CN117099050A - 用于光刻投射曝光设备的光学系统 - Google Patents

Abstract

一种用于光刻投射曝光设备的照明光学单元。该照明光学单元用以将照明光(3)从光源导向一物场。结构化物体配置于该物场中。该照明光学单元实施为，使得由该照明光学单元所照明的该物场具有沿第一场坐标(x)的场范围、以及沿垂直于其的第二场坐标(y)的较短场范围。该照明光学单元实施为，使得照射在该物场上的照明光(3)在一偏振方向(24)上被偏振化，该偏振方向沿第二场坐标(y)平行于较短场范围延伸。这产生照明光学单元，其首先提供高结构分辨率，其次对光学设计施加可管理的要求。

Description

用于光刻投射曝光设备的光学系统

相关申请的交叉引用

本专利申请案主张德国专利申请案第DE 10 2021 202 847.0号的优先权，其内容在此是以引用方式并入本文供参考。

技术领域

本发明有关一种用于光刻投射曝光设备的光学系统。此外，本发明有关一种含有此光学系统的投射曝光设备、一种用于生产结构化部件的方法、以及通过此方法生产的微结构化或纳米结构化部件。

背景技术

具有最初所述类型照明光学单元的光学系统已知来自WO 2019/215 110A1、US2017/0 336 715A1、WO 2013/156 278A1、DE 10 2019 200 193 B3、US 9,304,405B2、WO2014/131 654A1、US 7,982,854B2以及DE 10 2012 208521A1。

发明内容

本发明的目的是开发一种最初所述类型的光学系统，其首先提供高结构分辨率，其次对光学设计施加可管理的要求。

根据本发明，此目的通过由含有如权利要求1所述特征的光学系统来实现。

根据本发明最初所认识的为一种产生平行于物场的较短场范围的偏振照明光的照明光学单元，其特别适合于用来照明以及成像一维物体结构的投射曝光设备。尤其是，认识到若该照明光学单元定义平行于物场的较短场范围的一偏振，则在这方面是有利的。然后，由于照明可使用沿着横向维度延伸到一维物体结构的范围方向的照明光瞳，因以促成具有一高产出量和/或一高结构分辨率的投射曝光。尤其是，该照明光可为线性偏振的。

本文利用的是一图像呈现的可实现对比度取决于辐射的偏振状态。偏振状态的影响很大，尤其是当待成像的精细结构的情况下，即该结构具有一短周期。在一特定数值孔径的情况下，一维结构配置的可成像结构尺寸明显小于二维结构配置的可成像结构尺寸。因此，在设计用于成像一维物体结构的光学系统的情况下，该偏振状态的控制特别重要。

若设计光学系统用于成像一维物体结构，则可放宽对该光学系统的设计要求。然后，沿着这些物体结构的一个结构范围方向通常不需要精确的分辨率，因此在结构范围方向上的成像质量较宽松，因此，与光学系统相关的设计要求也是如此。特别在此情况下可认识到，一维物体结构的成像仅需沿光瞳范围的一个方向的具有显著不同角度的图像照明。因此，该投射光学单元的出射光瞳可设计有显著不同于1的光瞳长宽比，即大于3，也可大于3.5、4、4.5、5、5.5、6、6.5、7、7.5、8、8.5、9或9.5，或也可大于10。在光瞳范围的横向上，与光瞳范围的纵向相比，靠近光瞳的光学系统的投射光学单元的光学部件仅需一较小的范围，这降低了光学部件的生产成本，并降低安装空间上的要求。在投射光学单元具有方向独立的成像比例时，仅沿着光瞳范围的一个方向，以显著不同的照明角度照射物体结构可能就足够了。然后，照明光瞳可设计为具有显著不同于1的光瞳长宽比。在光瞳范围的横向上，与光瞳范围的纵向相比，靠近光瞳的照明光学单元的光学部件仅需一较小的范围，这进一步降低了光学部件的生产成本，并额外降低安装空间上的要求。

一维物体结构可为线轮廓。其他形式轮廓的物体也可相应进行成像。

如权利要求2所述的偏振偏转反射镜确保照明光的偏振具有平行于结构范围方向的偏振方向。该偏转角可在介于75°至95°之间的范围中，尤其是在80°至90°之间的范围中。

