KR20240009809A - 인터페이스 모듈 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

인터페이스 모듈 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 Download PDF

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KR20240009809A
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buffer
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강동훈
김광수
이영준
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명은, 기판에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행하는 처리 모듈과 기판에 대해 노광 공정을 수행하는 노광 설비 사이에 기판을 주고 받는 인터페이스 모듈을 제공한다. 일 예에서, 인터페이스 모듈은 처리 모듈에 인접하게 제공되는 버퍼 타워; 상기 노광 설비에 인접하게 제공되고, 상기 버퍼 타워와 상기 노광 설비 간의 기판을 반송하는 제1인터페이스 로봇; 상기 노광 설비로 반송되기 전에 기판의 후면을 세정 처리하는 후면 세정 유닛들을 갖는 제1타워부; 상기 노광 설비에서 노광 공정을 마친 기판의 상면을 세정 처리하는 상면 세정 유닛들을 갖는 제2타워부; 상기 버퍼 타워와 상기 제1타워부 사이에 위치되고, 상기 버퍼 타워와 상기 후면 세정 유닛 간의 기판을 반송하는 제2인터페이스 로봇; 및 상기 버퍼 타워와 상기 제2타워부 사이에 위치되고, 상기 버퍼 타워와 상기 상면 세정 유닛 간의 기판을 반송하는 제3인터페이스 로봇을 포함할 수 있다.

Description

인터페이스 모듈 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{interface module, apparatus for treating substrate comprising the same}
본 발명은 기판을 이송하는 인터페이스 모듈 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하기 위해서는 반도체 웨이퍼와 같은 기판 상에 다양한 패턴을 형성하여야 한다. 반도체 패턴 형성은 증착 공정(depositing process), 사진 공정(lithography process), 그리고 식각 공정(etching process) 등과 같은 다양한 공정을 연속적으로 수행함으로써 이루어진다.
이들 중 사진 공정은 기판 상에 포토레지스트와 같은 감광액을 도포하여 기판 상에 포토레지스트 층(photoresist layer)을 형성하는 도포 공정, 레티클(reticle)에 형성된 패턴을 기판 상의 포토레지스트 층에 전사하여 회로를 형성하는 노광 공정, 그리고 현상액을 기판 상의 포토레지스트 층에 공급하여 노광된 영역 또는 그 반대 영역을 선택적으로 제거하는 현상 공정을 포함한다.
한국공개특허 2016-0017699에는 상술한 도포 공정과 현상 공정을 수행하는 기판 처리 장치의 일 예가 개시되어 있다. 이에 의하면, 기판 처리 장치는 서로 적층된 도포 모듈 및 현상 모듈과, 노광 설비와의 인라인 연결을 위한 인터페이스 모듈을 갖는다.
그러나 상술한 구조의 기판 처리 장치는 반송 챔버의 길이 방향을 기준으로 양 측부 중 하나의 측부에는 베이크 챔버들이 제공되고, 다른 측부에는 도포 모듈이나 현상 모듈 내에 제공되는 액처리 챔버들이 배치된다. 설비의 시간당 생산량 증대를 위해서는 액처리 챔버 및 베이크 챔버들의 프로세스 시간을 단축하거나 이들 챔버의 수를 늘리는 것으로 대응할 수 있으나, 챔버의 수를 늘릴 경우 설비 점유 면적이 증가되는 문제점이 있다.
본 발명은 포토 리소그래피 공정의 효율을 향상시킬 수 있는 인터페이스 모듈 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명은 노광 공정의 전후에 수행되는 도포 공정 및 현상 공정을 수행하는 유닛들의 생산량을 증가시킬 수 있는 인터페이스 모듈 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명은 유지보수 작업이 용이한 인터페이스 모듈 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명은 공정을 수행하는 챔버들이 효율적으로 배치되도록 하는 레이아웃을 가진 인터페이스 모듈 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급된 과제로 제한되지 않는다. 언급되지 않은 다른 기술적 과제들은 이하의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 기판에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행하는 처리 모듈과 기판에 대해 노광 공정을 수행하는 노광 설비 사이에 기판을 주고 받는 인터페이스 모듈에 있어서: 상기 처리 모듈에 인접하게 제공되는 버퍼 타워; 상기 노광 설비에 인접하게 제공되고, 상기 버퍼 타워와 상기 노광 설비 간의 기판을 반송하는 제1인터페이스 로봇; 상기 노광 설비로 반송되기 전에 기판의 후면을 세정 처리하는 후면 세정 유닛들을 갖는 제1타워부; 상기 노광 설비에서 노광 공정을 마친 기판의 상면을 세정 처리하는 상면 세정 유닛들을 갖는 제2타워부; 상기 버퍼 타워와 상기 제1타워부 사이에 위치되고, 상기 버퍼 타워와 상기 후면 세정 유닛 간의 기판을 반송하는 제2인터페이스 로봇; 및 상기 버퍼 타워와 상기 제2타워부 사이에 위치되고, 상기 버퍼 타워와 상기 상면 세정 유닛 간의 기판을 반송하는 제3인터페이스 로봇을 포함하는 인터페이스 모듈이 제공될 수 있다.
또한, 상기 제2타워부는 기판 가장자리를 검사하는 검사 유닛을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1인터페이스 로봇과 상기 버퍼 타워는 작업자가 접근할 수 있는 통로 확보를 위해 슬라이드 이동될 수 있다.
또한, 상기 제1인터페이스 로봇은 유지보수 작업시 상기 제2타워부에 인접하도록 이동되고, 상기 버퍼 타워는 유지보수 작업시 상기 제1인터페이스 로봇의 이동전 위치로 이동될 수 있다.
또한, 상기 버터 타워의 이동을 위한 제1LM가이드와 상기 제1인터페이스 로봇의 이동을 위한 제2LM가이드는 서로 다른 높이에 제공될 수 있다.
