CN117066238A - 一种晶圆片盒清洗设备及晶圆片盒清洗方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种晶圆片盒清洗设备及晶圆片盒清洗方法，属于半导体晶圆片盒清洗技术领域。晶圆片盒清洗设备包括腔体、放置架和两个清洗模组，腔体开设有用于与外界连通的窗口；放置架设于腔体内，放置架用于承载若干晶圆片盒；两个清洗模组分别设于放置架的两侧，清洗模组包括驱动机构、喷头和连接组件，连接组件一端连接喷头，另一端连接超纯水供应组件和高纯氮气供应组件，超纯水供应组件用于供应超纯水，高纯氮气供应组件用于供应高纯氮气，使喷头能够择一地喷出超纯水和高纯氮气，驱动机构能够驱动喷头运动以使超纯水和高纯氮气覆盖若干晶圆片盒，解决了结构繁杂、施工难度大和成本高的问题，并且能够有效清洗晶圆片盒。

Description

一种晶圆片盒清洗设备及晶圆片盒清洗方法

技术领域

本发明涉及半导体晶圆片盒清洗技术领域，尤其涉及一种晶圆片盒清洗设备及晶圆片盒清洗方法。

背景技术

在半导体晶圆生产、传递和运输过程中，往往使用晶圆片盒对其装载和暂存。其目的在于，一是因为晶圆整体质地脆弱易碎，防止其出现损坏，起到保护的作用；二是从晶圆洁净度考虑，隔绝外界污染物，防止晶圆受到污染影响晶圆表面特性及电特性。而晶圆片盒在使用过程中，其内外部会难以避免的出现污染物残留、富集，因此为防止晶圆片盒在生产制造过程中对半导体晶圆产生影响，在晶圆片盒使用后需利用专门的清洗装置对其进行有效清洗，以去除污染物。

现有的晶圆片盒清洗装置中，包括晶圆片盒架、支撑架和固设于支撑架上的多组喷头，晶圆片盒架用于装载晶圆片盒，喷头朝向晶圆片盒设置，用于喷淋对晶圆片盒进行清洗的超纯水和对晶圆片盒进行烘干的高纯氮气，喷头的数量通常在几十个的数量级，以实现对多个晶圆片盒同时清洗，提高作业效率。然而，同时设置多组喷头，导致耗材多、结构繁杂，对与之匹配的水压、气压、风压等参数要求高，使二次配等配套设施的施工难度和成本难以降低，使用过程中超纯水和高纯氮气的用量居高不下，增加了晶圆生产制造的成本。

发明内容

本发明的目的在于提供一种晶圆片盒清洗设备及晶圆片盒清洗方法，以解决结构繁杂、施工难度大和成本高的问题，并且能够有效清洗晶圆片盒。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一方面，提供一种晶圆片盒清洗设备，包括：

腔体，开设有用于与外界连通的窗口；

放置架，设于所述腔体内，所述放置架用于承载若干晶圆片盒；

两个清洗模组，分别设于所述放置架的两侧，所述清洗模组包括驱动机构、喷头和连接组件，所述连接组件一端连接所述喷头，另一端连接超纯水供应组件和高纯氮气供应组件，所述超纯水供应组件用于供应超纯水，所述高纯氮气供应组件用于供应高纯氮气，使所述喷头能够择一地喷出超纯水和高纯氮气，所述驱动机构能够驱动所述喷头运动以使超纯水和高纯氮气覆盖若干所述晶圆片盒。

在一些可能的实施方式中，所述放置架呈环状并沿第一方向延伸设于所述腔体内，两个所述清洗模组分别设于所述放置架内侧和外侧，所述驱动机构包括第一驱动组件和第二驱动组件，所述第一驱动组件用于驱动所述喷头沿所述第一方向移动，所述第二驱动组件用于驱动所述喷头绕平行于所述第一方向的中心线旋转。

