CN116945012B - 抛光设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种抛光设备，包括机体、抛光组件及液体动压滑动轴承，机体包括机架和载物台；抛光组件用于对载物台上的待加工件抛光；液体动压滑动轴承的上推力盘设于载物台背向待加工件的一侧并与载物台固定连接，上推力盘背向载物台的一侧与一转动轴连接，上推力盘背向载物台的一侧形成有环绕转动轴的环形抵压面；下受压盘设于上推力盘背向载物台的一侧，并与机架固定连接，下受压盘设有供转动轴穿过的避让孔，下受压盘朝向上推力盘的一侧形成有环绕转动轴的储油槽，环形抵压面伸入储油槽并与储油槽内的受压面相抵接，储油槽的槽壁设有润滑剂供应孔，以供润滑剂流动至环形抵压面与受压面之间形成液膜。本发明技术方案能够提高载物台的承载能力。

Description

抛光设备

技术领域

本发明涉及抛光技术领域，特别涉及一种抛光设备。

背景技术

抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。

抛光设备通常包括用于供待加工件放置的载物台和用于对待加工件进行研磨的研磨盘，研磨过程中，通过转动轴带动载物台相对研磨盘转动，以使待加工件相对研磨盘转动，这样，当研磨盘与待加工件接触时，便可以对待加工件进行抛光。

市面上的抛光设备，通常采用滚动轴承在载物台的底部对载物台进行支撑，滚动轴承的内圈分别与载物台和转动轴固定连接，滚动轴承内圈通过滚珠与滚动轴承的外圈相连接，在内圈被转动轴带动而转动的过程中，滚珠的存在降低了内圈与外圈之间的摩擦力，且外圈通过滚珠对内圈、载物台进行支撑，由于滚珠与内圈或外圈接触时，是通过滚珠的弧形表面与内圈或外圈接触，这种弧形表面与平面接触的方式的接触面积有限，当载物台上放置了大尺寸的待加工件时，外圈并无法稳定对内圈、载物台进行支撑，这并不利于抛光工艺的顺利进行。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种抛光设备，旨在解决现有技术的抛光设备的承载能力较弱的技术问题。

为实现上述目的，本发明提出的抛光设备，包括机体、抛光组件以及液体动压滑动轴承；

机体包括机架和用于供待加工件放置的载物台；

抛光组件设于所述机架，所述抛光组件用于对所述载物台上的待加工件抛光；

液体动压滑动轴承包括上推力盘和下受压盘；

所述上推力盘设于所述载物台背向待加工件的一侧，并与所述载物台固定连接，所述上推力盘背向所述载物台的一侧与一转动轴连接，所述上推力盘背向所述载物台的一侧形成有环绕所述转动轴的环形抵压面；

所述下受压盘设于所述上推力盘背向所述载物台的一侧，并与所述机架固定连接，所述下受压盘设有供所述转动轴穿过的避让孔，所述下受压盘朝向所述上推力盘的一侧形成有环绕所述转动轴的储油槽，所述环形抵压面伸入所述储油槽并与所述储油槽内的受压面相抵接，所述储油槽的槽壁设有润滑剂供应孔，以供润滑剂流动至所述环形抵压面与所述受压面之间形成液膜。

在一种可能的实施方案中，所述储油槽的槽底壁凸设有受压壁，所述受压壁呈环绕所述转动轴的弧形状设置，且所述受压壁凸出所述储油槽槽底壁的高度低于所述储油槽周壁的高度设置，所述受压壁靠近所述上推力盘的侧面形成为所述受压面，所述环形抵压面与所述受压面抵接；其中，

所述受压面的周缘与所述储油槽的槽壁间隔设置，以供润滑剂在所述受压面的周侧流动。

在一种可能的实施方案中，所述受压壁的数量为至少两个，全部所述受压壁的受压面齐平设置，并分别与所述环形抵压面抵接；

全部所述受压壁在所述转动轴的周向上间隔设置，任意相邻的两个所述受压壁之间均形成有供润滑剂流动的流道。

在一种可能的实施方案中，所述流道呈直线状延伸，所述润滑剂供应孔设于所述储油槽的槽底壁，并位于一所述流道的延伸线上。

在一种可能的实施方案中，所述下受压盘包括下盘本体、第一环形壁和第二环形壁，所述下盘本体与所述机架固定连接并形成有所述避让孔，所述第一环形壁和所述第二环形壁均设于所述下盘本体朝向所述上推力盘的一侧，且分别环绕所述转动轴设置，所述第二环形壁的直径大于所述第一环形壁的直径，所述第一环形壁、所述第二环形壁和位于所述第一环形壁和所述第二环形壁之间的所述下盘本体共同限定出所述储油槽；其中，

