CN117135973A - 显示面板 - Google Patents

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CN117135973A
CN117135973A CN202311056675.3A CN202311056675A CN117135973A CN 117135973 A CN117135973 A CN 117135973A CN 202311056675 A CN202311056675 A CN 202311056675A CN 117135973 A CN117135973 A CN 117135973A
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Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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Abstract

公开一种显示面板，包括阵列基板、设于阵列基板上的发光层、设于发光层上的彩色滤光层以及设于彩色滤光层上的功能材料层，发光层包括颜色各异的第一子像素、第二子像素以及第三子像素，彩色滤光层包括与第一子像素对应的第一色阻、与第二子像素对应的第二色阻、与第三子像素对应的第三色阻，以及将第一色阻、第二色阻、第三色阻间隔开的黑矩阵，彩色滤光层与功能材料层之间的折射率差值大于或等于‑1且小于或等于0.5。本发明实施例的彩色滤光层不仅具有良好的光学参数，能够降低显示面板的反射率，还能直接形成于具有发光层的阵列基板上，能够减薄显示面板厚度和不对发光层造成损伤。

Description

显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板。
背景技术
偏光片(POL，Polarizer)能够有效地降低强光下OLED(Organic Light-EmittingDiode，有机发光二极管)面板的反射率，但损失了接近58％的出光，这对于OLED面板来说，会极大地增加其寿命负担。另一方面，偏光片厚度较大、材质脆，不利于动态弯折产品的开发，为了开发基于OLED技术的动态弯折产品，需要引入新材料、新技术以及新工艺替代偏光片。
使用彩膜(Color Filter)替代偏光片(POL)的技术被归属为POL-less技术，它不仅能将功能层的厚度从100μm降低至5μm以下，而且能够将出光率从42％提高至60％。然而，相对于偏光片，彩膜技术的光阻的材料及制程要求较高，相比于偏光片，彩膜由红(Red)、绿(Green)、蓝(Blue)色阻以及黑色矩阵(Black Matrix)组成。但现有技术的彩膜制程需要在高温100～300℃下固化而成，而高温会对OLED面板的发光器件造成损伤。因此现有的彩膜不能直接制备在发光器件上，需另外单独制备在基板上后，再通过粘胶剂与发光器件贴合，这导致OLED面板厚度不能进一步减薄。
此外，采用POL-less技术的OLED显示面板的出光效率还是有待于进一步提升。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板，以解决现有的用于降低显示面板的反射率的彩膜不能直接制备在发光器件上，导致显示面板厚度不能减薄的技术问题。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明实施例提供一种显示面板，包括：
阵列基板；
发光层，设置于所述阵列基板上，包括颜色各异的第一子像素、第二子像素以及第三子像素；
彩色滤光层，设置于所述发光层上，所述彩色滤光层包括与所述第一子像素对应的第一色阻、与所述第二子像素对应的第二色阻、与所述第三子像素对应的第三色阻，以及将所述第一色阻、所述第二色阻、所述第三色阻间隔开的黑矩阵；以及
功能材料层，所述彩色滤光层背离所述发光层的一侧；其中，所述彩色滤光层与所述功能材料层之间的折射率差值大于或等于-1且小于或等于0.5。
在本发明的一些实施例中，所述显示面板还包括盖板，所述盖板设置于所述功能材料层背离所述彩色滤光层的一侧；其中，所述彩色滤光层与所述功能材料层之间的折射率差值大于0且小于或等于0.5，所述功能材料层的折射率小于所述盖板的折射率。
