CN116997559A - 氨基酸或肽的制造方法、保护基形成用试剂及化合物 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题在于提供一种能够用弱酸对侧链的保护基进行脱保护的、高效的肽的制造方法、脱保护性优异的保护基形成用试剂及化合物。根据本发明，提供一种肽的制造方法，其包括：使侧链被下述式(1)所表示的第1保护基保护的第1氨基酸或肽与第2氨基酸或肽进行反应而获得第3氨基酸或肽的肽链延长工序；及对第3氨基酸或肽的第1保护基进行脱保护的第1脱保护工序，第1脱保护工序中使用三氟乙酸含量为10质量％以下的脱保护溶液进行脱保护。上述式中，R11为具有取代基的芳基，R21及R22分别独立地为氢原子或取代基，n为1～6的整数。

Description

氨基酸或肽的制造方法、保护基形成用试剂及化合物
技术领域
本发明有关一种氨基酸或肽的制造方法、保护基形成用试剂及化合物。
背景技术
作为肽的制造方法，有固相法及液相法等。
液相法反应性良好，并且能够在缩合反应之后，通过提取清洗及单离等来进行中间体肽的纯化。然而，通过合成对象的肽，在现有的侧链保护基中有时性能不充分。
作为以往的保护基形成用试剂，已知有专利文献1及专利文献2中所记载的化合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平2-36197号
专利文献2：日本特开平4-360899号
发明内容
发明要解决的技术课题
然而，在专利文献1及专利文献2中公开的保护基中，其性能不充分。
本发明的一实施方式所要解决的课题为提供一种能够用弱酸对侧链的保护基进行脱保护的、高效的氨基酸或肽的制造方法。
并且，本发明的另一实施方式所要解决的课题为提供一种脱保护性优异的保护基形成用试剂及被其保护的化合物。
用于解决技术课题的手段
用于解决上述课题的方法包含以下方式。
＜1＞一种肽的制造方法，其包括：使侧链被下述式(1)所表示的第1保护基保护的第1氨基酸或肽与第2氨基酸或肽进行反应而获得第3氨基酸或肽的肽链延长工序；
及对第3氨基酸或肽的第1保护基进行脱保护的第1脱保护工序，
第1脱保护工序中使用三氟乙酸含量为10质量％以下的脱保护溶液进行脱保护，
[化学式1]
式中，R11为具有取代基的芳基，R21及R22分别独立地为氢原子或取代基，n为1～6的整数，星号表示连接部。
＜2＞根据＜1＞所述的肽的制造方法，其中，脱保护溶液的三氟乙酸含量为2质量％以下。
＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的肽的制造方法，其还包括：通过C末端保护剂来保护N末端被保护的氨基酸或肽的羧基或酰胺基的C末端保护工序；
上述C末端保护工序中所获得的N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或对肽的N末端保护基进行脱保护的N末端脱保护工序；
使N末端被保护的氨基酸或肽缩合到上述N末端脱保护工序中所获得的C末端被保护的氨基酸或肽的N末端中的肽链延长工序；及
对C末端保护基进行脱保护的C末端脱保护工序，
C末端被保护的氨基酸或肽及N末端被保护的氨基酸或肽中的任一个是被上述第1保护基保护的第1氨基酸或肽。
＜4＞根据＜1＞至＜3＞中任一项所述的肽的制造方法，其中，R11的芳基的取代基为给电子基团，存在多个时，可以相同，也可以不同。
＜5＞根据＜1＞至＜4＞中任一项所述的肽的制造方法，其中，上述给电子基团为氨基、烷氧基烷基、烷氧基或烷基，这些可以进一步具有取代基。
＜6＞根据＜1＞至＜4＞中任一项所述的肽的制造方法，其中，上述给电子基团为碳原子数1～10的烷氧基。
＜7＞根据＜1＞至＜6＞中任一项所述的肽的制造方法，其中，上述芳基为苯基或萘基。
＜8＞根据＜1＞至＜7＞中任一项所述的肽的制造方法，其中，上述第1保护基为精氨酸的胍基的保护基。
＜9＞一种氨基酸或肽的制造方法，其包括：使第一氨基酸或肽与下述式(2)所表示的保护基形成用试剂进行反应而获得侧链被第1保护基保护的第1保护氨基酸或肽的保护工序。
[化学式2]
式中，R11为具有取代基的芳基，R21及R22分别独立地为氢原子或取代基，n为1～6的整数。
＜10＞一种含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其具有下述式(1)所表示的保护基。
[化学式3]
式中，R11为具有给电子基团的芳基，给电子基团为多个时它们可以相同也可以不同，R21和R22各自独立地为氢原子或取代基，n为1～6的整数，星号表示连接部。
＜11＞根据＜10＞所述的含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其中，上述给电子基团为氨基、烷氧基烷基、烷氧基或烷基，这些可以具有取代基。
＜12＞根据＜11＞所述的含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其中，给电子基团为碳原子数1～10的烷氧基。
＜13＞根据＜10＞至＜12＞中任一项所述的含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其中，芳基为苯基或萘基。
＜14＞根据＜10＞至＜13＞中任一项所述的含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其中，保护基为精氨酸的胍基的保护基。
＜15＞根据＜10＞至＜14＞中任一项所述的含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其进一步具有9-芴基甲氧基羰基。
＜16＞一种保护基形成用试剂，其由下述式(2)所表示。
[化学式4]
式中，R11为可以具有取代基的芳基，R12为可以具有取代基的芳基、杂脂肪族环基或杂芳基，这些可以经由氧原子或硫原子而连结，R21及R22分别独立地为氢原子或取代基，n为1～6的整数。
发明效果
根据本发明的一实施方式，能够提供一种能够用弱酸将侧链的保护基进行脱保护的、高效的肽的制造方法。
并且，根据本发明的另一实施方式，能够提供一种脱保护性优异的保护基形成用试剂及被其保护的化合物。
具体实施方式
