对接通道24充入移动封堵环32,此时移动封堵环32会沿移动内胆2移动,以封堵炉口,待封堵炉口后将蚀刻气体充入炉管1内,不需要额外的动力源驱动移动封堵环32,减少成本的同时减少移动内胆2的重量。
首先将炉口打开,并沿转动支架42旋转移动内胆2,紧接着移动小车框架4,将移动内胆2沿炉口插入炉管1内进行封堵,此时螺旋导线212和金属涂层11同轴,同时进气管13沿对接通道24滑动连通,而后通过进气管13通入蚀刻气体,此时移动封堵环32会沿移动内胆2移动,以封堵炉口,待封堵炉口后将蚀刻气体充入炉管1内,随后将螺旋导线212两端电性连接射频电源,以轰击炉管1内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉。
作为本发明提供的一个实施例,封堵通气机构3还包括设置于移动内胆2上的基环31,基环31固定连通进气管13,基环31和移动封堵环32之间设置有弹性折叠环33,进气管13受驱通气入弹性折叠环33使其膨胀推抵移动封堵环32后,将连通移动封堵环32。
具体的,基环31上设置有进气连通管311,进气连通管311和对接通道24固定连通,弹性折叠环33、基环31和移动封堵环32内均喷涂有防腐膜,以避免刻蚀气体的腐蚀,弹性折叠环33可以为金属或者橡胶制成,当进气管13进气时,刻蚀气体首先通过基环31进入弹性折叠环33内,以使弹性折叠环33膨胀,推抵移动封堵环32沿移动内胆2滑动以封堵炉口,待弹性折叠环33内的气体足够使移动封堵环32封堵炉口后,基环31切断与弹性折叠环33的连通,转为与移动封堵环32的连通,以使刻蚀气体进入炉管1内。
首先将炉口打开,并沿转动支架42旋转移动内胆2,紧接着移动小车框架4,将移动内胆2沿炉口插入炉管1内进行封堵,此时螺旋导线212和金属涂层11同轴,同时进气管13沿对接通道24滑动连通,而后通过进气管13通入蚀刻气体,此时刻蚀气体通过基环31进入弹性折叠环33内推抵移动封堵环32沿移动内胆2移动,以封堵炉口,待封堵炉口后,基环31切断与弹性折叠环33的连通,转为与移动封堵环32的连通将蚀刻气体充入炉管1内,随后将螺旋导线212两端电性连接射频电源,以轰击炉管1内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉。
作为本发明提供的最优实施例,基环31上呈圆周阵列固定连通有多个组合气管34,组合气管34包括固定管341和移动内芯342,固定管341上开设有折叠向槽343,移动内芯342随移动封堵环32移动,以封堵折叠向槽343,并使固定管341与移动封堵环32连通。
具体的,移动内芯342上设置有充气口345,移动内芯342上沿充气口345对称设置有两个封堵部344,基环31上螺纹连接有贯通的封堵螺钉312,旋转封堵螺钉312能连通移动封堵环32和基环31,以放出移动封堵环32内的气体进行解锁,当刻蚀气体通过固定管341沿充气口345随着折叠向槽343进入弹性折叠环33内,此时其中一个封堵部344封堵固定管341朝向移动封堵环32的一端,而后移动内芯342随着移动封堵环32的移动,将另一个封堵部344封堵折叠向槽343,同时其中一个封堵部344解封固定管341一端,以使得刻蚀气体通入移动封堵环32内进入炉管1内,并且使弹性折叠环33封堵。
首先将炉口打开,并沿转动支架42旋转移动内胆2,紧接着移动小车框架4,将移动内胆2沿炉口插入炉管1内进行封堵,此时螺旋导线212和金属涂层11同轴,同时进气管13沿对接通道24滑动连通,而后通过进气管13通入蚀刻气体,此时刻蚀气体通过通过固定管341沿充气口345随着折叠向槽343进入弹性折叠环33内推抵移动封堵环32沿移动内胆2移动,以封堵炉口,待封堵炉口后,移动内芯342随着移动封堵环32的移动,切断与弹性折叠环33的连通,转为与移动封堵环32的连通将蚀刻气体充入炉管1内,随后将螺旋导线212两端电性连接射频电源,以轰击炉管1内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉。