所述第二环形壁凸出所述下盘本体的高度小于所述第一环形壁凸出所述下盘本体的高度设置。

在一种可能的实施方案中，所述下盘本体朝向所述上推力盘的一侧还凸设有第三环形壁，所述第三环形壁环绕所述转动轴设置，且所述第三环形壁的直径大于所述第二环形壁的直径，所述第三环形壁、所述第二环形壁和位于所述第三环形壁和所述第二环形壁之间的所述下盘本体共同限定有出油槽。

在一种可能的实施方案中，所述第二环形壁凸出所述下盘本体的高度小于所述第三环形壁凸出所述下盘本体的高度设置。

在一种可能的实施方案中，所述出油槽的槽壁设有出油孔。

在一种可能的实施方案中，第三环形壁远离下盘本体的表面与第一环形壁远离下盘本体的表面齐平。

在一种可能的实施方案中，所述上推力盘包括上盘本体，所述上盘本体分别与所述载物台和所述转动轴固定连接，所述上盘本体靠近所述下受压盘的一侧凸设有环绕所述转动轴的环形抵压壁，所述环形抵压壁靠近所述下受压盘的侧面形成为所述环形抵压面；其中，

所述环形抵压壁上连接所述环形抵压面和所述上盘本体的结构凹设有减重槽。

在一种可能的实施方案中，所述上盘本体的周缘设有围壁，所述围壁和所述上盘本体朝向所述载物台的一侧共同限定有排污槽，所述集污槽设有多根支撑筋，每一所述支撑筋均与所述载物台抵接以支撑所述载物台；

所述上盘本体贯穿设有排污口，所述转动轴安装于所述排污口，且所述转动轴设有与所述排污口连通的排污通道；其中，

所述上盘本体靠近所述载物台的一侧形成有倾斜面，所述倾斜面子所述上盘本体的周部向所述排污口倾斜，以将抛光过程中掉落至所述排污槽内的污物引导至所述排污口。

在一种可能的实施方案中，所述抛光组件包括研磨盘、升降驱动组件和转动驱动组件，所述研磨盘具有工作侧和安装侧，所述升降驱动组件通过连接件与所述研磨盘的安装侧传动连接，以带动所述研磨盘在所述安装侧和所述工作侧的连线方向上往复移动；

所述转动驱动组件通过所述连接件与所述研磨盘传动连接，以驱动所述研磨盘转动。

本发明技术方案的抛光设备，通过在载物台的底部设置液体动压滑动轴承对载物台进行支撑，在载物台随着上推力盘一起转动的过程中，上推力盘与下受压盘之间，是通过面(上推力盘的环形抵接面)与面(下受压盘的受压面)接触的方式对接，此方式能够保证上推力盘与下受压盘之间具有足够的接触面积，为下受压盘能够稳定承托起上推力盘、载物台打下了基础，即使载物台上放置大尺寸的待加工件，也不用担心载物台底部的轴承承载能力不强而影响了待加工件的放置和后续的抛光，此外，在环形抵接面相对受压面转动的过程中，润滑剂能够流动至环形抵接面与受压面之间形成液膜，液膜的存在有效地降低环形抵接面与受压面之间的摩擦和磨损，这保证了载物台可持续、稳定地进行转动，进而保证产品运行时对待加工件的抛光精度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本发明抛光设备一实施例的结构示意图；