또한, 상기 제2타워부는 유지보수 작업을 위해 작업자가 출입하는 출입문을 포함하며, 상기 후처리 유닛들은 상기 출입문보다 높은 위치에 배치될 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 기판을 수용하는 용기가 놓이는 로드포트 및 상기 로드 포트에 놓인 용기와 기판을 주고받는 인덱스 로봇이 제공된 프레임을 가지는 인덱스 모듈; 상기 인덱스 모듈과 인접하게 배치되고, 기판에 대해 도포 공정 및 현상공정을 포함하는 처리 공정을 수행하는 처리 모듈; 및 상기 처리 모듈과 기판에 대해 노광 공정을 수행하는 노광 설비 사이에 기판을 주고 받는 인터페이스 모듈을 포함하되; 상기 인터페이스 모듈은 상기 처리 모듈에 접근 가능하게 제공되는 버퍼 타워; 상기 버퍼 타워와 상기 노광 설비에 접근 가능하게 제공되는 제1인터페이스 로봇; 상기 노광 설비로 반송되기 전에 기판을 전처리하는 전처리 유닛들을 갖는 제1타워부; 상기 노광 설비에서 노광 공정을 마친 기판을 후처리하는 후처리 유닛들을 갖는 제2타원부; 상기 버퍼 타워와 상기 제1타워부에 접근 가능하게 제공되는 제2인터페이스 로봇; 및 상기 버퍼 타워와 상기 제2타워부에 접근 가능하게 제공되는 제3인터페이스 로봇을 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 전처리 유닛들은 기판의 후면을 세정 처리하는 후면 세정 유닛을 포함하고, 상기 후처리 유닛들은 기판의 상면을 세정 처리하는 상면 세정 유닛을 포함하며, 상기 제2타워부는 기판 가장자리를 검사하는 검사 유닛을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1인터페이스 로봇과 상기 버퍼 타워는 유지보수 작업을 위해 작업자가 접근할 수 있는 통로 확보를 위해 슬라이드 이동되도록 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1인터페이스 로봇은 유지보수 작업시 상기 제2타워부에 인접하도록 이동되고, 상기 버퍼 타워는 유지보수 작업시 상기 제1인터페이스 로봇의 이동전 위치로 이동될 수 있다.
또한, 상기 버터 타워의 이동을 위한 제1LM가이드와 상기 제1인터페이스 로봇의 이동을 위한 제2LM가이드는 서로 다른 높이에 제공될 수 있다.
또한, 상기 제2타워부는 유지보수 작업을 위해 작업자가 출입하는 출입문을 포함하며, 상기 후처리 유닛들은 상기 출입문보다 높은 위치에 배치될 수 있다.
또한, 상기 인터페이스 모듈과 상기 노광 설비 간의 차압을 가지며, 상기 인터페이스 모듈의 압력이 상기 노광 설비의 압력보다 낮을 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 기판에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행하는 처리 모듈과 기판에 대해 노광 공정을 수행하는 노광 설비 사이에 기판을 주고 받는 인터페이스 모듈에 있어서: 정면과 후면 그리고 양측면을 갖되, 상기 정면은 상기 처리 모듈과 접하고, 상기 후면은 상기 노광 설비와 접하도록 제공되는 프레임; 상기 제1측면에 인접하게 제공되는 버퍼 타워; 상기 제2측면에 인접하게 제공되고, 상기 버퍼 타워와 상기 노광 설비 간의 기판을 반송하는 제1인터페이스 로봇; 상기 양측면 중 어느 하나의 측면에 인접하게 제공되고, 상기 노광 설비로 반송되기 전에 기판의 후면을 세정 처리하는 후면 세정 유닛들을 갖는 제1타워부; 상기 양측면 중 다른 하나의 측면에 인접하게 제공되고, 상기 노광 설비에서 노광 공정을 마친 기판의 상면을 세정 처리하는 상면 세정 유닛들을 갖는 제2타원부; 상기 버퍼 타워와 상기 제1타워부 사이에 위치되고, 상기 버퍼 타워와 상기 후면 세정 유닛 간의 기판을 반송하는 제2인터페이스 로봇; 및 상기 버퍼 타워와 상기 제2타워부 사이에 위치되고, 상기 버퍼 타워와 상기 상면 세정 유닛 간의 기판을 반송하는 제3인터페이스 로봇을 포함하는 인터페이스 모듈이 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1인터페이스 로봇은 유지보수 작업시 제 1 LM가이드를 따라 상기 제2타워부에 인접한 위치로 이동되고, 상기 버퍼 타워는 유지보수 작업시 제 2 LM가이드를 따라 상기 제1인터페이스 로봇의 이동전 위치로 이동될 수 있다.
또한, 상기 제 1 LM가이드와 상기 제 2 LM가이드는 서로 다른 높이에 제공될 수 있다.
또한, 상기 제2타워부는 유지보수 작업을 위해 작업자가 출입하는 출입문을 포함하며, 상기 후처리 유닛들은 상기 출입문보다 높은 위치에 배치될 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면 포토 리소그래피 공정을 효율적으로 수행할 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 도포유닛 및 현상 유닛에서 생산량을 증가시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 유지보수 작업이 용이할 수 있다.
본 발명의 효과는 상술한 효과들로 제한되지 않는다. 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이다.
도 2는 도 1의 도포 블록 또는 현상 블록을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 3은 도 1의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 4는 반송 로봇의 핸드의 일 예를 보여주는 도면이다.
도 5는 도 3의 열 처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 6은 도 5의 열 처리 챔버의 정면도이다.
도 7은 회전하는 기판에 처리액을 공급하여 기판을 액 처리하는 액 처리 챔버의 일 실시예를 보여주는 단면도이다.
도 8은 도 7의 액 처리 챔버의 평면도이다.
도 9는 도 3의 반송 로봇의 일 예를 보여주는 사시도이다.
도 10은 도 3에 도시된 인터페이스 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 11a는 제1타워를 설명하기 위한 도면이고, 도 11b는 제2타워를 설명하기 위한 도면이다.
도 12a 및 도 12b는 인터페이스 모듈을 통한 유지보수 작업을 설명하기 위한 도면들이다.
도 13은 제1인터페이스 로봇의 이동을 위한 가이드부와 버퍼 타워의 가이드부를 설명하기 위한 도면이다.
도 14a 및 도 14b는 제1인터페이스 로봇의 이동을 보여주는 도면들이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.
어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다.
어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미이다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미인 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
본 실시예의 설비는 반도체 웨이퍼 또는 평판 표시 패널과 같은 기판에 대해 포토리소그래피 공정을 수행하는 데 사용되는 것으로 설명하고 있다.
이하에서는, 도 1 내지 도 14b를 참조하여 본 발명의 실시 예에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이고, 도 2는 도 1의 도포 블록 또는 현상 블록을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이고, 도 3은 도 1의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치(10)는 인덱스 모듈(100, index module), 처리 모듈(300, processing module), 그리고 인터페이스 모듈(500, interface module)을 포함한다.
일 실시예에 의하면, 인덱스 모듈(100), 처리 모듈(300), 그리고 인터페이스 모듈(500)은 순차적으로 일렬로 배치된다. 이하에서 인덱스 모듈(100), 처리 모듈(300), 그리고 인터페이스 모듈(500)이 배열된 방향을 제1 방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 제1 방향(12)과 수직한 방향을 제2 방향(14)이라 하고, 제1 방향(12) 및 제2 방향(14)에 모두 수직한 방향을 제3 방향(16)으로 정의한다.
