CN117089179A - 一种高透低雾光学基膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及薄膜技术领域，具体涉及一种高透低雾光学基膜及其制备方法，包括如下步骤：将苯二甲酸、乙二醇和醋酸钴依次加入蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物；将纳米分散液加入第一产物并搅拌加热，得到第二产物；将聚乙烯基吡咯烷酮、平平加和蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物；将第二产物和第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物；在第四产物内依次加入光固化剂、光引发剂和催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物；将第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜，由此使得光学基膜具备高透光性和低雾的使用性能。
Description
技术领域
本发明涉及薄膜技术领域，尤其涉及一种高透低雾光学基膜及其制备方法。
背景技术
目前双向拉伸聚酯薄膜(BOPET)是一种综合性能优良的高分子薄膜材料，它以聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)为主要原料，经结晶干燥、挤出熔融、铸片和双轴拉伸定向而得，其具有机械强度高、耐温性好、电绝缘性能优良和耐化学腐蚀的有点，被广泛使用在护目镜以及各种头盔的镜片保护上。
但在前述的现有技术中，在使用过程中，遭遇雨水、受潮或者冷气，容易导致膜面起雾，影响使用，同时光学基膜的透明性也较差，因此使用体验不佳。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高透低雾光学基膜及其制备方法，解决现有技术中在使用过程中，遭遇雨水、受潮或者冷气，容易导致膜面起雾，影响使用，同时光学基膜的透明性也较差，因此使用体验不佳的问题。
为实现上述目的，本发明提供了一种高透低雾光学基膜，按重量份计，其制备原料包括：
100-130份苯二甲酸、100-130份乙二醇、1-3份醋酸钴、10-12份纳米分散液、1-3份聚乙烯基吡咯烷酮、1-3份平平加、10-12份蒸馏水、2-6份光固化剂、2-6份光引发剂和1-3份催化剂。
其中，所述光固化剂为酚醛环氧丙烯酸酯、改性环氧丙烯酸酯或环氧化油丙烯酸酯的一种。
其中，所述光引发剂为二芳基碘鎓盐、三芳基硫鎓盐或烷基硫鎓盐的一种。
本发明还提供一种高透低雾光学基膜制备方法，采用上述所述的高透低雾光学基膜，包括如下步骤：
将所述苯二甲酸、所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物；
将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物；
将所述聚乙烯基吡咯烷酮、所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物；
将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物；
在所述第四产物内依次加入所述光固化剂、所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物；
将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜。
其中，在所述将苯二甲酸、所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物的步骤中：
搅拌速率为100-130r/min。
其中，在将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物的步骤中：
搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃。
其中，在将所述聚乙烯基吡咯烷酮、所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物的步骤中：
搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃，沉淀时间为24-26小时。
其中，在将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物的步骤中：
搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃。
其中，在所述第四产物内依次加入所述光固化剂、所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物的步骤中：
搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃，反应时间为1-3小时。
其中，在将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜的步骤中：
预热温度为70-90℃，热定型温度为220-260℃。
本发明的一种高透低雾光学基膜及其制备方法，将所述苯二甲酸、所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物，将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物，将所述聚乙烯基吡咯烷酮、所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物，将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物，在所述第四产物内依次加入所述光固化剂、所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物，将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜，由此使得光学基膜具备高透光性和低雾的使用性能。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
