CN116892687A - 液体化学品供应装置及液体化学品供应系统 - Google Patents

液体化学品供应装置及液体化学品供应系统 Download PDF

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Abstract

本发明提供了用于向设置在不同高度处的多个基板处理装置供应液体化学品的液体化学品供应装置及液体化学品供应系统，液体化学品供应装置包括：泵，用于提供用于将液体化学品移动到基板处理装置的液压；多个液体化学品供应线，具有连接到泵的端部和分别连接到多个基板处理装置的另一端部，从而提供液体化学品通过其移动的通道；以及泵排放线，连接到泵以将液体化学品中的一些排出到外部，其中，在液体化学品供应线与泵排放线之间连接有流量校准线。

Description

液体化学品供应装置及液体化学品供应系统
相关申请的交叉引用
本申请要求于2022年4月1日向韩国知识产权局提交的第10-2022-0041060号韩国专利申请的权益，该韩国专利申请的公开通过引用以其整体并入本文中。
技术领域
本发明涉及半导体装置，并且更具体地，涉及用于执行涂覆工艺的液体化学品供应装置及液体化学品供应系统。
背景技术
各种基板处理装置用于执行各种工艺以制造半导体设备。在这些半导体工艺之中，光刻是在基板上形成特定光刻胶图案的工艺。光刻工艺可以主要包括涂覆工艺、热处理工艺、曝光工艺和显影工艺，并且使用多个装置来执行。光刻工艺决定半导体设备的集成度，并且因此被认为是决定半导体制造能力的标准。
目前，为了提高半导体设备的集成度和生产率，涂覆工艺、热处理工艺和显影工艺在单个光轨装置中结合和自动化。此外，曝光装置与光轨装置成直线设置，并且因此可以相继执行上述工艺，从而大大提高生产率。
正在开发其中诸如涂覆和显影的工艺在光轨装置中分成多个层执行的多层光轨系统。当用于执行涂覆工艺的腔室设置成多个层时，工艺环境可能沿垂直方向变化。例如，当从系统的下部分供应液体化学品时，由于因腔室的不同高度而引起的水头差，从泵施加的压力可能改变。因此，需要用于校准基于高度而改变的工艺环境的技术。
发明内容
本发明提供了能够向设置在不同高度处的基板处理装置供应等量的液体化学品的液体化学品供应装置及液体化学品供应系统。
本发明还提供了能够校准非常少量的液体化学品的流量的液体化学品供应装置及液体化学品供应系统。
然而，本发明的范围不限于此。
根据本发明的一方面，提供了用于向设置在不同高度处的多个基板处理装置供应液体化学品的液体化学品供应装置，液体化学品供应装置包括：泵，用于提供用于将液体化学品移动到基板处理装置的液压；多个液体化学品供应线，具有连接到泵的端部和分别连接到多个基板处理装置的另一端部，从而提供液体化学品通过其移动的通道；以及泵排放线，连接到泵以将液体化学品中的一些排出到外部，其中，在多个液体化学品供应线中的每个与泵排放线之间连接有流量校准线。
多个液体化学品供应线的另一端部可以位于不同的高度处。
流量校准线可以向泵排放线排出通过液体化学品供应线从泵供应的液体化学品中的一些。
通过与具有位于较高水平处的另一端部的第一液体化学品供应线连接的第一流量校准线排出到泵排放线的液体化学品的量可以大于通过与具有位于较低水平处的另一端部的第二液体化学品供应线连接的第二流量校准线排出到泵排放线的液体化学品的量。
在流量校准线中的至少一个上可以安装有用于控制向泵排放线排出的液体化学品的流量的止回阀。
止回阀的液体化学品通道可以具有至少比流量校准线的液体化学品通道的宽度更小的宽度。
在止回阀的液体化学品通道上可以设置有多个图案。
在止回阀的液体化学品通道上可以设置有多孔部分。
止回阀的液体化学品通道可以具有孔口形状。
液体化学品可以是液体光刻胶。
液体化学品供应装置还可以包括：控制器，用于测量通过液体化学品供应线移动的液体光刻胶的流量。
流量校准线可以将通过液体化学品供应线从泵供应的液体化学品中的一些排出到泵排放线，从而将供应到多个基板处理装置的液体光刻胶的量之间的差校准成在10％内。
供应到多个基板处理装置的液体光刻胶的量之间的差可以小于或等于0.1ml。
每单位工艺中从液体化学品供应线的另一端部供应到基板处理装置的液体光刻胶的量可以小于1ml(且大于0ml)。