인덱스 모듈(100)은 기판(W)이 수납된 용기(F)로부터 기판(W)을 처리 모듈(300)로 반송하고, 처리가 완료된 기판(W)을 용기(F)로 수납한다. 인덱스 모듈(100)의 길이 방향은 제2 방향(14)으로 제공된다. 인덱스 모듈(100)은 로드 포트(110)와 인덱스 프레임(130)을 가진다. 인덱스 프레임(130)을 기준으로 로드 포트(110)는 처리 모듈(300)의 반대 측에 위치된다. 기판(W)들이 수납된 용기(F)는 로드 포트(110)에 놓인다. 로드 포트(110)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드 포트(110)는 제2 방향(14)을 따라 배치될 수 있다.
용기(F)로는 전면 개방 일체 식 포드(Front Open Unified Pod:FOUP)와 같은 밀폐용 용기(F)가 사용될 수 있다. 용기(F)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)이나 작업자에 의해 로드 포트(110)에 놓일 수 있다.
인덱스 프레임(130)의 내부에는 인덱스 로봇(132)이 제공된다. 인덱스 프레임(130) 내에는 길이 방향이 제2 방향(14)으로 제공된 가이드 레일(136)이 제공되고, 인덱스 로봇(132)은 가이드 레일(136) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(132)은 기판(W)이 놓이는 핸드를 포함하며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다.
처리 모듈(300)은 기판(W)에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행할 수 있다. 처리 모듈(300)은 용기(F)에 수납된 기판(W)을 전달받아 기판 처리 공정을 수행할 수 있다. 처리 모듈(300)은 도포 블록(300a) 및 현상 블록(300b) 그리고 전방 버퍼 챔버(310)를 포함할 수 있다.
도포 블록(300a)은 기판(W)에 대해 도포 공정을 수행하고, 현상 블록(300b)은 기판(W)에 대해 현상 공정을 수행한다. 도포 블록(300a)은 복수 개가 제공되며, 이들은 서로 적층되게 제공된다. 현상 블록(300b)은 복수 개가 제공되며, 이들은 서로 적층되게 제공된다. 도 1의 실시 예에 의하면, 도포 블록(300a)과 현상 블록(300b)는 각각 2개씩 제공된다. 도포 블록(300a)들은 현상 블록(300b)들의 아래에 배치될 수 있다. 일 예에 의하면, 2개의 도포 블록(300a)들은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다. 또한, 2개의 현상 블록(300b)들은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다.
도 3을 참조하면, 도포 블록(300a)은 열 처리 챔버(320), 반송 챔버(350), 액 처리 챔버(360)를 가진다.
열 처리 챔버(320)는 기판(W)에 대해 열 처리 공정을 수행한다. 열 처리 공정은 냉각 공정 및 가열 공정을 포함할 수 있다. 액 처리 챔버(360)는 기판(W) 상에 액을 공급하여 액 막을 형성한다. 액 막은 포토레지스트막 또는 반사방지막일 수 있다. 반송 챔버(350)는 도포 블록(300a) 내에서 열 처리 챔버(320)와 액 처리 챔버(360) 간에 기판(W)을 반송한다.
반송 챔버(350)는 그 길이 방향이 제1 방향(12)과 평행하게 제공된다. 반송 챔버(350)에는 반송 로봇(900)이 제공된다. 반송 로봇(900)은 열 처리 챔버(320), 액 처리 챔버(360), 그리고 버퍼 챔버(312) 간에 기판을 반송한다. 일 예에 의하면, 반송 로봇(900)은 기판(W)이 놓이는 핸드를 가지며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 반송 챔버(350) 내에는 그 길이 방향이 제1 방향(12)과 평행하게 제공되는 가이드 레일(356)이 제공되고, 반송 로봇(900)은 가이드 레일(356) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다.
전방 버퍼챔버(310)는 버퍼 반송 유닛(2000)과 복수의 버퍼 모듈(312)들 그리고 어드히젼 베이킹 모듈(315)을 포함할 수 있다. 버퍼 반송 유닛(2000)의 일측에는 도포 공정 전에 소수화 가스로 기판 표면을 소수화처리하는 어드히젼 베이킹(Adhesion Baking) 모듈(315)이 위치될 수 있다. 여기서 소수화 가스는 헥사메칠디실란(hexamethyldisilazane, 이하 HMDS)일 수 있다. 버퍼 반송 유닛(2000)은 버퍼 모듈(312) 일측에 배치된다.
도 4는 반송 로봇의 핸드의 일 예를 보여주는 도면이다.
도 4를 참조하면, 핸드(910)는 핸드 본체(910a)와 지지 핑거(910b)들을 포함한다. 핸드 본체(910a)는 기판의 직경보다 큰 내경을 갖는 대략 말굽 형상으로 형성된다. 단, 핸드 본체(910a)의 형상은 이에 한정되지 않는다. 핸드 본체(910a)의 선단부를 포함한 4곳에는 지지 핑거(910b)들이 내측 방향으로 설치된다. 핸드 본체(910a)는 내부에 진공유로(미도시됨)가 형성된다. 진공유로(미도시됨)는 진공 라인을 통해 진공 펌프와 연결된다.
다시 도 1 내지 도 3을 참조하면, 열 처리 챔버(320)는 복수 개로 제공된다. 열 처리 챔버(320)들은 제1 방향(12)을 따라 배치된다. 열처리 챔버(320)들은 반송 챔버(350)의 일 측에 위치된다.
도 5는 도 3의 열 처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 6은 도 5의 열 처리 챔버의 정면도이다.
도 5와 도 6을 참조하면, 열 처리 챔버(320)는 하우징(321), 냉각 유닛(322), 가열 유닛(323), 그리고 반송 플레이트(324)를 가진다.
하우징(321)은 대체로 직육면체의 형상으로 제공된다. 하우징(321)의 측벽에는 기판(W)이 출입되는 반입구(미도시)가 형성된다. 반입구는 개방된 상태로 유지될 수 있다. 선택적으로 반입구를 개폐하도록 도어(도시되지 않음)가 제공될 수 있다. 냉각 유닛(322), 가열 유닛(323), 그리고 반송 플레이트(324)는 하우징(321) 내에 제공된다. 냉각 유닛(322) 및 가열 유닛(323)은 제2 방향(14)을 따라 배열된다. 일 예에 의하면, 냉각 유닛(322)은 가열 유닛(323)에 비해 반송 챔버(350)에 더 가깝게 위치될 수 있다.
냉각 유닛(322)은 냉각 판(322a)을 가진다. 냉각 판(322a)은 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가질 수 있다. 냉각 판(322a)에는 냉각 부재(322b)가 제공된다. 일 예에 의하면, 냉각 부재(322b)는 냉각 판(322a)의 내부에 형성되며, 냉각 유체가 흐르는 유로로 제공될 수 있다.
