CN116783483A - 杂质获取系统、水质检查系统以及液体制造供给系统 - Google Patents

杂质获取系统、水质检查系统以及液体制造供给系统 Download PDF

Info

Publication number
CN116783483A
CN116783483A CN202280009733.4A CN202280009733A CN116783483A CN 116783483 A CN116783483 A CN 116783483A CN 202280009733 A CN202280009733 A CN 202280009733A CN 116783483 A CN116783483 A CN 116783483A
Authority
CN
China
Prior art keywords
control device
liquid
impurity
valve
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202280009733.4A
Other languages
English (en)
Inventor
茑野恭平
津田晃彦
菅原广
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Organo Corp
Original Assignee
Organo Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Organo Corp filed Critical Organo Corp
Publication of CN116783483A publication Critical patent/CN116783483A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/42Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/86Signal analysis
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/96Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation using ion-exchange
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/18Water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/005Processes using a programmable logic controller [PLC]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00Specific treatment goals
    • C02F2303/16Regeneration of sorbents, filters

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)

Abstract

本发明具有:离子交换体单元(200),其吸附检查对象液中的杂质;以及控制装置(700),其对检查对象液向离子交换体单元(200)的通液与使吸附于离子交换体单元(200)的杂质洗脱的洗脱液向离子交换体单元(200)的通液进行切换。

Description

杂质获取系统、水质检查系统以及液体制造供给系统
技术领域
本发明涉及杂质获取系统、水质检查系统以及液体制造供给系统。
背景技术
一般而言,作为从超纯水制造设备向使用点(例如,半导体清洗装置内的使用位置)供给的超纯水的水质的检查方法之一,可举出使用基于利用了离子交换体的浓缩法的分析的方法。作为基于这种浓缩法的分析方法,可考虑如下方法:在给定的期间,使超纯水向离子交换体通水,取下并回收该离子交换体,使杂质从回收的离子交换体洗脱并测量其浓度,由此检查超纯水的水质(例如,参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2001-153854号公报
发明内容
发明要解决的课题
在上述那样的技术中,为了进行超纯水的水质检查,必须取下离子交换体,比较麻烦。其结果,存在无法进行高效的检查的问题。
本发明的目的在于提供一种能够进行液体的水质的高效的检查的杂质获取系统、水质检查系统以及液体制造供给系统。
用于解决课题的技术方案
本发明的杂质获取系统是一种获取检查对象液中的杂质的杂质获取系统,具有:
吸附体,其吸附所述检查对象液中的杂质;以及
第一控制装置,其对所述检查对象液向所述吸附体的通液与洗脱液向所述吸附体的通液进行切换,所述洗脱液使吸附于所述吸附体的杂质洗脱。
此外,本发明的杂质获取系统是一种获取检查对象液中的杂质的杂质获取系统,具有:
多个吸附体,彼此并列配置,吸附所述检查对象液中的杂质;以及
控制装置,其对所述检查对象液向所述多个吸附体的通液进行切换。
此外,本发明的水质检查系统具备:
杂质获取系统;以及
信息处理装置,
所述杂质获取系统具有:
吸附体,其吸附检查对象液中的杂质;以及
第一控制装置,其对所述检查对象液向所述吸附体的通液与洗脱液向所述吸附体的通液进行切换,所述洗脱液使吸附于所述吸附体的杂质洗脱,
所述信息处理装置对通液至所述吸附体的洗脱液中的杂质浓度进行分析,并基于该杂质浓度来计算所述检查对象液中的杂质浓度。
此外,本发明的液体制造供给系统具备:
水质检查系统,其具备杂质获取系统和信息处理装置;
阀部;以及
第二控制装置,
所述杂质获取系统具有:
吸附体,其吸附检查对象液中的杂质;以及
第一控制装置,其对所述检查对象液向所述吸附体的通液与洗脱液向所述吸附体的通液进行切换,所述洗脱液使吸附于所述吸附体的杂质洗脱,
所述信息处理装置对通液至所述吸附体的洗脱液中的杂质浓度进行分析,并基于该杂质浓度来计算所述检查对象液中的杂质浓度,
所述阀部对所述检查对象液从液体制造供给设备到使用所述检查对象液的使用点的供给进行控制,所述液体制造供给设备进行所述检查对象液的制造和供给中的至少一者,
所述第二控制装置基于由所述信息处理装置计算出的所述杂质浓度来控制所述阀部。
发明效果
在本发明中,能够进行液体的水质的高效的检查。
附图说明
图1是示出本发明的杂质获取系统的第一实施方式的图。
图2是用于说明图1示出的杂质获取系统中的水质检查方法的一个例子的流程图。
图3是用于说明图2示出的流程图中的步骤S1的浓缩工序的处理的一个例子的流程图。
图4是用于说明图2示出的流程图中的步骤S2的洗脱回收工序的处理的一个例子的流程图。
图5是用于说明图2示出的流程图中的步骤S3的清洗工序的处理的一个例子的流程图。
图6是示出本发明的杂质获取系统的第二实施方式的图。
图7是用于说明图6示出的控制装置701进行的系统间的定时控制的一个例子的时序图。
图8是示出本发明的杂质获取系统的第三实施方式的图。
图9是用于说明图8示出的杂质获取系统中的水质检查方法的一个例子的流程图。
图10是用于说明图9示出的流程图中的步骤S4的浓缩工序的处理的一个例子的流程图。
图11是用于说明图9示出的流程图中的步骤S5的洗脱回收工序的处理的一个例子的流程图。
图12是用于说明图9示出的流程图中的步骤S6的清洗工序的处理的一个例子的流程图。
图13是示出本发明的杂质获取系统的第四实施方式的图。
图14是用于说明图13示出的杂质获取系统中的水质检查方法的一个例子的流程图。
图15是用于说明图14示出的流程图中的步骤S7的浓缩工序的处理的一个例子的流程图。
图16是用于说明图14示出的流程图中的步骤S8的洗脱回收工序的处理的一个例子的流程图。