基于具有位于最高水平处的另一端部的第一液体化学品供应线的流量，液体化学品中的一些可以通过与位于第一液体化学品供应线下方的第二液体化学品供应线连接的流量校准线排出到泵排放线。
在流量校准线和泵排放线中的至少一个上可以安装有反馈控制阀和流量计。
当由流量计测量的流量大于设定参考值时，控制器可以控制反馈控制阀将由流量计测量的流量减小成小于或等于设定参考值。
根据本发明的另一方面，提供了用于向设置在不同高度处的多个基板处理装置供应液体化学品的液体化学品供应系统，液体化学品供应系统包括液体化学品供应装置和液体化学品储存装置，其中，液体化学品供应装置包括：泵，用于提供用于将液体化学品从液体化学品储存装置移动到基板处理装置的液压；多个液体化学品供应线，具有连接到泵的端部和分别连接到多个基板处理装置的另一端部，从而提供液体化学品通过其移动的通道；以及泵排放线，连接到泵以将液体化学品中的一些排出到外部，以及其中，在多个液体化学品供应线中的每个与泵排放线之间连接有流量校准线。
液体化学品储存装置可以包括：液体储存瓶，用于储存液体化学品；以及液体捕集罐，插置于液体储存瓶与泵之间，以在向泵供应液体化学品之前保持液体化学品，泵可以提供用于将液体化学品从液体捕集罐移动到基板处理装置的液压，且泵排放线可以设置成排出液体化学品储存装置中的液体化学品中的一些。
根据本发明的另一方面，提供了用于向设置在不同高度处的多个基板处理装置供应液体光刻胶的液体化学品供应装置，液体化学品供应装置包括：泵，用于提供用于将液体光刻胶移动到基板处理装置的液压；多个液体化学品供应线，具有连接到泵的端部和分别连接到多个基板处理装置的另一端部，从而提供液体光刻胶通过其移动的通道；以及泵排放线，连接到泵以将液体光刻胶中的一些排出到外部，其中，多个液体化学品供应线的另一端部位于不同的高度处，其中，在多个液体化学品供应线中的每个与泵排放线之间连接有流量校准线，其中，在流量校准线中的至少一个上安装有用于控制向泵排放线排出的液体光刻胶的流量的止回阀，并且止回阀的液体化学品通道具有至少比流量校准线的液体化学品通道的宽度更小的宽度，以及其中，流量校准线将通过液体化学品供应线从泵供应的液体光刻胶中的一些排出到泵排放线，从而将供应到多个基板处理装置的液体光刻胶的量之间的差校准成在10％内。
附图说明
通过参考附图详细描述本发明的实施方式，本发明的以上和其他特征及优点将变得更加明显，在附图中：
图1是根据本发明的实施方式的基板处理系统的立体图；
图2是图1的基板处理系统的剖视图；
图3是图1的基板处理系统的平面图；
图4是根据比较例的液体化学品供应装置及液体化学品供应系统的示意图；
图5是根据本发明的实施方式的液体化学品供应装置及液体化学品供应系统的示意图；
图6是根据本发明的另一实施方式的液体化学品供应装置的示意图；
图7至图9是根据本发明的实施方式的止回阀的侧剖视图；以及
图10是根据本发明的另一实施方式的液体化学品供应装置的示意图。
具体实施方式
在下文中，将通过参考附图说明本发明的实施方式来详细描述本发明。
然而，本发明可以以许多不同的形式实施，并且不应被解释为限于本文中所阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式以使本公开将是透彻且完整的，并且将向本领域的普通技术人员充分传达本发明的构思。在附图中，为了清楚或说明的方便，夸大了层的厚度或尺寸。
本文中参考本发明的理想化实施方式(和中间结构)的示意图来描述了本发明的实施方式。因此，应预期由于例如制造技术和/或公差而导致的图示形状的变化。因此，本发明的实施方式不应被解释为限于本文中所示的区域的特定形状，而应包括例如由制造导致的形状的偏差。
图1是根据本发明的实施方式的基板处理系统100的立体图，图2是图1的基板处理系统100的剖视图，以及图3是图1的基板处理系统100的平面图。
参考图1至图3，基板处理系统100包括分度模块110、处理模块120和接口模块140。
在实施方式中，分度模块110、处理模块120和接口模块140可以依次布置成行。例如，分度模块110、处理模块120和接口模块140可以在x轴方向上布置成行，平面上的宽度方向可以是y轴方向，并且垂直于平面的方向可以是z轴方向。
具体地，分度模块110可以设置成从保持基板S的载体10传送基板S。例如，分度模块110中的基板S可以从载体10装载并传送到处理模块120，并且在被处理之后返回到载体10。