图2为图1省略部分结构后的剖视图；

图3为图2中A处的局部放大图；

图4为图3省略一部分结构后的结构示意图；

图5为图3省略另一部分结构后的结构示意图；

图6为图1省略部分结构后的剖视图；

图7为图6中B处的局部放大图；

图8为图1中下受压盘的结构示意图；

图9为图8中C处的局部放大图；

图10为图1中上推力盘的结构示意图；

图11为图10另一视角的结构示意图。

附图标号说明：

1、机体；11、机架；111、滑座；112、机械臂；113、加工座；12、载物台；2、抛光组件；21、研磨盘；211、工作侧；212、安装侧；22、升降驱动组件；23、转动驱动组件；24、连接件；25、旋转驱动组件；3、液体动压滑动轴承；31、上推力盘；311、上盘本体；311a、排污口；311b、倾斜面；312、环形抵压壁；312a、环形抵压面；312b、连接臂；312c、抵压臂；313、围壁；314、支撑筋；315、减重槽；316、排污槽；32、下受压盘；321、避让孔；322、储油槽；322a、流道；323、润滑剂供应孔；324、出油槽；325、出油孔；326、受压壁；326a、受压面；327、下盘本体；328、第一环形壁；329、第二环形壁；320、第三环形壁；4、转动轴；41、排污通道；5、轴承座；6、滚动轴承。

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

需要说明，若本发明实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，在本发明中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中的“和/或”包括三个方案，以A和/或B为例，包括A技术方案、B技术方案，以及A和B同时满足的技术方案；另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时，应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。

本发明提出一种抛光设备。

在本发明实施例中，如图1至图11所示，该抛光设备包括机体1、抛光组件2以及液体动压滑动轴承3；

机体1包括机架11和用于供待加工件放置的载物台12；

抛光组件2设于机架11，抛光组件2用于对载物台12上的待加工件(等待被研磨抛光的部件)抛光；

液体动压滑动轴承3包括上推力盘31和下受压盘32，上推力盘31设于载物台12背向待加工件的一侧，并与载物台12固定连接，上推力盘31背向载物台12的一侧与一转动轴4连接，上推力盘31背向载物台12的一侧形成有环绕转动轴4的环形抵压面312a；下受压盘32设于上推力盘31背向载物台12的一侧，并与机架11固定连接，下受压盘32设有供转动轴4穿过的避让孔321，下受压盘32朝向上推力盘31的一侧形成有环绕转动轴4的储油槽322，环形抵压面312a伸入储油槽322并与储油槽322内的受压面326a相抵接，储油槽322的槽壁设有润滑剂供应孔323，以供润滑剂流动至环形抵压面312a与受压面326a之间形成液膜。

具体地，机架11作为用于承载各种部件的架体，其可以被放置在各种承载面(如地面等)上，本申请对该机架11的具体结构不做具体限定，其形状可以依据实际工况需求而做调整。

当机架11被正常放置在地面上时，载物台12、上推力盘31和下受压盘32会在机架11的高度方向上(即垂直于地面的方向)自上而下依次排布，当转动轴4在上推力盘31的底部带动上推力盘31转动时，上推力盘31能够带动载物台12和载物台12上的待加工件一起转动，在待加工件转动时，通过抛光组件2的抛光工具(如下文所提及的研磨盘21或者抛光用的刀具等等)对待加工的表面进行研磨，待加工件的表面便可以变得光亮、平整。

由于下受压盘32被固定在机架11上，其不会在上推力盘31转动时移动，也即是说，在转动轴4运行时，上推力盘31会在下受压盘32的顶部高速旋转，此时，环形抵压面312a会相对受压面326a转动，环形抵压面312a与受压面326a这两个摩擦面便具有足够的相对运动速度，在具有适当粘度的润滑剂流入到环形抵压面312a和受压面326a之间时，润滑剂能够形成液膜，液膜的存在，可以有效降低环形抵压面312a和受压面326a之间的摩擦和磨损。

可以理解的是，本发明技术方案的抛光设备，通过在载物台12的底部设置液体动压滑动轴承3对载物台12进行支撑，在载物台12随着上推力盘31一起转动的过程中，上推力盘31与下受压盘32之间，是通过面(上推力盘31的环形抵接面)与面(下受压盘32的受压面326a)接触的方式对接，此方式能够保证上推力盘31与下受压盘32之间具有足够的接触面积，为下受压盘32能够稳定承托起上推力盘31、载物台12打下了基础，即使载物台12上放置大尺寸的待加工件，也不用担心载物台12底部的轴承承载能力不强而影响了待加工件的放置和后续的抛光，此外，在环形抵接面相对受压面326a转动的过程中，润滑剂能够流动至环形抵接面与受压面326a之间形成液膜，液膜的存在有效地降低环形抵接面与受压面326a之间的摩擦和磨损，这保证了载物台12可持续、稳定地进行转动，进而保证产品运行时对待加工件的抛光精度。