以下，对本发明的内容进行详细地说明。以下所记载的构成要件的说明有时基于本发明的代表性实施方式来进行，但是本发明并不限定于这些实施方式。
在本说明书中，除非另有特别说明，则各术语具有如下含义。
使用“～”所表示的数值范围表示将“～”前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的范围。
在本说明书中阶段性记载的数值范围中，一个数值范围内所记载的上限值或下限值可以替换成其他阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且，在本说明书中所记载的数值范围中，其数值范围的上限值或下限值可以替换成实施例中所示的值。
“工序”这一术语不仅为独立的工序，而且即使在无法与其他工序明确区分的情况下，只要实现工序所期望的目的，则也包含在本术语中。
在基团(原子团)的标记中，未标有经取代及未经取代的标记包含不具有取代基的基团，并且还包含具有取代基的基团。例如，“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代烷基)，还包含具有取代基的烷基(取代烷基)。
化学结构式也有时记载为省略了氢原子的简化结构式。
“质量％”与“重量％”的含义相同，并且“质量份”与“重量份”的含义相同。
2个以上的优选方式的组合为更优选方式。
“烷基”可以为链状，也可以为支链状，并且也可以经卤素原子等取代。
“烷基”优选为碳原子数(也称为“碳原子数”。)1～10的烷基。烷基的碳原子数更优选为1～6，更优选1～4为，更优选为1或2。作为具体例，可以举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基等。
“烯基”优选为碳原子数2～6的烯基。作为具体例，可以举出1-丙烯基。
作为“芳基”，优选为碳原子数6～14的芳基，可以举出苯基、1-萘基、2-萘基、联苯基、2-蒽基等。其中，更优选为碳原子数6～10的芳基，尤其优选为苯基。
作为“甲硅烷基”，可以举出三甲基硅烷基、三乙基硅烷基、二甲基苯基硅烷基、叔丁基二甲基硅烷基、叔丁基二乙基硅烷基等。
作为“卤素原子”，可以举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
作为“烷氧基”，优选为碳原子数1～10的烷氧基。烷基的碳原子数更优选为1～6，更优选为1～4，更优选为1或2。作为具体例，可以举出甲氧基、乙氧基、丙氧基。
作为“芳烷基”，优选为碳原子数7～20的芳烷基。碳原子数优选为7～12。作为具体例，可以举出苄基。
作为“杂芳烷基”，优选为碳原子数6～20的杂芳烷基。碳原子数优选为6～12。
作为“酰基”，优选为碳原子数1～6的酰基。作为具体例，可以举出乙酰基、丙酰基。
作为“芳烷基羰基”，优选为碳原子数7～10的芳烷基羰基。作为具体例，可以举出苄基羰基。
作为“烷氧基羰基”，优选为碳原子数1～6的烷氧基羰基。作为具体例，可以举出甲氧基羰基、乙氧基羰基、Boc基。Boc基表示叔丁氧基羰基。
作为“芳烷氧基羰基”，优选为碳原子数7～20的芳烷氧基羰基。碳原子数优选为8～20，更优选为8～14。作为具体例，可以举出苄氧基羰基(以下，也称为Cbz基或Z基。)、Fmoc基。Fmoc基表示9-芴基甲氧基羰基。
在本发明的氨基酸及肽具有羟基、氨基(-NH2或-NHR、R表示烷基或芳基。)、羧基、羰基、酰胺基、胍基、巯基等的情况下，这些基团可以被保护，并且在反应后根据需要去除保护基，从而能够获得目标化合物。
作为羟基的保护基，例如可以举出烷基、芳基、三苯甲基、碳原子数7～10的芳烷基、甲酰基、碳原子数1～6的酰基、苯甲酰基、碳原子数7～10的芳烷基羰基、2-四氢吡喃基、2-四氢呋喃基、甲硅烷基、碳原子数2～6的烯基等。这些基团可以经选自包括卤素原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的烷氧基及硝基的组中的1个～3个取代基取代。
作为氨基的保护基，例如可以举出甲酰基、碳原子数1～6的酰基、碳原子数1～6的烷氧基羰基、苯甲酰基、碳原子数7～10的芳烷基羰基、碳原子数7～14的芳烷氧基羰基、三苯甲基、单甲氧基三苯甲基、1-(4,4-Dimethyl-2,6-dioxocyclohex-1-ylidene)-3-methylbutyl基(1-(4,4-二甲基-2,6-二氧环己烯-1-亚基)-3-甲基丁基)、邻苯二甲酰基、N,N-二甲氨基亚甲基、甲硅烷基、碳原子数2～6的烯基等。这些基团可以经选自包括卤素原子、碳原子数1～6的烷氧基及硝基的组中的1个～3个取代基取代。
作为羧基的保护基，例如可以举出上述羟基的保护基、三苯甲基等。
作为酰胺基的保护基，例如可以举出三苯甲基等。
作为羰基的保护基，例如可以举出环状缩醛(例如，1,3-二噁烷)、非环状缩醛(例如，二(碳原子数1～6的烷基)缩醛)等。
作为胍基的保护基，例如可以举出2,2,4,6,7-五甲基二氢苯并呋喃-5-磺酰基、2,3,4,5,6-五甲基苯磺酰基、甲苯磺酰基、硝基等。
作为巯基(硫醇基)的保护基，例如可以举出三苯甲基、4-甲基苄基、乙酰氨基甲基、叔丁基、叔丁硫基等。
关于上述保护基的去除方法，只要基于公知的方法、例如，ProtectiveGroups inOrganic Synthesis，John Wiley and Sons刊(1980)中所记载的方法等进行即可。可以利用使用酸、碱、紫外光、肼、苯基肼、N-甲基二硫胺甲酸钠、四丁基氟化铵、乙酸钯、三烷基硅烷基卤化物的方法、还元法。
“氨基酸”为α、β或γ氨基酸，并不限定于天然型氨基酸，也可以为N-甲氨基酸等非天然型氨基酸。并且，也可以为羟基羧酸等氨基酸类似物。
(保护基形成用试剂、含有精氨酸或精氨酸残基的化合物)
本发明的保护基形成用试剂由下述式(2)表示，优选由下述式(2a)表示。该种化合物使用于本发明的氨基酸或肽的制造方法。
[化学式5]
式(2)及(2a)中，R11为可以具有取代基的芳基，R21及R22分别独立地为氢原子或取代基，n为1～6的整数。
R11的芳基的取代基优选为给电子基团，优选为氨基、烷氧基烷基、烷氧基或烷基，这些可以具有取代基，存在多个时，可以相同，也可以不同。
给电子基团优选为烷氧基、更优选为碳原子数1～10的烷氧基，进一步优选为碳原子数1～6的烷氧基。作为给电子基团，优选为不具有取代基。