分度模块110可以包括装载端口112和分度框架114。装载端口112可以位于分度模块110的前端处，并且用作放置载体10以装载和/或卸载基板S的端口。可以适当地选择装载端口112，并且例如，多个装载端口112可以在y轴方向上布置。
在实施方式中，载体10可以使用封闭类型，例如前开式晶片传送盒(FOUP)。载体10可以保持多个基板S(例如，晶片)。载体10可由用户、机械手或传送系统(未示出，诸如工厂中的空中走行式搬运车、空中走行式输送机或自动引导车辆)放置在装载端口112上。
在分度框架114中可以设置有分度机械手1144。例如，分度机械手1144可以在安装于分度框架114中的导轨1142上移动。分度机械手1144可以被配置成向前、向后、旋转、向上和/或向下移动。
处理模块120可以设置成对基板S执行涂覆工艺和显影工艺。例如，处理模块120可以包括对基板S执行涂覆工艺的涂覆块120a和对基板S执行显影工艺的显影块120b。
涂覆块120a可以至少设置为一个层，并且在实施方式中，多个涂覆块120a可以设置为彼此堆叠的多个层。例如，涂覆块120a可以具有基本上相同的结构以执行基本上相同的工艺。显影块120b可以至少设置为一个层，并且在实施方式中，多个显影块120b可以设置为彼此堆叠的多个层。例如，显影块120b可以具有基本上相同的结构以执行基本上相同的工艺。
此外，涂覆块120a和显影块120b可以彼此堆叠。例如，显影块120b可以堆叠在涂覆块120a上。作为另一示例，涂覆块120a可以堆叠在显影块120b上，或者涂覆块120a和显影块120b可以彼此交替地堆叠。
在实施方式中，涂覆块120a和显影块120b中的每个可以包括前缓冲腔室122、液体处理腔室124、传送腔室125、热处理腔室126和/或后缓冲腔室128。热处理腔室126可以设置成对基板S执行热处理工艺。热处理工艺可以包括冷却工艺和加热工艺。涂覆块120a和显影块120b可以具有基本上相似的结构，或者根据其详细功能具有不同的结构。
涂覆块120a中的液体处理腔室124可以设置成通过将液体供应到基板S上来形成涂层。例如，涂层可以包括光刻胶层或抗反射层。显影块120b中的液体处理腔室124可以用于通过将显影剂供应到基板S上来蚀刻光刻胶层的部分从而形成光刻胶图案。
传送腔室125可以设置在热处理腔室126与液体处理腔室124之间，以在涂覆块120a和显影块120b中的热处理腔室126与液体处理腔室124之间传送基板S。例如，传送腔室125的长度方向可以与x轴方向平行。
传送机械手1254可以设置在传送腔室125中，以便能够在导轨1252上移动。传送机械手1254可以在前缓冲腔室122、液体处理腔室124、传送腔室125、热处理腔室126和/或后缓冲腔室128之间传送基板S。例如，传送机械手1254可以被配置成向前、向后、旋转、向上和/或向下移动。
在实施方式中，可以设置有多个液体处理腔室124。液体处理腔室124可以在处理模块120的长度方向(例如，x轴方向)上布置。液体处理腔室124中的至少一些可以执行不同的液体处理工艺。例如，在液体处理腔室124中的每个中可以安装有液体处理单元1242，并且液体处理单元1242包括用于支承和旋转基板S的基板支承件以及能够向基板S上喷射液体的液体喷射器。
在实施方式中，可以设置有多个热处理腔室126。热处理腔室126可以在处理模块120的长度方向(例如，x轴方向)上布置。热处理腔室126中的至少一些可以执行不同的热处理工艺。热处理腔室126中的至少一些可以包括外壳中的冷却单元1261和加热单元1264。此外，在热处理腔室126中的一些中可以安装有用于在冷却单元1261与加热单元1264之间传送基板S的传送板(未示出)。
前缓冲腔室122可以设置在涂覆块120a和显影块120b中的每个中，以容纳从分度模块110传送的基板S。例如，多个前缓冲腔室122可以在处理模块120中彼此堆叠。在每个前缓冲腔室122中可以包括有用于容纳或冷却从分度模块110传送的基板S的冷却器1222。此外，在前缓冲腔室122中可以设置有用于装载和/或卸载基板S的装载机械手1224。