具体地，在下受压盘32和转动轴4之间还设有轴承座5，轴承座5与下受压盘32固定连接，轴承座5的轴孔内设有滚动轴承6，滚动轴承6的外圈与轴承座5固定，滚动轴承6的内圈与转动轴4连接，滚动轴承6为转动轴4的旋转提供导向，限位等作用，并能够承受转动轴4的径向力。

请参阅图2、图4和图9，储油槽322的槽底壁凸设有受压壁326，受压壁326呈环绕转动轴4的弧形状设置，且受压壁326凸出储油槽322槽底壁的高度低于储油槽322周壁的高度设置，受压壁326靠近上推力盘31的侧面形成为受压面326a，环形抵压面312a与受压面326a抵接；其中，

受压面326a的周缘与储油槽322的槽壁间隔设置，以供润滑剂在受压面326a的周侧流动。

可以理解，由于受压面326a的周缘与储油槽322的槽壁间隔设置，使得受压面326a的周侧具有供流体流动的空间，进而使得润滑剂可以在受压面326a的周侧流动，在环形抵压面312a相对受压面326a转动时，润滑剂可以从受压面326a的四周流入到受压面326a和环形抵压面312a之间，也即是说，通过在受压面326a的周围预留供润滑剂流动的空间，能够提高润滑剂流动至受压面326a和环形抵压面312a之间的效率。

为提高上推力盘31与下受压盘32之间的接触面积，优选地，受压壁326的数量为至少两个(两个及两个以上)，全部受压壁326的受压面326a齐平设置，并分别与环形抵压面312a抵接；

全部受压壁326在转动轴4的周向上间隔设置，任意相邻的两个受压壁326之间均形成有供润滑剂流动的流道322a。

至少两个受压壁326之间形成有至少两个流道322a，每一流道322a均将受压壁326相对两侧的空间连通起来，润滑剂可以通过这些流道322a，快速地从受压壁326一侧的空间流动至受压壁326另一侧的空间。

请参阅图9，流道322a呈直线状延伸，润滑剂供应孔323设于储油槽322的槽底壁，并位于一流道322a的延伸线上。具体地，润滑剂供应孔323位于一流道322a的延伸线上是指：假设流道322a的延伸线所覆盖到的储油槽322槽底壁的区域为A区域，润滑剂供应孔323的设置位置刚好就在A区域。如此设置，能够降低润滑剂供应孔323到流道322a之间的直线距离，使得从润滑剂供应孔323流出的润滑剂能够快速地流到流道322a内，最后流动至受压壁326背向润滑孔一侧的空间，使得润滑剂可以快速地在受压面326a的周侧流动。

请参阅图3、图4、图7、图8和图9，下受压盘32包括下盘本体327、第一环形壁328和第二环形壁329，下盘本体327与机架11固定连接并形成有避让孔321，第一环形壁328和第二环形壁329均设于下盘本体327朝向上推力盘31的一侧，且分别环绕转动轴4设置，第二环形壁329的直径大于第一环形壁328的直径，第一环形壁328、第二环形壁329和位于第一环形壁328和第二环形壁329之间的下盘本体327共同限定出储油槽322；其中，

第二环形壁329凸出下盘本体327的高度小于第一环形壁328凸出下盘本体327的高度设置。

请参阅图2和图4进行理解，转动轴4位于第一环形壁328背向第二环形壁329的一侧，通过使第一环形壁328的高度比第二环形壁329的高度高，这样，即使储油槽322的润滑剂溢出，溢出的润滑剂也不会绕过第一环形壁328向转动轴4所在位置流动，溢出的润滑剂会绕过第二环形壁329，向第二环形壁329背向转动轴4的一侧流动，这有效地避免溢出的润滑剂与转动轴4接触，而干扰到转动轴4的正常转动。

基于上述实施例，为避免溢出的润滑剂从下盘本体327的周侧流出，而影响到产品所处位置周围的环境，在一些实施例中，下盘本体327朝向上推力盘31的一侧还凸设有第三环形壁320，第三环形壁320环绕转动轴4设置，且第三环形壁320的直径大于第二环形壁329的直径，第三环形壁320、第二环形壁329和位于第三环形壁320和第二环形壁329之间的下盘本体327共同限定有出油槽324。