芳基优选为苯基或萘基。
作为被保护基形成用试剂保护的取代基，优选为氨基、亚氨基或胍基(氨基及亚氨基)，更优选为精氨酸的胍基。
作为R12，是可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的杂脂肪族环基或可以具有取代基的杂芳基，这些可以经由氧原子(O)或硫原子(S)而连结。
芳基优选为苯基或萘基。
作为杂脂肪族环基，优选为含氮杂脂肪族环基，更优选为琥珀酰亚氨基。
作为杂芳基，优选为单环的含氮杂芳基，更优选为咪唑基、吡啶基、吡唑基、三唑基。这些可以由氮原子连结。R12的芳基、杂脂肪族环基或杂芳基的取代基优选为电子吸引基团，存在多个时，可以相同，也可以不同。电子吸引基团优选为羰基、硝基或卤素原子，更优选为硝基或氟基。
作为R21及R22表示的取代基，可以举出卤素原子、烷基等。
将保护基形成用试剂的具体例记载于以下。式中，R表示给电子基团，m表示0～5的整数。
[化学式6]
被上述保护基形成用试剂保护的化合物优选为含有精氨酸或精氨酸残基的化合物(优选为肽)。
作为被保护的化合物，具体而言，成为具有下述式(1)所表示的保护基的精氨酸或含有精氨酸残基的化合物，可以进一步具有Fmoc保护基(9-芴基甲氧基羰基)。作为下述式(1)所表示的保护基，优选为下述式(1a)所表示的保护基。
[化学式7]
上述式中，R11为可以具有取代基的芳基，R21及R22分别独立地为氢原子或取代基，n为1～6的整数，式中的星号表示连结部。上述式中，R11、R21及R22的优选者与式(2)相同，以下记载也相同。
(肽的制造方法)
本发明的肽的制造方法使用式(2)所表示的保护基形成用试剂。使用上述式(2)所表示的保护基形成用试剂的工序优选为保护氨基酸或肽的侧链的侧链保护工序。作为氨基酸，优选为精氨酸，作为肽，优选为含有精氨酸残基的肽。
式(2)所表示的保护基形成用试剂能够用作氨基酸的保护基，更优选用作氨基酸的侧链即胍基、氨基或亚氨基的保护基，更优选用作胍基的保护基。
从肽的合成容易性及产率的观点考虑，本发明的肽的制造方法除了上述侧链保护工序以外，更优选进一步包括对在上述侧链保护工序中所获得的N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或N末端被保护且C末端被保护的肽的N末端进行脱保护的N末端脱保护工序、及使N末端被保护的氨基酸或N末端被保护的肽缩合至在上述N末端脱保护工序中所获得的C末端被保护的氨基酸或C末端被保护的肽的N末端中的肽链延长工序，
更优选进一步包括使在上述肽链延长工序中所获得的N末端被保护且C末端被保护的肽沉淀的沉淀工序，
在上述沉淀工序之后，更优选依次进一步包括1次以上的如下工序，即，对所获得的N末端被保护且C末端被保护的肽的N末端进行脱保护的工序、使N末端被保护的氨基酸或N末端被保护的肽缩合至所获得的C末端被保护的肽的N末端中的工序及使所获得的N末端被保护且C末端被保护的肽沉淀的工序。
根据优选方式，本发明的肽的制造方法进一步包括：
通过C末端保护剂来保护N末端被保护的氨基酸或肽的羧基或酰胺基的C末端保护工序；
上述C末端保护工序中所获得的N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或对肽的N末端保护基进行脱保护的N末端脱保护工序；
使N末端被保护的氨基酸或肽缩合到上述N末端脱保护工序中所获得的C末端被保护的氨基酸或肽的N末端中的肽链延长工序；及
对C末端保护基进行脱保护的C末端脱保护工序，
C末端被保护的氨基酸或肽及N末端被保护的氨基酸或肽中的任一个是被上述第1保护基保护的第1氨基酸或肽。
另外，N末端被保护的氨基酸或N末端被保护的肽为仅N末端被保护的氨基酸或肽，N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或肽为N末端及C末端被保护的氨基酸或肽。
各工序中的氨基与羧基的肽键的形成反应(缩合反应)、保护基的脱保护能够通过公知的方法来进行。例如，参考并援用国际公开第2020/175473号及国际公开第2020/175473号，并被编入本申请说明书中。
以下，对上述各工序进行详细地说明。
＜侧链保护工序＞
本发明的氨基酸或肽的制造方法优选包括通过上述式(2)所表示的保护基形成用试剂来保护氨基酸或肽的侧链氨基的侧链保护工序。即，根据本发明，提供一种包括使第1氨基酸或肽与上述式(2)所表示的保护基形成用试剂进行反应而获得侧链被第1保护基保护的第1保护氨基酸或肽的、保护工序的氨基酸或肽的制造方法。
被保护的氨基酸优选为精氨酸，其他氨基酸的侧链、氨基或羧基可以被保护。并且，在肽的侧链被保护的情况下，优选来自于精氨酸的部位的侧链被保护。
在侧链保护工序中，可获得侧链被下述式(1)所表示的第1保护基保护的第1氨基酸或肽。本发明有关包括该种保护工序的氨基酸或肽的制造方法。
[化学式8]
侧链保护工序优选在不影响反应的溶剂中，在碱性条件下进行反应。
作为溶剂，能够将通常的有机溶剂使用于反应中。具体而言，可以举出氯彷、二氯甲烷等卤化烃类；1,4-二噁烷、四氢呋喃(THF)、环戊基甲醚等非极性有机溶剂等。这些溶剂可以混合使用2种以上。并且，在上述卤化烃类或非极性有机溶剂中，可以混合使用苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类；乙腈、丙腈等腈类；丙酮、2-丁酮等酮类；N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮(NMP)等酰胺类；二甲基亚砜等亚砜类。尤其，优选为NMP。
作为碱，可以举出三乙胺、二异丙基乙胺等叔胺或1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯(DBU)、1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷(DABCO)、1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯(DBN)等没有亲核性的有机碱等。
碱的使用量相对于上述式(2)所表示的保护基形成用试剂1摩尔当量优选为大于1摩尔当量且20摩尔当量以下，更优选为2摩尔当量～10摩尔当量。