有关通过简单的光束偏转的照明光的偏振的替代例或补充例，也可使用例如WO2013/156 278A1、DE 10 2019 200 193 B3、US 9,304,405 B2、WO 23014/131 654A1、US 7,982,854 B2以及DE 10 2012 208 521 A1中现有技术所描述的偏振概念。

凭借如权利要求3中所述的实施为的光束偏转的几何形状，可有利地利用结构范围的固定且因此已知的定向。

如权利要求4所述的照明光学单元的至少一个另外的反射镜的照射促使照明光的非常有效反射。此外，此小入射角的照射在具有此另外的反射镜的情况下可提供配置优势，例如该另外的反射镜是光瞳反射镜。此另外的反射镜上的照明光入射角可小于20°，可小于15°，也可小于10°。

已发现如权利要求5至7所述的偏振偏转反射镜的实施例是特别有利的。在如权利要求7所述的实施例的情况下，两个偏振偏转反射镜的偏振效应倍增。

如权利要求8所述的光学系统的优点对应到上面已解释过的内容。

前述优点尤其适用于如权利要求9所述的具有物体结构的定向的光学系统。尤其是，该光学系统可设计成使得，在投射操作范围内，物体在其成像期间不发生位移。

如权利要求10所述的定向关系使物体照明被优化，用于对相应定向的物体结构进行成像。

如权利要求11所述的投射曝光设备、如权利要求13所述的生产方法、以及如权利要求14所述的生成微结构化或纳米结构化部件的优点对应于上面参照光学系统已解释的内容。由于照明光波长短，EUV光源促成一特别高的结构分辨率。可使用投射曝光设备来生成微结构化或纳米结构化部件，尤其是半导体部件，例如内存芯片。

光学系统尤其可实施为为扫描仪。光学系统的物体固持器不需要与基板固持器同步驱动，而是要可刚性保持待成像的结构化物体。当产生结构化部件时，因为特别可减少扫描仪的停滞时间，所以可增加投射曝光设备的产出量。

基板位移方向可沿着像场的较短场范围行进。

附图说明

下面参照示图更详细解释本发明的示例性实施例。在附图中：

图1示意性示出微光刻投射曝光设备；

图2首先示意性示出投射曝光设备的投射光学单元的像场的平面图，其具有成像的一维物体结构，并示出在光瞳面中截取的照明光的照明光束的剖面平面图，包含该照明光的偏振方向，特别用于阐明首先是偏振方向的平行度，其次是结构范围方向的平行度；

图3示意性示出从对应于图1的观察方向描绘的，在投射曝光设备的照明光学单元的一个变型中，照明光的示意性光束引导的平面图；

图4示出如从图3的观察方向IV看见的，照明光学单元的主要部件的视图。

图5以类似于图3的呈现，示出用于图1的投射曝光设备的照明光学单元的实施例的主要部件配置的另一实施例；

图6以类似于图4的呈现，示出如从图5的观察方向VI看见的、根据图5的实施为例；

图7以类似于图3的呈现，示出用于根据图1的投射曝光设备的照明光学单元的实施例的主要部件配置的另一实施例；以及

图8以类似于图4的呈现，示出如从图7的观察方向VIII看见的、根据图7的实施为例。

具体实施方式

一种微光刻投射曝光设备1包含用于照明光或成像光3的光源2。光源2是EUV光源，产生例如波长范围介于5nm至30nm之间的光，特别是介于5nm至15nm之间。光源2可为基于等离子体的光源(激光产生等离子体(Laser-produced Plasma，LPP)、气体放电产生等离子体(Gas-discharge Produced Plasma，GDP))、或基于同步加速器的光源，例如自由电子激光器(Free Electron Laser，FEL)，尤其是能够以圆偏振方式操作的基于同步加速器的光源。尤其，光源2可为波长为13.5nm的光源、或波长为6.7nm的光源。其他EUV波长也是可能的。通常，在投射曝光设备1中引导的照明光3，甚至可具有任何期望的波长，例如可见波长或其他可用于微光刻技术的波长(例如DUV、深紫外光)，并且可使用合适的激光光源和/或LED光源(举例来说365nm、248nm、193nm、157nm、129nm、109nm)。在图1中，示意性地示出照明光3的光束路径。

照明光学单元6用于将照明光3从光源2引导到物平面5中的物场4。使用投射光学单元或成像光学单元7，以预定义缩小比例将物场4成像到像平面9中的像场8。此缩小比例(也称为成像比例)可选择性地是取决于方向的，在这种情况下，投射光学单元7称为变形光学单元。