出油槽324能够对储油槽322溢出的润滑剂暂时性地进行存储，防止溢出的润滑剂随意流动，用户可以人工地将出油槽324内的润滑剂抽出，回收利用，为提高回收出油槽324内的润滑剂的便利性，较佳地，出油槽324的槽壁设有出油孔325，具体实施时，可以通过导管安装在出油孔325处，以导出出油槽324内的润滑剂，简单便捷。

第二环形壁329凸出下盘本体327的高度小于第三环形壁320凸出下盘本体327的高度设置。如此设置，能够有效防止润滑剂从出油槽324溅射到第三环形壁320背向第二环形壁329的一侧，有效防止润滑剂流到液体动压滑动轴承3周围的环境。

在具体实施时，第三环形壁320和第一环形壁328的高度可以为同一高度，第三环形壁320远离下盘本体327的表面与第一环形壁328远离下盘本体327的表面齐平。如此设置，能够下受压盘32安装在机架11上时，通过判断第一环形壁328和第三环形壁320两者的端面是否位于同一水平面上，而判断下受压盘32是否安装好，在正常情况下，第一环形壁328的端面和第三环形壁320的端面应当处在同一水平面上，才能视为下受压盘32被准确安装。

请参阅图5、图7和图11，上推力盘31包括上盘本体311，上盘本体311分别与载物台12和转动轴4固定连接，上盘本体311靠近下受压盘32的一侧凸设有环绕转动轴4的环形抵压壁312，环形抵压壁312靠近下受压盘32的侧面形成为环形抵压面312a；其中，环形抵压壁312上连接环形抵压面312a和上盘本体311的结构凹设有减重槽315。

不难理解，环形抵压壁312上的部分结构镂空设计，能够有效减轻上推力盘31的整体重量，避免因上推力盘31的重量过高，转动轴4带动其转动的能耗提高。

具体地，环形抵压壁312包括连接臂312b和抵压臂312c，连接臂312b的一端与下盘本体327连接，连接臂312b的另一端与抵压臂312c连接，抵压臂312c成环形状设置，抵压臂312c背向连接臂312b的侧面形成为环形抵压面312a，抵压臂312c、连接臂312b和部分下盘本体327共同围合形成有上述减重槽315。

减重槽315成环形状设置，且环形状的减重槽315的数量有两个，两个减重槽315分别位于连接臂312b相对的两侧，如此，可以有效减轻上推力盘31整体的重量。

请参阅图2、图10和图11，上盘本体311的周缘设有围壁313，围壁313和上盘本体311朝向载物台12的一侧共同限定有排污槽316，集污槽设有多根支撑筋314，每一支撑筋314均与载物台12抵接以支撑载物台12；

上盘本体311贯穿设有排污口311a，转动轴4安装于排污口311a，且转动轴4设有与排污口311a连通的排污通道41；其中，

上盘本体311靠近载物台12的一侧形成有倾斜面311b，倾斜面311b子上盘本体311的周部向排污口311a倾斜，以将抛光过程中掉落至排污槽316内的污物引导至排污口311a。

具体而言，待加工件在载物台12上进行抛光的过程中，所掉落的碎屑和抛光过程中喷洒到待加工件上的液体或两者的混合物(为便于描述，下文将加工过程所产生的废弃物称为污物)都能够从支撑筋314之间的缝隙掉落到排污槽316中，当污物移动至排污槽316的槽底壁上时，污物会在自身重量的影响下，在倾斜面311b上移动，直至从排污口311a掉落到排污通道41中，随后被排污通道41排向回收污物的地方。

通过使上推力盘31形成与转动轴4的排污通道41连通的排污槽316，以对抛光过程所产生的污物进行收集，再通过使排污槽316的槽底表面倾斜设置，以便于掉落在靠近围壁313周围的污物能够在自身重力的影响下，在排污槽316的槽底壁上流动直至移动到排污口311a、排污通道41，这样，避免了污物残留在排污槽316中，影响产品的使用卫生性。

进一步地，上盘本体311靠近排污口311a处的厚度，小于上盘本体311靠近围壁313处的厚度设置。

具体实施时，上盘本体311的厚度可以从排污口311a到围壁313的方向逐渐增加，也可以是，上盘本体311上位于排污口311a到环形抵接壁的结构使用同一厚度，位于环形抵接壁到围壁313之间的结构，从环形抵接壁到围壁313的方向的厚度逐渐增加。由于实现“上盘本体311靠近排污口311a处的厚度，小于上盘本体311靠近围壁313处的厚度设置”的实施方式有很多种，在此不一一列举。