图17是用于说明图14示出的流程图中的步骤S9的第一清洗工序的处理的一个例子的流程图。
图18是用于说明图14示出的流程图中的步骤S10的再生工序的处理的一个例子的流程图。
图19是用于说明图14示出的流程图中的步骤S11的第二清洗工序的处理的一个例子的流程图。
图20是示出本发明的杂质获取系统的第五实施方式的图。
图21是用于说明图20示出的杂质获取系统中的水质检查方法的一个例子的流程图。
图22是用于说明图21示出的流程图中的步骤S12的浓缩工序的处理的一个例子的流程图。
图23是用于说明图21示出的流程图中的步骤S13的洗脱回收工序的处理的一个例子的流程图。
图24是用于说明图21示出的流程图中的步骤S14的第一清洗工序的处理的一个例子的流程图。
图25是用于说明图21示出的流程图中的步骤S15的再生工序的处理的一个例子的流程图。
图26是用于说明图21示出的流程图中的步骤S16的第二清洗工序的处理的一个例子的流程图。
图27是示出本发明的杂质获取系统的第六实施方式的图。
图28是示出本发明的杂质获取系统的第七实施方式的图。
图29是示出应用了本发明的杂质获取系统的液体制造供给系统的一个例子的图。
图30是示出对供给到图29示出的ICP-MS的洗脱液进行回收的回收容器的配置的一个方式的图。
图31是用于说明图29示出的系统中的处理的一个例子的流程图。
图32是示出应用了本发明的杂质获取系统的液体制造供给系统的其他例子的图。
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的实施方式进行说明。
(第一实施方式)
图1是示出本发明的杂质获取系统的第一实施方式的图。如图1所示,本方式中的杂质获取系统具有吸附体即离子交换体单元(离子交换体)200、开闭阀310、320、330、洗脱液400、泵410、回收容器500、流量计600以及控制装置700。
离子交换体单元200是从来自超纯水制造设备的检查对象水中吸附杂质的单元。在此,超纯水制造设备例如制造供给到作为使用点的半导体清洗装置的超纯水,并供给到半导体清洗装置。在以下的说明中,该超纯水成为检查的对象的液体(检查对象水),检查对象水表示从超纯水制造设备供给的超纯水。离子交换体单元200具有离子去除或者离子吸附功能(例如,离子吸附膜或者整体状有机多孔质、离子交换树脂)。离子交换体单元200去除或者吸附的对象物为杂质。在该杂质中,包含离子(离子性金属杂质)、颗粒形式的物质。在本方式中,离子交换体单元200的官能团为阳离子、阴离子交换基团或者螯合物。
开闭阀310对检查对象水向离子交换体单元200的通液进行控制,该检查对象水是从超纯水制造设备供给到半导体清洗装置的检查对象水。具体地,开闭阀310根据来自控制装置700的控制信号,将从超纯水制造设备供给到半导体清洗装置的检查对象水向流至排水的流路和经由开闭阀320的到离子交换体单元200的流路即第一配管中的任一者通液。在此,从超纯水制造设备到开闭阀310的流路也可以包括在第一配管中。开闭阀320是对经由开闭阀310的检查对象水和用于洗脱吸附于离子交换体单元200的杂质的液体即洗脱液中的任一者向离子交换体单元200的通液进行切换并控制的第一阀部。具体地,开闭阀320根据来自控制装置700的控制信号,将来自开闭阀310的检查对象水和由泵410吸起并从第二配管中流来的洗脱液400中的任一者向离子交换体单元200通液。在此,第二配管是用于泵410将给定的容器等中存留的洗脱液400吸起并使其流向开闭阀320的流路。开闭阀330是对在离子交换体单元200中通水并流出的水的获取进行控制的第二阀部。具体地,开闭阀330根据来自控制装置700的控制信号,将在离子交换体单元200中通水并流出的检查对象水以及洗脱液向第三配管或者第四配管通液。更具体地,开闭阀330将检查对象水向第三配管通液。此外,开闭阀330将洗脱液向第四配管通液。第三配管是将检查对象水经由流量计600流至排水的流路。第四配管是将洗脱液向回收容器500通液的流路。
洗脱液400是对在离子交换体单元200中浓缩的杂质进行洗脱的酸性或者碱性的水溶液。作为洗脱液400,例如可举出硝酸、盐酸、硫酸等酸性的水溶液或者三甲基羟基铵、四甲基氢氧化铵(TMAH)等有机性碱的碱性的水溶液。洗脱液400的金属杂质浓度小于100ppt。洗脱液400的稀释度不特别限制。洗脱液400也可以是使用测量对象的检查对象水而稀释得到的物质。洗脱液400放入瓶子等容器。泵410从容器将洗脱液400吸起并送至开闭阀320。对于来自洗脱液400的送液,也可以代替泵410而使用气体压送。
回收容器500是含有在洗脱回收工序中从离子交换体单元200洗脱的杂质的洗脱液经由开闭阀330流入的容器。作为回收容器500,例如可举出回收瓶子。回收容器500只要能够回收洗脱液,就没有特别限制。流量计600是对从开闭阀330流向用于排水的流路的检查对象水的流量进行测量的流量获取部。流量计600测量出的值被通知给控制装置700。对该通知使用给定的信号,该信号可以由流量计600发送,并由控制装置700接收。另外,流量计600也可以对从开闭阀330向回收容器500通液的水(洗脱液)的流量进行测量。也就是说,流量计600也可以设置在离子交换体单元200和开闭阀330之间,测量来自离子交换体单元200的液体的流量。
控制装置700是基于给定的期间的经过,控制开闭阀310、320、330各自的开闭的第一控制装置。该给定的期间的经过的判定可以是基于是否经过了预先设定的时间的判定,也可以是基于流量计600测量的水(检查对象水、洗脱液)的量是否达到预先设定的值(阈值)的判定。
以下,对控制装置700的具体的动作进行说明。首先,为了实施浓缩工序,控制装置700控制开闭阀310,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向开闭阀320通液。此外,控制装置700控制开闭阀320,使得来自开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元200通液。此外,控制装置700控制开闭阀330,使得在离子交换体单元200中通水并流出的检查对象水向第三配管排水。在处于这种状态的浓缩工序中,检查对象水的流入开始,由控制装置700判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第一阈值。控制装置700若判定为流量计600测量出的通水流量达到第一阈值,则控制开闭阀310,使得闭状态或者从超纯水制造设备向清洗装置通液的检查对象水排水。此外,控制装置700控制开闭阀320,使得使用泵410吸起的洗脱液400向离子交换体单元200通液。此外,控制装置700控制闭阀330,使得获取在离子交换体单元200中通水并流出的洗脱液作为第一液体(向回收容器500通液),也就是说使得流向第四配管。在这种洗脱回收工序中,由控制装置700判定获取到的(回收容器500回收的)液量是否达到预先设定的第二阈值。控制装置700若判定为获取到的(回收容器500回收的)水量达到预先设定的第二阈值,则控制开闭阀310,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向开闭阀320通液。此外,控制装置700控制开闭阀320,使得来自开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元200通液。此外,控制装置700控制开闭阀330,使得在离子交换体单元200中通水并流出的检查对象水向第三配管排水。在处于这种状态的清洗工序中,由控制装置700判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第三阈值。控制装置700在流量计600测量出的液水流量达到第三阈值时,复位流量计600。另外,在清洗工序中流动的检查对象水作为清洗液使用。这在以下的说明中相同。