为了便于说明投射曝光设备1以及投射光学单元7的各种实施例，附图中指出一笛卡尔xyz坐标系统，从该坐标系统中可明显看出图中各部件的位置关系。在图1中，x方向垂直于图面并延伸出图面。y方向在图1中向右延伸，z方向向上延伸。

在投射光学单元7中，物场4以及像场8可具有一弯折或弯曲的实施例，尤其是形状像一部分环形的实施例。此场弯曲的曲率半径在像侧可为81mm。物场4或像场8的边缘轮廓的基本形式具有对应的弯曲。因此，像场8的环形场半径为81mm。关于此“环形场半径”参数的细节可参考WO 2005/098 506A1。环形场半径的定义可参考WO 2009/053 023A2。替代地，可将物场4以及像场8实施为一矩形。在图2中描绘此矩形像场8的实施例。像场8可由光阑定界；与像场8共轭的物场4的对应定界区域也称为扫描槽。物场4以及像场8具有大于1的x/y长宽比。因此，物场4在x方向具有较长的物场尺寸(场范围W)，在y方向具有较短的物场尺寸(场范围H)。这些物场尺寸沿着场坐标x以及y延伸。

因此，物场4由第一笛卡尔物场坐标x以及第二笛卡尔物场坐标y跨越。垂直于这两个物场坐标x以及y的第三笛卡尔坐标z在以下也称为法线坐标。

在投射光学单元7的情况下，像平面9可平行于物平面5配置。在此情况下，成像的是光刻掩模10的一部分，该光刻掩模实施为反射掩模，并且也称为掩模母版，与物场4重合。掩模母版10由掩模母版固持器11支撑。掩模母版固持器11可通过掩模母版位移驱动器12来位移。掩模母版位移驱动器12的位移方向(也称为扫描方向)是y方向。掩模母版固持器11也称为掩模固持器。掩模母版位移驱动器12也可称为掩模位移驱动器。在投射曝光设备1的多个实施为例之一中也可省去掩模母版位移驱动器12。然后，在投射曝光设备1的投射操作期间，掩模母版10不位移。

掩模母版或光刻掩模10承载一维物体结构，其沿结构范围的方向延伸。此结构范围的方向在y方向上延伸。呈现在掩模母版10上的这些一维物体结构被成像到同样在y方向延伸的一维图像结构13上(参见图2)。

一维物体结构的实例是在y方向延伸的密集线。此方面的实例在WO 2019/215110A1号中说明。

通过投射光学单元7成像掩模母版10上的物体结构在晶片形式的基板14的表面上实践，晶片是由基板固持器15承载。基板固持器15通过晶片位移驱动器或基板位移驱动器16位移(物体位移方向16a，参见图2)。

图1示意性描述在掩模母版10与投射光学单元7之间，进入所述投射光学单元的照明光3的光束17，以及在投射光学单元7与基板14之间，从投射光学单元7射出的照明光3的光束18。投射光学单元7的物场侧数值孔径(NA_O，yz)以及像场侧数值孔径(NA_I，yz)在图1中未按比例重现。

投射光学单元7具有入射光瞳面21以及出射光瞳面21’。入射光瞳20形成由一边缘轮廓所定界的入射光瞳面21的区域。同样地，出射光瞳20’形成由一边缘轮廓所定界的出射光瞳面21’的区域。入射光瞳20的边界形状可通过物场侧数值孔径(NA_O，yz)与(NA_O，xz)之比来描述。出射光瞳20’的边界形状可通过像场侧数值孔径(NA_I，yz)与(NA_I，xz)之比来描述。

入射光瞳20以及出射光瞳20’彼此光学共轭。若投射光学单元7是变形的，即成像比例是取决于方向的，则入射光瞳20的形状与出射光瞳20’的形状不同。例如，从WO 2019/215 110A1已知此变形投射光学单元7。

照明光学单元6、物体固持器或掩模母版固持器11、投射光学单元7以及基板固持器15是投射曝光设备1的光学系统19的组成部分。光学系统19实施为用于成像一维物体结构。此实施例的准则尤其是出射光瞳20’不是圆形的，而是沿一个方向的直径比沿与其正交的方向的直径大得多。