在冷却器1222中可以设置有多个安置板或冷却板。例如，分度框架114的分度机械手1144可以从载体10装载基板S并将基板S放置在冷却器1222中。冷却器1222可以不仅冷却基板S而且暂时储存基板S，并且因此也被称为缓冲器。
后缓冲腔室128可以在处理模块120与接口模块140之间暂时储存基板S。例如，多个后缓冲腔室128可以在处理模块120中彼此堆叠。在每个后缓冲腔室128中可以设置有安置基板S的缓冲器1282和用于传送基板S的缓冲机械手1284。
接口模块140可以将处理模块120连接到外部的曝光装置500以提供用于在处理模块120与曝光装置500之间交换基板S的接口。例如，接口模块140可以包括附加腔室1484、接口缓冲器1485以及传送机械手1482和1483。
在实施方式中，附加腔室1484可以在涂覆块120a中所处理过的基板S被运送到曝光装置500之前执行特定的附加工艺，或者在曝光装置500中所处理过的基板S被运送到显影块120b之前执行特定的附加工艺。例如，附加工艺可以包括用于暴露基板S的边缘区域的边缘暴露工艺、用于清洁基板S的顶表面的顶表面清洁工艺或用于清洁基板S的底表面的底表面清洁工艺。此外，在接口模块140的顶部可以附加有用于形成向下气流的风机过滤单元(未示出)。
在以下描述中，液体处理腔室124将被描述为用于处理基板S的基板处理装置200(210、220和230)(参见图4和图5)的示例。例如，在基板处理装置200中可以对基板S执行光刻胶涂覆工艺。
图4是根据比较例的液体化学品供应装置300'和液体化学品供应系统的示意图。图5是根据本发明的实施方式的液体化学品供应装置300和液体化学品供应系统的示意图。在图4和图5中，相同的元件由相同的附图标记表示。
首先，参考图4，比较例的液体化学品供应系统包括液体化学品供应装置300'和液体化学品储存装置400。
液体化学品供应装置300'包括泵310、多个液体化学品供应线320和330以及泵排放线340。
泵310可以设置成将液体化学品PR(或液体50)从液体化学品储存装置400泵送到基板处理装置200(210、220和230)。泵310可以提供用于将液体化学品PR从液体化学品储存装置400移动到基板处理装置200的液压。例如，泵310可以通过液体化学品储存装置400的液体化学品输送线390接收液体化学品PR(或液体50)，并将液体化学品PR输送到多个液体化学品供应线320和330。液体化学品供应线320和330可以分别连接到基板处理装置210和230以将液体化学品PR供应到基板处理装置200。
多个基板处理装置200(210、220和230)可以沿垂直方向设置。从另一个角度来看，多个基板处理装置200(210、220和230)可以设置在不同的高度处。例如，基板处理装置210和230可以被供应相同的液体化学品PR，并且基板处理装置220可以被供应不同的液体化学品。因此，本文中假设液体化学品供应线320和330分别连接到除了基板处理装置220之外的基板处理装置210和230。
液体化学品供应线320和330可以具有连接到泵310的一端部以及分别连接到基板处理装置210和230的另一端部。因为设置了一个泵310，所以液体化学品供应线320和330的所述端部位于相同的高度处。因为基板处理装置210和230设置在不同的高度处，所以分别连接到基板处理装置210和230的液体化学品供应线320和330的另一端部位于不同的高度处。
泵排放线340的一端部可以连接到泵310，并且其另一端部可以延伸到外部。泵排放线340设置成排出(A1)空气或液体化学品PR(或液体50)。例如，泵排放线340可以连接到液体化学品储存装置400。当液体储存瓶410在液体50(或液体化学品PR)用完之后被更换时，或者当液体捕集罐420中的液体50(或液体化学品PR)有气泡时，可以首先通过泵排放线340排出一定量的液体50。然后，液体50(或液体化学品PR)可以从泵310移动到液体化学品供应线320和330。
液体化学品储存装置400包括液体储存瓶410和液体捕集罐420。液体捕集罐420通过液体化学品输送线390将液体化学品PR输送到液体化学品供应装置300'。
液体储存瓶410可以储存液体50(或液体化学品PR)，并且在使用后由新的瓶替换。可选地，气体注入线412可以连接到液体储存瓶410以挤压和排出液体50。