가열 유닛(323)은 가열 판(323a), 커버(323c), 그리고 히터(323b)를 가진다. 가열 판(323a)은 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가진다. 가열 판(323a)은 기판(W)보다 큰 직경을 가진다. 가열 판(323a)에는 히터(323b)가 설치된다. 히터(323b)는 전류가 인가되는 발열 저항체로 제공될 수 있다. 가열 판(323a)에는 제3 방향(16)을 따라 상하 방향으로 구동 가능한 리프트 핀(323e)들이 제공된다. 리프트 핀(323e)은 가열 유닛(323) 외부의 반송 수단으로부터 기판(W)을 인수받아 가열 판(323a) 상에 내려놓거나 가열 판(323a)으로부터 기판(W)을 들어올려 가열 유닛(323) 외부의 반송 수단으로 인계한다. 일 예에 의하면, 리프트 핀(323e)은 3개가 제공될 수 있다. 커버(323c)는 내부에 하부가 개방된 공간을 가진다.
커버(323c)는 가열 판(323a)의 상부에 위치되며 구동기(3236d)에 의해 상하 방향으로 이동된다. 커버(323c)가 이동되어 커버(323c)와 가열 판(323a)이 형성하는 공간은 기판(W)을 가열하는 가열 공간으로 제공된다.
반송 플레이트(324)는 대체로 원판 형상을 제공되고, 기판(W)과 대응되는 직경을 가진다. 반송 플레이트(324)의 가장자리에는 노치(324b)가 형성된다. 노치(324b)는 상술한 반송 로봇(352)의 핸드(354)에 형성된 돌기(3543)와 대응되는 형상을 가질 수 있다. 또한, 노치(324b)는 핸드(354)에 형성된 돌기(3543)와 대응되는 수로 제공되고, 돌기(3543)와 대응되는 위치에 형성된다. 핸드(354)와 반송 플레이트(324)가 상하 방향으로 정렬된 위치에서 핸드(354)와 반송 플레이트(324)의 상하 위치가 변경하면 핸드(354)와 반송 플레이트(324) 간에 기판(W)의 전달이 이루어진다. 반송 플레이트(324)는 가이드 레일(324d) 상에 장착되고, 구동기(324c)에 의해 가이드 레일(324d)을 따라 제1영역(3212)과 제2영역(3214) 간에 이동될 수 있다. 반송 플레이트(324)에는 슬릿 형상의 가이드 홈(324a)이 복수 개 제공된다. 가이드 홈(324a)은 반송 플레이트(324)의 끝 단에서 반송 플레이트(324)의 내부까지 연장된다. 가이드 홈(324a)은 그 길이 방향이 제2 방향(14)을 따라 제공되고, 가이드 홈(324a)들은 제1 방향(12)을 따라 서로 이격되게 위치된다. 가이드 홈(324a)은 반송 플레이트(324)와 가열 유닛(323) 간에 기판(W)의 인수인계가 이루어질 때 반송 플레이트(324)와 리프트 핀(323e)이 서로 간섭되는 것을 방지한다.
기판(W)의 냉각은 기판(W)이 놓인 반송 플레이트(324)가 냉각 판(322a)에 접촉된 상태에서 이루어진다. 냉각 판(322a)과 기판(W) 간에 열 전달이 잘 이루어지도록 반송 플레이트(324)는 열 전도성이 높은 재질로 제공된다. 일 예에 의하면, 반송 플레이트(324)는 금속 재질로 제공될 수 있다.
다시 도 1 내지 도 3을 참조하면, 액 처리 챔버(360)는 복수 개로 제공된다. 액 처리 챔버(360)들 중 일부는 서로 적층되도록 제공될 수 있다. 액 처리 챔버(360)들은 반송 챔버(350)의 일 측에 배치된다. 액 처리 챔버(360)들은 제1 방향(12)을 따라 나란히 배열된다. 액 처리 챔버(360)들 중 어느 일부는 인덱스 모듈(100)과 인접한 위치에 제공된다. 이하, 인덱스 모듈(100)에 인접하게 위치한 액 처리 챔버(360)를 전단 액 처리 챔버(362)(front liquid processing chamber)라 칭한다. 액 처리 챔버(360)들 중 다른 일부는 인터페이스 모듈(500)과 인접한 위치에 제공된다. 이하, 인터레이스 모듈(500)에 인접하게 위치한 액 처리 챔버(360)를 후단 액처리 챔버(364)(rear heat processing chamber)라 칭한다.
전단 액 처리 챔버(362)는 기판(W)상에 제1액을 도포하고, 후단 액 처리 챔버(364)는 기판(W) 상에 제2액을 도포한다. 제1액과 제2액은 서로 상이한 종류의 액일 수 있다. 일 실시 예에 의하면, 제1액은 반사 방지막이고, 제2액은 포토레지스트이다. 포토레지스트는 반사 방지막이 도포된 기판(W) 상에 도포될 수 있다. 선택적으로 제1액은 포토레지스트이고, 제2액은 반사 방지막일 수 있다. 이 경우, 반사 방지막은 포토레지스트가 도포된 기판(W) 상에 도포될 수 있다. 선택적으로 제1액과 제2액은 동일한 종류의 액이고, 이들은 모두 포토레지스트일 수 있다.
현상 블록(300b)은 도포 블록(300a)과 동일한 구조를 가지며, 현상 블록(300b)에 제공된 액 처리 챔버는 기판 상에 현상액을 공급한다.
도 10은 도 3에 도시된 인터페이스 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 10을 참조하면, 인터페이스 모듈(500)은 처리 모듈(300)을 외부의 노광 장치(700)와 연결한다. 인터페이스 모듈(500)은 인터페이스 프레임(502), 버퍼 타워(510), 제1타워(520), 제2타워(530), 제1인터페이스 로봇(540), 제2인터페이스 로봇(550) 그리고 제3인터페이스 로봇(560)을 포함할 수 있다.
인터페이스 프레임(502)의 상단에는 내부에 하강기류를 형성하는 팬필터유닛이 제공될 수 있다. 버퍼 타워(510), 제1타워(520), 제2타워(530), 제1인터페이스 로봇(540), 제2인터페이스 로봇(550) 그리고 제3인터페이스 로봇(560)은 인터페이스 프레임(502)의 내부에 배치된다.
인터페이스 프레임(502)은 정면(503)과 후면(504) 그리고 양측면(505,506)을 갖는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 인터페이스 프레임의 정면(503)은 처리 모듈(300)과 접하고, 후면(504)은 노광 장치(700)와 접하도록 제공될 수 있다.
버퍼 타워(510)는 제1측면(503)에 인접하게 배치될 수 있다. 버퍼 타워(510)는 도포 블록(300a), 제1타워(510), 제2타워(520), 노광 장치(700), 그리고 현상 블록(300b) 간에 반송되는 기판(W)이 반송도중에 일시적으로 머무르는 버퍼들을 제공한다. 버퍼는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 버퍼들은 서로 적층되게 제공될 수 있다.
제1타워(520)와 제2타워(530)는 버퍼 타워(510)를 기준으로 인터페이스 프레임(502)의 양측면(505,506)에 서로 대칭되도록 배치될 수 있다.