在一些可能的实施方式中，所述腔体设有旋转托，所述旋转托能够所述放置架绕所述放置架自身的中心线旋转。

在一些可能的实施方式中，所述喷头包括喷头本体和旋转驱动组件，所述旋转驱动组件能够驱动所述喷头本体在半球面内旋转，所述半球面位于平行于所述第一方向的平面的一侧。

在一些可能的实施方式中，所述清洗模组还包括：

排风模组，用于连通所述腔体和外部排风管道，用于排出所述腔体内的水汽及气体；

热风模组，用于升高所述腔体内高纯氮气的温度。

另一方面，提供一种晶圆片盒清洗方法，采用如上述的晶圆片盒清洗设备，清洗方法包括：

S100、将晶圆片盒从窗口穿过承载于放置架上，并关闭所述窗口；

S200、控制两个清洗模组，使喷头运动并且向所述晶圆片盒喷出超纯水；

S300、控制两个所述清洗模组，使所述喷头运动并且向所述晶圆片盒喷出高纯氮气。

在一些可能的实施方式中，在步骤S200时，控制两个清洗模组，使两个所述清洗模组的所述喷头交替运动或同时运动，并且运动时向所述晶圆片盒喷出超纯水；

在步骤S300时，控制两个清洗模组，使两个所述清洗模组的所述喷头交替运动或同时运动，并且运动时向所述晶圆片盒喷出高纯氮气。

在一些可能的实施方式中，所述腔体内设有旋转托，所述放置架能够绕所述放置架自身的中心线旋转，清洗方法还包括：

在步骤S200时，启动所述旋转托使所述放置架旋转；和/或

在步骤S300时，启动所述旋转托使所述放置架旋转；和/或

在步骤S200和步骤S300之间，还包括：S2000、启动所述旋转托使所述放置架旋转。

在一些可能的实施方式中，所述清洗模组还包括排风模组和热风模组，所述排风模组用于连通所述腔体和外部排风管道，在步骤S300时还包括：

S301、控制两个所述清洗模组，使所述喷头运动并且向所述晶圆片盒喷出高纯氮气，并启动所述排风模组和所述热风模组；

S302、关闭所述热风模组。

在一些可能的实施方式中，所述放置架的转速范围为500r/min-1500r/min，以形成龙卷风式涡流。

本发明的有益效果：

本发明提供的一种晶圆片盒清洗设备及晶圆片盒清洗方法，通过两个清洗模组分别在放置架的两侧，实现了从两侧覆盖所有晶圆片盒并对晶圆片盒进行清洗和吹干，能够有效清洗晶圆片盒。本设备只采用两个喷头，使超纯水和高纯氮气全方位施加到晶圆片盒，本设备结构简化，设备动力需求低，超纯水和高纯氮气的用量少，从而降低了晶圆的制造成本。同一个喷头能喷出超纯水和高纯氮气，进一步简化了结构。

附图说明

图1是本发明的具体实施方式提供的晶圆片盒清洗设备的外部结构示意图；

图2是本发明的具体实施方式提供的晶圆片盒清洗设备的内部结构示意图；

图3是本发明的具体实施方式提供的清洗模组的示意图；

图4是本发明的具体实施方式提供的第一驱动组件的示意图；

图5是本发明的具体实施方式提供的第二驱动组件的示意图；

图6是本发明的具体实施方式提供的喷头的旋转范围示意图；

图7是本发明的具体实施方式提供的旋转驱动组件的示意图；

图8是本发明的具体实施方式提供的晶圆片盒清洗方法的流程图。

图中：

1、腔体；11、窗口；

2、放置架；

3、清洗模组；31、驱动机构；311、第一驱动组件；3111、第一底座；3112、连接机构；3113、螺环；3114、螺杆；3115、导轨；3116、第一电机；3117、主动锥齿轮；3118、从动锥齿轮；312、第二驱动组件；3121、第二电机；3122、主动齿轮；3123、从动齿轮；3124、第一轴承；3125、第二底座；3126、安装轴；32、喷头；321、喷头本体；3211、喷孔；322、旋转驱动组件；3221、第三底座；3222、第三电机；3223、第一连接轴；3224、第一齿轮；3225、第一弧形齿轮；3226、第二轴承；3227、第四底座；3228、第二连接轴；32291、第二齿轮；32292、第二弧形齿轮；32293、第三轴承；33、连接组件；

4、排风模组；5、热风模组。

具体实施方式

为使本发明解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本发明实施例的技术方案做进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