作为本发明提供的一个实施例,移动内胆2上开设有与螺旋导线212对应的螺纹导槽21,螺纹导槽21上滑动连接有滑动封堵块22,滑动封堵块22受驱沿螺纹导槽21滑动,以刮擦炉管1内壁。
具体的,螺旋导线212和金属涂层11为铜、铁或钨的高温导电金属,螺旋导线212设置于螺纹导槽21内不易移动变位,滑动封堵块22滑动连接于螺纹导槽21上的同时贴合炉管1内壁,当螺旋导线212和金属涂层11反应完成介质薄膜的刻蚀后会在炉管1内壁上残留介质,此时驱动滑动封堵块22沿螺纹导槽21滑动,以刮擦炉管1内壁上残留介质,避免残留介质残留后重新被介质薄膜附着固定。
首先将炉口打开,并沿转动支架42旋转移动内胆2,紧接着移动小车框架4,将移动内胆2沿炉口插入炉管1内进行封堵,此时螺旋导线212和金属涂层11同轴,同时进气管13沿对接通道24滑动连通,而后通过进气管13通入蚀刻气体,此时刻蚀气体通过通过固定管341沿充气口345随着折叠向槽343进入弹性折叠环33内推抵移动封堵环32沿移动内胆2移动,以封堵炉口,待封堵炉口后,移动内芯342随着移动封堵环32的移动,切断与弹性折叠环33的连通,转为与移动封堵环32的连通将蚀刻气体充入炉管1内,随后将螺旋导线212两端电性连接射频电源,以轰击炉管1内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉,而后驱动滑动封堵块22沿螺纹导槽21滑动,以刮擦炉管1内壁上残留介质。
上述方案中,驱动滑动封堵块22沿螺纹导槽21滑动的结构可以为旋转电机输出端设置牵拉绳,牵拉绳牵拉滑动封堵块22移动;又可以为连通滑动封堵块22的气泵,气泵发电带动气流从滑动封堵块22喷出,以带动滑动封堵块22沿滑动封堵块22移动;再或者是本领域技术人员公知的其他结构均可。
作为本发明提供的再一个实施例,移动内胆2内滑动连接有组合锁链25,滑动封堵块22和组合锁链25固定连接,组合锁链25受驱沿螺纹导槽21滑动,以覆盖或露出螺旋导线212。
具体的,组合锁链25滑动连接于移动内胆2内,小车框架4上转动设置有收卷架43,组合锁链25收卷于收卷架43上,在炉管1内完成通电清洁后,驱动组合锁链25拉动滑动封堵块22对炉管1内壁进行摩擦,以去除残留的介质,并且组合锁链25会沿螺纹导槽21覆盖,以遮挡螺纹导槽21内的螺旋导线212,在不使用移动内胆2时进行保护,而在使用时露出螺旋导线212,能避免螺旋导线212落灰影响导电性。
首先将炉口打开,并沿转动支架42旋转移动内胆2,紧接着移动小车框架4,将移动内胆2沿炉口插入炉管1内进行封堵,此时螺旋导线212和金属涂层11同轴,同时进气管13沿对接通道24滑动连通,而后通过进气管13通入蚀刻气体,此时刻蚀气体通过通过固定管341沿充气口345随着折叠向槽343进入弹性折叠环33内推抵移动封堵环32沿移动内胆2移动,以封堵炉口,待封堵炉口后,移动内芯342随着移动封堵环32的移动,切断与弹性折叠环33的连通,转为与移动封堵环32的连通将蚀刻气体充入炉管1内,随后将螺旋导线212两端电性连接射频电源,以轰击炉管1内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉,而后驱动组合锁链25滑动封堵块22沿螺纹导槽21滑动,以刮擦炉管1内壁上残留介质,并且组合锁链25会遮挡螺纹导槽21内的螺旋导线212,在不使用移动内胆2时进行保护。
作为本发明提供的又一个实施例,移动内胆2内开设有滑动通道232、对接通道24和氦气通道23,对接通道24和氦气通道23之间转动连接有桨轮242,桨轮242旋转带动组合锁链25沿滑动通道232滑动。
具体的,氦气通道23固定连通氦气管15,氦气管15固定连通氦气瓶,组合锁链25滑动连接于滑动通道232内,对接通道24和氦气通道23之间开设有连通槽241,桨轮242转动连接于连通槽24,桨轮242部分延伸于滑动通道232内,以耦合组合锁链25带动其滑动,当氦气通道23通气时,氦气驱动桨轮242带动组合锁链25延伸,以覆盖螺旋导线212,起到遮挡的作用,并将部分氦气充入对接通道24,以排出对接通道24内残留的刻蚀气体,而当进气管13通气时,拨动桨轮242延伸出组合锁链25,以外露螺旋导线212进行通电反应使用。