以下,对图1示出的杂质获取系统中的水质检查方法进行说明。图2是用于说明图1示出的杂质获取系统中的水质检查方法的一个例子的流程图。
首先,杂质获取系统执行浓缩工序(步骤S1)。图3是用于说明图2示出的流程图中的步骤S1的浓缩工序的处理的一个例子的流程图。控制装置700控制开闭阀330,使得在离子交换体单元200中通水并流出的检查对象水向到流量计600的流路排水(步骤S111)。控制装置700控制开闭阀320,使得来自开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元200通液(步骤S112)。控制装置700控制开闭阀310,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向开闭阀320通液(步骤S113)。接着,控制装置700复位流量计600(步骤S114)。之后,检查对象水的流入开始。控制装置700判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第一阈值(步骤S115)。控制装置700若判定为流量计600测量出的通水流量达到第一阈值,则进行步骤S2的处理。另外,控制装置700进行步骤S111~S113的处理的顺序不特别限制。此外,也可以设为控制装置700彼此同时进行步骤S111~S113的处理。
接着,杂质获取系统执行洗脱回收工序(步骤S2)。图4是用于说明图2示出的流程图中的步骤S2的洗脱回收工序的处理的一个例子的流程图。
控制装置700控制开闭阀310,使得闭状态或者从超纯水制造设备向清洗装置通液的检查对象水排水(步骤S121)。控制装置700控制开闭阀320,使得使用泵410吸起并从第二配管流动来的洗脱液400向离子交换体单元200通液(步骤S122)。控制装置700控制开闭阀330,使得在离子交换体单元200中通水并流出的洗脱液向回收容器500通液,也就是说使得流向第四配管(步骤S123)。之后,控制装置700判定回收容器500回收的水量是否达到预先设定的第二阈值(步骤S124)。该判定例如可以判定回收的洗脱液是否在回收容器500中满水、也可以基于回收有洗脱液的回收容器500整体的重量进行判定、向回收容器500照射激光并进行判定。此外,在流量计600设在离子交换体单元200和开闭阀330之间的情况下,可以由装置700基于流量计600测量的流量是否达到预先设定的阈值控制进行判定。控制装置700若判定为回收容器500回收的水量达到第二阈值,则进行步骤S3的处理。
接着,杂质获取系统执行清洗工序(步骤S3)。图5是用于说明图2示出的流程图中的步骤S3的清洗工序的处理的一个例子的流程图。
控制装置700控制开闭阀330,使得在离子交换体单元200中通水并流出的检查对象水向第三配管排水(步骤S131)。控制装置700控制开闭阀320,使得来自开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元200通液(步骤S132)。控制装置700控制开闭阀310,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向开闭阀320通液(步骤S133)。接着,控制装置700复位流量计600(步骤S134)。控制装置700判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第三阈值(步骤S135)。控制装置700若判定为流量计600测量出的通水流量达到第三阈值,则再次进行步骤S1的处理。另外,控制装置700也可以在步骤S135的处理后、进行步骤S1的处理前,复位流量计600。步骤S131~S133的处理是如下处理:在控制装置700进行各个处理前,在开闭阀310、320、330分别已经处于能够进行上述那样的通液的开闭状态的情况下,不一定需要进行的处理。
这样,在本方式中,按照每个给定的期间的经过对设置在流路的关键处的开闭阀进行控制,由此使浓缩工序、洗脱回收工序以及清洗工序转移,在所述浓缩工序中,使用离子交换体单元200来捕捉检查对象水中的杂质,在所述洗脱回收工序中,从离子交换体单元200洗脱并回收所捕捉的杂质,在所述清洗工序中,用检查对象水清洗洗脱了杂质的离子交换体单元200。由此,无需从系统取下离子交换体单元200,就能够得到用于对检查对象水的水质进行检查的样品。其结果,能够进行检查对象水的水质的高效的检查。此外,在从系统取下离子交换体单元200并实施洗脱回收工序的情况下,在取下离子交换体单元200时、安装到用于洗脱的装置时,存在污染离子交换体单元200的担忧,检查精度可能降低。在本方式中,无需从系统取下离子交换体单元200,就能够实施洗脱回收工序。因此,不污染离子交换体单元200,就能够抑制检查精度的降低。
(第二实施方式)
图6是示出本发明的杂质获取系统的第二实施方式的图。如图6所示,本方式中的杂质获取系统具有离子交换体单元200~202、开闭阀310~312、320~322、330~332、洗脱液400~402、泵410~412、回收容器500~502、流量计600~602以及控制装置701。
离子交换体单元200、开闭阀310、320、330、洗脱液400、泵410、回收容器500以及流量计600分别与第一实施方式中的相同。在第二实施方式中,将这些构成要素并列设置三个系统。离子交换体单元201、202分别相当于离子交换体单元200。开闭阀311、312分别相当于开闭阀310。开闭阀321、322分别相当于开闭阀320。开闭阀331、332分别相当于开闭阀330。洗脱液401、402分别相当于洗脱液400。泵411、412分别相当于泵410。回收容器501、502分别相当于回收容器500。流量计601、602分别相当于流量计600。另外,洗脱液400~402可以从一个容器吸起。
与第一实施方式中的控制装置700相同,控制装置701控制开闭阀310~312、320~322、330~332。对于各系统内中的浓缩工序、洗脱回收工序以及清洗工序的处理,与第一实施方式相同。在第二实施方式中,由控制装置701控制各系统间的浓缩工序、洗脱回收工序以及清洗工序的处理的定时。
图7是用于说明图6示出的控制装置701进行的系统间的定时控制的一个例子的时序图。分别在具备离子交换体单元200的系统(以下,称为系统A)、具备离子交换体单元201的系统(以下,称为系统B)以及具备离子交换体单元202的系统(以下,称为系统C)中,依次反复进行浓缩工序、洗脱回收工序以及清洗工序。此时,控制装置701进行控制,使得在系统A、系统B以及系统C中,进行各系统中的洗脱回收工序的定时在系统间不重叠。此外,控制装置701控制开闭阀310~312、320~322,使得检查对象液向系统A、系统B以及系统C中的至少一个系统的吸附体通液。也就是说,控制装置701进行切换从超纯水制造设备供给的检查对象水向离子交换体单元200~202的通液的控制。在本方式中,举出并列设置三个系统的例子进行了说明,系统的数量不限于此。
这样,在本方式中,进行控制,使得并列设置多个系统,进行各系统间的洗脱回收工序的定时在系统间不重叠。通过这样,能够连续执行浓缩工序。因此,能够连续得到检查结果。
(第三实施方式)
图8是示出本发明的杂质获取系统的第三实施方式的图。如所图8示,本方式中的杂质获取系统具有离子交换体单元200、杂质去除单元210、开闭阀310、320、330、340、洗脱液400、泵410、回收容器500、流量计600以及控制装置702。
离子交换体单元200、开闭阀310、320、330、洗脱液400、泵410、回收容器500以及流量计600分别与第一实施方式中的相同。