本实施例提供了一种晶圆片盒清洗设备，如图1和图2所示，包括腔体1、放置架2和两个清洗模组3。腔体1开设有用于与外界连通的窗口11。放置架2设于腔体1内，用于承载晶圆片盒；两个清洗模组3分别设于放置架2的两侧，清洗模组3包括驱动机构31、喷头32和连接组件33，连接组件33一端连接喷头32，另一端连接超纯水供应组件和高纯氮气供应组件，超纯水供应组件用于供应超纯水，高纯氮气供应组件用于供应高纯氮气，使喷头32能够择一地喷出超纯水和高纯氮气，驱动机构31能够驱动喷头32运动以使超纯水和高纯氮气覆盖若干晶圆片盒。

通过两个清洗模组3分别在放置架2的两侧，实现了从两侧覆盖所有晶圆片盒并对晶圆片盒进行清洗和吹干，能够有效清洗晶圆片盒。本设备只采用两个喷头32，使超纯水和高纯氮气全方位施加到晶圆片盒，本设备结构简化，设备动力需求低，超纯水和高纯氮气的用量少，从而降低了晶圆的制造成本。同一个喷头32能喷出超纯水和高纯氮气，进一步简化了结构。

可选地，连接组件33包括超纯水连接结构和高纯氮气连接结构，具体地，超纯水连接结构连接喷头32与超纯水供应组件，使超纯水到达喷头32，其水压为0.03MPa-0.04MPa、流量为4LPM。相较于现有的晶圆片盒清洗装置中多个直列式喷头32同时喷水，其水压为0.25MPa-0.3MPa、流量为30LPM，水压和流量降低了近10倍，大大降低了配套设备的施工难度和成本。为了使单个喷头32满足需求的水压和流量，其清洗装置所需的水压和流量较本发明成倍增加。高纯氮气连接结构连接喷头32与高纯氮气供应组件，使高纯氮气到达喷头32，其气压为0.07MPa～0.08MPa、流量为40LPM。相较于现有的晶圆片盒清洗装置中多个直列式喷头32同时喷气，其气压为0.55MPa-0.6MPa、流量为300LPM，气压和流量降低了近10倍，大大降低了配套设备的施工难度和成本。为了使单个喷头32满足需求的气压和流量，其清洗装置所需的气压和流量较本发明成倍增加。连接组件33、超纯水供应组件和高纯氮气供应组件均采用现有结构，不再赘述。

进一步的，喷头32为气液共用喷头32，超纯水和高纯氮气通过电子气液转换阀控制切换，实现喷头32择一喷出超纯水和高纯氮气。具体电子气液转换阀的结构及使用方法均参照现有技术即可，不再赘述。

通过驱动机构31驱动喷头32运动，实现了自动化清洗。可选地，如图2和图3所示，放置架2呈环状并沿第一方向延伸设于腔体1内，放置架2的四周遍布夹具用于装夹晶圆片盒，两个清洗模组3分别设于放置架2内侧和外侧，实现了从放置架2的内外两侧对晶圆片盒进行清洗和吹干。驱动机构31包括第一驱动组件311和第二驱动组件312，第一驱动组件311用于驱动喷头32沿第一方向移动，实现了对支撑架沿第一方向的多个晶圆片盒清洗和吹干。第二驱动组件312用于驱动喷头32绕平行于第一方向的中心线旋转，实现了对支撑架沿周向的多个晶圆片盒清洗和吹干，第一驱动组件311和第二驱动组件312分别驱动喷头32移动和旋转，实现了喷头32能够覆盖所有晶圆片盒。第一方向可以是竖直方向、水平方向或与竖直方向呈夹角的倾斜方向，不作限定，本实施例以第一方向为竖直方向为例进行示例性说明，喷头32沿X1、X2方向移动，喷头32沿Y1、Y2方向旋转。