首先将炉口打开,并沿转动支架42旋转移动内胆2,紧接着移动小车框架4,将移动内胆2沿炉口插入炉管1内进行封堵,此时螺旋导线212和金属涂层11同轴,同时进气管13沿对接通道24滑动连通,而后通过进气管13通入蚀刻气体,此时刻蚀气体先通过对接通道24,以拨动桨轮242耦合组合锁链25回收,使得外露螺旋导线212,而后刻蚀气体固定管341沿充气口345随着折叠向槽343进入弹性折叠环33内推抵移动封堵环32沿移动内胆2移动,以封堵炉口,待封堵炉口后,移动内芯342随着移动封堵环32的移动,切断与弹性折叠环33的连通,转为与移动封堵环32的连通将蚀刻气体充入炉管1内,随后将螺旋导线212两端电性连接射频电源,以轰击炉管1内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉,而后开启氦气管15,氦气驱动桨轮242带动组合锁链25延伸,以覆盖螺旋导线212同时牵拉滑动封堵块22沿螺纹导槽21滑动,以刮擦炉管1内壁上残留介质。
作为本发明提供的一个实施例,还包括桨轮242,螺纹导槽21上开设有引导槽211,组合锁链25上对称设置有侧锁板26,侧锁板26被用于以下两个工位:
第一工位:侧锁板26与组合锁链25垂直,以啮合桨轮242;
第二工位:侧锁板26与组合锁链25倾斜,以滑入引导槽211内。
具体的,末端的组合锁链25上的侧锁板26始终滑动连接于引导槽211上,以保证组合锁链25受驱收卷或者延伸时,能延引导槽211滑动,滑动通道232末端设置有变向凸起,当组合锁链25滑出滑动通道232滑入引导槽211时,侧锁板26会被变向凸起(变向凸起为弹性橡胶制造,弹性橡胶制造喷涂有防腐膜,滑动封堵块22为石英制成,具备较好的隔热能力,能避免弹性橡胶在使用过程中融化)推抵倾斜(即为第二工位),以使两个侧锁板26的最大间距减小,此时能滑入引导槽211内,而当引导槽211内的组合锁链25随收卷进入滑动通道232时,倾斜的侧锁板26被变向凸起限制与组合锁链25垂直(即为第一工位),此时桨轮242能啮合组合锁链25进行耦合驱动。
首先将炉口打开,并沿转动支架42旋转移动内胆2,紧接着移动小车框架4,将移动内胆2沿炉口插入炉管1内进行封堵,此时螺旋导线212和金属涂层11同轴,同时进气管13沿对接通道24滑动连通,而后通过进气管13通入蚀刻气体,此时刻蚀气体先通过,对接通道24,以拨动桨轮242耦合组合锁链25回收,使得外露螺旋导线212,而后刻蚀气体固定管341沿充气口345随着折叠向槽343进入弹性折叠环33内推抵移动封堵环32沿移动内胆2移动,以封堵炉口,待封堵炉口后,移动内芯342随着移动封堵环32的移动,切断与弹性折叠环33的连通,转为与移动封堵环32的连通将蚀刻气体充入炉管1内,随后将螺旋导线212两端电性连接射频电源,以轰击炉管1内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉,而后开启氦气管15,氦气驱动桨轮242带动组合锁链25延伸,以覆盖螺旋导线212同时牵拉滑动封堵块22沿螺纹导槽21滑动,以刮擦炉管1内壁上残留介质。
作为本发明提供的再一个实施例,侧锁板26和组合锁链25之间设置有弹性板261,侧锁板26包括固定杆264和设置于固定杆264的转动盘263,固定杆264上滑动连接有锁止板266,锁止板266随固定杆264翻转垂直,以贴合转动盘263锁止。
具体的,组合锁链25包括呈线性阵列的多个通气套251,通气套251和固定杆264之间通过弹性金属连接,使得通气套251能够翻转,固定杆264上设置有滑动部265,锁止板266滑动连接于滑动部265上,通气套251上设置有圆弧块254,弹性板261为圆弧形,当侧锁板26与通气套251垂直时,弹性板261反拱形,起到锁止的作用,并且锁止板266会沿圆弧块254滑动以抵固转动盘263使其锁止,以便桨轮242耦合,而当侧锁板26倾斜时,锁止板266脱离圆弧块254,此时转动盘263卡入引导槽211内滑动。