另外，在保护精氨酸的胍基的情况下，优选为用Alloc(烯丙氧基羰基)及Allyl(烯丙基)等保护精氨酸的氨基及羧基。
＜侧链的脱保护工序＞
本发明的肽的制造方法包括:肽链延长工序，使被第1保护基保护的第1氨基酸或肽与第2氨基酸或肽进行反应，得到第3氨基酸或肽；
第1脱保护工序，对第3氨基酸或肽的第1保护基进行脱保护，
第1脱保护工序中使用三氟乙酸含量为10质量％以下的脱保护溶液进行脱保护。
脱保护溶液的TFA含量优选为7质量％以下，更优选为5质量％以下，进一步优选为2质量％以下，进一步优选为1质量％以下，更进一步优选为0.5质量％以下，更进一步优选为0.1质量％以下。脱保护溶液的TFA含量优选为0.01质量％以上，更优选为0.1质量％以上。若TFA含量多，则所获得的肽分解、产生副产物，制造效率降低。若TFA含量少，则脱保护需要时间，制造效率降低。
在本发明中，能够兼顾弱酸下的脱保护性与侧链(尤其胍基)的密封性。
＜C末端保护工序＞
本发明的肽的制造方法优选包括用C末端保护基保护氨基酸或肽(可以是上述第1氨基酸或肽、第2氨基酸或肽中的任一个。)的羧基或酰胺基的C末端保护工序。
作为C末端保护基，优选具有碳原子数12以上的脂肪族烃基的化合物，且优选碳原子数为15以上，更优选为20～30。在C末端保护基具有多个脂肪族烃基的情况下，优选这些的碳原子数的合计为30～80，更优选为36～80。作为C末端保护基，优选具有环结构，更优选具有缩合多环、芳香族杂环或萘环。
作为C末端保护基，优选国际公开第2020/175473号的式(1)所表示的芳香族杂环化合物。作为该化合物，参考国际公开第2020/175473号，并被编入本申请说明书中。
作为C末端保护基，也优选国际公开第2020/175472号的式(1)所表示的缩合多环芳香族烃化合物。作为该化合物，参考国际公开第2020/175472号，并被编入本申请说明书中。
作为C末端保护基，可以是国际公开第2020/262259号的式(1)所表示的化合物，参考国际公开第2020/262259号，并被编入本申请说明书中。
作为在上述C末端保护工序中所使用的氨基酸或肽，并无特别限制，但优选为N末端被保护的氨基酸或N末端被保护的肽，更优选为Fmoc保护氨基酸或Fmoc保护肽。
并且，优选除了在上述C末端保护工序中所使用的氨基酸或肽中的C末端部分以外的羟基、氨基、羰基、羧基、酰胺基、咪唑基、吲哚基、胍基、巯基等通过保护基进行保护。
在C末端保护基的键合部位为-OH或-SH的情况下，优选在不影响反应的溶剂中，在缩合添加剂(缩合活化剂)的存在下，添加缩合剂或者在酸催化剂中进行反应。
在C末端保护基的键合部位为-NHR18(R18为氢原子、烷基、芳烷基或杂芳烷基)的情况下，优选在缩合添加剂(缩合活化剂)的存在下，添加缩合剂或者使缩合剂与碱进行反应。
作为溶剂、缩合添加剂(缩合活化剂)、缩合剂、酸催化剂、碱，参考并援用国际公开第2020/175472号、国际公开第2020/175473号及国际公开第2020/262259号，并被编入本申请说明书中。
作为溶剂，优选为非极性有机溶剂，更优选为THF。
并且，可以使用Organic Process Research&Development、2017、21、3、365-369中所记载的溶剂。
作为缩合剂，在肽合成中通常使用的缩合剂在本发明中也能够不受限制地使用，例如可以举出4-(4,6-二甲氧基-1,3,5-三-2-基)-4-甲基吗啉氯化物(DMT-MM)、O-(苯并三唑-1-基)-1,1,3,3-四甲基脲鎓六氟磷酸酯(HBTU)、O-(7-氮杂苯并三唑-1-基)-1,1,3,3-四甲基脲鎓六氟磷酸酯(HATU)、O-(6-氯苯并三唑-1-基)-1,1,3,3-四甲基脲鎓六氟磷酸酯(HBTU(6-Cl))、O-(苯并三唑-1-基)-1,1,3,3-四甲基脲四氟硼酸盐(TBTU)、O-(6-氯苯并三唑-1-基)-1,1,3,3-四甲基脲四氟硼酸盐(TCTU)、(1-氰基-2-乙氧基-2-氧代基亚乙基氨氧基)二甲基氨基吗啉代碳鎓六氟磷酸盐(COMU)、二环己碳二酰亚胺(DCC)、二异丙基碳二亚胺(DIC)、1-乙基-3-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺(EDC)、其盐酸盐(EDC·HCl)及六氟磷酸(苯并三唑-1-基氧基)三吡咯烷基鏻(PyBop)等。
其中，优选为DIC、EDC、EDC·HCl、DMT-MM、HBTU、HATU或COMU。
缩合剂的使用量相对于基质1摩尔当量，优选为1摩尔当量～10摩尔当量，更优选为1摩尔当量～5摩尔当量。
作为使用于缩合反应的酸催化剂，能够不受限制地使用在肽合成中通常使用的酸催化剂，例如可以举出甲磺酸、三氟甲磺酸、对甲苯磺酸、三氟乙酸、乙酸等。
其中，优选为甲磺酸、对甲苯磺酸、三氟乙酸、乙酸。
酸催化剂的使用量相对于基质1摩尔当量，优选为1摩尔当量～10摩尔当量，更优选为0.01摩尔当量～5摩尔当量。
在上述C末端保护工序中，为了促进反应且抑制消旋反应(racemization)等副反应，优选添加缩合活化剂。
缩合活化剂是指在与缩合剂共存下，将氨基酸引导至相对应的活性酯、对称酸酐等中以使其容易形成肽键(酰胺键)的试剂。
作为缩合活化剂，能够不受限制地使用在肽合成中通常使用的活化剂，例如可以举出4-二甲基氨基吡啶、N-甲基咪唑、硼酸衍生物、1-羟基苯并三唑(HOBt)、乙基1-羟基三唑-4-羧酸酯(HOCt)、1-羟基-7-氮杂苯并三唑(HOAt)、3-羟基-1,2,3-苯并三嗪-4(3H)-酮(HOOBt)、N-羟基丁二酰亚胺(HOSu)、N-羟基邻苯二甲酰亚胺(HOPht)、N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二羧基酰亚胺(HONb)、五氟苯酚及乙基(羟亚氨基)氰基乙酸酯(Oxyma)等。其中，优选为4-二甲基氨基吡啶、HOBt、HOCt、HOAt、HOOBt、HOSu、HONb或Oxyma。
缩合活化剂的使用量相对于基质1摩尔当量优选为超过0摩尔当量且4.0摩尔当量，更优选为0.1摩尔当量～1.5摩尔当量。
作为溶剂，能够优选地使用在上述溶解工序中所述的溶剂。
反应温度并无特别限制，但优选为-10℃～80℃，更优选为0℃～40℃。反应时间并无特别限制，但优选为1小时～30小时。