腔体1设有旋转托（图中未示出），旋转托能够放置架2绕放置架2自身的中心线旋转，放置架2对称设置，并且在对称位置保持晶圆片盒的数量、类型及重量等一致，以满足动平衡。放置架2旋转可实现甩干晶圆片盒，清洗时，首先喷头32喷淋超纯水对晶圆片盒进行喷淋清洗，之后旋转托驱动放置架2旋转使晶圆片盒甩干，之后利用喷头32喷出高纯氮气以吹干晶圆片盒。可选地，也可在清洗和吹干过程中驱动放置架2旋转，以提升清洗的均匀性效果。进一步地，旋转托包括托盘和电机，电机驱动托盘旋转以带动放置架2旋转。电机为异步电机，异步电机可正转和反转，并设有减速器，由变频器控制调速，其转速可在50Hz额定频率的0%-100%任意设定，可周期性地改变旋转速度，或周期性地正转和反转。可选地，内侧的清洗模组3位于放置架2的中心位置，保证清洗均匀性。

可选地，喷头32连接于第二驱动组件312的输出端，第二驱动组件312和喷头32连接于第一驱动组件311的输出端；或者也可以是，喷头32连接于第一驱动组件311的输出端，第一驱动组件311和喷头32连接于第二驱动组件312的输出端，具体根据实际结构进行设置即可，不作限定。可选地，连接组件33连接于喷头32上。

一种实施例中，如图4所示，第一驱动组件311包括第一底座3111、用于安装喷头32的连接机构3112、相互螺纹连接的螺环3113和螺杆3114、导轨3115、第一电机3116、相互啮合的主动锥齿轮3117和从动锥齿轮3118，从动锥齿轮3118连接于螺杆3114，第一电机3116驱动连接主动锥齿轮3117。螺环3113与连接机构3112连接，且连接机构3112滑动连接于导轨3115，导轨3115和伺服电机安装于连接第一底座3111上。工作过程如下，第一电机3116驱动主动锥齿轮3117并带动从动锥齿轮3118转动，从动锥齿轮3118连接在螺杆3114上带动螺杆3114转动，螺杆3114带动螺环3113及螺环3113上的连接机构3112、连接机构3112上的喷头32移动，从而实现清洗单元在竖直方向的移动。连接机构3112沿导轨3115移动，提高了移动精度，第一电机3116采用伺服电机，其精度高，进一步提高了喷头32的走位精度。其中，第一电机3116正转和反转，带动喷头32在竖直方向上下移动。具体地，第一驱动组件311驱动喷头32在第一方向上精确移动和停止，其行程范围为-600mm至+600mm，走位精度为±1mm，实现了沿第一方向上多个晶圆片盒任意位置的覆盖。进一步地，第一驱动组件311罩设有保护罩以隔绝清洗液进入。

一种实施例中，如图5所示，第二驱动组件312包括第二电机3121、相互啮合的主动齿轮3122和从动齿轮3123、第一轴承3124、第二底座3125和安装轴3126，其中，第二底座3125和连接机构3112可以是相互连接关系，或者第二底座3125为连接机构3112的一部分。第二电机3121驱动连接主动齿轮3122，第二电机3121固定在第二底座3125，安装轴3126通过第一轴承3124转动连接于第二底座3125，喷头32连接在安装轴3126上。工作过程如下，第二电机3121驱动主动齿轮3122转动，主动齿轮3122带动从动齿轮3123、安装轴3126及喷头32以安装轴3126的轴线为中心进行旋转。具体地，安装轴3126和螺杆3114平行或共线。第二电机3121正转和反转，实现喷头32在水平方向360°往复式旋转和停顿，喷头32转速为5r/min-20r/min，实现喷头32在水平方向对晶圆片盒放置架2内侧任意位置的覆盖。进一步地，第二驱动组件312外设隔水保护罩以隔绝清洗液进入。

可选地，位于放置架2两侧的清洗模组3的结构相同，不同之处在于，外侧的清洗模组3的喷头32旋转角度为120°往复式旋转，内侧的清洗模组3的喷头32旋转角度为360°往复式旋转，全方位无死角清洗和吹干，保证了晶圆片盒的彻底有效清洗。

如图6和图7所示，喷头32包括喷头本体321和旋转驱动组件322，旋转驱动组件322能够驱动喷头本体321在半球面内旋转，半球面位于平行于第一方向的平面的一侧。喷淋头可自由旋转，可覆盖半球面任意角度，通过驱动机构31驱动喷头32运动以及旋转驱动组件322驱动喷头本体321自由旋转相结合，实现了对晶圆盒的全方位无死角清洗。