图2上方示出在像场8中出现的图像结构13的平面图。使用基板位移驱动器16，在y方向上，扫描其上出现图像结构13的基板14，即在物体位移方向16a上。由于图像结构13在此y方向上是均匀结构化，使得承载相关物体结构的掩模母版10同样不需要在y方向上移动，而是可在掩模母版固持器11中维持静止，从而增加投射曝光设备1的产出量。因此，在物体位移方向16a上的图像结构13的定向是特别有利，并在下面被利用。

图2上方还描述在像场8的x方向上的场范围W以及在y方向上的场范围H。物场4具有对应的场范围W、H，其通过投射光学单元7的相应成像比例缩放。

根据大于1的物场4以及像场8的x/y长宽比，以下适用：W>H。场范围W通常比场范围H大五倍、甚至十倍以上。在像场8中，场范围W可例如是26mm，且场范围H可例如是介于1mm至2mm之间。

图2下方中央示出入射光瞳20的边缘轮廓，其可完全填满照明光3。所示是在投射光学单元7的入射光瞳面21中的入射光瞳20的此边缘轮廓的xy剖面，近似体育场形(参见图1)。此外，图2右下方示出投射光学单元的相关联的出射光瞳20’，且左下方示出照明光学单元6的相关联的照明光瞳22。图2是像平面9以及入射光瞳面21两者的示意图，照明光瞳面23以及出射光瞳面21’出现在图中的平面中，即使例如如图1所示，入射光瞳面、出射光瞳面以及像平面相互间隔开。

入射光瞳面21的相对位置与照明光瞳面23的相对位置彼此对应或仅略不同。照明光学单元6可具有额外的内部光瞳面，其与照明光瞳面23共轭。入射光瞳20与照明光瞳22通常对应，即其具有相同的形状以及相对位置。然而，照明光瞳22也可大于或小于入射光瞳20；第一情况也称为暗场照明。

在出射光瞳面21’中，出射光瞳20’具有一范围，其具有介于在平行于x方向的范围纵向上的较长光瞳范围与在平行于y轴的范围横向上的较短光瞳范围之间大于3的光瞳长宽比。例如，从WO 2019/215 110A1的图8至图10已知包括具有一大长宽比的出射平面20’的投射光学单元。

基于图2阐明此长宽比，其较长的光瞳范围绘制在L或L’处，而较短的光瞳范围绘制在K或K’处。在所描述的实施为例中，出现约6:1的出射光瞳长宽比L’/K’。因此，在xz平面中以一显著较大的入射角带宽照射图像结构13，所述入射角带宽也包含较大的照明角，即相对于场平面9更倾斜的照明角，而非平行于yz平面的照射平面中的较小照明角带宽。

入射光瞳面21以及出射光瞳面21’彼此共轭。若投射光学单元7不具有一变形实施例，则投射光学单元的成像比例是方向独立的，并因此入射光瞳长宽比L/K等于出射光瞳长宽比L’/K’。因此，在此情况下，在xz平面中以一显著较大的入射角带宽照射物体结构以及相应的图像结构13，此情况的所述入射角带宽也包含较大的照明角，即相对于场平面5更倾斜的照明角，而非平行于yz平面的照射平面中的较小照明角带宽。

若投射光学单元7具有一变形实施例，则成像比例取决于方向，因此入射光瞳长宽比L/K不等于出射光瞳长宽比L’/K’。在此情况下，L’/K’>1仍然适用于出射光瞳长宽比，但不能对入射光瞳长宽比L/K做一般性陈述。在图2中，通过入射光瞳20的形状与出射光瞳20’的形状不同，表示变形投射光学单元7的情况。

结构、物体结构以及图像结构13的范围的方向平行于基板位移方向16a(y方向)延伸。

一方面出射光瞳20’的范围的纵向x、以及物场4或像场8的法线z定义xz平面，其垂直于结构的范围的方向y。对于非变形投射光学单元7，xyz坐标系统也可通过光瞳20、22的范围的纵向x来定义。

此外，图2还描述偏振方向24以及24’，首先经由照明光瞳22照射物场4、然后经由入射光瞳20照射投射光学单元7的照明光3分别沿着所述方向被偏振。在此情况下，照明光3是线性偏振的。偏振方向24以及24’分别在y方向上延伸，即平行于结构的范围方向y。上面进一步描述的结构的范围的较佳定向导致此偏振方向24的较佳定向。这允许偏振方向24的固定选择，也就是说，其在投射曝光设备1的操作期间不必是可调整的。