도 11a는 제1타워를 설명하기 위한 도면이고, 도 11b는 제2타워를 설명하기 위한 도면이다.
도 11a를 참조하며, 제1타워(520)는 도포 블록(300a)에서 공정이 완료된 기판(W)이 노광 장치(700)로 반입되기 전에 소정의 부가 공정을 수행할 수 있다. 선택적으로 부가 공정은 기판이 노광 장치로 반입되기 전에 기판 후면을 세정 처리하는 공정 및 도포 블록에서 공정이 완료된 기판의 가장자리를 검사하는 공정을 포함할 수 있다. 제1타워(520)는 기판 후면을 세정 처리하는 후면 세정 유닛(522)들과 기판의 가장자리를 검사하는 검사 유닛(524)들을 포함할 수 있다. 기존에는 검사 유닛이 처리 모듈에 적층 배치되어 있었으나, 본 발명에서는 검사 유닛을 인터페이스 모듈 내에 배치함으로써, 처리 모듈에 베이크 유닛의 추가 설치가 가능함으로써 최적의 유닛 배치가 가능하다.
도 11b를 참조하면, 제2타워(530)는 노광 장치(700)에서 공정이 완료된 기판(W)이 현상 블록(300b)으로 반입되기 전에 소정의 부가 공정을 수행할 수 있다. 일 예에 의하면, 부가 공정은 기판(W)의 상면을 세정하는 상면 세정 공정을 포함할 수 있다. 제2타워(530)에는 기판 상면을 세정 처리하는 상면 세정 유닛(532)들이 적층되도록 제공될 수 있다. 제2타워(530)는 유지보수 작업을 위해 작업자가 출입할 수 있는 출입문(534)을 포함한다. 상면 세정 유닛(532)들은 출입문(534)보다 높은 위치에 배치된다.
제2인터페이스 로봇(550)은 버퍼 타워(510)와 제1타워부(520) 사이에 위치된다. 제2인터페이스 로봇(550)은 버퍼 타워(510)와 후면 세정 유닛(검사 유닛)(522) 간의 기판을 반송한다.
제3인터페이스 로봇(560)은 버퍼 타워(510)와 제2타워부(530) 사이에 위치된다. 제3인터페이스 로봇(560)은 버퍼 타워(510)와 상면 세정 유닛(532) 간의 기판을 반송한다.
제1인터페이스 로봇(540)은 후면(504)에 인접하게 배치될 수 있다. 제1인터페이스 로봇(540)은 도포 블록(300a), 버퍼 타워(510) 그리고 노광 장치(700) 간에 기판(W)을 반송한다.
앞서 언급한 인터페이스 로봇(540,550,560)들은 각각 기판(W)이 놓이는 반송 핸드(미도시됨)를 포함하며, 반송 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)에 평행한 축을 기준으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있으며, 이러한 로봇의 상세한 설명은 생략하기로 한다.
인터페이스 모듈(500)의 내부 압력은 노광 장치(700)의 오염을 방지하기 위해 노광 장치 기준 차압(예를 들어 0.6Pa)보다 낮은 0.3~0.5Pa 수준으로 관리될 수 있다. 차압 관리는 파이클 및 노광 장치의 렌즈 오염에 영향을 주는 인자로 렌즈 오염으로 인한 교체 비용을 줄일 수 있다.
상술한 구성을 갖는 인터페이스 모듈에서의 기판 이동은 다음과 같다. 처리 모듈의 도포 블록(300a)에서 처리된 기판은 버퍼 타워(510) -> 검사 유닛(524) -> 후면 세정 유닛(522) -> 버퍼 타워(510) -> 노광 장치(700)로 반송된다. 노광 장치에서 노광 처리된 기판은 버퍼 타워(510) -> 상면 세정 유닛(532) -> 버퍼 타워(510) -> 처리 모듈의 현상 블록(300b)으로 반송된다.
이하에서는, 액 처리 챔버의 구조에 대해서 상세히 설명한다. 아래에서는 도포 블록에 제공된 액 처리 챔버를 예로 들어 설명한다. 또한, 액 처리 챔버는 기판(W) 상에 포토 레지스트를 도포하는 챔버인 경우를 예로 들어 설명한다. 그러나, 액 처리 챔버는 기판(W)에 보호막 또는 반사 방지막과 같은 막을 형성하는 챔버일 수 있다. 또한, 액 처리 챔버는 기판(W)에 현상액을 공급하여 기판(W)을 현상 처리하는 챔버일 수 있다.
도 7은 회전하는 기판(W)에 처리액을 공급하여 기판(W)을 액 처리하는 액 처리 챔버의 일 실시예를 보여주는 단면도이고, 도 8은 도 7의 액 처리 챔버의 평면도이다.
도 7과 도 8을 참조하면, 액 처리 챔버(1000)는 하우징(1100), 제1 처리 유닛(1201a), 제2 처리 유닛(1201b), 액 공급 유닛(1400), 배기 유닛(1600), 그리고 제어기(1800)를 포함한다.
하우징(1100)은 내부 공간을 가지는 직사각의 통 형상으로 제공된다. 하우징(1100)의 일측에는 개구(1101a, 1101b)가 형성된다. 개구(1101a, 1101b)는 기판(W)이 반출입되는 통로로 기능한다. 개구(1101a, 1101b)에는 도어(1103a, 1103b)가 설치되며, 도어(1103a, 1103b)는 개구(1101a, 1101b)를 개폐한다.
하우징(1100)의 상벽에는 그 내부 공간으로 하강기류를 공급하는 팬필터 유닛(1130)이 배치된다. 팬필터 유닛(1130)은 외부의 공기를 내부 공간으로 도입하는 팬과 외부의 공기를 여과하는 필터를 가진다.
하우징(1100)의 내부 공간에는 제1 처리 유닛(1201a)과 제2 처리 유닛(1201b)이 제공된다. 제1 처리 유닛(1201a)과 제2 처리 유닛(1201b)은 일 방향을 따라 배열된다. 이하, 제1 처리 유닛(1201a)과 제2 처리 유닛(1201b)이 배열된 방향을 유닛 배열 방향이라 하며, 도 11에서 X축 방향으로 도시한다.
제1 처리 유닛(1201a)은 제1 처리 용기(1220a)와 제1 지지 유닛(1240a)을 가진다.
제1 처리 용기(1220a)는 제1 내부 공간(1222a)을 가진다. 제1 내부 공간(1222a)은 상부가 개방되도록 제공된다.