杂质去除单元210是在清洗工序中使用的滤波器(杂质去除部)。杂质去除单元210具有杂质去除功能(例如,离子交换、吸附、过滤)。杂质去除单元210使从超纯水制造设备供给的检查对象水中包含的杂质吸附于滤波器,并从检查对象水中去除杂质。开闭阀340是对从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水向杂质去除单元210的通液进行控制的第三阀部。具体地,开闭阀340根据来自控制装置702的控制信号,将从超纯水制造设备供给到半导体清洗装置的检查对象水向流向开闭阀310的流路和向杂质去除单元210的流路即第七配管中的任一者通液。杂质去除单元210从来自开闭阀340的检查对象水中去除杂质,使去除了杂质的水向到开闭阀320的流路流出。在清洗工序中,控制装置702将开闭阀340设为从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水向杂质去除单元210通液的状态。
以下,对图8示出的杂质获取系统中的水质检查方法进行说明。图9是用于说明图8示出的杂质获取系统中的水质检查方法的一个例子的流程图。
首先,杂质获取系统执行浓缩工序(步骤S4)。图10是用于说明图9示出的流程图中的步骤S4的浓缩工序的处理的一个例子的流程图。控制装置702控制开闭阀330,使得在离子交换体单元200中通水并流出的检查对象水向第三配管排水(步骤S141)。控制装置702控制开闭阀320,使得来自开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元200通液(步骤S142)。控制装置702控制开闭阀310,使得来自开闭阀340的检查对象水向开闭阀320通液(步骤S143)。控制装置702控制开闭阀340,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向开闭阀310通液(步骤S144)。接着,控制装置702复位流量计600(步骤S145)。之后,检查对象水的流入开始,控制装置702判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第一阈值(步骤S146)。控制装置702若判定为流量计600测量出的通水流量达到第一阈值,则进行步骤S5的处理。另外,控制装置702进行步骤S141~S144的处理的顺序不特别限制。
接着,杂质获取系统执行洗脱回收工序(步骤S5)。图11是用于说明图9示出的流程图中的步骤S5的洗脱回收工序的处理的一个例子的流程图。
控制装置702控制开闭阀310,使得来自开闭阀340的检查对象水排水(步骤S151)。控制装置702控制开闭阀320,使得使用泵410吸起并从第二配管流动来的洗脱液400向离子交换体单元200通液(步骤S152)。控制装置702控制开闭阀330,使得在离子交换体单元200中通水并流出的洗脱液向回收容器500通液,也就是说使得流向第四配管(步骤S153)。之后,控制装置702判定回收容器500回收的水量是否达到预先设定的第二阈值(步骤S154)。该判定处理与第一实施方式中的步骤S124的判定处理相同即可。控制装置702若判定为回收容器500回收的水量达到第二阈值,则进行步骤S6的处理。
接着,杂质获取系统执行清洗工序(步骤S6)。图12是用于说明图9示出的流程图中的步骤S6的清洗工序的处理的一个例子的流程图。
控制装置702控制开闭阀330,使得在离子交换体单元200中通水并流出的检查对象水向第三配管排水(步骤S161)。控制装置702控制开闭阀320,使得在杂质去除单元210中通水并流出的检查对象水向离子交换体单元200通液(步骤S162)。控制装置702控制开闭阀340,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向杂质去除单元210通液(步骤S163)。接着,控制装置702复位流量计600(步骤S164)。控制装置702判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第三阈值(步骤S165)。控制装置702若判定为流量计600测量出的通水流量达到第三阈值,则再次进行步骤S4的处理。另外,控制装置702也可以在步骤S165的处理后、进行步骤S4的处理前,复位流量计600。步骤S161~S163的处理是如下处理:控制装置702在进行各个处理前,在开闭阀320、330、340分别已经处于能够进行上述那样的通液的开闭状态的情况下,不一定需要进行的处理。
这样,在本方式中,按照每个给定的期间的经过对设置在流路的关键处的开闭阀进行控制,由此使浓缩工序、洗脱回收工序以及清洗工序转移,在所述浓缩工序中,使用离子交换体单元200来捕捉检查对象中的杂质,在所述洗脱回收工序中,从离子交换体单元200洗脱并回收所捕捉的杂质,在所述清洗工序中,用检查对象水清洗洗脱了杂质的离子交换体单元200。由此,无需从系统取下离子交换体单元200,就能够得到用于对检查对象水的水质进行检查的样品。其结果,能够进行检查对象水的水质的高效的检查。进而,设置杂质去除单元210,从在清洗工序中用于清洗的检查对象水中,通过杂质去除单元210去除杂质。由此,能够降低用于清洗的检查对象水的杂质的浓度。
(第四实施方式)
图13是示出本发明的杂质获取系统的第四实施方式的图。如图13所示,本方式中的杂质获取系统具有离子交换体单元220、开闭阀310、323、333、洗脱液400、再生液403、泵410、413、回收容器500、510、流量计600以及控制装置703。
开闭阀310、洗脱液400、泵410、回收容器500以及流量计600分别与第一实施方式中的相同。
离子交换体单元220是从来自超纯水制造设备的检查对象水中去除杂质的单元。离子交换体单元220具有离子去除或者离子吸附功能(例如,离子吸附膜或者整体状有机多孔质、离子交换树脂)。离子交换体单元220去除或者吸附的对象物为金属杂质。此外,离子交换体单元2200还通过静电效应吸附颗粒。在本方式中,离子交换体单元220的官能团为阳离子、阴离子交换基团或者螯合物。
再生液403是酸性或者碱性的液体,用于在洗脱并清洗在离子交换体单元220中浓缩的杂质后,在再生工序中使离子交换体单元220再生。再生液403放入瓶子等容器。泵413将再生液403从容器吸起并经由第五配管送至开闭阀323。在此,第五配管是用于由泵413吸起给定的容器等中存留的再生液403并使其流向开闭阀323的流路。对于来自再生液403的送液,可以代替泵413而使用气体压送。再生液403的金属杂质浓度小于100ppt。
回收容器510是在再生工序中在离子交换体单元220中通水并流出的水(再生废液)经由开闭阀333流入的容器。开闭阀333和回收容器510经由第六配管配置。另外,流量计600也可以测量从开闭阀333向回收容器510通液的水的流量。
开闭阀323是对经由开闭阀310的检查对象水、由泵410吸起并从第二配管流动来的洗脱液400以及由泵413吸起并从第五配管流动来的再生液403中的任一者向离子交换体单元220的通液进行控制的第一阀部。具体地,开闭阀323根据来自控制装置703的控制信号,将经由开闭阀310的检查对象水、由泵410吸起并从第二配管流动来的洗脱液400、以及由泵413吸起并从第五配管流动来的再生液403中的任一者向离子交换体单元220通液。开闭阀333是对在离子交换体单元220中通水并流出的水的获取进行控制的第二阀部。具体地,开闭阀333根据来自控制装置703的控制信号,对于在离子交换体单元220中通水并流出的水(检查对象水或者洗脱液或者再生废液),将检查对象水向第三配管通液,而且将洗脱水向第四配管通液,而且将再生废液向第六配管通液。
控制装置703是基于给定的期间的经过控制开闭阀310、323、333各自的开闭的第一控制装置。该给定的期间的经过的判定可以是基于是否经过预先设定的时间的判定,也可以基于流量计600测量的水(检查对象水、洗脱液、再生废液)的量是否达到预先设定的值(阈值)的判定。