泵310可以设置成将液体50(或液体化学品PR)从液体储存瓶410泵送到基板处理装置200(210、220和230)。例如，液体捕集罐420的出口可以连接到用于将液体50泵送到基板处理装置200的泵310，并且液体捕集罐420的入口可以连接到储存液体50的液体储存瓶410。
液体捕集罐420可以插置于液体储存瓶410与泵310之间，以在将液体50供应到泵310之前保持从液体储存瓶410供应的液体50(或液体化学品PR)。例如，当液体50最初从液体储存瓶410被供应时或者当液体储存瓶410在液体50用完之后被更换时，液体捕集罐420可以抑制或消除气泡。因此，液体储存瓶410中的液体50可以用到底从而最小化残留量。
当泵310操作时，可以通过液体捕集罐420向液体储存瓶410提供吸力。因此，当液体50从液体捕集罐420泵出并输送到基板处理装置200时，对应于液体50的排出和液体捕集罐420的液位降低的量的液体50可以自然地从液体储存瓶410通过连接线414被提供到液体捕集罐420。
在实施方式中，当液体捕集罐420中的液位降低从而吸力减弱时，可以通过气体注入线412将惰性气体(例如，氮气)注入到液体储存瓶410中，以将液体50从液体储存瓶410供应到液体捕集罐420。
再次参考图4，液体化学品供应线320和330的一端部连接到泵310，并且因此位于相同的高度处。另一方面，液体化学品供应线320和330的另一端部连接到设置在不同高度处的基板处理装置210和230，并且因此其高度也可以不同。也就是说，因为基板处理装置210和230设置在不同的高度处，所以由泵310施加的压力可能由于水头差而改变。因此，通过连接到位于较高水平处的第一基板处理装置210的第一液体化学品供应线320供应的液体化学品PR1的量不同于通过连接到位于较低水平处的第二基板处理装置230的第二液体化学品供应线330供应的液体化学品PR2的量。
例如，在ArF-I系统中所供应的液体光刻胶的量约为几毫升，更具体地，小于1毫升，并且通过第一液体化学品供应线320和第二液体化学品供应线330供应的液体化学品PR1和PR2的量之间的、即使小的差也可能引起问题。由于供应到第一基板处理装置210和第二基板处理装置230的液体化学品PR1和PR2的流量之间的差，光刻胶可能以不同的厚度被涂覆或者聚集在基板S的部分上。
因此，本发明的液体化学品供应装置300和液体化学品供应系统的特征在于，校准了由于设置在不同高度处的基板处理装置210和230之间的水头差而导致的流量的差。以下关于图5的描述将仅聚焦于与图4的配置的区别，并且将不再重复描述相同的配置。
参考图5，根据本发明的实施方式的液体化学品供应系统包括液体化学品供应装置300和液体化学品储存装置400。
液体化学品供应装置300包括泵310、多个液体化学品供应线320和330以及泵排放线340。在液体化学品供应线320和330与泵排放线340之间可以连接有流量校准线350(351和355)。
因为液体化学品供应线320和330的另一端部位于不同的高度处并且泵排放线340从泵310延伸，所以用于将液体化学品供应线320和330连接到泵排放线340的流量校准线350(351和355)可以总体在垂直方向上延伸。然而，只要达到将不同高度处的液体化学品供应线320和330连接到泵排放线340的目的，流量校准线350(351和355)就不限于在垂直方向上延伸。
例如，第一流量校准线351连接在泵排放线340与连接到位于较高水平处的第一基板处理装置210的第一液体化学品供应线320之间，且第二流量校准线355连接在泵排放线340与连接到位于较低水平处的第二基板处理装置230的第二液体化学品供应线330之间。
流量校准线350(351和355)可以提供用于向泵排放线340排出从泵310通过液体化学品供应线320和330供应的液体化学品PR1和PR2中的一些的通道。液体化学品PR1和PR2的不同的流量可以通过将液体化学品PR1和PR2中的一些排出到泵排放线340来校准成基本上相同。例如，因为所施加的压力由于水头差而改变，所以通过连接到位于较高水平处的第一基板处理装置210的第一液体化学品供应线320移动的液体化学品PR1的量可以小于通过连接到位于较低水平处的第二基板处理装置230的第二液体化学品供应线330移动的液体化学品PR2的量。在这种情况下，液体化学品PR1和PR2的量可以通过经由第二流量校准线355向泵排放线340排出(A3)液体化学品PR2中的一些来校准成基本上相同。作为另一示例，液体化学品PR1和PR2的量可以通过与经由第二流量校准线355向泵排放线340排出(A3)的液体化学品的量相比增加经由第一流量校准线351向泵排放线340排出(A2)的液体化学品的量来校准成基本上相同。