제1 지지 유닛(1240a)은 제1 처리 용기(1220a)의 제1 내부 공간(1222a)에서 기판(W)을 지지한다. 제1 지지 유닛(1240a)은 제1 지지판(1242a), 제1 구동축(1244a), 그리고 제1 구동기(1246a)를 가진다. 제1 지지판(1242a)은 그 상부면이 원형으로 제공된다. 제1 지지판(1242a)은 기판(W)보다 작은 직경을 가진다. 제1 지지판(1242a)은 진공압에 의해 기판(W)을 지지하도록 제공된다. 선택적으로 제1 지지판(1242a)은 기판(W)을 지지하는 기계적 클램핑 구조를 가질 수 있다. 제1 지지판(1242a)의 저면 중앙에는 제1 구동축(1244a)이 결합되고, 제1 구동축(1244a)에는 제1 구동축(1244a)에 회전력을 제공하는 제1 구동기(1246a)가 제공된다. 제1 구동기(1246a)는 모터일 수 있다.
제2 처리 유닛(1201b)은 제2 처리 용기(1220b)와 제2 지지 유닛(1240b)을 가지고, 제2 지지 유닛(1240b)은 제2 지지판(1242b), 제2 구동축(1244b), 그리고 제2 구동기(1246b)를 가진다. 제2 처리 용기(1220b) 및 제2 지지 유닛(1240b)은 제1 처리 용기(1220a) 및 제1 지지 유닛(1240a)과 대체로 동일한 구조를 가진다.
액 공급 유닛(1400)은 기판(W) 상에 액을 공급한다. 액 공급 유닛(1400)은 제1 노즐(1420a), 제2 노즐(1420b), 그리고 처리액 노즐(1440)을 포함한다. 제1 노즐(1420a)은 제1 지지 유닛(1240a)에 제공된 기판(W)에 액을 공급하고, 제2 노즐(1420b)은 제2 지지 유닛(1240b)에 제공된 기판(W)에 액을 공급한다. 제1 노즐(1420a)과 제2 노즐(1420b)은 동일한 종류의 액을 공급하도록 제공될 수 있다. 일 예에 의하면, 제1 노즐(1420a)과 제2 노즐(1420b)은 기판(W)을 세정하는 린스액을 공급할 수 있다. 예컨대, 린스액은 물(water)일 수 있다. 다른 예에 의하면, 제1 노즐(1420a)과 제2 노즐(1420b)은 기판(W)의 에지 영역에서 포토레지스트를 제거하는 제거액을 공급할 수 있다. 예컨대, 제거액은 시너(thinner)일 수 있다. 제1 노즐(1420a)과 제2 노즐(1420b)은 각각 그 회전축을 중심으로 공정 위치와 대기 위치 간에 회전될 수 있다. 공정 위치는 기판(W) 상에 액을 토출하는 위치이고, 대기 위치는 기판(W) 상에 액의 토출 없이 제1 노즐(1420a) 및 제2 노즐(1420b)이 각각 대기하는 위치이다.
처리액 노즐(1440)은 제1 지지 유닛(1240a)에 제공된 기판(W) 및 제2 지지 유닛(1240b)에 제공된 기판(W)에 처리액을 공급한다. 처리액은 포토 레지스트일 수 있다. 처리액 노즐(1440)이 가이드(1442)를 따라서 제1공정 위치, 대기 위치, 그리고 제2공정 위치 간에 이동되도록 노즐 구동기(1448)은 처리액 노즐(1440)을 구동한다. 제1공정 위치는 제1 지지 유닛(1240a)에 지지된 기판(W)으로 처리액을 공급하는 위치이고, 제2공정 위치는 제2 지지 유닛(1240b)에 지지된 기판(W)으로 처리액을 공급하는 위치이다. 대기 위치는 처리액 노즐(1440)로부터 포토레지스트의 토출이 이루어지지 않을 때 제1 처리 유닛(1201a)과 제2 처리 유닛(1201b) 사이에 위치된 대기 포트(1444)에서 대기하는 위치이다.
제1 처리 용기(1220a)의 내부 공간(1201a)에는 기액 분리판(1229a)이 제공될 수 있다. 기액 분리판(1229a)는 제1 처리 용기(1220a)의 바닥벽으로부터 상부로 연장되게 제공될 수 있다. 기액 분리판(1229a)은 링 형상으로 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 기액 분리판(1229a)의 외측은 액 배출을 위한 배출 공간으로 제공되고, 기액 분리판(1229a)의 내측은 분위기 배기를 위한 배기 공간으로 제공될 수 있다. 제1 처리 용기(1220a)의 바닥벽에는 처리액을 배출하는 배출관(1228a)이 연결된다. 배출관(1228a)은 제1 처리 용기(1220a)의 측벽과 기액 분리판(1229a) 사이로 유입된 처리액을 제1 처리 용기(1220a)의 외부로 배출한다. 제1 처리 용기(1220a)의 측벽과 기액 분리판(1229a) 사이의 공간으로 흐르는 기류는 기액 분리판(1229a)의 내측으로 유입된다. 이 과정에서 기류 내에 함유된 처리액은 배출 공간에서 배출관(1228a)을 통해 제1 처리 용기(1220a)의 외부로 배출되고, 기류는 제1 처리 용기(1220a)의 배기 공간으로 유입된다.
도시하지 않았으나, 제1 지지판(1242a)과 제1 처리 용기(1220a)의 상대 높이를 조절하는 승강 구동기가 제공될 수 있다.
도 9는 도 3의 반송 로봇의 일 예를 보여주는 사시도이다.
이하, 도 9의 로봇(900)은, 도 3의 반송 로봇인 것으로 설명한다. 그러나 이와 달리, 반송 로봇은 인덱스 로봇일 수 있고, 선택적으로 기판 처리 장치(1) 내에 제공되는 다른 로봇일 수 있다.
도 9를 참조하면, 반송 로봇(900)은 로봇 본체(902), 수평 구동부(930), 수직 구동부(940)를 포함할 수 있다.
로봇 본체(902)는 기판을 지지하여 진퇴(X 방향) 동작과 회전 동작(θ방향)이 가능한 핸드(910)와 핸드(910)를 지지하는 베이스를 포함하는 핸드 구동부(920)를 포함할 수 있다.
핸드 구동부(920)는 핸드(910)를 각각 수평 이동시키며, 핸드(910)는 핸드 구동부(920)에 의해 개별 구동된다. 핸드 구동부(920)에는 내부의 구동부(미도시됨)와 연결된 연결암(912)을 포함하며, 연결암(912)의 단부에는 핸드(910)가 설치된다. 본 실시예에 있어서, 반송 로봇(900)은 2개의 핸드(910)를 구비하나, 핸드(910)의 개수는 기판 처리 시스템(1000)의 공정 효율에 따라 증가할 수도 있다. 핸드 구동부(920)의 아래에는 회전부(미도시됨)가 설치된다. 회전부는 핸드 구동부(920)와 결합하고, 회전하여 핸드 구동부(920)를 회전시킨다. 이에 따라, 핸드(910)들이 함께 회전한다.
수평 구동부(930)와 수직 구동부(940)는 하나의 몸체 프레임(990)에 장착된다.