并且，通过上述C末端保护工序所获得的N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或N末端被保护和C末端被保护的肽可以进行纯化。
例如，使所获得的N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或N末端被保护且C末端被保护的肽溶解于溶剂(反应溶剂、例如THF)中，并在进行所期望的有机合成反应之后，对所获得的产物进行单离。然后，改变溶解有N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或N末端被保护且C末端被保护的肽的溶剂(例如，溶剂组成的变更、溶剂种类的变更)，并使其再沉淀。
具体而言，在如N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或N末端被保护且C末端被保护的肽溶解的条件下进行反应。在反应后，在蒸馏去除溶剂之后进行溶剂取代，或者不蒸馏去除溶剂而向反应系统添加极性溶剂，从而沉淀凝聚物并去除杂质。
作为取代溶剂或极性溶剂，单独或混合使用甲醇、乙腈、水等极性有机溶剂。即，在如N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或N末端被保护且C末端被保护的肽溶解的条件下进行反应，在反应后，作为溶剂取代，例如对于溶解使用卤化溶剂、THF等而对于沉淀化使用甲醇、乙腈或水等极性有机溶剂。
＜N末端脱保护工序＞
本发明的肽的制造方法优选包括对在上述C末端保护工序中所获得的N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或N末端被保护且C末端被保护的肽的N末端保护基进行脱保护的N末端脱保护工序。
作为N末端的保护基，能够使用肽化学等技术领域中通常使用的后述氨基的保护基。在本发明中，优选为Boc基、Cbz基或Fmoc基。
关于脱保护条件，通过该临时保护基的种类而适当选择。例如，在为Fmoc基的情况下，通过碱处理来进行，并且在为Boc基的情况下，通过酸处理来进行。该反应在不影响反应的溶剂中进行。
作为碱，可以举出二甲胺、二乙胺等仲胺或1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯(DBU)、1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷(DABCO)、1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯(DBN)等没有亲核性的有机碱等。
作为溶剂，能够优选地使用在上述溶解工序中所述的溶剂。
＜肽链延长工序＞
本发明的肽的制造方法优选包括使N末端被保护的氨基酸或肽缩合至在上述N末端脱保护工序中所获得的C末端被保护的氨基酸或肽的N末端中的肽链延长工序。C末端被保护的氨基酸或肽及N末端被保护的氨基酸或肽中的任一个中，侧链被上述第1保护基保护。然后，第1保护基在适当的时刻被脱保护。
在上述肽链延长工序中，使用上述缩合剂、缩合添加剂等，并且在肽化学领域中通常使用的肽合成条件下优选地进行。
作为N末端被保护的氨基酸或N末端被保护的肽，并无特别限制，优选为Fmoc保护氨基酸或Fmoc保护肽。
＜沉淀工序＞
本发明的肽的制造方法优选进一步包括使在上述肽链延长工序中所获得的N末端被保护且C末端被保护的肽沉淀的沉淀工序。
沉淀工序能够以与上述C末端保护工序的纯化(再沉淀)相同的方式进行。
具体而言，在前段反应后，不蒸馏去除反应溶剂而向反应系统添加极性溶剂。在此情况下，反应溶剂使用THF作为非极性有机溶剂，并且极性溶剂使用乙腈。非极性有机溶剂与极性溶剂的使用比例(体积基准)优选为1:1～1:100，更优选为1:3～1:50，进一步优选为1:5～1:20。在该使用比例的情况下，能够使N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或N末端被保护且C末端被保护的肽有效地沉淀，从而能够有效地纯化目标物。
＜链延长＞
本发明的肽的制造方法在上述沉淀工序之后，优选依次进一步包括1次以上的如下工序，即，对所获得的N末端被保护且C末端被保护的肽的N末端进行脱保护的工序、使N末端被保护的氨基酸或N末端被保护的肽缩合至所获得的C末端被保护的肽的N末端中的工序及使所获得的N末端被保护且C末端被保护的肽沉淀的工序。
通过反复进行上述3个工序，能够容易进行所获得的肽的链延长。
上述3个工序中的各工序能够以与上述相对应的各工序相同的方式进行。
＜C末端脱保护工序＞
本发明的肽的制造方法优选进一步包括对C末端保护基进行脱保护的C末端脱保护工序。
在上述C末端脱保护工序中，通过去除具有所期望的氨基酸残基数的C末端被保护的肽中的上述C末端保护基，能够获得作为最终目标物的肽。
作为C末端保护基的去除方法，可以优选地举出使用了酸性化合物的脱保护方法。
例如，可以举出添加酸催化剂的方法或使用金属催化剂并添加氢的方法。作为酸催化剂，可以举出三氟乙酸(TFA)、盐酸、三氟乙醇(TFE)、六氟异丙醇(HFIP)、乙酸等。对于不被强酸分解的肽，优选为TFA，对于被强酸分解的肽，优选为TFE、HFIP或乙酸。关于酸的浓度，能够根据延长的氨基酸的侧链保护基及脱保护条件而适当选择。
例如，TFA的浓度相对于所使用的溶剂的总体积优选为50体积％以下，更优选为30体积％以下，更优选为10体积％以下，更优选为5体积％以下，尤其优选为1体积％以下。下限值优选为0.01体积％，更优选为0.1体积％，更优选为0.5体积％。
脱保护时间优选为5小时以下，更优选为3小时以下，更优选为1小时以下。
在本发明中，即使在弱酸条件下也能够进行C末端保护基及侧链保护基的脱保护，能够抑制所获得的肽的副反应。
作为在弱酸条件下的C末端保护基的脱保护优选的肽(即，对酸弱的肽)，例如可以举出具有N-烷基酰胺结构的肽。
从抑制所获得的肽的副反应且经时稳定性的观点考虑，本发明的肽的制造方法优选适用于对酸弱的肽的制造方法中，更优选适用于具有N-烷基酰胺结构的肽的制造方法中。
＜肽＞
关于通过本发明的肽的制造方法所获得的作为最终目标物的肽，能够按照肽化学中常用的方法来进行单离纯化。例如，通过对反应混合物进行提取清洗、结晶、色谱等，能够对作为最终目标物的肽进行单离纯化。