以下,对控制装置703的具体的动作进行说明。首先,为了进行浓缩工序,控制装置703控制开闭阀310,使得从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水向离子交换体单元220通液。控制装置703控制开闭阀323,使得经由开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元220通液。控制装置703控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的检查对象水经由第三配管排水。在处于这种状态的浓缩工序中,检查对象水的流入开始。由控制装置703判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第一阈值。控制装置703若判定为流量计600测量出的通水流量达到第一阈值,则控制开闭阀310,使得闭状态或者从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水排水。此外,控制装置703控制开闭阀323,使得使用泵410吸起并从第二配管流动来的洗脱液400向离子交换体单元220通液。此外,控制装置703控制开闭阀333,使得获取在离子交换体单元220中通水并流出的洗脱液作为第一液体(向回收容器500通液),也就是说使得流向第四配管。在这种洗脱回收工序中,由控制装置703判定获取到的(回收容器500回收的)水量是否达到预先设定的第二阈值。控制装置703若判定为获取到的(回收容器500回收的)水量达到预先设定的第二阈值,则控制开闭阀310,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向开闭阀323通液。此外,控制装置703控制开闭阀323,使得来自开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元220通液。此外,控制装置703控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的检查对象水经由第三配管排水。在处于这种状态的第一清洗工序中,由控制装置703判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第三阈值。控制装置703若在第一清洗工序中判定为流量计600测量出的通水流量达到第三阈值,则控制开闭阀310,使得闭状态或者从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水排水。此外,控制装置703控制开闭阀323,使得使用泵413吸起并从第五配管流动来的再生液403向离子交换体单元220通液。此外,控制装置703控制开闭阀333,使得获取在离子交换体单元220中通水并流出的再生废液作为第二液体(向回收容器510通液),也就是说使得流向第六配管。由控制装置703判定在处于这种状态的再生工序中获取到的(回收容器510回收的)水量是否达到第四阈值。控制装置703若判定为在再生工序中获取到的(回收容器510回收的)水量达到第四阈值,则控制开闭阀310,使得从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水向离子交换体单元220通液。控制装置703控制开闭阀323,使得经由开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元220通液。控制装置703控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的检查对象水经由第三配管排水。由控制装置703判定在处于这种状态的第二清洗工序中流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第五阈值。控制装置703若判定为在第二清洗工序中流量计600测量出的通水流量达到第五阈值,则控制装置703复位流量计600。
以下,对图13示出的杂质获取系统中的水质检查方法进行说明。图14是用于说明图13示出的杂质获取系统中的水质检查方法的一个例子的流程图。
首先,杂质获取系统执行浓缩工序(步骤S7)。图15是用于说明图14示出的流程图中的步骤S7的浓缩工序的处理的一个例子的流程图。控制装置703控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的检查对象水经由第三配管排水(步骤S171)。控制装置703控制开闭阀323,使得来自开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元220通液(步骤S172)。控制装置703控制开闭阀310,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向开闭阀323通液(步骤S173)。接着,控制装置703复位流量计600(步骤S174)。之后,检查对象水的流入开始,控制装置703判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第一阈值(步骤S175)。控制装置703若判定为流量计600测量出的通水流量达到第一阈值,则进行步骤S8的处理。另外,控制装置703进行步骤S171~S173的处理的顺序不特别限制。
接着,杂质获取系统执行洗脱回收工序(步骤S8)。图16是用于说明图14示出的流程图中的步骤S8的洗脱回收工序的处理的一个例子的流程图。
控制装置703控制开闭阀310,使得闭状态或者从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水经由第三配管排水(步骤S181)。控制装置703控制开闭阀323,使得使用泵410吸起并从第二配管流动来的洗脱液400向离子交换体单元220通液(步骤S182)。控制装置703控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的洗脱液向回收容器500通液,也就是说使得流向第四配管(步骤S183)。之后,控制装置703判定回收容器500回收的水量是否达到预先设定的第二阈值(步骤S184)。该判定处理与第一实施方式中的步骤S124的判定处理相同即可。控制装置703若判定为回收容器500回收的水量达到第二阈值,则进行步骤S9的处理。
接着,杂质获取系统执行清洗工序(第一清洗工序)(步骤S9)。图17是用于说明图14示出的流程图中的步骤S9的第一清洗工序的处理的一个例子的流程图。
控制装置703控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的检查对象水经由第三配管排水(步骤S191)。控制装置703控制开闭阀323,使得来自开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元220通液(步骤S192)。控制装置703控制开闭阀310,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向开闭阀323通液(步骤S193)。接着,控制装置703复位流量计600(步骤S194)。控制装置703判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第三阈值(步骤S195)。控制装置703若判定为流量计600测量出的通水流量达到第三阈值,则进行步骤S10的处理。