通过上述结构，能够增加上推力盘31的质量，增加上推力盘31的转动惯性，这意味着上推力盘31对外部扰动的响应变得更加迟缓，因此，质量增加可以提高液体动压轴承的稳定性。

此外，通过增加上推力盘31的质量，液体动压轴承的自然频率会降低，自然频率是指在没有外部激励下自发振动的频率，减少自然频率可以减少共振现象的发生概率，提高转动的稳定性。

最后应当说明的是，润滑架是在上推力盘31和下受压盘32之间形成，提供了支撑和附着力，增加上推力盘31的质量可以增加附着力的效果，进一步提高转动稳定性。

抛光组件2包括研磨盘21、升降驱动组件22和转动驱动组件23，研磨盘21具有工作侧211和安装侧212，升降驱动组件22通过连接件24与研磨盘21的安装侧212传动连接，以带动研磨盘21在安装侧212和工作侧211的连线方向上往复移动；

转动驱动组件23通过连接件24与研磨盘21传动连接，以驱动研磨盘21转动。

具体而言，安装侧212和工作侧211分别是研磨盘21厚度方向相对的两侧，升降驱动组件22用于带动研磨盘21在研磨盘21的厚度方向上移动，在抛光过程中，通过升降驱动组件22控制研磨盘21从安装侧212到工作侧211移动，可以使研磨盘21压紧待加工件，即提高对待加工件所施加的压力，通过控制研磨盘21从工作侧211到安装侧212移动，则可以使研磨盘21稍微远离待加工架，即降低对待加工件所施加的压力。

具体实施时，升降驱动组件22的动力源可以为气缸或液压缸。

目前，市面上单面研磨抛光设备的研磨盘21多是无动力的随动盘，在抛光过程中，只靠载物台12带动待加工件转动，而研磨盘21在载物台12的顶部不转动，这种加工方式虽然控制简单，但无法克服其工艺多样性的不足，无法主动编程自动控制研磨盘21等缺点。

本申请通过引入转动驱动组件23，其能够带动连接件24转动，进而带动研磨盘21转动，通过转动驱动组件23在抛光过程中控制研磨盘21转动，能够丰富对待加工件抛光的工艺多样性，便于实现更自动可控的数字加工。

具体实施时，转动驱动组件23包括电机及与该电机配合使用的减速机，减速机与连接件24之间可以适应性地设置传动部件(如齿轮、齿条、皮带、皮带轮等等)。

机架11包括滑座111、机械臂112和加工座113，滑座111设于载物台12的一侧，并沿载物台12的宽度方向延展，机械臂112可滑动地设于滑座111，并沿靠近载物台12方向延伸，滑座111上设有可驱动机械臂112往复滑动的驱动部件(可以为气缸、液压杆、电机等)，以调整机械臂112相对载物台12的位置，加工座113可转动地安装在机械臂112远离滑座111的一端，并位于载物台12的顶部，升降驱动组件22、转动驱动组件23和连接件24等部件均安装在加工座113上。

机械臂112设有旋转驱动组件25，旋转驱动组件25与加工座113传动连接，用于带动加工座113相对机械臂112转动，以使研磨盘21移动至设定位置，进而使研磨盘21与载物台12之间有足够的空间供待加工件移动。

由于转动驱动组件23具有一定的尺寸，为防止在加工座113相对机械臂112转动时，转动驱动组件23与机械臂112相碰撞，转动驱动组件23设置在升降驱动组件22背向机械臂112的一侧。

以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (7)

1.一种抛光设备，其特征在于，包括：

机体，包括机架和用于供待加工件放置的载物台；

抛光组件，设于所述机架，所述抛光组件用于对所述载物台上的待加工件抛光；以及

液体动压滑动轴承，包括上推力盘和下受压盘；

所述上推力盘设于所述载物台背向待加工件的一侧，并与所述载物台固定连接，所述上推力盘背向所述载物台的一侧与一转动轴连接，所述上推力盘背向所述载物台的一侧形成有环绕所述转动轴的环形抵压面；