몸체 프레임(990)은 수개의 프레임이 서로 결합된 형태로 제공될 수 있다. 몸체 프레임(990)은 로봇 본체를 Y 방향으로 안내하는 상부 수평 구동부(930a)와 하부 수평 구동부(930b), 상하부 수평 구동부(930a,930b) 사이에 수직 방향으로 세워진 수직 보조 프레임(992), 하부 수평 구동부(930b)와는 평행하게 연장되어 몸체 프레임(990) 형태를 만드는 수평 보조 프레임(993), 상하부 수평 구동부(930a,930b)와 수평 보조 프레임(993)의 끝단을 서로 결합되도록 하여 몸체 프레임(990)의 측부 형태를 만드는 결합 보조 프레임(994)으로 구성될 수 있다.
이와 같이, 몸체 프레임(990)은 다수개의 보조 프레임(992,993,994)에 의해 결합되어 있으므로 그 강성이 강화되고, 이에 따라 장시간 사용시에도 그 형태를 온전히 유지할 수 있는 등 내구성이 강화된다.
수평 구동부(930a,930b)는 상술한 바와 같이 로봇 본체(902)를 Y 방향으로 이동시키기 위한 주행 가이드로서, 수직 구동부(940)의 양 선단부와 결합된다. 수평 구동부(930a,930b) 중에서 특히 하부 수평 구동부(930b)의 내면에는 이송 벨트를 포함하는 수평 방향 구동부(미도시됨)가 내장된다. 따라서, 이송 벨트의 구동에 의해 로봇 본체(902)는 수평 구동부(930a,930b)를 따라 수평 이동된다.
수직 구동부(940)는 로봇 본체(902)를 Z 방향으로 이동시키기 위한 일종의 주행 구동부로서, 상하부 수평 구동부(930b,930a)와 결합된다. 따라서, 로봇 본체(902)는 수평 구동부(930b,930a)에 의해 안내되어 Y 방향으로 이동되는 동시에 수직 구동부(940)에 의해 안내되어 Z 방향으로도 이동될 수 있다. 즉, 로봇 본체(902)는 Y 방향과 Z 방향의 합에 상당하는 사선 방향으로 이동될 수 있는 것이다.
한편, 수직 구동부(940)는 서로 이격된 복수개, 예를 들어, 두개의 수직한 프레임으로 구성되는 바, 두개의 프레임 사이의 이격된 공간으로 로봇 본체(902)는 자유로이 드나들 수 있다.
도 12a 및 도 12b는 인터페이스 모듈을 통한 유지보수 작업을 설명하기 위한 도면들이고, 도 13은 제1인터페이스 로봇의 이동을 위한 가이드부와 버퍼 타워의 가이드부를 설명하기 위한 도면이고, 도 14a 및 도 14b는 제1인터페이스 로봇의 이동을 보여주는 도면들이다.
도 12a 내지 도 14b를 참조하면, 인터페이스 모듈(500)은 제1인터페이스 로봇(540)과 버퍼 타워(510)가 슬라이드 이동이 가능하도록 제공될 수 있다. 제1인터페이스 로봇(540)과 버퍼 타워(510)의 이동은 유지보수 작업 전에 이루어질 수 있다. 제1인터페이스 로봇(540)과 버퍼 타워(510)가 기설정된 위치로 이동되면 인터페이스 모듈(500) 내부에 작업자가 진입할 수 있는 통로(공간)가 확보될 수 있다.
일 예에 의하면, 버퍼 타워(510)는 제1가이드부(570)에 의해 이동될 수 있다. 제1가이드부(570)는 버퍼 타워(510)를 지지하는 제1이동판(576), 제1이동판(576) 저면에 설치되는 제1LM블럭(574)들, 그리고 제1LM블럭(574)이 타고 이동하기 위해 바닥에 설치되는 제1LM가이드 레일(572)을 포함할 수 있다.
일 예에 의하면, 제1인터페이스 로봇(540)은 제2가이드부(580)에 의해 이동될 수 있다. 제2가이드부(580)는 제1인터페이스 로봇(540)을 지지하는 제2이동판(586), 제2이동판(586) 저면에 설치되는 제2LM가이드 레일(582), 제2LM가이드 레일(582)이 이동하기 위해 바닥에 설치되는 제2LM블럭(584)들을 포함할 수 있다. 제2LM가이드 레일(582)은 제1LM블럭(574)보다 높은 위치에서 이동된다.
상기와 같이, 제1가이드 레일(572)과 제2가이드 레일(582)이 서로 다른 높이에 제공됨으로써, 버퍼 타워(510)가 후면과 가까운 위치로 이동시 제2가이드부(580)와의 충돌이 방지될 수 있다.
본 발명에서 작업자는 인터페이스 모듈(500)을 통해 노광 장치(700)와 처리 모듈(300)로 접근이 용이하다. 도 12a에서와 같이 제1인터페이스 로봇(540)이 제2타워(530) 측으로 이동되면, 작업자는 출입문(534)을 통해 인터페이스 모듈(500) 내부로 진입하여 노광 장치 및 제1타워(520)로 접근이 가능한 통로(화살표로 표시됨)가 마련될 수 있다.
도 12b에서와 같이 제1인터페이스 로봇(540)이 제2타워(530) 측으로 이동된 상태에서 버퍼 타워(510)를 노광 장치(700) 측으로 이동되면, 작업자는 출입문(534)을 통해 인터페이스 모듈(500) 내부로 진입하여 처리 모듈(300)로 접근이 가능한 통로(화살표로 표시됨)가 마련될 수 있다.
이상의 실시 예들은 본 발명의 이해를 돕기 위하여 제시된 것으로, 본 발명의 범위를 제한하지 않으며, 이로부터 다양한 변형 가능한 실시 예들도 본 발명의 범위에 속하는 것임을 이해하여야 한다. 본 발명의 기술적 보호범위는 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이며, 본 발명의 기술적 보호범위는 특허청구범위의 문언적 기재 그 자체로 한정되는 것이 아니라 실질적으로는 기술적 가치가 균등한 범주의 발명에 대하여까지 미치는 것임을 이해하여야 한다.