在本发明的一些实施例中，所述功能材料层与所述彩色滤光层远离所述阵列基板的一侧表面直接接触，所述第一色阻、所述第二色阻、所述第三色阻以及所述黑矩阵与所述功能材料层之间的折射率差值均大于或等于-1且小于或等于0.5
在本发明的一些实施例中，所述第一色阻的折射率、所述第二色阻的折射率、所述第三色阻的折射率以及所述黑矩阵的折射率均小于或等于2，所述第一色阻、所述第二色阻以及所述第三色阻与所述黑矩阵之间的折射率的差值大于或等于0且小于或等于0.5。
在本发明的一些实施例中，所述阵列基板和所述彩色滤光层之间设有像素定义层，所述像素定义层包括多个开口，所述第一子像素、所述第二子像素以及所述第三子像素一一位于相应的一所述开口内；所述黑矩阵的光密度值大于或等于1.5，所述像素定义层的光密度值大于或等于0.5，所述第一色阻的透过率、所述第二色阻的透过率、所述第三色阻的透过率均大于或等于50％且小于80％。
在本发明的一些实施例中，所述像素定义层的材料为黑色有机材料，所述黑矩阵在所述阵列基板上的正投影位于所述像素定义层在所述阵列基板上的正投影内。
在本发明的一些实施例中，所述彩色滤光层与所述发光层之间设有触控层，所述触控层包括多个触控电极，所述触控电极在所述阵列基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述阵列基板上的正投影内。
在本发明的一些实施例中，所述黑矩阵与至少一相邻的色阻之间具有间隙，形成空白区域，所述空白区域在所述阵列基板上的正投影位于所述像素定义层在所述阵列基板上的正投影内。
在本发明的一些实施例中，所述黑矩阵在所述阵列基板上的正投影与任一相邻的色阻在所述阵列基板上的正投影部分重叠。
在本发明的一些实施例中，所述第一色阻的材料、所述第二色阻的材料、所述第三色阻的材料以及所述黑矩阵的材料包括光阻材料，所述光阻材料的固化温度为60-90摄氏度。
在本发明的一些实施例中，所述光阻材料包括掺杂有颜料、染料或者炭黑的亚克力材料。
在本发明的一些实施例中，按照质量百分比，所述黑矩阵的材料包括：40％-50％的单甲基醚丙二醇醋酸酯、30％-40％的环己酮、1％-10％的炭黑、
5％-15％的丙烯酸树脂，以及1％-5％的琥珀酸二甲酯；按照质量百分比，所述第一色阻的材料、所述第二色阻的材料、所述第三色阻的材料包括：70％-80％的乙酸-1-甲氧基-2-丙基酯、5％-15％的3-甲氧基-3-甲基-1-醋酸丁酯、1％-10％的丙烯酸季戊四醇三酯和四烯丙酸季戊四醇酯的混合物、1％-10％的曝光性树脂，以及1％-10％的颜料或染料。
本发明的有益效果为：本发明实施例提供的彩色滤光层不仅具有良好的光学参数，能够降低显示面板的反射率，还能直接形成于具有发光层的阵列基板上，不必单独制备在另外的基板上，能够减薄显示面板厚度和不对发光层造成损伤。
附图说明
图1为本发明实施例提供的显示面板的膜层叠构示意图；
图2为本发明实施例提供的黑矩阵与相邻色阻之间具有间隙的示意图；
图3为本发明实施例提供的显示面板的反射率测试的柱状图；
图4为本发明实施例提供的显示面板的色相坐标图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“厚度”、“上”、“下”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
请参阅图1，本发明提供一种显示面板100，包括阵列基板10、设置于所述阵列基板10上的发光层20以及设置于所述发光层20上的彩色滤光层50。所述阵列基板10包括像素驱动电路，用以驱动发光层20的子像素发光。所述发光层20包括颜色各异的第一子像素、第二子像素以及第三子像素，所述彩色滤光层50包括与所述第一子像素对应的第一色阻51、与所述第二子像素对应的第二色阻52、与所述第三子像素对应的第三色阻53，以及将所述第一色阻51、所述第二色阻52以及所述第三色阻53间隔开的黑矩阵54。
所述第一子像素、所述第二子像素、所述第三子像素可分别为红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素，对应地，所述第一色阻51、所述第二色阻52、所述第三色阻53可分别为红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻。