通过泵排放线340从液体化学品储存装置400排出(A1)的液体化学品和通过第一流量校准线351和第二流量校准线355排出(A2和A3)的液体化学品中的至少一者可以向外部的收集装置(未示出)排出(A4)。收集装置可以设置为液体化学品再利用系统。
另一方面，控制器305可以连接到液体化学品供应线320和330。控制器305可以测量通过液体化学品供应线320和330移动的液体化学品PR1和PR2的流量，并且控制通过流量校准线350排出(A2和A3)的液体化学品的量。控制器305可以包括流量计并且设置成从流量计接收与流量相关的信号。
根据实施方式，在ArF-I系统中，液体化学品供应装置300设置成供应液体光刻胶。每单位工艺中供应到基板处理装置200的液体光刻胶PR1和PR2的量可以小于1ml(且大于0ml)。由于由基板处理装置210和230的不同高度引起的水头差而导致的液体光刻胶PR1和PR2的流量之间的差可以在0.1ml内。控制器305可以通过测量通过液体化学品供应线320和330移动的液体化学品PR1和PR2的流量并控制通过流量校准线350向泵排放线340排出(A2和A3)的液体化学品的量来将供应到基板处理装置210和230的液体光刻胶PR1和PR2的量之间的差校准成在10％内。
根据实施方式，基于具有位于最高水平处的另一端部的第一液体化学品供应线320的流量，控制器305可以通过与位于第一液体化学品供应线320下方的第二液体化学品供应线330连接的第二流量校准线355向泵排放线340排出(A3)液体化学品PR2中的一些。也就是说，可以将位于最高水平处的第一液体化学品供应线320的液体化学品PR1正常地供应到第一基板处理装置210，并且可以将位于第一液体化学品供应线320下方的第二液体化学品供应线330的液体化学品PR2中的一些排出(A3)，从而校准液体化学品PR1和PR2的量之间的差。
图6是根据本发明的另一实施方式的液体化学品供应装置300的示意图。
参考图6，在液体化学品供应装置300中，在流量校准线350(351和355)上可以安装有止回阀360：361和365。止回阀360：361和365可以安装在流量校准线350(351和355)中的一个或两个上。止回阀360可以设置成精确地控制向泵排放线340排出(A2和A3)的液体化学品的流量。
如上所述，每单位工艺中通过液体化学品供应线320和330供应的液体化学品PR1和PR2的量可以是1ml，并且由于水头差而导致的液体光刻胶PR1和PR2的流量之间的差可以在0.1ml内。因为液体光刻胶PR1和PR2的流量非常小，所以为了校准小的流量，流量校准线350(351和355)需要具有非常小的直径并且仅允许小于1ml的流量。在这点上，本发明的液体化学品供应装置300可以将止回阀360安装在流量校准线350上以精细地控制流量。
止回阀360可以具有为通过流量校准线350向泵排放线340移动(A2和A3)的液体化学品提供阻力的形状。例如，止回阀360的液体化学品通道可以具有比流量校准线350的液体化学品通道的宽度更小的宽度。本文中，当止回阀360的液体化学品通道具有更小的宽度时，其可以意指，基于与液体化学品所移动的方向垂直的截面，止回阀360的通道的宽度小于流量校准线350的通道的宽度。可替代地，其可以意指，基于与液体化学品所移动的方向垂直的截面，止回阀360的通道的截面面积之和小于流量校准线350的通道的截面面积之和。
图7至图9是根据本发明的实施方式的止回阀360a至360c的侧剖视图。
参考图7，在止回阀360a的液体化学品通道上可以设置有多个图案362。沿流量校准线351移动的液体化学品可以沿止回阀360a的图案362之间的孔移动(参见箭头方向)。图案362之间的孔的直径或宽度R1小于流量校准线351的液体化学品通道的宽度。因此，沿流量校准线351移动的液体化学品可以通过止回阀360a的图案362接收阻力，并且可以精细地控制向泵排放线340排出(A2)的液体化学品的量。例如，孔的直径R1可以是几微米到几百微米。由图案362形成的孔可以具有点、线、狭缝等规则的图案形状或者不规则的图案形状。