通过本发明的肽的制造方法所制造的肽的种类并无特别限定，但是肽的氨基酸残基数例如优选为数十以下左右(具体而言，50以下、40以下、30以下或20以下)。与现有的或未知的合成肽或天然肽同样地，通过本发明的肽的制造方法所获得的肽能够利用于各种各样的领域中，例如能够利用于药剂、食品、化妆品、电子材料、生物传感器等领域中，但是并不限定于此。
本发明的肽的制造方法也能够在不影响下一工序的反应的范围内适当省略上述沉淀工序。
实施例
以下，举出实施例对本发明的实施方式进行进一步具体的说明。关于以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容及处理顺序等，只要不脱离本发明的实施方式的宗旨，则能够进行适当地变更。因此，本发明的实施方式的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，除非另有特别说明，则“份”、“％”为质量基准。并且，室温表示25℃。化学式中的Me表示甲基。
除非另有特别说明，则基于管柱色谱法的纯化可以使用自动纯化装置ISOLERA(Biotage公司制)或中压液相色谱法YFLC-Wprep2XY.N(YAMAZEN CORPORATION制)。
除非另有特别说明，则硅胶管柱色谱法中的载体可以使用SNAPKP-Sil Cartridge(Biotage公司制)、HI-FLASH COLUMNS W001、W002、W003、W004或W005(YAMAZENCORPORATION.制)。
管柱色谱法中所使用的洗脱液中的混合比为体积比。例如，“己烷:乙酸乙酯的梯度洗脱＝50:50～0:100”表示使50％己烷/50％乙酸乙酯的洗脱液最终变成0％己烷/100％乙酸乙酯的洗脱液。
并且，例如，“己烷:乙酸乙酯的梯度洗脱＝50:50～0:100、甲醇:乙酸乙酯的梯度洗脱＝0:100～20:80”表示使50％己烷/50％乙酸乙酯的洗脱液变成0％己烷/100％乙酸乙酯的洗脱液之后，最终变成20％甲醇/80％乙酸乙酯的洗脱液。
关于MS光谱，使用ACQUITY SQD LC/MS System(Waters Corporation.制、离子化法：ESI(ElectroSpray Ionization、电喷洒离子化)法)进行了测量。
关于NMR光谱，使用四甲硅烷作为内部基准，并且使用Bruker AV300(Bruker公司制、300MHz)或Bruker AV400(Bruker公司制、400MHz)进行测量，并将所有δ值均以ppm表示。
关于HPLC纯度，使用ACQUITY UPLC(Waters Corporation.制、管柱：CSH C18 1.7μm)进行了测量。
＜实施例＞
＜保护基形成用试剂(1)的合成＞
[化学式9]
/>
＜中间体(1-1)的合成＞
在冰浴下，将70％双(2-甲氧基乙氧基)氢化铝钠(20.2g，122.5mmol)的甲苯溶液滴加到4-甲氧基-2-甲基苯甲酸甲酯(5.00g，27.2mmol)的四氢呋喃(25ml)溶液之后，在室温下搅拌了30分钟。在反应液中添加丙酮(3ml)之后，添加20％酒石酸钾钠水溶液(50mL)和乙酸乙酯(50mL)并搅拌了10分钟。在分离有机层之后，通过在减压下浓缩而获得了无色油状的中间体(1-1)4.81g。
＜保护基形成用试剂(1)的合成＞
在冰浴下，将1,1‘-羰基二咪唑(4.70g，29.0mmol)添加到中间体(1-1)(4.20g，27.6mmol)的四氢呋喃(42ml)溶液中，在室温下搅拌了30分钟。浓缩了反应液之后，添加己烷/乙酸乙酯＝1/1的混合液(42mL)和水(42mL)，搅拌了5分钟。用水(42mL)、饱和食盐水(10mL)依次清洗有机层之后，用硫酸钠进行干燥并过滤。通过减压浓缩滤液而获得了保护基形成用试剂(1-1)6.50g(2工序86％)。
1H-NMR(DMSOd6，400MHz)δ＝8.13-8.10(1H，m)，7.40(1H，t，J＝1.5Hz)7.33(1H，d，J＝8.4Hz)，7.05(1H，dd，1.5，0.9Hz)，6.79(1H，d，J＝2.5Hz)，6.75(1H，dd，8.4，2.8Hz)，5.40(2H，s)，3.81(3H，s)，2.41(3H，s)
＜保护基形成用试剂(2)、(3)、(4)的合成＞
[化学式10]
＜保护基形成用试剂(2)＞
除了将中间体(1-1)变更为4-甲氧基苄醇以外，以与保护基形成用试剂(1)相同的方式进行了合成。
＜保护基形成用试剂(3)＞
除了将中间体(1-1)变更为2-甲氧基苄醇以外，以与保护基形成用试剂(1)相同的方式进行了合成。
＜保护基形成用试剂(4)＞
除了将中间体(1-1)变更为2,4-二甲氧基苄醇以外，以与保护基形成用试剂(1)相同的方式进行了合成。
＜中间体(2-3)的合成＞
[化学式11]
＜中间体(2-1)的合成＞
在室温下，将溴化烯丙基(5.99mL，69.4mmol)、碳酸钾(19.2g，138mmol)添加到Fmoc-Arg(Pbf)-OH(30.0g，46.2mmol)的N-甲基吡咯烷酮(150ml)溶液之后，搅拌了5小时。在反应液中加入水(150mL)与乙酸乙酯(300mL)而分离有机层之后，用水(100mL)清洗2次有机层，并且用饱和食盐水(50mL)进行了清洗。在用硫酸钠进行干燥并过滤之后，减压下浓缩滤液，从而获得了淡黄色固体形状的中间体(2-1)31.2g。
ESI-MS(+)＝689.4
＜中间体(2-2)的合成＞
在室温下，将二氮杂双环十一碳烯(6.77g，45.3mmol)添加到中间体(2-1)(31.2g，45.3mmol)的四氢呋喃(150ml)溶液中，在室温下搅拌了30分钟。在反应液中加入N-(烯丙氧基羰氧基)琥珀酰亚胺(9.0mL，45.3mmol)，搅拌了1.5小时之后，添加了1mol/L盐酸(100mL)、乙酸乙酯(300mL)。用水(100mL)、饱和碳酸氢钠水溶液(100mL)、饱和食盐水(10mL)依次清洗有机层之后，用硫酸钠进行干燥并过滤。利用硅胶柱色谱法(洗脱液：己烷/乙酸乙酯)纯化通过减压浓缩滤液而获得的残渣，获得了中间体(2-2)18.3g(2工序73％)。
ESI-MS(+)＝551.3
＜中间体(2-3)的合成＞