所述显示面板100可为OLED显示面板，现有技术中的彩色滤光膜由于材料限制，需要在高温100～300℃下固化成膜，而高温会对发光层20中的器件造成损伤，因此现有技术的彩色滤光膜不能直接制备在发光层20上，需制备在另外的基板上，再通过粘胶剂与具有发光层20的阵列基板10贴合，因此现有的彩色滤光膜材料及高温固化制程不利于显示面板的进一步薄化。本发明实施例针对上述缺陷，对彩色滤光膜的材料做出改进，使其能够在低温制程下固化成膜，并且能够降低显示面板的反射率。
具体地，所述第一色阻51的材料、所述第二色阻52的材料、所述第三色阻53的材料以及所述黑矩阵54的材料包括光阻材料，所述光阻材料的固化温度为60-90摄氏度，以使得本发明的彩色滤光层50能够以低温制程直接制备在发光层20上，所述彩色滤光层50不必单独制备在另外的基板上，所述彩色滤光层50与所述发光层20之间也不必设置粘胶剂来粘结，有利于减薄显示面板的厚度。
所述发光层20包括依次层叠的阳极、空穴功能层、有机发光材料层、电子功能层，以及阴极，每一子像素对应一有机发光二极管。
所述显示面板100还包括像素定义层30，所述像素定义层30设于所述阵列基板10和所述彩色滤光层50之间，所述像素定义层30包括多个开口，所述第一子像素、所述第二子像素以及所述第三子像素一一位于相应的一所述开口内。
在本发明的实施例中，所述像素定义层30的材料可为黑色有机材料，所述黑矩阵54在所述阵列基板10上的正投影位于所述像素定义层30在所述阵列基板10上的正投影内，以避免黑矩阵54影响下方像素的发光效果。所述第一色阻51、所述第二色阻52、所述第三色阻53在所述阵列基板10上的正投影覆盖对应的子像素在所述阵列基板10上的正投影。
请参阅图2，在一些实施例中，所述黑矩阵54与至少与一相邻的色阻(如第一色阻51)之间具有间隙501，所述黑矩阵54与对应色阻之间的间隙部分形成空白区域，所述空白区域在所述阵列基板10上的正投影位于所述像素定义层30在所述阵列基板10上的正投影内。具体地，所述黑矩阵54的一侧可与该侧相邻的色阻之间具有间隙501，其他侧与对应的色阻之间不具有间隙501，其他侧可与对应的色阻的边界相接触；所述黑矩阵54还可与所有相邻的色阻之间均具有间隙501。在其他实施例中，所述黑矩阵54与所有相邻的色阻之间不具有间隙501，即所述黑矩阵54在所述阵列基板10上的正投影与任一相邻的色阻在所述阵列基板10上的正投影部分重叠，以起到保护发光二极管器件，避免发光二极管器件因环境紫外光照射而老化。
由于有机发光二极管器件对于水氧敏感，因此所述发光层20上可整面覆盖封装层40，以阻止水氧的入侵，所述封装层40设于所述发光层20和所述彩色滤光层50之间。
所述封装层40的材料选用透明材料，所述封装层40可选用无机层-有机层-无机层的复合膜层。
进一步地，所述封装层40上可设置有触控层60，用以实现触控功能，所述触控层60可设置于所述彩色滤光层50与所述封装层40之间，本发明实施例的彩色滤光层50可直接设置于所述触控层60上。所述触控层60包括多个触控电极，所述触控电极在所述阵列基板10上的正投影位于所述黑矩阵54在所述阵列基板10上的正投影内，以避免金属走线影响像素的开口率。所述触控电极可为金属网格图案。
具体地，本发明实施例的光阻材料包括掺杂有颜料、染料或者炭黑的亚克力材料。
进一步地，按照质量百分比，所述黑矩阵54的材料包括：40％-50％的单甲基醚丙二醇醋酸酯、30％-40％的环己酮、1％-10％的炭黑、5％-15％的丙烯酸树脂，以及1％-5％的琥珀酸二甲酯。
按照质量百分比，所述第一色阻51的材料、所述第二色阻52的材料、所述第三色阻53的材料包括：70％-80％的乙酸-1-甲氧基-2-丙基酯、5％-15％的3-甲氧基-3-甲基-1-醋酸丁酯、1％-10％的丙烯酸季戊四醇三酯和四烯丙酸季戊四醇酯的混合物、1％-10％的曝光性树脂，以及1％-10％的颜料或染料。
具体地，当所述第一色阻51为红色色阻时，对应地，颜料为红色颜料，染料为红色染料，丙烯酸季戊四醇三酯的质量百分比大于零，四烯丙酸季戊四醇酯的质量百分比大于零。当所述第二色阻52为绿色色阻时，对应地，颜料为绿色颜料，染料为绿色染料，丙烯酸季戊四醇三酯的质量百分比为1％-10％，不含四烯丙酸季戊四醇酯。当所述第三色阻53为蓝色色阻时，对应地，颜料为蓝色颜料，染料为蓝色染料，优选地蓝色染料可为铜化合物，具体可为酞菁铜，丙烯酸季戊四醇三酯的质量百分比为1％-10％，不含四烯丙酸季戊四醇酯。