接着,杂质获取系统执行再生工序(步骤S10)。在本方式中,为了将离子交换体单元220的官能团的离子型再生为基准型,需要进行离子交换体单元220的再生处理。图18是用于说明图14示出的流程图中的步骤S10的再生工序的处理的一个例子的流程图。
首先,控制装置703控制开闭阀310,使得闭状态或者从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水经由第三配管排水(步骤S201)。控制装置703控制开闭阀323,使得使用泵413吸起并从第五配管流动来的再生液403向离子交换体单元220通液(步骤S202)。控制装置703控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的碱废液向回收容器510通液,也就是说使得流向第六配管(步骤S203)。之后,控制装置703判定回收容器510回收的水量是否达到预先设定的第四阈值(步骤S204)。该判定例如可以是判定回收的再生液在回收容器510中是否满水、基于回收有碱废液的回收容器510整体的重量进行判定、向回收容器510照射激光并进行判定。控制装置703若判定为回收容器510回收的水量达到第四阈值,则进行步骤S11的处理。
接着,杂质获取系统执行清洗工序(第二清洗工序)(步骤S11)。图19是用于说明图14示出的流程图中的步骤S11的第二清洗工序的处理的一个例子的流程图。
控制装置703控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的检查对象水经由第三配管排水(步骤S211)。控制装置703控制开闭阀323,使得来自开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元220通液(步骤S212)。控制装置703控制开闭阀310,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向开闭阀323通液(步骤S213)。接着,控制装置703复位流量计600(步骤S214)。控制装置703判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第五阈值(步骤S215)。控制装置703若判定为流量计600测量出的通水流量达到第五阈值,则进行再次步骤S7的处理。另外,控制装置703也可以在步骤S215的处理后、进行步骤S7的处理前,复位流量计600。步骤S211~S213的处理为如下处理:在控制装置703进行各个处理前,在开闭阀310、323、333分别已经处于能够进行上述那样的通液的开闭状态的情况下,不一定需要进行的处理。
这样,在本方式中,按照每个给定的期间的经过对设置在流路的关键处的开闭阀进行控制,由此使浓缩工序、洗脱回收工序、第一清洗工序、再生工序以及第二清洗工序转移,在所述浓缩工序中,使用离子交换体单元220捕捉检查对象中的杂质,在所述洗脱回收工序中,从离子交换体单元220洗脱并回收所捕捉的杂质,在第一清洗工序中,用检查对象水清洗洗脱了杂质的离子交换体单元220,在所述再生工序中,用酸性或者碱性的液体再生离子交换体单元220,在所述第二清洗工序中,进一步清洗离子交换体单元220。由此,无需从系统取下离子交换体单元220,就能够得到用于对检查对象水的水质进行检查的样品。其结果,能够进行检查对象水的水质的高效的检查。另外,在本方式中使用的阴离子交换基团中,也和第二实施方式那样,设置多个系统即可。
(第五实施方式)
图20是示出本发明的杂质获取系统的第五实施方式的图。如图20所示,本方式中的杂质获取系统杂具有质去除单元210、离子交换体单元220、开闭阀310、323、333、340、洗脱液400、再生液403、泵410、413、回收容器500、510、流量计600以及控制装置704。
开闭阀310、洗脱液400、泵410、回收容器500以及流量计600分别与第一实施方式中的相同。此外,杂质去除单元210以及开闭阀340分别与第三实施方式中的相同。此外,离子交换体单元220、开闭阀323、333、再生液403、泵413以及回收容器510分别与第四实施方式中的相同。在此,开闭阀323能够切换并控制经由杂质去除单元210的检查对象水、不经由杂质去除单元210的检查对象水、由泵410吸起并从第二配管流动来的洗脱液400、以及由泵413吸起并从第五配管流动来的再生液403中的任一者向离子交换体单元220的通液。
控制装置704是基于给定的期间的经过,控制开闭阀310、323、333、340各自的开闭的第一控制装置。该给定的期间的经过的判定可以是基于是否经过预先设定的时间的判定、基于流量计600测量的水(检查对象水、洗脱液、再生废液)的量是否达到预先设定的值(阈值)的判定。控制装置704具备第三实施方式中的控制装置702的功能和第四实施方式中的控制装置703的功能。
以下,对图20示出的杂质获取系统中的水质检查方法进行说明。图21是用于说明图20示出的杂质获取系统中的水质检查方法的一个例子的流程图。
首先,杂质获取系统执行浓缩工序(步骤S12)。图22是用于说明图21示出的流程图中的步骤S12的浓缩工序的处理的一个例子的流程图。控制装置704控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的检查对象水经由第三配管排水(步骤S221)。控制装置704控制开闭阀323,使得来自开闭阀310的检查对象水向离子交换体单元220通液(步骤S222)。控制装置704控制开闭阀310,使得来自开闭阀340的检查对象水向开闭阀323通液(步骤S223)。控制装置704控制开闭阀340,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向开闭阀310通液(步骤S224)。接着,控制装置704复位流量计600(步骤S225)。之后,检查对象水的流入开始。控制装置704判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第一阈值(步骤S226)。控制装置704若判定为流量计600测量出的通水流量达到第一阈值,则进行步骤S13的处理。另外,控制装置704进行步骤S2211~S224的处理的顺序不特别限制。
接着,杂质获取系统执行洗脱回收工序(步骤S13)。图23是用于说明图21示出的流程图中的步骤S13的洗脱回收工序的处理的一个例子的流程图。
控制装置704控制开闭阀340,使得闭状态或者从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水向开闭阀310通液(步骤S231)。在控制装置704控制开闭阀340,使得从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水向开闭阀310通液的情况下,控制开闭阀310,使得来自开闭阀340的检查对象水排水(步骤S232)。控制装置704控制开闭阀323,使得使用泵410吸起并从第二配管流动来的洗脱液400向离子交换体单元220通液(步骤S233)。控制装置704控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的洗脱液向回收容器500通液,也就是说使得流向第四配管(步骤S234)。之后,控制装置704判定回收容器500回收的水量是否达到预先设定的第二阈值(步骤S235)。该判定处理与第一实施方式中的步骤S124的判定处理相同即可。控制装置704若判定为回收容器500回收的水量达到第二阈值,则进行步骤S14的处理。
接着,杂质获取系统执行清洗工序(第一清洗工序)(步骤S14)。图24是用于说明图21示出的流程图中的步骤S14的第一清洗工序的处理的一个例子的流程图。