在室温下，将三异丙基硅烷(9.3mL，45.4mmol)、三氟乙酸(57mL)加入到中间体(2-2)(12.5g，22.7mmol)的二氯甲烷(57ml)溶液中，搅拌了1小时。在浓缩了反应液之后，加入甲基叔丁基醚(100mL)，悬浮搅拌了30分钟。过滤取固体物质，获得了8.6g淡黄色的中间体(2-3)作为三氟乙酸盐。
ESI-MS(+)＝298.8
＜实施例化合物1的合成法＞
[化学式12]
＜中间体(2-4)的合成＞
在室温下，将二氮杂双环十一碳烯(14.7mL，98.4mmol)、保护基形成用试剂(1)(29.1g，118mmol)添加到中间体(2-3)(7.80g，19.7mmol)的N-甲基吡咯烷酮(39ml)溶液中，在室温下搅拌了4小时。在反应液中加入饱和氯化铵水溶液(40mL)、乙酸乙酯(80mL)，依次用水(40mL)清洗2次有机层、并且用饱和食盐水(10mL)进行清洗，用硫酸钠进行干燥并过滤。利用硅胶管柱色谱法(洗脱液：己烷/乙酸乙酯)纯化通过减压浓缩滤液而获得的残渣，获得了中间体(2-4)5.03g。
＜中间体(2-5)的合成＞
在室温下，将三苯基硅烷(1.1mL，9.16mmol)、四三苯膦钯(0.265g，5mol％)加入到中间体(2-4)(3.00g，4.58mmol)的二氯甲烷(30ml)溶液中，搅拌了1小时。减压浓缩反应液，获得了中间体(2-5)2.00g。
ESI-MS(+)＝531.1
＜实施例化合物(1)的合成＞
在室温下，将碳酸钠(1.32g，12.4mmol)、N-(9-芴基甲氧基羰氧基)琥珀酰亚胺(1.40g，4.15mmol)添加到中间体(2-5)(2.00g，3.77mmol)的四氢呋喃(19ml)/水(19mL)的混合溶液中，搅拌了1小时。在反应液中加入饱和氯化铵水溶液(19mL)、乙酸乙酯(19mL)，用饱和食盐水(5mL)清洗有机层、用硫酸钠进行干燥并过滤。利用硅胶管柱色谱法(洗脱液：己烷/乙酸乙酯)纯化减压浓缩滤液而获得的残渣，获得了实施例化合物(1)1.73g。
1H-NMR(DMSOd6，400MHz)δ＝11.58(1H，s)，8.46-8.35(1H，m)，7.88(2H，d，J＝7.5Hz)，7.70(2H，d，7.5Hz)，7.44-7.36(2H，m)，7.35-7.25(3H，m)，7.19(1H，d，J＝8.3Hz)，6.85-6.67(4H，m)，5.15(2H，s)，4.92(2H，s)，4.31-4.17(3H，m)，3.90-3.81(1H，m)，3.74(3H，s)，3.71(3H，s)，3.53-3.45(1H，m)，3.45-3.38(1H，m)，2.30(3H，s)，2.24(3H，s)，1.77-1.42(4H，m)，1.30-1.21(1H，m)，0.90-0.79(1H，m)
ESI-MS(+)＝753.0，(-)751.1
＜比较化合物1及比较化合物2＞
[化学式13]
比较化合物1及比较化合物2使用了WATANABE CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制的市售品。
(评价1)
＜脱保护速度＞
关于在上述中所合成的被保护的氨基酸，如下求出了所保护的侧链部位的脱保护率。
在混合使用了实施例的化合物1(保护基形成用试剂)的侧链被保护的氨基酸或使用了比较化合物1及比较化合物2的侧链被保护的氨基酸50mg和与侧链被保护的氨基酸等摩尔量的Fmoc-Gly-OH(内部标准)之后，添加二氯甲烷/三氟乙醇/三氟乙酸(100/10/1：vol比)以使基质浓度以侧链被保护的氨基酸基准成为0.025M，并在30℃下搅拌了60分钟。
将反应溶液5μL溶解于MeOH(甲醇)：400μL中，并使用Ultra Performance LC(超高效液相色谱法、Waters Corporation.制、型号：ACQUITY)，定量对侧链被保护的氨基酸进行脱保护而生成的Fmoc-氨基酸与Fmoc-Gly-OH的比率，从而求出脱保护率(％)，并根据下述基准进行了评价。
关于超高效液相色谱法中所使用的管柱及测量条件，如下所示。
管柱：Waters Corporation.制、型号：BEH C18 1.7μm、2.1mm×30mm
流量：0.5mL/min
溶剂：A液：0.1％甲酸-水、B液：0.1％甲酸-乙腈
梯度循环：0.00min(A液/B液＝95/5)、2.00min(A液/B液＝5/95)、3.00min(A液/B液＝95/5)
检测波长：254nm
关于脱保护速度的评价，将“B”以上的情况设为合格。将结果示于表1中。
另外，脱保护率越高，脱保护速度越快，可以说是优选的。
-评价基准-
“A”：脱保护率为90％以上。
“B”：脱保护率为50％以上且小于90％。
“C”：脱保护率为10％以上且小于50％。
“D”：脱保护率小于10％。
[表1]
化合物 脱保护速度
实施例1 实施例化合物1 A
比较例1 比较化合物1 D
比较例2 比较化合物2 D
从表1中可知，在实施例1中使用的实施例化合物1(保护基形成用试剂)与比较例1及比较例2的比较化合物相比，脱保护速度优异。因此，可以说适合于对酸不稳定的肽的合成中。并且，实施例化合物1的密封性也优异。
＜保护肽(5残基肽：Fmoc-MeNle-MeNle-Arg(X)-Cys(Mmt)-Gly-NH2)的合成＞
另外，将除了上述以外的各缩写的详细内容示于以下。
MeNle：N-甲基正亮氨酸残基
Arg(X)：具有本发明的保护基的精氨酸残基
Cys(Mmt)：Mmt保护半胱氨酸残基
Mmt：甲氧基三苯甲基
＜实施例2＞
(Fmoc-Gly-NH-IndoTAG的合成)
[化学式14]
将国际公开第2020/262259号的依据实施例合成的原料(1)(5.00g，4.02mmol)溶解于四氢呋喃(40mL)中，加入二氮杂双环十一碳烯(DBU)(1.20mL，8.04mmol)并进行了搅拌。在脱保护反应结束后，加入N-甲基吗啉(0.906mL，8.24mmol)、甲磺酸(0.522mL，8.04mmol)之后，添加Fmoc-Gly-OH(1.43g，4.82mmol)、(1-氰基-2-乙氧基-2-氧代基亚乙基氨氧基)二甲基氨基吗啉代碳鎓六氟磷酸盐(COMU)(2.07g，4.82mmol)并进行了搅拌。在缩合反应结束后，加入乙腈(400mL)并进行搅拌，将沉淀物进行过滤，并通过乙腈进行清洗之后，使其减压干燥，从而获得了Fmoc-Gly-NH-IndoTAG(5.13g、产率98.1％)。