所述彩色滤光层50背离所述发光层20的一侧设有功能材料层70，所述彩色滤光层50与所述功能材料层70之间的折射率差值大于或等于-1且小于或等于0.5。在此范围内，外界光线在所述彩色滤光层50表面的反射率较小。
具体地，所述功能材料层70与所述彩色滤光层50背离所述阵列基板10的一侧表面直接接触，所述第一色阻51、所述第二色阻52、所述第三色阻53以及所述黑矩阵54与所述功能材料层70之间的折射率差值大于或等于-1且小于或等于0.5，即各个色阻与功能材料层70之间的折射率差值为Δn1，-1≤Δn1≤0.5，黑矩阵54与功能材料层70之间的折射率差值为Δn2，-1≤Δn2≤0.5。将所述彩色滤光层50的各个色阻及黑矩阵54与其上层接触的功能材料层70的折射率差值设置在此范围内，所述彩色滤光层50可起到较好的降低显示面板100的反射率的效果。在本发明的实施例中，优选地，0≤Δn1≤0.5，0≤Δn2≤0.5。
在本发明的实施例中，所述彩色滤光层50上设有盖板80，所述功能材料层70可为胶层，所述彩色滤光层50可直接形成于阵列基板10上，因此所述彩色滤光层50与所述盖板80之间可通过所述胶层粘接。
所述盖板80可为玻璃盖板，所述胶层可为OCA光学胶(Optically ClearAdhesive)、OC(Over Coat)胶或其他透明胶，OC胶可为环氧树脂类。
在设有发光层20的阵列基板10上形成彩色滤光层50时，将黑矩阵54、第一色阻51、第二色阻52以及第三色阻53的光阻材料分别经过低温制程形成在发光层20上，所述低温制程包括涂布、烘烤、固化，可采用紫外光照射来固化成膜，本发明实施例的光阻材料的固化温度为60～90℃，优选地，固化温度为80～90℃，更优选地，固化温度为85～90℃。与现有高温制程的彩色滤光膜相比，本发明实施例的彩色滤光层50不仅能够在阵列基板10上以低温制程直接制备，而且同样具有较好的上述光学参数，可起到降低显示面板100反射率的作用。
进一步地，所述第一色阻51的折射率、所述第二色阻52的折射率、所述第三色阻53的折射率以及所述黑矩阵54的折射率均小于或等于2，外界光线在所述彩色滤光层50表面的反射，主要来源于黑矩阵54，一方面是由于第一色阻51、第二色阻52、第三色阻53的占比面积相较于黑矩阵54较小，另一方面是由于色阻的折射率以及其与上层接触的功能材料层70之间的折射率差值设置在上述范围内，光线在色阻界面更多的是穿透到下层，光线在色阻界面的反射率可忽略不计。
在本发明的实施例中，所述第一色阻51、所述第二色阻52以及所述第三色阻53与所述黑矩阵54之间的折射率的差值大于或等于0且小于或等于0.5，有利于增加出光视角，色阻与黑矩阵54之间的折射率差值太大，在大视角范围内显示会恶化。
光线到达黑矩阵54表面后，一部分光会向上反射，一部分光会穿透黑矩阵54向下层传播，因此所述显示面板的反射率还与黑矩阵54的光密度值有关。所述黑矩阵54的光密度值大于或等于1.5，所述像素定义层30的光密度值大于或等于0.5，像素定义层30对于光线的反射影响可忽略不计，穿过黑矩阵54后的光线的反射主要来源于阵列基板10的金属上的反射。
光线到达色阻(51、52、53)表面后，如前所述，光线在色阻表面的反射可忽略不计，光线大部分穿透色阻到达下层的子像素，本发明实施例中，所述第一色阻51的透过率、所述第二色阻52的透过率、所述第三色阻53的透过率均大于或等于50％且小于80％。
请参阅图1，本发明实施例的显示面板100的反射率主要来源于以下四个部分：盖板80外表面的反射率R1、非发光区的反射率(即黑矩阵54的反射率)R2、穿透黑矩阵54后在显示面板下层的反射率R3，以及发光区的反射率(即第一色阻51、第二色阻52、第三色阻53在子像素上方的反射率)R4。
具体地，盖板80外表面的反射率R1：光线在零度角(与显示面板100垂直的方向)入射的情况下，根据菲涅尔公式，R1＝(n1-n2)2/(n1+n2)2，n1为盖板80的折射率，当盖板80为玻璃盖板时，其折射率为1.52，n2为空气折射率，空气折射率为1，因此盖板80外表面的反射率R1为4.2％。