控制装置704控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的检查对象水经由第三配管排水(步骤S241)。控制装置704控制开闭阀323,使得在杂质去除单元210中通水并流出的检查对象水向离子交换体单元220通液(步骤S242)。控制装置704控制开闭阀340,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向杂质去除单元210通液(步骤S243)。接着,控制装置704复位流量计600(步骤S244)。控制装置704判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第三阈值(步骤S245)。控制装置704若判定为流量计600测量出的通水流量达到第三阈值,则进行步骤S15的处理。
接着,杂质获取系统执行再生工序(步骤S15)。在本方式中,离子交换体单元220的官能团为阴离子交换基团。因此,需要使用碱性的液体进行离子交换体单元220的再生处理。图25是用于说明图21示出的流程图中的步骤S15的再生工序的处理的一个例子的流程图。
首先,控制装置704控制开闭阀340,使得闭状态或者从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水向开闭阀310通液(步骤S251)。在控制装置704控制开闭阀340,使得从超纯水制造设备供给到清洗装置的检查对象水向开闭阀310通液的情况下,控制开闭阀310,使得来自开闭阀340的检查对象水排水(步骤S252)。控制装置704控制开闭阀323,使得使用泵413吸起并从第五配管流动来的再生液403向离子交换体单元220通液(步骤S253)。控制装置704控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的碱废液向回收容器510通液,也就是说使得流向第六配管(步骤S254)。之后,控制装置704判定回收容器510回收的水量是否达到预先设定的第四阈值(步骤S255)。该判定处理与第四实施方式中的步骤S124的判定处理相同即可。控制装置704若判定为回收容器510回收的水量达到第四阈值,则进行步骤S16的处理。
接着,杂质获取系统执行清洗工序(第二清洗工序)(步骤S16)。图26是用于说明图21示出的流程图中的步骤S16的第二清洗工序的处理的一个例子的流程图。
控制装置704控制开闭阀333,使得在离子交换体单元220中通水并流出的检查对象水经由第三配管排水(步骤S261)。控制装置704控制开闭阀323,使得在杂质去除单元210中通水并流出的检查对象水向离子交换体单元220通液(步骤S262)。控制装置704控制开闭阀340,使得来自超纯水制造设备的检查对象水向杂质去除单元210通液(步骤S263)。接着,控制装置704复位流量计600(步骤S264)。控制装置704判定流量计600测量出的通水流量是否达到预先设定的第五阈值(步骤S265)。控制装置704若判定为流量计600测量出的通水流量达到第五阈值,则再次进行步骤S12的处理。另外,控制装置704也可以在步骤S265的处理后、进行步骤S12的处理前,复位流量计600。步骤S261~S263的处理为如下处理:在控制装置704进行各个处理前,在开闭阀323、333、340分别已经处于能够进行上述那样的通液的开闭状态的情况下,不一定需要进行的处理。
这样,在本方式中,按照每个给定的期间的经过对设置在流路的关键处的开闭阀进行控制,由此使浓缩工序、洗脱回收工序、第一清洗工序、再生工序以及第二清洗工序转移,在所述浓缩工序中,使用离子交换体单元220捕捉检查对象水中的杂质,在所述洗脱回收工序中,从离子交换体单元220洗脱并回收所捕捉的杂质,在所述第一清洗工序中,用检查对象水清洗洗脱了杂质的离子交换体单元220,在再生工序中,用碱性的液体再生离子交换体单元220,在所述第二清洗工序中,进一步清洗离子交换体单元220。由此,无需从系统取下离子交换体单元220,就能够得到用于对检查对象水的水质进行检查的样品。其结果,能够进行检查对象水的水质的高效的检查。进而,设置杂质去除单元210,从在第一以及第二从清洗工序中用于清洗的检查对象水中,通过杂质去除单元210去除杂质。由此,能够降低用于清洗的检查对象水的杂质的浓度。
(第六实施方式)
图27是示出本发明的杂质获取系统的第六实施方式的图。如图27所示,本方式中的杂质获取系统的洗脱液400、泵410以及回收容器500各自的配置与第一实施方式中的各自的配置不同。
回收容器500对经由第一实施方式中的第二配管从开闭阀320通液的洗脱液进行回收。洗脱液400使用泵410经由第一实施方式中的第四配管向开闭阀330通液。开闭阀330除了第一实施方式中的功能之外,还具有对通液至离子交换体单元200的检查对象液向第三配管的通液与使用第四配管通液的洗脱液400向离子交换体单元200的通液进行切换的结构。开闭阀320除了第一实施方式中的功能之外,还具有对来自开闭阀310的检查对象液向离子交换体单元200的通液与通液至离子交换体单元200的洗脱液400向第二配管的通液进行切换的结构。
在这种结构中,控制装置700在上述洗脱工序中切换开闭阀320,使得通液至离子交换体单元200的洗脱液400向第二配管通液,并切换开闭阀330,使得使用第四配管通液的洗脱液400向离子交换体单元200通液。另外,作为控制装置700从洗脱工序移至清洗工序的触发而使用的处理可以是判定回收的洗脱液是否在回收容器500中满水的处理、基于回收有洗脱液的回收容器500整体的重量进行判定的处理、向回收容器500照射激光并进行判定的处理。此外,可以将流量计600也设置在离子交换体单元200和回收容器500之间,使用基于流量计600测量的流量是否达到预先设定的阈值的判定作为控制装置700从洗脱工序移至清洗工序的触发。
这样,在本方式中,具有以与用于第一实施方式中的洗脱工序的洗脱液的流动相向的方向的流动来使洗脱液流动的结构。由此,即使是第一实施方式中的以外的方式也能够实现洗脱工序。
(第七实施方式)
图28是示出本发明的杂质获取系统的第七实施方式的图。如图28所示,本方式中的杂质获取系统的再生液403、泵413以及回收容器510各自的配置与第四实施方式中的各自的配置不同。
回收容器510对从经由第四实施方式中的第五配管向开闭阀323通液的再生液进行回收。再生液403使用泵413经由第四实施方式中的第六配管向开闭阀333通液。除了第四实施方式中的功能之外,开闭阀333还具有对通液至离子交换体单元220的检查对象液向第三配管的通液、通液至离子交换体单元220的洗脱液向第四配管的通液、以及使用第六配管通液的再生液向离子交换体单元220的通液进行切换的结构。除了第四实施方式中的功能之外,开闭阀323还具有对来自开闭阀310的检查对象液向离子交换体单元220的通液、由泵410吸起并从第二配管流动来的洗脱液400向离子交换体单元220的通液、以及通液至离子交换体单元220的再生液403向第五配管的通液进行切换的结构。
在这种结构中,控制装置703在上述再生工序中切换开闭阀323,使得通液至离子交换体单元220的再生液403向第五配管通液,并切换开闭阀333,使得使用第六配管通液的再生液403向离子交换体单元220通液。另外,作为控制装置703从再生工序移至第二清洗工序的触发而使用的处理可以是判定回收的再生液是否在回收容器510中满水的处理、基于回收有碱废液的回收容器510整体的重量进行判定的处理、向回收容器510照射激光并进行判定的处理。此外,也可以将流量计600也设置在离子交换体单元220和回收容器510之间,使用基于流量计600测量的流量是否达到预先设定的阈值的判定作为控制装置703从再生工序移至第二清洗工序的触发。
这样,在本方式中,具有以与用于第四实施方式中的再生工序的再生液的流动相向的方向的流动来使再生液流动的结构。由此,即使是第四实施方式中的以外的方式也能够实现再生工序。另外,在本方式中,也可以结合第六实施方式中说明的洗脱工序。