首先将炉口打开,并沿转动支架42旋转移动内胆2,紧接着移动小车框架4,将移动内胆2沿炉口插入炉管1内进行封堵,此时螺旋导线212和金属涂层11同轴,同时进气管13沿对接通道24滑动连通,而后通过进气管13通入蚀刻气体,此时刻蚀气体先通过,对接通道24,以拨动桨轮242耦合组合锁链25回收,使得外露螺旋导线212,而后刻蚀气体固定管341沿充气口345随着折叠向槽343进入弹性折叠环33内推抵移动封堵环32沿移动内胆2移动,以封堵炉口,待封堵炉口后,移动内芯342随着移动封堵环32的移动,切断与弹性折叠环33的连通,转为与移动封堵环32的连通将蚀刻气体充入炉管1内,随后将螺旋导线212两端电性连接射频电源,以轰击炉管1内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉,而后开启氦气管15,氦气驱动桨轮242带动组合锁链25延伸,以覆盖螺旋导线212同时牵拉滑动封堵块22沿螺纹导槽21滑动,以刮擦炉管1内壁上残留介质。
作为本发明提供的最优实施例,通气套251上开设有侧通槽253,两个通气套251之间固定连通有变形套252,滑动封堵块22上开设有出气口222,滑动封堵块22随氦气通道23输气沿螺纹导槽21滑动并通过出气口222出气。
具体的,弹性板261上设置有封闭部262,封闭部262随弹性板261变形封堵或外露侧通槽253,变形套252上呈线性阵列开设有竖纹变形槽2521,通气套251内设置有单向阀,通气套251与出气口222固定连通,氦气通道23和滑动通道232固定连通,在位移滑动通道232内的侧锁板26位于第一工位时,氦气通道23内的氦气能沿着侧通槽253进入出气口222吹出,而倾斜状态的侧锁板26会使弹性板261变形折叠,以使封闭部262贴合侧通槽253封堵,滑动通道232内设置有封堵收拢块231,封堵收拢块231起到封堵作用,避免氦气从滑动通道232泄露出,出气口222上设置有斜面板221,在滑动封堵块22受到牵拉时沿螺纹导槽21滑动的同时,出气口222喷出氦气,以将固态的介质碎屑沿氦气收拢至炉口方向,以方便后续的清理和收集。
首先将炉口打开,并沿转动支架42旋转移动内胆2,紧接着移动小车框架4,将移动内胆2沿炉口插入炉管1内进行封堵,此时螺旋导线212和金属涂层11同轴,同时进气管13沿对接通道24滑动连通,而后通过进气管13通入蚀刻气体,此时刻蚀气体先通过,对接通道24,以拨动桨轮242耦合组合锁链25回收,使得外露螺旋导线212,而后刻蚀气体固定管341沿充气口345随着折叠向槽343进入弹性折叠环33内推抵移动封堵环32沿移动内胆2移动,以封堵炉口,待封堵炉口后,移动内芯342随着移动封堵环32的移动,切断与弹性折叠环33的连通,转为与移动封堵环32的连通将蚀刻气体充入炉管1内,随后将螺旋导线212两端电性连接射频电源,以轰击炉管1内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉,而后开启氦气管15,氦气驱动桨轮242带动组合锁链25延伸,以覆盖螺旋导线212同时牵拉滑动封堵块22沿螺纹导槽21滑动,以刮擦炉管1内壁上残留介质,同时,出气口222沿倾斜方向喷出氦气,以将固态的介质碎屑沿氦气收拢至炉口方向,以方便后续的清理和收集。
实施例二
一种炉壁薄膜的清除方法,具体方法如下:
S01、将移动内胆2通过小车框架4插入炉管1内;
S02、通过进气管13将NF3、SF6或者CCl4等反应刻蚀气体通过进气管13通入炉管1内,此时会通过移动封堵环32封堵炉管1,并向炉管1内通入刻蚀气体,而后控制炉管1内压力50-400Pa之间;
S03、将炉管1升温并保持温度稳定在400-600℃之间;
S04、将螺旋导线212接通射频电源,以与金属涂层11产生交互电池,产生反应刻蚀气体的等离子体,等离子体不断轰击、刻蚀炉管1内壁的介质薄膜,并产生介质碎屑;