对于非发光区域的反射率，即黑矩阵54的反射率R2，取决于黑矩阵54与功能材料层70之间的折射率差异以及黑矩阵54表面的粗糙度决定的，黑矩阵54表面的粗糙度程度可参考现有工艺制程。发明人经过试验发现，黑矩阵54与功能材料层70之间的折射率差值大于或等于-1且小于或等于0.5时，黑矩阵54的反射率R2较低，R2的测得结果为0.6％。在本发明的一些实施例中，黑矩阵54与功能材料层70之间的折射率差值大于零且小于或等于0.5。
光线穿透黑矩阵54后在显示面板100下层的反射主要来源于光线在阵列基板10上的金属层的反射，由于触控层60的金属走线与黑矩阵54的距离非常近(大于2-3微米，或者黑矩阵54直接包覆金属走线，黑矩阵54与金属走线接触的界面的反射率很低，且该界面的面积占比很小，因此触控层60的反射率可忽略不计，不必计入反射率的来源。
光线穿透黑矩阵54后在显示面板100下层的反射率R3＝10-2OD×R5，OD为黑矩阵54的光密度，R5为阵列基板10的金属层的反射率。所述阵列基板10的金属层可为钛/铝/钛三层复合金属膜层，金属层的反射率R5为50％，黑矩阵54的光密度大于或等于2，因此R3小于或等于0.005％。
发光区反射率R4包括红色、绿、蓝发光区等各个颜色的子发光区的反射率，取决于第一色阻51、第二色阻52、第三色阻53本身的透过率大小，各个子发光区的反射率RCF＝(TCF)2×RP，TCF为子发光区对应的色阻的穿透率，RP为子发光区对应的像素的反射率。
在本发明实施例中，所述显示面板100整体的反射率
RTotal＝R1+(R2+R3)×ηBM+(R4，R×ηR+R4，G×ηG+R4，B×ηB)，其中，ηBM指的是黑矩阵54占所述显示面板100的整个显示区域的面积占比，ηR指的是第一色阻51占所述显示面板100的整个显示区域的面积占比，ηG指的是第二色阻52占所述显示面板100的整个显示区域的面积占比，ηB指的是第三色阻53占所述显示面板100的整个显示区域的面积占比，R4，R、R4，G、R4，B分别为第一色阻51、第二色阻52、第三色阻53对应的子发光区的反射率。
由上述可知，在显示面板的阵列基板10上的金属层以及子像素的材料确定时，影响显示面板的反射率的因素主要来源于发光层20上的彩色滤光层50，而本发明实施例的彩色滤光层50不仅能够以一低温制程直接形成于所述发光层20上以减少膜厚，且同样具有与现有技术中的彩膜相当的光学参数，从而降低显示面板的反射率。
请参阅图3，图3为本发明实施例的显示面板100在进行多次测试的反射率的柱状图，横坐标为测试的样品，纵坐标为每次测试的反射率值(％)，从中可得到本发明实施例的显示面板100的最大反射率为6.48％，最小反射率为5.73％，本发明实施例的显示面板100的平均反射率为6.08％。其中，每次测试的显示面板100的样品相同，黑矩阵54的光密度OD值为2.6，黑矩阵54的折射率为1.5，第一色阻51、第二色阻52、第三色阻53的折射率为1.7，第一色阻51、第二色阻52、第三色阻53的透过率为63％，功能材料层70的折射率为1.42。
本申请实施例通过将彩色滤光层与功能材料层之间的折射率差值设计地大于0且小于或等于0.5，以及功能材料层的折射率小于盖板的折射率，一方面使得彩色滤光层具有良好的光学参数，能够降低显示面板的反射率，另一方面使得发光层发出的光线在穿过彩色滤光层、功能材料层以及盖板时，相当于依次经历高折射率层、低折射率层、高折射率层，可以提升POL-less型的显示面板的出光效率，减少光线损失。
请参阅图4和下表1，图4为本发明实施例的显示面板100的色相数据，表1为本发明实施例的显示面板在不同视角下的JNCD数据表。一般而言，在30度视角下，较为优异的JNCD值大于或等于3，在45度视角下，较为优异的JNCD值大于或等于4.5，在60度视角下，较为优异的JNCD值大于或等于5.5，因此本发明实施例提供的显示面板具有较好的色度视角。
表1
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。

Claims (12)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
阵列基板；
发光层，设置于所述阵列基板上，包括颜色各异的第一子像素、第二子像素以及第三子像素；