(Fmoc-MeNle-MeNle-Arg(X)-Cys(Mmt)-Gly-NH-IndoTAG的合成)
使用Fmoc-Gly-NH-IndoTAG，反复进行Fmoc基的去除和下述表2中示出的保护氨基酸的缩合反应，延长了肽序列。上述X是实施例化合物1。
[表2]
保护氨基酸 序列 产率[％]
Fmoc-Cys(Mnt)-OH Fmoc-Cys(Mmt)-Gly-NH-IndoTag 95.9
Fmoc-Arg(X)-OH Fmoc-Arg(X)-Cys(Mmt)-Gly-NH-IndoTag 98.6
Fmoc-MeNleu-OH Fmoc-MeNle-Arg(X)-Cys(Mmt)-Gly-NH-IndoTag 97.1
Fmoc-MeNleu-OH Fmoc-MeNle-MeNle-Arg(X)-Cys(Mmt)-Gly-NH-IndoTag 98.3
(肽的脱保护)
在室温下，将三氟乙酸/六氟异丙醇/二氯甲烷(1/10/100：vol％、2.0mL)、三异丙基硅烷(10.0摩尔当量)及3,6-二氧杂-1,8-辛烷二硫醇(10.0摩尔当量)加入到Fmoc-MeNle-MeNle-Arg(X)-Cys(Mmt)-Gly-NH-IndoTag(50.0mg)，在室温下搅拌了1小时。在冰冷下，在叔丁基甲基醚(20mL)中滴加反应液并使其沉淀，反复进行去除上清液和基于叔丁基甲基醚的清洗，获得了Fmoc-MeNle-Arg(X)-Cys(Mmt)-Gly-NH-IndoTag(13.8mg)。
HPLC纯度(220nm)：84％
MS(ESI，m/Z)：810.4(M+H)
根据本发明的肽的制造方法能够以高产率合成肽。并且，由于即使在弱酸条件下，也能够对侧链的保护基进行脱保护，因此尤其对酸不稳定的肽也能够以高纯度合成。

Claims (16)

1.一种肽的制造方法，其包括：
使侧链被下述式(1)所表示的第1保护基保护的第1氨基酸或肽与第2氨基酸或肽进行反应而获得第3氨基酸或肽的肽链延长工序；
及对第3氨基酸或肽的第1保护基进行脱保护的第1脱保护工序，
第1脱保护工序中使用三氟乙酸含量为10质量％以下的脱保护溶液进行脱保护，
[化学式1]
式中，R11为具有取代基的芳基，R21及R22分别独立地为氢原子或取代基，n为1～6的整数，星号表示连结部。
2.根据权利要求1所述的肽的制造方法，其中，
脱保护溶液的三氟乙酸含量为2质量％以下。
3.根据权利要求1或2所述的肽的制造方法，其还包括：
通过C末端保护剂来保护N末端被保护的氨基酸或肽的羧基或酰胺基的C末端保护工序；
对所述C末端保护工序中所获得的N末端被保护且C末端被保护的氨基酸或肽的N末端保护基进行脱保护的N末端脱保护工序；
使N末端被保护的氨基酸或肽缩合到所述N末端脱保护工序中所获得的C末端被保护的氨基酸或肽的N末端中的肽链延长工序；及
对C末端保护基进行脱保护的C末端脱保护工序，
C末端被保护的氨基酸或肽及N末端被保护的氨基酸或肽中的任一个是被所述第1保护基保护的第1氨基酸或肽。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的肽的制造方法，其中，
R11的芳基的取代基为给电子基团，存在多个时，可以相同，也可以不同。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的肽的制造方法，其中，
所述给电子基团为氨基、烷氧基烷基、烷氧基或烷基，这些可以进一步具有取代基。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的肽的制造方法，其中，
所述给电子基团为碳原子数1～10的烷氧基。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的肽的制造方法，其中，
所述芳基为苯基或萘基。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的肽的制造方法，其中，
所述第1保护基为精氨酸的胍基的保护基。
9.一种氨基酸或肽的制造方法，其包括：
使第1氨基酸或肽与下述式(2)所表示的保护基形成用试剂进行反应而获得侧链被第1保护基保护的第1保护氨基酸或肽的保护工序。
[化学式2]
式中，R11为具有取代基的芳基，R21及R22分别独立地为氢原子或取代基，n为1～6的整数。
10.一种含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其具有下述式(1)所表示的保护基，
[化学式3]
式中，R11为具有给电子基团的芳基，给电子基团为多个时它们可以相同也可以不同，R21和R22各自独立地为氢原子或取代基，n为1～6的整数，星号表示连接部。
11.根据权利要求10所述的含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其中，
所述给电子基团为氨基、烷氧基烷基、烷氧基或烷基，这些可以具有取代基。
12.根据权利要求11所述的含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其中，
给电子基团为碳原子数1～10的烷氧基。
13.根据权利要求10至12中任一项所述的含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其中，
芳基为苯基或萘基。
14.根据权利要求10至13中任一项所述的含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其中，
保护基为精氨酸的胍基的保护基。
15.根据权利要求10至14中任一项所述的含有精氨酸或精氨酸残基的化合物，其进一步具有9-芴基甲氧基羰基。
16.一种保护基形成用试剂，其由下述式(2)表示，
[化学式4]
式中，R11为可以具有取代基的芳基，R12为可以具有取代基的芳基、杂脂肪族环基或杂芳基，这些可以经由氧原子或硫原子而连结，R21及R22分别独立地为氢原子或取代基，n为1～6的整数。
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