图1是本发明的第一实施例的步骤流程图。
图2是本发明的第二实施例的步骤流程图。
图3是本发明的第三实施例的步骤流程图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
第一实施例：
请参阅图1，其中图1是本发明的第一实施例的步骤流程图，本发明提供一种高透低雾光学基膜制备方法，包括如下步骤：
S1：将100份所述苯二甲酸、100份所述乙二醇和1份所述醋酸钴依次加入10份所述蒸馏水，使用搅拌机进行100r/min的均匀搅拌，得到第一产物；
S2：将10份所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到所述第二产物；
S3：将1份所述聚乙烯基吡咯烷酮、1份所述平平加和10份所述蒸馏水进行100r/min的均匀搅拌，同时进行220℃的加热，使其溶解，然后等待24小时完成沉淀，得到第三产物；
S4：将所述第二产物和所述第三产物混合，进行100r/min的均匀搅拌，同时进行220℃的加热，得到第四产物；
S5：在所述第四产物内依次加入2份所述光固化剂酚醛环氧丙烯酸酯、2份所述光引发剂二芳基碘鎓盐和1份所述催化剂，并进行100r/min的均匀搅拌，同时进行220℃的加热，然后等待1小时反应结束，得到第五产物；
S6：将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新70℃的预热，在拉伸完后220℃的热定型，得到高透低雾光学基膜。
其中，将100份所述苯二甲酸、100份所述乙二醇和1份所述醋酸钴依次加入10份所述蒸馏水，使用搅拌机进行100r/min的均匀搅拌，得到第一产物，将10份所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到所述第二产物，将1份所述聚乙烯基吡咯烷酮、1份所述平平加和10份所述蒸馏水进行100r/min的均匀搅拌，同时进行220℃的加热，使其溶解，然后等待24小时完成沉淀，得到第三产物，将所述第二产物和所述第三产物混合，进行100r/min的均匀搅拌，同时进行220℃的加热，得到第四产物，在所述第四产物内依次加入2份所述光固化剂酚醛环氧丙烯酸酯、2份所述光引发剂二芳基碘鎓盐和1份所述催化剂，并进行100r/min的均匀搅拌，同时进行220℃的加热，然后等待1小时反应结束，得到第五产物，将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新70℃的预热，在拉伸完后220℃的热定型，得到高透低雾光学基膜。
所述纳米分散液可以纳米分散液粒径为50-80nm，可以保证最后材料的成品质量，通过所述聚乙烯基吡咯烷酮、所述平平加和所述蒸馏水支撑的所述第二产物为低雾原料，通过加入所述第二产物可以对光学基膜进行长效的防雾，所述催化剂可提高反应效率，同时在所述光固化剂和所述光引发剂的作用下，使得所述光学基膜具有良好的透光性。
第二实施例：
请参阅图2，其中图2是本发明的第二实施例的步骤流程图，本发明提供一种高透低雾光学基膜制备方法，包括如下步骤：
S1：将130份所述苯二甲酸、130份所述乙二醇和3份所述醋酸钴依次加入12份所述蒸馏水，使用搅拌机进行130r/min的均匀搅拌，得到第一产物；
S2：将12份所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物；
S3：将3份所述聚乙烯基吡咯烷酮、3份所述平平加和12份所述蒸馏水进行130r/min的均匀搅拌，同时进行260℃的加热，使其溶解，然后等待26小时完成沉淀，得到第三产物；
S4：将所述第二产物和所述第三产物混合，进行130r/min的均匀搅拌，同时进行260℃的加热，得到第四产物；
S5：在所述第四产物内依次加入6份所述光固化剂改性环氧丙烯酸酯、6份所述光引发剂三芳基硫鎓盐和3份所述催化剂，并进行130r/min的均匀搅拌，同时进行260℃的加热，然后等待3小时反应结束，得到第五产物；
S6：将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新90℃的预热，在拉伸完后260℃的热定型，得到高透低雾光学基膜。
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所述纳米分散液可以纳米分散液粒径为50-80nm，可以保证最后材料的成品质量，通过所述聚乙烯基吡咯烷酮、所述平平加和所述蒸馏水支撑的所述第二产物为低雾原料，通过加入所述第二产物可以对光学基膜进行长效的防雾，所述催化剂可提高反应效率，同时在所述光固化剂和所述光引发剂的作用下，使得所述光学基膜具有良好的透光性。
第三实施例：
请参阅图3，其中图3是本发明的第三实施例的步骤流程图，本发明提供一种高透低雾光学基膜制备方法，包括如下步骤：
S1：将120份所述苯二甲酸、120份所述乙二醇和2份所述醋酸钴依次加入11份所述蒸馏水，使用搅拌机进行120r/min的均匀搅拌，得到第一产物；
S2：将11份所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物；
S3：将2份所述聚乙烯基吡咯烷酮、2份所述平平加和11份所述蒸馏水进行120r/min的均匀搅拌，同时进行240℃的加热，使其溶解，然后等待25小时完成沉淀，得到第三产物；
S4：将所述第二产物和所述第三产物混合，进行120r/min的均匀搅拌，同时进行240℃的加热，得到第四产物；
S5：在所述第四产物内依次加入4份所述光固化剂环氧化油丙烯酸酯、4份所述光引发剂烷基硫鎓盐和2份所述催化剂，并进行120r/min的均匀搅拌，同时进行240℃的加热，然后等待2小时反应结束，得到第五产物；
S6：将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新80℃的预热，在拉伸完后240℃的热定型，得到高透低雾光学基膜。