所述下受压盘设于所述上推力盘背向所述载物台的一侧，并与所述机架固定连接，所述下受压盘设有供所述转动轴穿过的避让孔，所述下受压盘朝向所述上推力盘的一侧形成有环绕所述转动轴的储油槽，所述环形抵压面伸入所述储油槽并与所述储油槽内的受压面相抵接，所述储油槽的槽壁设有润滑剂供应孔，以供润滑剂流动至所述环形抵压面与所述受压面之间形成液膜；

所述下受压盘包括下盘本体、第一环形壁和第二环形壁，所述下盘本体与所述机架固定连接并形成有所述避让孔，所述第一环形壁和所述第二环形壁均设于所述下盘本体朝向所述上推力盘的一侧，且分别环绕所述转动轴设置，所述第二环形壁的直径大于所述第一环形壁的直径，所述第一环形壁、所述第二环形壁和位于所述第一环形壁和所述第二环形壁之间的所述下盘本体共同限定出所述储油槽；其中，

所述第二环形壁凸出所述下盘本体的高度小于所述第一环形壁凸出所述下盘本体的高度设置；

所述下盘本体朝向所述上推力盘的一侧还凸设有第三环形壁，所述第三环形壁环绕所述转动轴设置，且所述第三环形壁的直径大于所述第二环形壁的直径，所述第三环形壁、所述第二环形壁和位于所述第三环形壁和所述第二环形壁之间的所述下盘本体共同限定有出油槽；

所述第二环形壁凸出所述下盘本体的高度小于所述第三环形壁凸出所述下盘本体的高度设置；

所述出油槽的槽壁设有出油孔；

所述第三环形壁远离所述下盘本体的表面与所述第一环形壁远离所述下盘本体的表面齐平。

2.如权利要求1所述的抛光设备，其特征在于，所述储油槽的槽底壁凸设有受压壁，所述受压壁呈环绕所述转动轴的弧形状设置，且所述受压壁凸出所述储油槽槽底壁的高度低于所述储油槽周壁的高度设置，所述受压壁靠近所述上推力盘的侧面形成为所述受压面，所述环形抵压面与所述受压面抵接；其中，

所述受压面的周缘与所述储油槽的槽壁间隔设置，以供润滑剂在所述受压面的周侧流动。

3.如权利要求2所述的抛光设备，其特征在于，所述受压壁的数量为至少两个，全部所述受压壁的受压面齐平设置，并分别与所述环形抵压面抵接；

全部所述受压壁在所述转动轴的周向上间隔设置，任意相邻的两个所述受压壁之间均形成有供润滑剂流动的流道。

4.如权利要求3所述的抛光设备，其特征在于，所述流道呈直线状延伸，所述润滑剂供应孔设于所述储油槽的槽底壁，并位于一所述流道的延伸线上。

5.如权利要求1所述的抛光设备，其特征在于，所述上推力盘包括上盘本体，所述上盘本体分别与所述载物台和所述转动轴固定连接，所述上盘本体靠近所述下受压盘的一侧凸设有环绕所述转动轴的环形抵压壁，所述环形抵压壁靠近所述下受压盘的侧面形成为所述环形抵压面；其中，

所述环形抵压壁上连接所述环形抵压面和所述上盘本体的结构凹设有减重槽。

6.如权利要求5所述的抛光设备，其特征在于，所述上盘本体的周缘设有围壁，所述围壁和所述上盘本体朝向所述载物台的一侧共同限定有排污槽，所述排污槽设有多根支撑筋，每一所述支撑筋均与所述载物台抵接以支撑所述载物台；

所述上盘本体贯穿设有排污口，所述转动轴安装于所述排污口，且所述转动轴设有与所述排污口连通的排污通道；其中，

所述上盘本体靠近所述载物台的一侧形成有倾斜面，所述倾斜面自所述上盘本体的周部向所述排污口倾斜，以将抛光过程中掉落至所述排污槽内的污物引导至所述排污口。

7.如权利要求1所述的抛光设备，其特征在于，所述抛光组件包括研磨盘、升降驱动组件和转动驱动组件，所述研磨盘具有工作侧和安装侧，所述升降驱动组件通过连接件与所述研磨盘的安装侧传动连接，以带动所述研磨盘在所述安装侧和所述工作侧的连线方向上往复移动；

所述转动驱动组件通过所述连接件与所述研磨盘传动连接，以驱动所述研磨盘转动。