参考图8，在止回阀360b的液体化学品通道上可以设置有多孔部分363。多孔部分363可以是包括液体化学品可以通过其移动的微型通道或间隙的结构。例如，多孔部分363可以由诸如过滤器或海绵的多孔材料制成，并且液体化学品可以通过其移动的通道的直径R2可以是几微米到几百微米。作为另一示例，多孔部分363可以由液体化学品可以由于毛细作用而通过其移动的材料制成。作为另一示例，多孔部分363可以由具有多晶结构或非晶结构的材料制成，使得液体化学品可以通过晶粒之间的间隙移动。
参考图9，止回阀360c的液体化学品通道可以包括孔口形状364。从另一观点来看，止回阀360c可以包括具有从流量校准线351的液体化学品通道的宽度迅速减小的宽度R3的形状。例如，宽度R3可以小于1mm。
另一方面，除了图7至图9的实施方式之外，可以采用其中止回阀360的液体化学品通道具有比流量校准线350的液体化学品通道的宽度更小的宽度的任何结构，而不受限制。
图10是根据本发明的另一实施方式的液体化学品供应装置300的示意图。
参考图10，在液体化学品供应装置300中，在流量校准线350(351和355)以及泵排放线340中的至少一个上可以安装有反馈控制阀370：371、373和375以及流量计380。当在泵排放线340上没有设置用于控制流量的元件时，当排出液体化学品时，压力可能被施加到流量校准线350，并且因此可能影响排出(A2和A3)的量。因此，控制器305可以从流量计380接收与实时测量的流量相关的信号，并且当流量大于预设的参考值时，迅速操作反馈控制阀370：371、373和375。反馈控制阀370：371、373和375可以操作以打开或关闭它们所安装的线的通道，或者降低流量。当反馈控制阀370：371、373和375操作时，由流量计380测量的流量可以减小成小于或等于设定的参考值。也就是说，可以防止通过泵排放线340向外部排出(A4)的液体化学品的流量的迅速变化。
另一方面，反馈控制阀370：371、373和375以及流量计380可以与止回阀360一起安装，或者可选地安装。
因此，根据本发明，通过校准水头差，可以将等量的液体化学品PR1和PR2供应到设置在不同高度处的基板处理装置200：210和230，并且可以校准小于或等于1ml的非常少量的液体化学品的流量。
如上所述，根据本发明的实施方式，可以将等量的液体化学品供应到设置在不同高度处的基板处理装置。
此外，根据本发明的实施方式，可以校准非常少量的液体化学品的流量。
然而，本发明的范围不限于以上效果。
虽然已经参考本发明的实施方式具体示出和描述了本发明，但是本领域的普通技术人员将理解，在不脱离由所附权利要求限定的本发明的范围的情况下，可以在形式和细节上进行各种改变。

Claims (20)

1.一种用于向设置在不同高度处的多个基板处理装置供应液体化学品的液体化学品供应装置，所述液体化学品供应装置包括：
泵，用于提供用于将所述液体化学品移动到所述基板处理装置的液压；
多个液体化学品供应线，具有连接到所述泵的端部和分别连接到所述多个基板处理装置的另一端部，从而提供所述液体化学品通过其移动的通道；以及
泵排放线，连接到所述泵以将所述液体化学品中的一些排出到外部，
其中，在所述多个液体化学品供应线中的每个与所述泵排放线之间连接有流量校准线。
2.根据权利要求1所述的液体化学品供应装置，其中，所述多个液体化学品供应线的所述另一端部位于不同的高度处。
3.根据权利要求2所述的液体化学品供应装置，其中，所述流量校准线向所述泵排放线排出通过所述液体化学品供应线从所述泵供应的所述液体化学品中的一些。
4.根据权利要求3所述的液体化学品供应装置，其中，通过与具有位于较高水平处的另一端部的第一液体化学品供应线连接的第一流量校准线排出到所述泵排放线的所述液体化学品的量大于通过与具有位于较低水平处的另一端部的第二液体化学品供应线连接的第二流量校准线排出到所述泵排放线的所述液体化学品的量。
5.根据权利要求1所述的液体化学品供应装置，其中，在所述流量校准线中的至少一个上安装有用于控制向所述泵排放线排出的所述液体化学品的流量的止回阀。