一种实施例中，旋转驱动组件322包括第三底座3221、第三电机3222、第一连接轴3223、相互啮合的第一齿轮3224和第一弧形齿轮3225、第二轴承3226、第四底座3227、第四电机、第二连接轴3228、相互啮合的第二齿轮32291和第二弧形齿轮32292和第三轴承32293。第一连接轴3223沿第一方向延伸设置，第二连接轴3228和第一方向垂直设置。第三电机3222安装于第三底座3221，第三电机3222驱动安装有第一齿轮3224的第一连接轴3223，第一弧形齿轮3225通过第二轴承3226转动连接于第一连接轴3223。第一弧形齿轮3225连接第四底座3227，第四电机安装于第四底座3227，第四电机驱动安装有第二齿轮32291的第二连接轴3228，第二弧形齿轮32292通过第三轴承32293连接于第二连接轴3228，喷头本体321连接于第二弧形齿轮32292。工作过程如下，第三电机3222驱动第一连接轴3223带动第一齿轮3224转动，第一弧形齿轮3225带动第四底座3227、第二连接轴3228及第二齿轮32291通过第二轴承3226绕第一连接轴3223旋转。第四电机驱动第二连接轴3228带动第二齿轮32291转动，第二弧形齿轮32292带动喷头本体321通过第三轴承32293绕第二连接轴3228旋转。

通过第三电机3222和第四电机共同驱动喷头本体321在半球面内旋转，具体绕第一连接轴3223和第二连接轴3228的旋转角度范围均为30°-150°。第三电机3222和第四电机的正转和反转分别控制竖直和水平方向的正反转，带动喷头本体321旋转，通过竖直和水平方向的组合，实现喷头本体321任意角度的旋转。喷头本体321上设有用于喷出超纯水和高纯氮气的喷孔3211。

腔体1由非金属材料如聚丙烯简称PP或聚氯乙烯简称PVC焊接而成，腔体1的侧壁或者顶壁等位置开设窗口11，窗口11处设有红外感应和除静电装置，用于晶圆片盒的出入，实现晶圆片盒的取放。

清洗模组3还包括排风模组4，用于连通腔体1和外部排风管道，具体排风模组4可以是抽风机用于排出腔体1内的水汽及气体；清洗模组3还包括热风模组5，用于升高腔体1内高纯氮气的温度，从而烘干晶圆片盒，具体热风模组5包括现有技术中常用的加热器和鼓风机。进一步地，排风模组4和热风模组5均设于腔体1顶壁。

本实施例还提供了一种晶圆片盒清洗方法，采用上述的晶圆片盒清洗设备，如图8所示，清洗方法包括以下步骤：

S100、开启窗口11，将待清洗的晶圆片盒从窗口11穿过承载于放置架2上，加载完晶圆片盒后关闭窗口11；

S200、控制两个清洗模组3，使喷头32运动并且向晶圆片盒喷出超纯水；

S300、控制两个清洗模组3，使喷头32运动并且向晶圆片盒喷出高纯氮气。

喷头32运动并喷淋高纯水，实现对放置架2上的所有晶圆片盒进行全方位清洗，之后喷头32运动并喷出高纯氮气，实现对放置架2上的所有晶圆片盒进行全方位吹干，从而有效地实现了对所有片盒清洗，操作方便。

一种实施例中，放置架2呈环状，驱动机构31驱动喷头32移动和旋转，在步骤S200和步骤S300时，控制清洗模组3，使喷头32移动和旋转并喷出超纯水或高纯氮气。

进一步地，在步骤S200时，控制两个清洗模组3，使两个清洗模组3的喷头32交替运动或同时运动，并且运动时向晶圆片盒喷出超纯水，即放置架2内外两侧同时或交替地对晶圆片盒进行清洗，在步骤S200时，也可以内外交替清洗以及同时清洗交替进行，根据实际需求进行设置即可，不作限定。