其中，将120份所述苯二甲酸、120份所述乙二醇和2份所述醋酸钴依次加入11份所述蒸馏水，使用搅拌机进行120r/min的均匀搅拌，得到第一产物，将11份所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物，将2份所述聚乙烯基吡咯烷酮、2份所述平平加和11份所述蒸馏水进行120r/min的均匀搅拌，同时进行240℃的加热，使其溶解，然后等待25小时完成沉淀，得到第三产物，将所述第二产物和所述第三产物混合，进行120r/min的均匀搅拌，同时进行240℃的加热，得到第四产物，在所述第四产物内依次加入4份所述光固化剂环氧化油丙烯酸酯、4份所述光引发剂烷基硫鎓盐和2份所述催化剂，并进行120r/min的均匀搅拌，同时进行240℃的加热，然后等待2小时反应结束，得到第五产物，将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新80℃的预热，在拉伸完后240℃的热定型，得到高透低雾光学基膜。
所述纳米分散液可以纳米分散液粒径为50-80nm，可以保证最后材料的成品质量，通过所述聚乙烯基吡咯烷酮、所述平平加和所述蒸馏水支撑的所述第二产物为低雾原料，通过加入所述第二产物可以对光学基膜进行长效的防雾，所述催化剂可提高反应效率，同时在所述光固化剂和所述光引发剂的作用下，使得所述光学基膜具有良好的透光性。
以上所揭露的仅为本申请一种或多种较佳实施例而已，不能以此来限定本申请之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本申请权利要求所作的等同变化，仍属于本申请所涵盖的范围。
Claims (10)
1.一种高透低雾光学基膜，其特征在于，按重量份计，其制备原料包括：
100-130份苯二甲酸、100-130份乙二醇、1-3份醋酸钴、10-12份纳米分散液、1-3份聚乙烯基吡咯烷酮、1-3份平平加、10-12份蒸馏水、2-6份光固化剂、2-6份光引发剂和1-3份催化剂。
2.如权利要求1所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，
所述光固化剂为酚醛环氧丙烯酸酯、改性环氧丙烯酸酯或环氧化油丙烯酸酯的一种。
3.如权利要求2所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，
所述光引发剂为二芳基碘鎓盐、三芳基硫鎓盐或烷基硫鎓盐的一种。
4.一种高透低雾光学基膜制备方法，采用如权利要求3所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，包括如下步骤：
将所述苯二甲酸、所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物；
将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物；
将所述聚乙烯基吡咯烷酮、所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物；
将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物；
在所述第四产物内依次加入所述光固化剂、所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物；
将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜。
5.如权利要求4所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，
在所述将苯二甲酸、所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物的步骤中：
搅拌速率为100-130r/min。
6.如权利要求5所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，
在将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物的步骤中：
搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃。
7.如权利要求6所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，
在将所述聚乙烯基吡咯烷酮、所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物的步骤中：
搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃，沉淀时间为24-26小时。
8.如权利要求7所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，
在将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物的步骤中：
搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃。
9.如权利要求8所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，
在所述第四产物内依次加入所述光固化剂、所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物的步骤中：
搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃，反应时间为1-3小时。
10.如权利要求9所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，
在将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜的步骤中：预热温度为70-90℃，热定型温度为220-260℃。
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