6.根据权利要求5所述的液体化学品供应装置，其中，所述止回阀的液体化学品通道具有至少比所述流量校准线的液体化学品通道的宽度更小的宽度。
7.根据权利要求5所述的液体化学品供应装置，其中，在所述止回阀的所述液体化学品通道上设置有多个图案。
8.根据权利要求5所述的液体化学品供应装置，其中，在所述止回阀的所述液体化学品通道上设置有多孔部分。
9.根据权利要求5所述的液体化学品供应装置，其中，所述止回阀的所述液体化学品通道具有孔口形状。
10.根据权利要求1所述的液体化学品供应装置，其中，所述液体化学品是液体光刻胶。
11.根据权利要求10所述的液体化学品供应装置，还包括：控制器，用于测量通过所述液体化学品供应线移动的所述液体光刻胶的流量。
12.根据权利要求11所述的液体化学品供应装置，其中，所述流量校准线将通过所述液体化学品供应线从所述泵供应的所述液体化学品中的一些排出到所述泵排放线，从而将供应到所述多个基板处理装置的所述液体光刻胶的量之间的差校准成在10％内。
13.根据权利要求12所述的液体化学品供应装置，其中，供应到所述多个基板处理装置的所述液体光刻胶的量之间的差小于或等于0.1ml。
14.根据权利要求11所述的液体化学品供应装置，其中，每单位工艺中从所述液体化学品供应线的所述另一端部供应到所述基板处理装置的所述液体光刻胶的量小于1ml且大于0ml。
15.根据权利要求11所述的液体化学品供应装置，其中，基于具有位于最高水平处的另一端部的第一液体化学品供应线的流量，所述液体化学品中的一些通过与位于所述第一液体化学品供应线下方的第二液体化学品供应线连接的流量校准线排出到所述泵排放线。
16.根据权利要求11所述的液体化学品供应装置，其中，在所述流量校准线和所述泵排放线中的至少一个上安装有反馈控制阀和流量计。
17.根据权利要求16所述的液体化学品供应装置，其中，当由所述流量计测量的流量大于设定参考值时，所述控制器控制所述反馈控制阀将由所述流量计测量的所述流量减小成小于或等于所述设定参考值。
18.一种用于向设置在不同高度处的多个基板处理装置供应液体化学品的液体化学品供应系统，所述液体化学品供应系统包括液体化学品供应装置和液体化学品储存装置，
其中，所述液体化学品供应装置包括：
泵，用于提供用于将所述液体化学品从所述液体化学品储存装置移动到所述基板处理装置的液压；
多个液体化学品供应线，具有连接到所述泵的端部和分别连接到所述多个基板处理装置的另一端部，从而提供所述液体化学品通过其移动的通道；以及
泵排放线，连接到所述泵以将所述液体化学品中的一些排出到外部，以及
其中，在所述多个液体化学品供应线中的每个与所述泵排放线之间连接有流量校准线。
19.根据权利要求18所述的液体化学品供应系统，其中，所述液体化学品储存装置包括：
液体储存瓶，用于储存所述液体化学品；以及
液体捕集罐，插置于所述液体储存瓶与所述泵之间，以在向所述泵供应所述液体化学品之前保持所述液体化学品，
其中，所述泵提供用于将所述液体化学品从所述液体捕集罐移动到所述基板处理装置的液压，以及
其中，所述泵排放线设置成排出所述液体化学品储存装置中的所述液体化学品中的一些。
20.一种用于向设置在不同高度处的多个基板处理装置供应液体光刻胶的液体化学品供应装置，所述液体化学品供应装置包括：
泵，用于提供用于将所述液体光刻胶移动到所述基板处理装置的液压；
多个液体化学品供应线，具有连接到所述泵的端部和分别连接到多个所述基板处理装置的另一端部，从而提供所述液体光刻胶通过其移动的通道；以及
泵排放线，连接到所述泵以将所述液体光刻胶中的一些排出到外部，
其中，所述多个液体化学品供应线的所述另一端部位于不同的高度处，
其中，在所述多个液体化学品供应线中的每个与所述泵排放线之间连接有流量校准线，
其中，在所述流量校准线中的至少一个上安装有用于控制向所述泵排放线排出的所述液体光刻胶的流量的止回阀，并且所述止回阀的液体化学品通道具有至少比所述流量校准线的所述液体化学品通道的宽度更小的宽度，以及
其中，所述流量校准线将通过所述液体化学品供应线从所述泵供应的所述液体光刻胶中的一些排出到所述泵排放线，从而将供应到所述多个基板处理装置的所述液体光刻胶的量之间的差校准成在10％内。
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