100 : 인덱스 모듈 300 : 처리 모듈
500 : 인터페이스 모듈 900 : 반송 로봇
510 : 버퍼 타워 520 : 제1타워
530 : 제2타워 540 : 제1인터페이스 로봇
550 : 제2인터페이스 로봇 560 : 제3인터페이스 로봇

Claims (17)

  1. 기판에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행하는 처리 모듈과 기판에 대해 노광 공정을 수행하는 노광 설비 사이에 기판을 주고 받는 인터페이스 모듈에 있어서:
    상기 처리 모듈에 인접하게 제공되는 버퍼 타워;
    상기 노광 설비에 인접하게 제공되고, 상기 버퍼 타워와 상기 노광 설비 간의 기판을 반송하는 제1인터페이스 로봇;
    상기 노광 설비로 반송되기 전에 기판의 후면을 세정 처리하는 후면 세정 유닛들을 갖는 제1타워부;
    상기 노광 설비에서 노광 공정을 마친 기판의 상면을 세정 처리하는 상면 세정 유닛들을 갖는 제2타워부;
    상기 버퍼 타워와 상기 제1타워부 사이에 위치되고, 상기 버퍼 타워와 상기 후면 세정 유닛 간의 기판을 반송하는 제2인터페이스 로봇; 및
    상기 버퍼 타워와 상기 제2타워부 사이에 위치되고, 상기 버퍼 타워와 상기 상면 세정 유닛 간의 기판을 반송하는 제3인터페이스 로봇을 포함하는 인터페이스 모듈.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2타워부는 기판 가장자리를 검사하는 검사 유닛을 더 포함하는 인터페이스 모듈.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1인터페이스 로봇과 상기 버퍼 타워는 작업자가 접근할 수 있는 통로 확보를 위해 슬라이드 이동되는 인터페이스 모듈.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1인터페이스 로봇은
    유지보수 작업시 상기 제2타워부에 인접하도록 이동되고,
    상기 버퍼 타워는
    유지보수 작업시 상기 제1인터페이스 로봇의 이동전 위치로 이동되는 인터페이스 모듈.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 버터 타워의 이동을 위한 제1LM가이드와 상기 제1인터페이스 로봇의 이동을 위한 제2LM가이드는 서로 다른 높이에 제공되는 인터페이스 모듈.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 제2타워부는
    유지보수 작업을 위해 작업자가 출입하는 출입문을 포함하며,
    상기 후처리 유닛들은 상기 출입문보다 높은 위치에 배치되는 인터페이스 모듈.
  7. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    기판을 수용하는 용기가 놓이는 로드포트 및 상기 로드 포트에 놓인 용기와 기판을 주고받는 인덱스 로봇이 제공된 프레임을 가지는 인덱스 모듈;
    상기 인덱스 모듈과 인접하게 배치되고, 기판에 대해 도포 공정 및 현상공정을 포함하는 처리 공정을 수행하는 처리 모듈; 및
    상기 처리 모듈과 기판에 대해 노광 공정을 수행하는 노광 설비 사이에 기판을 주고 받는 인터페이스 모듈을 포함하되;
    상기 인터페이스 모듈은
    상기 처리 모듈에 접근 가능하게 제공되는 버퍼 타워;
    상기 버퍼 타워와 상기 노광 설비에 접근 가능하게 제공되는 제1인터페이스 로봇;
    상기 노광 설비로 반송되기 전에 기판을 전처리하는 전처리 유닛들을 갖는 제1타워부;
    상기 노광 설비에서 노광 공정을 마친 기판을 후처리하는 후처리 유닛들을 갖는 제2타원부;
    상기 버퍼 타워와 상기 제1타워부에 접근 가능하게 제공되는 제2인터페이스 로봇; 및
    상기 버퍼 타워와 상기 제2타워부에 접근 가능하게 제공되는 제3인터페이스 로봇을 포함하는 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 전처리 유닛들은
    기판의 후면을 세정 처리하는 후면 세정 유닛을 포함하고,
    상기 후처리 유닛들은
    기판의 상면을 세정 처리하는 상면 세정 유닛을 포함하며,
    상기 제2타워부는 기판 가장자리를 검사하는 검사 유닛을 더 포함하는 기판 처리 장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 제1인터페이스 로봇과 상기 버퍼 타워는 유지보수 작업을 위해 작업자가 접근할 수 있는 통로 확보를 위해 슬라이드 이동되도록 제공되는 기판 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제1인터페이스 로봇은
    유지보수 작업시 상기 제2타워부에 인접하도록 이동되고,
    상기 버퍼 타워는
    유지보수 작업시 상기 제1인터페이스 로봇의 이동전 위치로 이동되는 기판 처리 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 버터 타워의 이동을 위한 제1LM가이드와 상기 제1인터페이스 로봇의 이동을 위한 제2LM가이드는 서로 다른 높이에 제공되는 기판 처리 장치.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 제2타워부는
    유지보수 작업을 위해 작업자가 출입하는 출입문을 포함하며,
    상기 후처리 유닛들은 상기 출입문보다 높은 위치에 배치되는 기판 처리 장치.
  13. 제7항에 있어서,
    상기 인터페이스 모듈과 상기 노광 설비 간의 차압을 가지며, 상기 인터페이스 모듈의 압력이 상기 노광 설비의 압력보다 낮은 기판 처리 장치.
  14. 기판에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행하는 처리 모듈과 기판에 대해 노광 공정을 수행하는 노광 설비 사이에 기판을 주고 받는 인터페이스 모듈에 있어서:
    정면과 후면 그리고 양측면을 갖되, 상기 정면은 상기 처리 모듈과 접하고, 상기 후면은 상기 노광 설비와 접하도록 제공되는 프레임;
    상기 제1측면에 인접하게 제공되는 버퍼 타워;
    상기 제2측면에 인접하게 제공되고, 상기 버퍼 타워와 상기 노광 설비 간의 기판을 반송하는 제1인터페이스 로봇;
    상기 양측면 중 어느 하나의 측면에 인접하게 제공되고, 상기 노광 설비로 반송되기 전에 기판의 후면을 세정 처리하는 후면 세정 유닛들을 갖는 제1타워부;
    상기 양측면 중 다른 하나의 측면에 인접하게 제공되고, 상기 노광 설비에서 노광 공정을 마친 기판의 상면을 세정 처리하는 상면 세정 유닛들을 갖는 제2타원부;
    상기 버퍼 타워와 상기 제1타워부 사이에 위치되고, 상기 버퍼 타워와 상기 후면 세정 유닛 간의 기판을 반송하는 제2인터페이스 로봇; 및
    상기 버퍼 타워와 상기 제2타워부 사이에 위치되고, 상기 버퍼 타워와 상기 상면 세정 유닛 간의 기판을 반송하는 제3인터페이스 로봇을 포함하는 인터페이스 모듈.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제1인터페이스 로봇은
    유지보수 작업시 제 1 LM가이드를 따라 상기 제2타워부에 인접한 위치로 이동되고,
    상기 버퍼 타워는
    유지보수 작업시 제 2 LM가이드를 따라 상기 제1인터페이스 로봇의 이동전 위치로 이동되는 인터페이스 모듈.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제 1 LM가이드와 상기 제 2 LM가이드는 서로 다른 높이에 제공되는 인터페이스 모듈.
  17. 제15항에 있어서,
    상기 제2타워부는
    유지보수 작업을 위해 작업자가 출입하는 출입문을 포함하며,
    상기 후처리 유닛들은 상기 출입문보다 높은 위치에 배치되는 인터페이스 모듈.
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