以下，图3至图8用于描述照明光学单元的各种实施例，根据图1，这些实施为例用于投射曝光设备1内的照明光学单元6，并且用于产生平行于y方向的偏振方向24。参照于先前附图解释的部件以及功能具有相同的参考标记且将不再详细讨论。

所有示例性实施例的共同之处在于存在至少一个反射，其中光束偏转角度介于75°至100°之间，且照明光3在反射期间大致在xz平面中延伸。因此，y轴大致平行于用于此反射的反射镜表面延伸。举例来说，y轴可相对于反射镜的表面扭转小于15°。

用于光束偏转的反射镜的法线始终在入射以及反射的照明光3延伸的平面中。因此，在示例性实施例中用于光束偏转的反射镜的法线大致在xz平面中且相对于该平面扭转例如不超过15°。

介于75°至100°之间角度的光束偏转对于波长在EUV范围内的照明光3是有利的。通常，应有光束偏转大约是两倍布鲁斯特角(Brewster angle)的角度的反射。两倍布鲁斯特角可能会显著偏离90°，尤其是针对在DUV范围内的波长。尤其是，光束偏转可针对角度与两倍布鲁斯特角偏离不超过20％来实现。

图3以及图4示出照明光学单元6作为用于投射曝光设备1中的第一实施为例。在此情况下，图3示出对应于相对于物场4的照射的根据图1的定向的视图，且图4示出绕z轴旋转90°的视图，使得物体位移方向y朝向观察者。

从光源2出发，非常示意性表示为单一光束的照明光3最初先穿过收集器25，然后聚焦在中间焦点IF上(参见图4)。

在穿过中间焦点IF后，照明光3由照明光学单元的场分面反射镜26反射，并以偏转角U偏转，在此过程中偏转角在介于75°至100°之间的范围中。在根据图3以及图4的示例性实施例中，该偏转角U大约为90°。如图4所示，最初在x方向上传播的照明光3以大致在z方向上传播的方式偏转。因此，在照明光学单元6的场分面反射镜26处的反射之前以及之后，照明光3大致在xz平面中延伸。如图3所示，照明光3在场分面反射镜26处后反射，并不完全在z方向上延伸，而是在yz平面中与z轴形成一角度α_z。在图3中，角度α_z约为20°。场分面反射镜26相应地绕z轴倾斜该角度的一半，在此情况下约为10°。

在场分面反射镜26处反射后，照明光3在照明光学单元6的光瞳分面反射镜27处反射。

由于在场分面反射镜26处反射期间的90°偏转，照明光3相对于场分面反射镜26处的入射平面变为s偏振，也就是说，然后其具有大致在y方向上的偏振方向24。因此，照明光3的后续反射在偏振方向24上没有实质变化。

在光瞳分面反射镜27处反射后，照明光3被导向物场4，并由掩模母版10在该处反射，这与上面关于图1以及图2的解释一致。

例如，照明光学单元的分面反射镜26、27的构造的实例例如在US 9,304,405B2中描述。分面反射镜之一者可实施为镜面反射器，例如如同样在US 9,304,405 B2中结合根据图12和13的实施例所描述的。

场分面反射镜26可具有复数个或多个场分面，尤其是可在多个倾斜位置之间切换的场分面，这在附图中未详细描绘。通过照明光学单元6的下游部件，这些场分面被成像或虚拟成像到物场4中。这些场分面中的每一者又可由复数个单独的反射镜构成，可将单独反射镜组动态分配到对应的场分面。

场分面反射镜26的每一场分面可分配到光瞳分面反射镜27的光瞳分面(同样未在附图中更详细描绘)。

场分面反射镜26配置在照明光学单元6的与物平面5共轭的场平面的区域中。光瞳分面反射镜27配置在光学系统19的光瞳面的区域中，尤其是在照明光瞳面23或与其共轭的平面中。当以照明光3照射物场4时，光瞳分面反射镜27的照明光瞳分面用于定义一照明角度分布。通过场分面的可倾斜性，可选择光瞳分面反射镜27的哪些光瞳分面实际上由照明光3照射。因此，可定义照明角度分布，即照明设定。