S05、关闭射频电源,关闭NF3、SF6或者CCl4等反应刻蚀气体,并通入氮气炉管1吹扫,此时会驱使移动封堵块22刮擦残留在炉管1内的介质碎屑,并且随着移动封堵块22移动,通过氦气吹动的配合,以使介质碎屑吹向炉口方便清洁。
以上只通过说明的方式描述了本发明的某些示范性实施例,毋庸置疑,对于本领域的普通技术人员,在不偏离本发明的精神和范围的情况下,可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此,上述附图和描述在本质上是说明性的,不应理解为对本发明权利要求保护范围的限制。

Claims (9)

1.一种CVD镀膜炉管,包括炉管(1)和涂设于其上的金属涂层(11),其特征在于,还包括:
小车框架(4),其上转动连接有移动内胆(2),所述移动内胆(2)上设置有螺旋导线(212);
所述移动内胆(2)随所述小车框架(4)移动沿所述炉管(1)伸入并封堵,以使所述螺旋导线(212)与所述金属涂层(11)电感交互;
还包括封堵通气机构(3),其包括活动设置于所述移动内胆(2)上的移动封堵环(32),所述炉管(1)包括进气管(13),所述进气管(13)受驱通气以驱动所述移动封堵环(32)移动封堵所述炉管(1)后充气。
2.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜炉管,其特征在于,所述封堵通气机构(3)还包括设置于移动内胆(2)上的基环(31),所述基环(31)固定连通所述进气管(13),所述基环(31)和所述移动封堵环(32)之间设置有弹性折叠环(33),所述进气管(13)受驱通气入所述弹性折叠环(33)使其膨胀推抵所述移动封堵环(32)后,将连通所述移动封堵环(32)。
3.根据权利要求2所述的一种CVD镀膜炉管,其特征在于,所述基环(31)上呈圆周阵列固定连通有多个组合气管(34),所述组合气管(34)包括固定管(341)和移动内芯(342),所述固定管(341)上开设有折叠向槽(343),所述移动内芯(342)随所述移动封堵环(32)移动,以封堵所述折叠向槽(343),并使所述固定管(341)与所述移动封堵环(32)连通。
4.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜炉管,其特征在于,所述移动内胆(2)上开设有与所述螺旋导线(212)对应的螺纹导槽(21),所述螺纹导槽(21)上滑动连接有滑动封堵块(22),所述滑动封堵块(22)受驱沿螺纹导槽(21)滑动,以刮擦所述炉管(1)内壁。
5.根据权利要求4所述的一种CVD镀膜炉管,其特征在于,所述移动内胆(2)内滑动连接有组合锁链(25),所述滑动封堵块(22)和所述组合锁链(25)固定连接,所述组合锁链(25)受驱沿所述螺纹导槽(21)滑动,以覆盖或露出所述螺旋导线(212)。
6.根据权利要求5所述的一种CVD镀膜炉管,其特征在于,所述移动内胆(2)内开设有滑动通道(232)、对接通道(24)和氦气通道(23),所述对接通道(24)和所述氦气通道(23)之间转动连接有桨轮(242),所述桨轮(242)旋转带动所述组合锁链(25)沿所述滑动通道(232)滑动。
7.根据权利要求5所述的一种CVD镀膜炉管,其特征在于,还包括桨轮(242),所述螺纹导槽(21)上开设有引导槽(211),所述组合锁链(25)上对称设置有侧锁板(26),所述侧锁板(26)被用于以下两个工位:
第一工位:所述侧锁板(26)与所述组合锁链(25)垂直,以啮合所述桨轮(242);
第二工位:所述侧锁板(26)与所述组合锁链(25)倾斜,以滑入所述引导槽(211)内。
8.根据权利要求7所述的一种CVD镀膜炉管,其特征在于,所述侧锁板(26)和所述组合锁链(25)之间设置有弹性板(261),所述侧锁板(26)包括固定杆(264)和设置于所述固定杆(264)的转动盘(263),所述固定杆(264)上滑动连接有锁止板(266),所述锁止板(266)随所述固定杆(264)翻转垂直,以贴合所述转动盘(263)锁止。