在步骤S300时，控制两个清洗模组3，使两个清洗模组3的喷头32交替运动或同时运动，并且运动时向晶圆片盒喷出高纯氮气，即放置架2内外两侧同时或交替地对晶圆片盒进行吹干，在步骤S300时，也可以内外两侧交替吹干以及同时吹干交替进行。根据实际需求进行设置即可，不作限定。以上情况可以任意组合，例如，第一种情况，在步骤S200时内外交替清洗，在步骤S300内外两侧同时吹干；第二种情况，在步骤S200时内外交替清洗，在步骤S300内外两侧交替吹干；第三种情况，在步骤S200时内外同时清洗，在步骤S300内外两侧交替吹干；第四种情况，在步骤S200时内外同时清洗，在步骤S300内外两侧同时吹干等等，不再赘述。

一种实施例中，喷头32包括喷头本体321和旋转驱动组件322，旋转驱动组件322能够驱动喷头本体321在半球面内旋转，半球面位于平行于第一方向的平面的一侧。喷头本体321可自由旋转，可覆盖半球面任意角度。清洗方法包括以下步骤：

在步骤S200时，控制两个清洗模组3，使喷头32运动、喷头本体321自由旋转并且向晶圆片盒喷出超纯水；通过驱动机构31驱动喷头32运动以及旋转驱动组件322驱动喷头本体321自由旋转相结合，实现了对晶圆盒的全方位无死角地向晶圆片盒喷淋超纯水。

在步骤S300时，控制两个清洗模组3，使喷头32运动、喷头本体321自由旋转并且向晶圆片盒喷出高纯氮气；通过驱动机构31驱动喷头32运动以及旋转驱动组件322驱动喷头本体321自由旋转相结合，实现了对晶圆盒的全方位无死角地向晶圆片盒喷淋高纯氮气，从而实现了全面清洗。

一种实施例中，腔体1内设有旋转托，放置架2能够绕放置架2自身的中心线旋转，可选地，在步骤S200时，启动旋转托使放置架2旋转，使放置架2旋转的同时喷头32移动、旋转并喷淋超纯水，提升清洗均匀性，其中，放置架2可以周期性地正转和反转。

可选地，在步骤S300时，启动旋转托使放置架2旋转，使放置架2旋转的同时喷头32移动、旋转并喷淋高纯氮气，以提升吹干均匀性，其中，放置架2可以周期性地正转和反转。

可选地，在步骤S200和步骤S300之间，还包括：S2000、启动旋转托使放置架2旋转，即关闭喷淋超纯水后和开启喷出高纯氮气前，通过放置架2旋转以快速甩干晶圆片盒，之后再通过高纯氮气进行吹干，减少了高纯氮气用量，降低了成本。进一步地，放置架2可以周期性地正转和反转。

一种实施例中，清洗模组3还包括排风模组4和热风模组5，排风模组4用于连通腔体1和外部排风管道，可选地，在步骤S300时还包括：

S301、控制两个清洗模组3，使喷头32运动并且向晶圆片盒喷出高纯氮气，并启动排风模组4和热风模组5。热风模组5能够加热高纯氮气，通过温度较高的高纯氮气对晶圆片盒进行烘干和吹干，通过开启排风模组4能够及时地将腔体1内的水汽及废气排出。进一步的，在此过程中放置架2可启动旋转，周期性地正转和反转，以提升吹干均匀性。其中，控制两个清洗模组3以及启动排风模组4和热风模组5，二者可以同时进行，也可以一前一后，不作限定。

S302、关闭热风模组5，喷头32继续吹拂高纯氮气，以使清洗腔内晶圆片盒降温冷却，方便后续取出晶圆片盒。

进一步地，步骤S200、步骤S2000及步骤S300均开启排风装置，保证在各个步骤中均能及时地将清洗腔内的水汽及废气排出。

进一步地，放置架2的转速范围为500r/min-1500r/min，使放置架2高速旋转，以形成龙卷风式涡流，减少热量向周围的扩散流失，提高了对晶圆片盒的烘干效果。

清洗方法包括：S400、开启窗口11，将清洗完成后的晶圆片盒从放置架2上取下，全部取出后，关闭窗口11。重复上述步骤S100至步骤S400，实现下一批晶圆片盒清洗。

显然，本发明的上述实施例仅仅是为了清楚说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种晶圆片盒清洗设备，其特征在于，包括：