彩色滤光层，设置于所述发光层上，所述彩色滤光层包括与所述第一子像素对应的第一色阻、与所述第二子像素对应的第二色阻、与所述第三子像素对应的第三色阻，以及将所述第一色阻、所述第二色阻、所述第三色阻间隔开的黑矩阵；以及
功能材料层，设置在所述彩色滤光层背离所述发光层的一侧；其中，所述彩色滤光层与所述功能材料层之间的折射率差值大于或等于-1且小于或等于0.5。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括盖板，所述盖板设置于所述功能材料层背离所述彩色滤光层的一侧；
其中，所述彩色滤光层与所述功能材料层之间的折射率差值大于0且小于或等于0.5，所述功能材料层的折射率小于所述盖板的折射率。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述功能材料层与所述彩色滤光层远离所述阵列基板的一侧表面直接接触，所述第一色阻、所述第二色阻、所述第三色阻以及所述黑矩阵与所述功能材料层之间的折射率差值均大于或等于-1且小于或等于0.5。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一色阻的折射率、所述第二色阻的折射率、所述第三色阻的折射率以及所述黑矩阵的折射率均小于或等于2，所述第一色阻、所述第二色阻以及所述第三色阻与所述黑矩阵之间的折射率的差值大于或等于0且小于或等于0.5。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板和所述彩色滤光层之间设有像素定义层，所述像素定义层包括多个开口，所述第一子像素、所述第二子像素以及所述第三子像素一一位于相应的一所述开口内；
所述黑矩阵的光密度值大于或等于1.5，所述像素定义层的光密度值大于或等于0.5，所述第一色阻的透过率、所述第二色阻的透过率、所述第三色阻的透过率均大于或等于50％且小于80％。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层的材料为黑色有机材料，所述黑矩阵在所述阵列基板上的正投影位于所述像素定义层在所述阵列基板上的正投影内。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述彩色滤光层与所述发光层之间设有触控层，所述触控层包括多个触控电极，所述触控电极在所述阵列基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述阵列基板上的正投影内。
8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述黑矩阵与至少一相邻的色阻之间具有间隙，形成空白区域，所述空白区域在所述阵列基板上的正投影位于所述像素定义层在所述阵列基板上的正投影内。
9.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述黑矩阵在所述阵列基板上的正投影与任一相邻的色阻在所述阵列基板上的正投影部分重叠。
10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一色阻的材料、所述第二色阻的材料、所述第三色阻的材料以及所述黑矩阵的材料均包括光阻材料，所述光阻材料的固化温度为60-90摄氏度。
11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述光阻材料包括掺杂有颜料、染料或者炭黑的亚克力材料。
12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，
按照质量百分比，所述黑矩阵的材料包括：40％-50％的单甲基醚丙二醇醋酸酯、30％-40％的环己酮、1％-10％的炭黑、5％-15％的丙烯酸树脂，以及1％-5％的琥珀酸二甲酯；
按照质量百分比，所述第一色阻的材料、所述第二色阻的材料、所述第三色阻的材料包括：70％-80％的乙酸-1-甲氧基-2-丙基酯、5％-15％的3-甲氧基-3-甲基-1-醋酸丁酯、1％-10％的丙烯酸季戊四醇三酯和四烯丙酸季戊四醇酯的混合物、1％-10％的曝光性树脂，以及1％-10％的颜料或染料。
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