9.一种炉壁薄膜的清除方法,其特征在于,应用于权利要求1-8任一项所述CVD镀膜炉管的清除方法如下:
S01、将移动内胆(2)通过小车框架(4)插入炉管(1)内;
S02、通过进气管(13)将NF3、SF6或者CCl4反应刻蚀气体通入炉管(1)内,通过移动封堵环(32)封堵炉管(1),控制炉管(1)内压力50-400Pa之间;
S03、将炉管(1)升温并保持温度稳定在400-600℃之间;
S04、将螺旋导线(212)接通射频电源,以与金属涂层(11)产生交互电池,产生反应刻蚀气体的等离子体,等离子体不断轰击、刻蚀炉管(1)内壁的介质薄膜;
S05、关闭射频电源,关闭NF3、SF6或者CCl4等反应刻蚀气体,并通入氮气炉管(1)吹扫。
CN202311236399.9A 2023-09-22 2023-09-22 一种cvd镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法 Active CN117265502B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311236399.9A CN117265502B (zh) 2023-09-22 2023-09-22 一种cvd镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311236399.9A CN117265502B (zh) 2023-09-22 2023-09-22 一种cvd镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN117265502A CN117265502A (zh) 2023-12-22
CN117265502B true CN117265502B (zh) 2024-04-26

Family

ID=89213882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202311236399.9A Active CN117265502B (zh) 2023-09-22 2023-09-22 一种cvd镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN117265502B (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1980001363A1 (en) * 1978-12-29 1980-07-10 Ncr Co Lpcvd systems having in situ plasma cleaning
JPS5821826A (ja) * 1981-07-31 1983-02-08 Seiko Epson Corp 半導体製造装置の堆積物除去方法
US4657616A (en) * 1985-05-17 1987-04-14 Benzing Technologies, Inc. In-situ CVD chamber cleaner
JPH0214522A (ja) * 1988-06-13 1990-01-18 Tel Sagami Ltd 熱処理装置のクリーニング方法
CN206109532U (zh) * 2016-10-25 2017-04-19 安徽富芯微电子有限公司 一种cvd炉内气体对流系统
CN219210954U (zh) * 2023-04-12 2023-06-20 英利能源发展(保定)有限公司 一种炉管内壁清扫装置
CN219653123U (zh) * 2023-03-20 2023-09-08 拉普拉斯新能源科技股份有限公司 石英反应腔内壁镀膜装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1980001363A1 (en) * 1978-12-29 1980-07-10 Ncr Co Lpcvd systems having in situ plasma cleaning