腔体(1)，开设有用于与外界连通的窗口(11)；

放置架(2)，设于所述腔体(1)内，所述放置架(2)用于承载若干晶圆片盒；

两个清洗模组(3)，分别设于所述放置架(2)的两侧，所述清洗模组(3)包括驱动机构(31)、喷头(32)和连接组件(33)，所述连接组件(33)一端连接所述喷头(32)，另一端连接超纯水供应组件和高纯氮气供应组件，所述超纯水供应组件用于供应超纯水，所述高纯氮气供应组件用于供应高纯氮气，使所述喷头(32)能够择一地喷出超纯水和高纯氮气，所述驱动机构(31)能够驱动所述喷头(32)运动以使超纯水和高纯氮气覆盖若干所述晶圆片盒。

2.根据权利要求1所述的晶圆片盒清洗设备，其特征在于，所述放置架(2)呈环状并沿第一方向延伸设于所述腔体(1)内，两个所述清洗模组(3)分别设于所述放置架(2)内侧和外侧，所述驱动机构(31)包括第一驱动组件(311)和第二驱动组件(312)，所述第一驱动组件(311)用于驱动所述喷头(32)沿所述第一方向移动，所述第二驱动组件(312)用于驱动所述喷头(32)绕平行于所述第一方向的中心线旋转。

3.根据权利要求2所述的晶圆片盒清洗设备，其特征在于，所述腔体(1)设有旋转托，所述旋转托能够所述放置架(2)绕所述放置架(2)自身的中心线旋转。

4.根据权利要求2所述的晶圆片盒清洗设备，其特征在于，所述喷头(32)包括喷头本体(321)和旋转驱动组件(322)，所述旋转驱动组件(322)能够驱动所述喷头本体(321)在半球面内旋转，所述半球面位于平行于所述第一方向的平面的一侧。

5.根据权利要求1-4任一项所述的晶圆片盒清洗设备，其特征在于，所述清洗模组(3)还包括：

排风模组(4)，用于连通所述腔体(1)和外部排风管道，用于排出所述腔体(1)内的水汽及气体；

热风模组(5)，用于升高所述腔体(1)内高纯氮气的温度。

6.一种晶圆片盒清洗方法，其特征在于，采用如权利要求1-5任一项所述的晶圆片盒清洗设备，清洗方法包括：

S100、将晶圆片盒从窗口(11)穿过承载于放置架(2)上，并关闭所述窗口(11)；

S200、控制两个清洗模组(3)，使喷头(32)运动并且向所述晶圆片盒喷出超纯水；

S300、控制两个所述清洗模组(3)，使所述喷头(32)运动并且向所述晶圆片盒喷出高纯氮气。

7.根据权利要求6所述的晶圆片盒清洗方法，其特征在于，

在步骤S200时，控制两个所述清洗模组(3)，使两个所述清洗模组(3)的所述喷头(32)交替运动或同时运动，并且运动时向所述晶圆片盒喷出超纯水；

在步骤S300时，控制两个所述清洗模组(3)，使两个所述清洗模组(3)的所述喷头(32)交替运动或同时运动，并且运动时向所述晶圆片盒喷出高纯氮气。

8.根据权利要求6所述的晶圆片盒清洗方法，其特征在于，所述腔体(1)内设有旋转托，所述放置架(2)能够绕所述放置架(2)自身的中心线旋转，清洗方法还包括：

在步骤S200时，启动所述旋转托使所述放置架(2)旋转；和/或

在步骤S300时，启动所述旋转托使所述放置架(2)旋转；和/或

在步骤S200和步骤S300之间，还包括：S2000、启动所述旋转托使所述放置架(2)旋转。

9.根据权利要求8所述的晶圆片盒清洗方法，其特征在于，所述清洗模组(3)还包括排风模组(4)和热风模组(5)，所述排风模组(4)用于连通所述腔体(1)和外部排风管道，在步骤S300时还包括：

S301、控制两个所述清洗模组(3)，使所述喷头(32)运动并且向所述晶圆片盒喷出高纯氮气，并启动所述排风模组(4)和所述热风模组(5)；

S302、关闭所述热风模组(5)。

10.根据权利要求9所述的晶圆片盒清洗方法，其特征在于，所述放置架(2)的转速范围为500r/min-1500r/min，以形成龙卷风式涡流。