根据图5以及图6的替代照明光学单元30中，偏振方向24是当照明光3在光瞳分面反射镜27处反射时产生的，在照明光学单元30的此实施例中，这导致约90°的偏转。照明光3在光瞳分面反射镜27处反射期间的偏转角为约80°。

照明光学单元30(参见图6)在光源2与场分面反射镜26之间的光束引导，最初与根据图3以及图4的照明光学单元6的光束引导相当。如图6所示，照明光3在光瞳分面反射镜27处的反射之前大致沿x轴延伸，而在光瞳分面反射镜处的反射之后大致沿z轴延伸。因此，照明光3在照明光学单元6的光瞳分面反射镜27处的反射之前以及之后大致在xz平面中延伸。

来自中间焦点IF的照明光3由场分面反射镜26反射出xz平面，再次进入yz平面。照明光3并不完全沿着分面反射镜26、27之间的x轴延伸，而是相对于所有三个笛卡尔平面xy、yz以及xz以一角度延伸，图5以及图6为这三个角度α_xy、α_yz以及α_xz，分别投射在yz平面(图5)以及xz平面(参见图6)上绘制示例。

此外，照明光3在光瞳分面反射镜27处的偏转角U在每个情况下被指定在图5以及图6中，分别投射在yz平面以及xz平面上。此偏转角U大约为80°。

再次，大致在y方向上的偏振方向24是由在光瞳分面反射镜27处的反射产生。

在根据图3以及图4的构造中，场分面反射镜26可为照明光学单元6的唯一反射镜，其以约90°的偏转角偏转照明光3。与其对照下，照明光3可以近垂直入射照射到其他反射镜上，即入射角小于25°、小于20°、小于15°，并也可小于10°。

因此，根据图5以及图6的照明光学单元30的光瞳分面反射镜27可为使照明光3以90°量级的偏转角偏转的唯一反射镜，而照明光学单元30的所有其他反射镜是以近似垂直入射来照射的。

在根据图3以及图4的实施为例中，由于照明光3在光瞳分面反射镜27上的入射角小，使得可选择良好近似地将光瞳分面反射镜27配置在光学系统19的光瞳面上。这允许从不同的照明方向照射物场4，而没有非期望的场依赖。然后，物场4的每一场点可以来自各种照明方向的相同定义的照明光强度照明。

图7以及图8示出照明光学单元32的另一实施为例，其可取代投射曝光设备1中的照明光学单元6或30来使用。

在照明光学单元32中，从光源2发出、在穿过收集器25后延伸通过中间焦点IF的照明光3最初在z方向上延伸。接着，照明光3通过由场分面反射镜26在xz平面中偏转约90°，然后在负x方向上延伸。接着，在xz平面中进一步偏转90°，使得照明光3随后再次在z方向上延伸，除了大约6°的主光线角CRA(参见图7，其中该主光线角CRA示意性绘制)。在照明光学单元32中，在偏振方向24上照明光3的线性偏振的偏振效应由于两次反射而放大，首先是在场分面反射镜处，其次是在光瞳分面反射镜27处，在每一情况下的偏转角U大约为90°。

在照明光学单元32中，光源2可配置在一生产层级的下一层，在生产层级处配置有具有照明光学单元32以及投射光学单元7的光学系统19。

照明光学单元6、30以及32的各种变型的反射镜可具有用于照明光3的高度反射涂层。此涂层可实施为一多层涂层。尤其是，涂层可设计成由两个或更多个不同材料制成的层的特别周期性序列。这些材料可为钼以及硅。

在此涂层且偏转角约90°的情况下，即入射角约45°的情况下，在每一情况下，相对于入射平面，s偏振的照明光3与p偏振的照明光3之间的反射效率存在很大差异。在此情况下，s偏振的照明光3比p偏振的照明光3以一更高的反射率反射。因此，具有90°偏转的对应涂层反射镜，作为照明光3的偏振器。在照明光3以低于布鲁斯特角入射的情况下，出现最佳的偏振效应。对于许多材料而言，在EUV波长的情况下，布鲁斯特角并非45°，而是，特别是在介于40°至45°之间的范围中，为例如42°。

Claims (14)