JPS5821826A (ja) * 1981-07-31 1983-02-08 Seiko Epson Corp 半導体製造装置の堆積物除去方法
US4657616A (en) * 1985-05-17 1987-04-14 Benzing Technologies, Inc. In-situ CVD chamber cleaner
JPH0214522A (ja) * 1988-06-13 1990-01-18 Tel Sagami Ltd 熱処理装置のクリーニング方法
CN206109532U (zh) * 2016-10-25 2017-04-19 安徽富芯微电子有限公司 一种cvd炉内气体对流系统
CN219653123U (zh) * 2023-03-20 2023-09-08 拉普拉斯新能源科技股份有限公司 石英反应腔内壁镀膜装置
CN219210954U (zh) * 2023-04-12 2023-06-20 英利能源发展(保定)有限公司 一种炉管内壁清扫装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN117265502A (zh) 2023-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI416622B (zh) Etching method and memory media
EP0051628A1 (en) High pressure plasma deposition of silicon
TWI498206B (zh) 連續式合成碳薄膜或無機材料薄膜之設備與方法
CN101278072A (zh) 使用nf3除去表面沉积物的方法
CN101559446B (zh) 锅炉用焊接不锈钢管的制备方法
CN117265502B (zh) 一种cvd镀膜炉管和炉壁薄膜的清除方法
WO2014179087A1 (en) Cobalt removal for chamber clean or pre-clean process
US10770300B2 (en) Remote hydrogen plasma titanium deposition to enhance selectivity and film uniformity
CN102569136A (zh) 清洁基板表面的方法和设备
KR100478168B1 (ko) Pfc의 처리 방법 및 처리 장치
EP2659946A2 (en) Apparatus for processing exhaust fluid
CN102057479A (zh) 具有水蒸气的uv固化方法与设备
CN216039930U (zh) 一种冷却设备
JPH07237913A (ja) フラーレンの製造方法及び装置
CN101238238A (zh) 使用氟化硫从cvd/pecvd腔的内部除去表面沉积物的远程腔方法
EP0020746A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR CLEANING WALL DEPOSITS IN A FILM ORDER - HEATING PIPE.
CN104797072A (zh) 一种电感耦合式射频等离子体源
JPH1176740A (ja) 有機フッ素系排ガスの分解処理方法及び分解処理装置
CN111477537B (zh) 一种晶圆清洗方法及晶圆清洗设备
CN219653123U (zh) 石英反应腔内壁镀膜装置
CN117206274A (zh) 一种石墨舟等离子体清洗装置及清洗方法
CN209119040U (zh) 半导体设备
JP2667364B2 (ja) 成膜装置
CN201250097Y (zh) 一种制备四氟化碳气体的反应器
CN101752207B (zh) 消除干法刻蚀中溴化氢浓缩残留方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant