CN117075442B - 一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，涉及光刻标记相关领域，包括光刻机、光增强机构、气相沉淀机构、防护机构、第二聚焦透镜、掩模板、投影透镜和硅片扫描平台，所述光刻机内固定连接有光增强机构，所述光刻机右端固定连接有气相沉淀机构，所述光刻机右端固定连接有防护机构，且防护机构设于气相沉淀机构下方，所述气相沉淀机构内固定连接有第二聚焦透镜，设置光增强机构，通过增透膜减小光在入射时的反射光线，增加入射光线的强度，再通过反蛋白石结构光子晶体增强对光的发射，最后通过偏光滤光镜抑制反射光，防止光照强度较弱，影响后期标记识别。

Description

一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法

技术领域

本发明涉及光刻标记相关领域，具体是一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法。

背景技术

在对准较厚的光刻胶层与之前光刻胶层时，会出现因厚度过高而超过量测机台的测量范围，导致较厚的光刻胶层与之前光刻胶层无法清楚成像在同一个平面上，进而使得各层电路层之间出现较大偏差，不便于各层电路层之间的连接，严重影响器件性能，为此设置一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法。

现有一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别在使用时较难对光源进行增强，进而导致光源光线较弱，影响标记效果，现有一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法在使用时，较难对部分涂层进行自动化喷涂，通过人工喷涂较为麻烦，且部分设备在使用时，当光源透过蓝胶时，由于蓝胶吸光特性，可能导致最后识别标记时的反馈光强不够，且被蓝胶吸收后的光，无法形成有效的信号，现有一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法在通过气相沉淀进行自动化喷涂时，较难对投影透镜形成保护，进而导致投影透镜受高温影响发生损坏。

发明内容

因此，为了解决上述不足，本发明在此提供一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法。

本发明是这样实现的，构造一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，该方法包括以下步骤：

步骤一：当需对光源进行增强时，通过增透膜减小光在入射时的反射光线，增加入射光线的强度，再通过反蛋白石结构光子晶体增强对光的发射，最后通过偏光滤光镜抑制反射光，防止光照强度较弱，影响后期标记识别；

步骤二：当需进行自动化喷涂时，通过雾化喷头对信号增强机构底部进行喷涂，再通过加热棒和照射灯的配合使喷涂液体最终形成涂层附着在信号增强机构底部，减少人工喷涂的时间和精力，提高喷涂效率；

步骤三：当需进行标记时，通过绿胶增强反射信号反馈，再通过金属层涂胶增强反射光源，进而提高标记识别效果，然后通过多层防护层增加绿胶和金属层涂胶的使用寿命；

步骤四：在进行标记过程中，通过第二硼硅酸盐玻璃隔绝热量，防止加热棒在使用时对投影透镜造成破坏，再通过冷却件冷却气体对第二安装箱进行降温，防止高温对投影透镜造成破坏；

基于上述识别方法，还提出一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别装置，包括光刻机，所述光刻机内固定连接有光增强机构，所述光刻机右端固定连接有气相沉淀机构，所述光刻机右端固定连接有防护机构，且防护机构设于气相沉淀机构下方，所述气相沉淀机构内固定连接有第二聚焦透镜，所述气相沉淀机构内固定连接有掩模板，所述气相沉淀机构内固定连接有投影透镜，所述气相沉淀机构内固定连接有硅片扫描平台，其中，所述第二聚焦透镜、掩模板、投影透镜和硅片扫描平台呈自上而下分布；

所述光增强机构包括第一安装箱，所述光刻机内固定连接有第一安装箱；激光灯，所述第一安装箱内左端固定连接有激光灯；滤光片，所述第一安装箱内固定连接有滤光片；第一聚焦透镜，所述第一安装箱内固定连接有第一聚焦透镜；增透膜，所述第一安装箱内固定连接有增透膜；反蛋白石结构光子晶体，所述第一安装箱内固定连接有反蛋白石结构光子晶体；偏光滤光镜，所述第一安装箱内固定连接有偏光滤光镜；日照强度计，所述第一安装箱内顶部右端固定连接有日照强度计；反射镜，所述第一安装箱内右端倾斜设置有反射镜。

优选的，所述气相沉淀机构包括储存箱，所述光刻机右端固定连接有储存箱；气泵，所述储存箱顶部固定连接有气泵，且气泵左端设有与储存箱相连的连通气管；雾化喷头，所述储存箱左端通过伸缩管固定连接有雾化喷头；第二安装箱，所述第一安装箱底部右端固定连接有第二安装箱；气缸，所述第二安装箱内右端固定连接有气缸，且气缸左端推动杆固定连接有雾化喷头。

优选的，所述气相沉淀机构还包括加热棒，所述第二安装箱内右端通过连接板等距设有三组加热棒；照射灯，所述第二安装箱内右端通过连接板倾斜设置有照射灯。

优选的，所述气相沉淀机构还包括气管，所述第二安装箱左端固定连接有气管，且气管出气孔处固定连接有单向阀；信号增强机构，所述第二安装箱内固定连接有信号增强机构。

优选的，所述信号增强机构包括光致抗蚀剂层，所述第二安装箱内固定连接有光致抗蚀剂层；塑料薄膜，所述光致抗蚀剂层底部固定连接有塑料薄膜；第一硼硅酸盐玻璃，所述塑料薄膜底部固定连接有第一硼硅酸盐玻璃；绿胶，所述第一硼硅酸盐玻璃底部固定连接有绿胶；聚四氟乙烯，所述绿胶底部固定连接有聚四氟乙烯。

优选的，所述信号增强机构还包括蓝胶，所述聚四氟乙烯底部固定连接有蓝胶；金属层涂胶，所述蓝胶底部喷涂有金属层涂胶。

优选的，所述防护机构包括第二硼硅酸盐玻璃，所述第二安装箱内固定连接有第二硼硅酸盐玻璃，且第二硼硅酸盐玻璃设于掩模板下方；温度检测仪，所述第二安装箱内左下端固定连接有温度检测仪；冷却箱，所述光刻机右端固定连接有冷却箱；风机，所述冷却箱内左端固定连接有风机。

优选的，所述防护机构还包括冷却件，所述风机右端通过梯形罩固定连接有冷却件；活性炭层，所述冷却箱内左端固定连接有活性炭层。

优选的，所述信号增强机构设于第二聚焦透镜和掩模板之间。

优选的，所述激光灯、滤光片、第一聚焦透镜、增透膜、反蛋白石结构光子晶体、偏光滤光镜、日照强度计和反射镜呈自左向右分布。

本发明具有如下优点：本发明通过改进在此提供一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，与同类型设备相比，具有如下改进：

本发明所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，通过设置光增强机构，通过增透膜减小光在入射时的反射光线，增加入射光线的强度，再通过反蛋白石结构光子晶体增强对光的发射，最后通过偏光滤光镜抑制反射光，防止光照强度较弱，影响后期标记识别。

本发明所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，通过设置气相沉淀机构，通过雾化喷头对信号增强机构底部进行喷涂，再通过加热棒和照射灯的配合使喷涂液体最终形成涂层附着在信号增强机构底部，减少人工喷涂的时间和精力，提高喷涂效率。

本发明所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，通过设置信号增强机构，通过绿胶增强反射信号反馈，再通过金属层涂胶增强反射光源，再通过多层防护层增加绿胶和金属层涂胶的使用寿命。

本发明所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，通过设置防护机构，通过第二硼硅酸盐玻璃隔绝热量，防止加热棒在使用时对投影透镜造成破坏，再通过冷却件冷却气体对第二安装箱进行降温，防止高温对投影透镜造成破坏。

附图说明

图1是本发明步骤流程结构示意图；

图2是本发明光刻机立体结构示意图；

图3是本发明光增强机构和气相沉淀机构正视的结构示意图；

图4是本发明光增强机构正视的结构示意图；

图5是本发明气相沉淀机构正视的结构示意图；

图6是本发明信号增强机构正视的结构示意图；

图7是本发明信号增强机构立体结构示意图；

图8是本发明防护机构正视的结构示意图。

其中：光刻机-1、光增强机构-2、第一安装箱-21、激光灯-22、滤光片-23、第一聚焦透镜-24、增透膜-25、反蛋白石结构光子晶体-26、偏光滤光镜-27、日照强度计-28、反射镜-29、气相沉淀机构-3、储存箱-31、气泵-32、雾化喷头-33、第二安装箱-34、气缸-35、加热棒-36、照射灯-37、气管-38、信号增强机构-39、光致抗蚀剂层-391、塑料薄膜-392、第一硼硅酸盐玻璃-393、绿胶-394、聚四氟乙烯-395、蓝胶-396、金属层涂胶-397、防护机构-4、第二硼硅酸盐玻璃-41、温度检测仪-42、冷却箱-43、风机-44、冷却件-45、活性炭层-46、第二聚焦透镜-5、掩模板-6、投影透镜-7、硅片扫描平台-8。

具体实施方式

以下结合附图1～图8对本发明的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本发明，并非用于限定本发明的范围。在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

需要说明的是，当组件被称为“固定于”另一个组件，它可以直接在另一个组件上或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

实施例一：

请参阅图1～图4，本发明的一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别装置，包括光刻机1，光刻机1内固定连接有光增强机构2，光刻机1右端固定连接有气相沉淀机构3，光刻机1右端固定连接有防护机构4，且防护机构4设于气相沉淀机构3下方，气相沉淀机构3内固定连接有第二聚焦透镜5，气相沉淀机构3内固定连接有掩模板6，气相沉淀机构3内固定连接有投影透镜7，气相沉淀机构3内固定连接有硅片扫描平台8，其中，第二聚焦透镜5、掩模板6、投影透镜7和硅片扫描平台8呈自上而下分布；

光增强机构2包括第一安装箱21，光刻机1内固定连接有第一安装箱21，第一安装箱21内左端固定连接有激光灯22，第一安装箱21内固定连接有滤光片23，滤光片23便于选择合适波长；

第一安装箱21内固定连接有第一聚焦透镜24，第一安装箱21内固定连接有增透膜25，第一安装箱21内固定连接有反蛋白石结构光子晶体26，第一安装箱21内固定连接有偏光滤光镜27，偏光滤光镜27便于抑制反射光，使得反射光减少，从而增强透射光强度；

第一安装箱21内顶部右端固定连接有日照强度计28，第一安装箱21内右端倾斜设置有反射镜29，激光灯22、滤光片23、第一聚焦透镜24、增透膜25、反蛋白石结构光子晶体26、偏光滤光镜27、日照强度计28和反射镜29呈自左向右分布，日照强度计28便于检测光照强度。

基于实施例1的一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别装置的工作原理是：

第一、使用本设备时，首先将本设备放置在工作区域中，然后将装置与外部电源相连接，即可为本设备提供工作所需的电源。

第二、当需对光源进行增强时，启动激光灯22，激光灯22将光源照射在滤光片23上，通过滤光片23选择合适波长，然后通过第一聚焦透镜24将光源聚焦在同一直线上，聚焦后的光源照射在增透膜25上，增透膜25利用光的半波损失，让两层反射光相互抵消，从而减小光在入射时的反射光线，增加入射光线的强度，再通过反蛋白石结构光子晶体26利用慢光效应增强光与物质相互作用,从而增强对光的发射，然后通过偏光滤光镜27，抑制反射光，使得反射光减少，从而增强透射光强度，增强完毕后通过日照强度计28检测光照强度，当光照强度适合时，通过反射镜29反射到第二聚焦透镜5上，防止光照强度较弱，影响后期标记识别。

实施例二：

请参阅图5，本发明的一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别装置，相较于实施例一，本实施例还包括：气相沉淀机构3，气相沉淀机构3包括储存箱31，光刻机1右端固定连接有储存箱31，储存箱31顶部固定连接有气泵32，且气泵32左端设有与储存箱31相连的连通气管，气泵32便于将储存箱31内液体输送至雾化喷头33；

储存箱31左端通过伸缩管固定连接有雾化喷头33，第一安装箱21底部右端固定连接有第二安装箱34，第二安装箱34内右端固定连接有气缸35，且气缸35左端推动杆固定连接有雾化喷头33，雾化喷头33便于对信号增强机构39底部进行喷涂；

第二安装箱34内右端通过连接板等距设有三组加热棒36，第二安装箱34内右端通过连接板倾斜设置有照射灯37，第二安装箱34左端固定连接有气管38，且气管38出气孔处固定连接有单向阀，第二安装箱34内固定连接有信号增强机构39，信号增强机构39设于第二聚焦透镜5和掩模板6之间，加热棒36便于提高第二安装箱34内温度。

本实施例中：

当需进行自动化喷涂时，启动气泵32和气缸35，气缸35带动雾化喷头33移动至信号增强机构39下方中心处，然后气泵32将气体通入储存箱31，使得储存箱31内部气压发生变化，进而使储存箱31内液体通过伸缩管进入到雾化喷头33，通过雾化喷头33对信号增强机构39底部进行喷涂，喷涂完毕后，启动加热棒36，通过加热棒36提高第二安装箱34内部温度，再通过照射灯37对信号增强机构39底部进行照射，使得喷涂液体在信号增强机构39底部发生化学反应，最终形成涂层附着在信号增强机构39底部，涂层随着反应的进行，会不断进行沉积生长，生成气态副产物脱离表面，然后启动气管38上单向阀，使得气态副产物通过气管38排出，减少人工喷涂的时间和精力，提高喷涂效率。

实施例三：

请参阅图6～图7，本发明的一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别装置，相较于实施例一，本实施例还包括：信号增强机构39，信号增强机构39包括光致抗蚀剂层391，第二安装箱34内固定连接有光致抗蚀剂层391，光致抗蚀剂层391底部固定连接有塑料薄膜392，塑料薄膜392隔绝声音，减少振动对金属层涂胶397的破坏；

塑料薄膜392底部固定连接有第一硼硅酸盐玻璃393，第一硼硅酸盐玻璃393底部固定连接有绿胶394，第一硼硅酸盐玻璃393对绿胶394顶部进行隔温；

绿胶394底部固定连接有聚四氟乙烯395，聚四氟乙烯395底部固定连接有蓝胶396，蓝胶396底部喷涂有金属层涂胶397，金属层涂胶397便于增强反射光源。

本实施例中：

第一、在进行标记的过程中，首先光源通过绿胶394增强反射信号反馈，然后通过蓝胶396进行吸光，再通过金属层涂胶397增强反射光源，然后光源分别经过掩模板6和投影透镜7，通过光源透过掩模板6和投影透镜7把标记图形投射在硅片扫描平台8上，即可完成标记识别；

第二、信号增强机构39在使用过程中，光致抗蚀剂层391利用光致抗蚀剂感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，然后塑料薄膜392通过共振吸引的方式，隔绝声音，再通过第一硼硅酸盐玻璃393对绿胶394顶部进行隔温，然后通过聚四氟乙烯395对绿胶394底部进行隔温，增加绿胶394和金属层涂胶397的使用寿命。

实施例四：

请参阅图8，本发明的一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别装置，相较于实施例一，本实施例还包括：防护机构4，防护机构4包括第二硼硅酸盐玻璃41，第二安装箱34内固定连接有第二硼硅酸盐玻璃41，且第二硼硅酸盐玻璃41设于掩模板6下方，第二硼硅酸盐玻璃41隔绝热量，防止加热棒36在使用时对投影透镜7造成破坏；

第二安装箱34内左下端固定连接有温度检测仪42，光刻机1右端固定连接有冷却箱43，冷却箱43内左端固定连接有风机44，第二安装箱34右端固定连接有出气孔；

风机44右端通过梯形罩固定连接有冷却件45，冷却箱43内左端固定连接有活性炭层46，冷却件45便于对气体进行冷却。

本实施例中：

在标记过程中，首先通过第二硼硅酸盐玻璃41隔绝热量，防止加热棒36在使用时对投影透镜7造成破坏，然后通过温度检测仪42对温度进行检测，当检测到温度较高时，启动风机44，风机44将外界气体抽入冷却箱43内，气体首先通过活性炭层46隔绝有毒气体，再通过冷却件45对气体进行冷却，然后冷却后的气体通过风机44进入到第二安装箱34内，使得冷却气体对第二安装箱34进行降温，防止高温对投影透镜7造成破坏。

本发明通过改进提供一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，设置光增强机构2，通过增透膜25减小光在入射时的反射光线，增加入射光线的强度，再通过反蛋白石结构光子晶体26增强对光的发射，最后通过偏光滤光镜27抑制反射光，防止光照强度较弱，影响后期标记识别；设置气相沉淀机构3，通过雾化喷头33对信号增强机构39底部进行喷涂，再通过加热棒36和照射灯37的配合使喷涂液体最终形成涂层附着在信号增强机构39底部，减少人工喷涂的时间和精力，提高喷涂效率；设置信号增强机构39，通过绿胶394增强反射信号反馈，再通过金属层涂胶397增强反射光源，再通过多层防护层增加绿胶394和金属层涂胶397的使用寿命；设置防护机构4，通过第二硼硅酸盐玻璃41隔绝热量，防止加热棒36在使用时对投影透镜7造成破坏，再通过冷却件45冷却气体对第二安装箱34进行降温，防止高温对投影透镜7造成破坏。

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点,并且本发明使用到的标准零件均可以从市场上购买,异形件根据说明书的和附图的记载均可以进行订制,各个零件的具体连接方式均采用现有技术中成熟的螺栓铆钉、焊接等常规手段，机械、零件和设备均采用现有技术中,常规的型号,加上电路连接采用现有技术中常规的连接方式,在此不再详述。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，包括以下步骤：

步骤一：当需对光源进行增强时，通过增透膜（25）减小光在入射时的反射光线，增加入射光线的强度，再通过反蛋白石结构光子晶体（26）增强对光的发射，最后通过偏光滤光镜（27）抑制反射光，防止光照强度较弱，影响后期标记识别；

步骤二：当需进行自动化喷涂时，通过雾化喷头（33）对信号增强机构（39）底部进行喷涂，再通过加热棒（36）和照射灯（37）的配合使喷涂液体最终形成涂层附着在信号增强机构（39）底部，减少人工喷涂的时间和精力，提高喷涂效率；

步骤三：当需进行标记时，通过绿胶（394）增强反射信号反馈，再通过金属层涂胶（397）增强反射光源，进而提高标记识别效果，然后通过多层防护层增加绿胶（394）和金属层涂胶（397）的使用寿命；

步骤四：在进行标记过程中，通过第二硼硅酸盐玻璃（41）隔绝热量，防止加热棒（36）在使用时对投影透镜（7）造成破坏，再通过冷却件（45）冷却气体对第二安装箱（34）进行降温，防止高温对投影透镜（7）造成破坏；

实现所述光刻机标记识别方法的装置，包括光刻机（1），所述光刻机（1）内固定连接有光增强机构（2），所述光刻机（1）右端固定连接有气相沉淀机构（3），所述光刻机（1）右端固定连接有防护机构（4），且防护机构（4）设于气相沉淀机构（3）下方，所述气相沉淀机构（3）内固定连接有第二聚焦透镜（5），所述气相沉淀机构（3）内固定连接有掩模板（6），所述气相沉淀机构（3）内固定连接有投影透镜（7），所述气相沉淀机构（3）内固定连接有硅片扫描平台（8），其中，所述第二聚焦透镜（5）、掩模板（6）、投影透镜（7）和硅片扫描平台（8）呈自上而下分布；

所述光增强机构（2）包括：第一安装箱（21），所述光刻机（1）内固定连接有第一安装箱（21）；激光灯（22），所述第一安装箱（21）内左端固定连接有激光灯（22）；滤光片（23），所述第一安装箱（21）内固定连接有滤光片（23）；第一聚焦透镜（24），所述第一安装箱（21）内固定连接有第一聚焦透镜（24）；增透膜（25），所述第一安装箱（21）内固定连接有增透膜（25）；反蛋白石结构光子晶体（26），所述第一安装箱（21）内固定连接有反蛋白石结构光子晶体（26）；偏光滤光镜（27），所述第一安装箱（21）内固定连接有偏光滤光镜（27）；日照强度计（28），所述第一安装箱（21）内顶部右端固定连接有日照强度计（28）；反射镜（29），所述第一安装箱（21）内右端倾斜设置有反射镜（29）。

2.根据权利要求1所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，其特征在于：所述气相沉淀机构（3）包括：储存箱（31），所述光刻机（1）右端固定连接有储存箱（31）；气泵（32），所述储存箱（31）顶部固定连接有气泵（32），且气泵（32）左端设有与储存箱（31）相连的连通气管；雾化喷头（33），所述储存箱（31）左端通过伸缩管固定连接有雾化喷头（33）；第二安装箱（34），所述第一安装箱（21）底部右端固定连接有第二安装箱（34）；气缸（35），所述第二安装箱（34）内右端固定连接有气缸（35），且气缸（35）左端推动杆固定连接有雾化喷头（33）。

3.根据权利要求2所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，其特征在于：所述气相沉淀机构（3）还包括：加热棒（36），所述第二安装箱（34）内右端通过连接板等距设有三组加热棒（36）；照射灯（37），所述第二安装箱（34）内右端通过连接板倾斜设置有照射灯（37）。

4.根据权利要求3所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，其特征在于：所述气相沉淀机构（3）还包括：气管（38），所述第二安装箱（34）左端固定连接有气管（38），且气管（38）出气孔处固定连接有单向阀；信号增强机构（39），所述第二安装箱（34）内固定连接有信号增强机构（39）。

5.根据权利要求4所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，其特征在于：所述信号增强机构（39）包括：光致抗蚀剂层（391），所述第二安装箱（34）内固定连接有光致抗蚀剂层（391）；塑料薄膜（392），所述光致抗蚀剂层（391）底部固定连接有塑料薄膜（392）；第一硼硅酸盐玻璃（393），所述塑料薄膜（392）底部固定连接有第一硼硅酸盐玻璃（393）；绿胶（394），所述第一硼硅酸盐玻璃（393）底部固定连接有绿胶（394）；聚四氟乙烯（395），所述绿胶（394）底部固定连接有聚四氟乙烯（395）。

6.根据权利要求5所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，其特征在于：所述信号增强机构（39）还包括：蓝胶（396），所述聚四氟乙烯（395）底部固定连接有蓝胶（396）；金属层涂胶（397），所述蓝胶（396）底部喷涂有金属层涂胶（397）。

7.根据权利要求6所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，其特征在于：所述防护机构（4）包括：第二硼硅酸盐玻璃（41），所述第二安装箱（34）内固定连接有第二硼硅酸盐玻璃（41），且第二硼硅酸盐玻璃（41）设于掩模板（6）下方；温度检测仪（42），所述第二安装箱（34）内左下端固定连接有温度检测仪（42）；冷却箱（43），所述光刻机（1）右端固定连接有冷却箱（43）；风机（44），所述冷却箱（43）内左端固定连接有风机（44）。

8.根据权利要求7所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，其特征在于：所述防护机构（4）还包括：冷却件（45），所述风机（44）右端通过梯形罩固定连接有冷却件（45）；活性炭层（46），所述冷却箱（43）内左端固定连接有活性炭层（46）。

9.根据权利要求8所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，其特征在于：所述信号增强机构（39）设于第二聚焦透镜（5）和掩模板（6）之间。

10.根据权利要求9所述一种基于彩胶工艺的光刻机标记识别方法，其特征在于：所述激光灯（22）、滤光片（23）、第一聚焦透镜（24）、增透膜（25）、反蛋白石结构光子晶体（26）、偏光滤光镜（27）、日照强度计（28）和反射镜（29）呈自左向右分布。