1.一种用于光刻投射曝光设备(1)的光学系统(19)，

-包含照明光学单元(6；30；32)，其实施为将照明光(3)从EUV光源(2)引导到物场(4)；结构化物体(10)，其配置在该物场(4)中，

--该照明光学单元(6；30；32)实施为使得由该照明光学单元(6；30；32)所照明的该物场(4)具有沿第一场坐标(x)的场范围(W)、以及相比之下较短的、沿垂直于其的第二场坐标(y)的场范围(H)；

--该照明光学单元(6；30；32)实施为使得照射在该物场(4)

上的该照明光(3)在一偏振方向(24)上被偏振化，该偏振方向沿该第二场坐标(y)平行于较短场范围(H)延伸；以及

-包含投射光学单元(7)，用于将该照明光以及成像光(3)从该物场(4)导向像场(8)，基板(14)为可配置在该像场中且物体结构欲成像于该像场上，

-该光学系统(19)实施为以通过由成像该物体(10)的一维物体结构来产生一维图像结构(13)；

-该投射光学单元(7)的出射光瞳(20’)在光瞳面(21’)中，包括具有介于范围(x)的纵向上的较长光瞳范围(L’)与范围(y)的横向上的较短光瞳范围(K’)之间的光瞳长宽比(L’/K’)的范围，其中该光瞳长宽比大于3。

2.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，该照明光学单元(6；30；32)包含至少一个偏振偏转反射镜(26；27；26、27)，在该偏振偏转反射镜处，该入射照明光(3)以介于75°至100°之间范围中的偏转角度偏转，该偏振方向(24)垂直于该照明光(3)在该反射镜(26；27；26、27)上的入射平面。

3.如权利要求2所述的光学系统，其特征在于，在该至少一个偏振偏转反射镜(26；27；26、27)处的该入射照明光(3)在入射平面中行进，该入射平面与由该第一场坐标(x)以及该物场(4)的法线(z)所指定的平面(xz)偏离不超过15°。

4.如权利要求2或3所述的光学系统，其特征在于，除该偏振偏转反射镜(26；27)外，该照明光学单元(6；30)还包含至少一个附加反射镜(27；26)，其以入射角小于25°的照明光(3)来照射。

5.如权利要求2至4中任一项所述的光学系统，其特征在于，该偏振偏转反射镜(26)的形式为场分面反射镜。

6.如权利要求2至4中任一项所述的光学系统，其特征在于，该偏振偏转反射镜(27)的形式为光瞳分面反射镜。

7.如权利要求2至6中任一项所述的光学系统，其特征在于，该照明光学单元(32)包含两个偏振偏转反射镜(26、27)，其中该入射照明光(3)在其处以介于80°与100°之间的范围中的偏转角度偏转，该照明光(3)在该偏振偏转反射镜(26、27)上的入射平面(xz)彼此平行或重合，且该偏振方向(24)垂直于该照明光(3)在该偏振偏转反射镜(26、27)上的入射平面(xz)。

8.如权利要求1至7中任一项所述的光学系统，其特征在于一实施例使得该照明光学单元的照明光瞳具有不同于1的光瞳长宽比。

9.如权利要求1至8中任一项所述的光学系统，其特征在于，该像场(8)具有沿第一场坐标(x)的场范围(W)、以及相比之下较短的、沿垂直于其的第二场坐标的场范围(H)，该光学系统(19)实施为用于成像一维物体结构，该结构沿该结构的范围方向(y)延伸，其平行于该物场(4)的较短场范围(H)延伸。

10.如权利要求9所述的光学系统，其特征在于，该出射光瞳(20’)的范围的纵向(x)以及该物场(4)的法线(z)定义一平面(xz)，其垂直于该物场(4)的该较短场范围(H)的范围方向(y)。

11.一种投射曝光设备，包含如权利要求1至10中任一项所述的光学系统(19)，包含用于保持该物体(10)的物体固持器(11)，以及包含用于保持该基板(14)的基板固持器(15)，该基板固持器(15)在基板位移方向(y)上能够被驱动位移。

12.如权利要求11所述的投射曝光设备，包含EUV光源(2)。

13.一种用于生成结构化部件的方法，该方法包含下列方法步骤：

-提供掩模母版(10)以及晶片(14)；

-借助如权利要求11或12所述的投射曝光设备，将该掩模母版(10)上的结构投射到该晶片(14)的光敏层上；

-在该晶片(14)上生成微结构和/或纳米结构。

14.一种结构化部件，其根据如权利要求13所述的方法生成。