以下,对使用上述杂质获取系统的方式进行说明。图29是示出应用了本发明的杂质获取系统的液体制造供给系统的一个例子的图。图29所示的方式是经由超纯水制造设备内的非再生型离子交换装置即CP1000和超滤装置即UF1100向半导体清洗装置(使用点)供给超纯水的系统。向CP1000供给的超纯水(检查对象水)从设置在上游的液体制造供给设备供给。液体制造供给设备也是制造超纯水的设备。图29示出的虚线示出用于对检查对象水即超纯水的水质进行检查的水的流路或者控制信号的路径。
超纯水供给到半导体清洗装置的流路有两个系统,其中一个流路中设有杂质去除单元1200,超纯水经由杂质去除单元1200供给到半导体清洗装置。此外,在CP1000和UF1100之间设有开闭阀2000。此外,设有对来自CP1000的超纯水到超纯水回收罐的回收进行控制的开闭阀2300。此外,设有对来自UF1100的超纯水到超纯水回收罐的回收进行控制的开闭阀2400。此外,分别在用于将超纯水供给到半导体清洗装置的两个流路设有开闭阀2100、2200。
浓缩/洗脱/回收装置1300相当于图1、6、8、13、20示出的杂质获取系统。浓缩/洗脱/回收装置1300对检查对象水即来自CP1000的超纯水或者来自UF1100的超纯水进行第一~第五实施方式中说明的处理。ICP-MS1400是对获取到的洗脱液中的杂质浓度进行分析并基于分析的杂质浓度计算检查对象水中的杂质浓度的装置(信息处理装置)。ICP-MS1400具备计算浓度的信息处理功能。由浓缩/洗脱/回收装置1300和ICP-MS1400构成水质检查系统。控制装置1500是基于由ICP-MS1400计算出的杂质浓度来控制开闭阀2000、2100、2200、2300、2400的开闭的第二控制装置。
对于CP1000的出口水,在ICP-MS1400计算出的杂质浓度超过预先设定的浓度阈值的情况下,控制装置1500将第五开闭阀即开闭阀2000控制为闭状态。此时,控制装置1500将开闭阀2300控制为开状态。此外,对于CP1000的出口水,在ICP-MS1400计算出的杂质浓度为浓度阈值以下的情况下,控制装置1500将开闭阀2000设为开状态。此时,控制装置1500将开闭阀2300设为闭状态。此外,对于UF1100的出口水,在ICP-MS1400计算出的杂质浓度超过预先设定的浓度阈值的情况下,控制装置1500将第四阀部即开闭阀2100、2200控制为闭状态。此时,控制装置1500将开闭阀2400控制为开状态。此外,对于UF1100的出口水,在ICP-MS1400计算出的杂质浓度为浓度阈值以下的情况下,控制装置1500将开闭阀2100、2200设为开状态。此时,控制装置1500将开闭阀2400设为闭状态。另外,控制装置1500对于UF1100的出口水,在ICP-MS1400计算出的杂质浓度为第一浓度阈值以下的情况下,也可以将开闭阀2100控制为开状态。在该情况下,在ICP-MS1400计算出的杂质浓度超过第一浓度阈值且为第二浓度阈值以下的情况下,控制装置1500将开闭阀2200控制为开状态,将开闭阀2100控制闭状态。此外,在ICP-MS1400计算出的杂质浓度超过第二浓度阈值的情况下,控制装置1500将开闭阀2100、2200控制为闭状态。这是因为,即使设有杂质去除单元1200的流路的杂质浓度高到一定程度,该超纯水中包含的杂质也会被杂质去除单元1200去除,利用了供给到半导体清洗装置的超纯水的杂质浓度下降这一情况。
图30是示出对供给到图29示出的ICP-MS1400的洗脱液进行回收的回收容器的配置的一个方式的图。如图30所示,在自动进样器520上配置有多个第一~五实施方式中说明的回收容器500。若在上述一次洗脱回收工序中洗脱液回收到回收容器500中,则在下一次的洗脱回收工序中,自动进样器520旋转到洗脱液回收到其他回收容器(例如,相邻的回收容器)的位置。此外,进行控制,使得洗脱液自动从回收有洗脱液的回收容器500吸引并供给到ICP-MS1400。例如,洗脱液回收到回收容器500,从回收容器500吸引洗脱液的吸引装置探测到洗脱回收工序结束,该吸引装置可以从回收容器500开始洗脱液的吸引且洗脱液供给到ICP-MS1400。
以下,对图29示出的系统中的处理进行说明。图31是用于说明图29示出的系统中的处理的一个例子的流程图。在此,对于图29示出的UF1100的出口水,举出ICP-MS1400计算杂质浓度的情况作为例子进行说明。首先,由ICP-MS1400获取回收到回收容器500中的、UF1100的出口水的洗脱液(步骤S51)。该获取方法是使用上述吸引装置进行的方法即可。这样,由ICP-MS1400对获取到的洗脱液中包含的杂质的浓度进行测量(步骤S52)。表示测量出的浓度的浓度信息从ICP-MS1400发送到控制装置1500。控制装置1500判定发送来的浓度信息表示的浓度是否超过预先设定的浓度阈值(步骤S53)。在发送来的浓度信息表示的浓度超过浓度阈值的情况下,控制装置1500关闭给定的开闭阀(步骤S54)。该给定的开闭阀是阻止从超纯水制造设备的超纯水供给到半导体清洗装置的开闭阀,例如,是开闭阀2100、2200。此时,控制装置1500可以将开闭阀2400设为开状态,将超纯水供给到超纯水回收罐。接着,控制装置1500通知发送来的浓度信息表示的浓度超过浓度阈值这一情况(步骤S55)。该通知是对于系统的管理者、运用者、超纯水制造设备的管理者等的通知,是表示这一情况的信息的发送、画面的显示等的输出。之后,对于下一个回收容器进行步骤S51的处理。在此,如上所述,可以具有两个与浓度进行比较的阈值,由控制装置1500基于浓度与两个阈值分别比较的结果来控制开闭阀2100、2200的开闭。该控制的具体的方法如上所述。此外,对于图29示出的CP1000的出口水,在由ICP-MS1400计算杂质浓度的情况下,也进行与上述处理同样的处理。
图32是示出应用了本发明的杂质获取系统的液体制造供给系统的其他例子的图。在图32示出的应用例中,CP1000、UF1100、浓缩/洗脱/回收装置1300、ICP-MS1400、控制装置1500以及开闭阀2400分别与图29示出的CP1000、UF1100、浓缩/洗脱/回收装置1300、ICP-MS1400、控制装置1500以及开闭阀2400分别相同。出口水即超纯水从UF1100分配到多个流路,并供给到与各个流路连接的多个半导体清洗装置。多个流路分别分支有到浓缩/洗脱/回收装置1300的流路,对于流向各个流路的超纯水,将各自的超纯水作为检查对象水在浓缩/洗脱/回收装置1300中进行第一~第五实施方式中说明的处理。通过控制装置1500控制设于各个分支流路的开闭阀2500-1~2500-4的开闭,由此选择对流向哪个流路的超纯水进行处理。此外,与上述处理同样地,控制装置1500基于由ICP-MS1400计算出的杂质浓度来控制设于各个流路的第五开闭阀即开闭阀2100-1~2100-4的开闭。另外,控制装置1500也可以具有与多个半导体清洗装置分别对应的阈值,基于由ICP-MS1400计算出的杂质浓度和与各个半导体清洗装置对应的阈值的比较,控制开闭阀2100-1~2100-4的开闭。
这样,在超纯水中包含的杂质的浓度超过给定的浓度阈值情况下,控制开闭阀阻止超纯水到半导体清洗装置的供给。由此,能够防止半导体装置、超纯水设备内的构件的污染。另外,测量对象即液体(水)不限于超纯水,也可以是IPA(异丙醇)、PGMA(聚甲基丙烯酸缩水甘油酯)、PGMEA(丙二醇单甲醚乙酸酯)等药液。此外,对洗脱液的回收使用瓶子的方式进行了说明,但也可以是将回收的洗脱液直接向分析装置喷雾,进行定量分析的方式。此外,在本杂质获取系统中测量的金属杂质的浓度不特别限制,但希望为100ng/L以下,优选为1ng/L以下,更优选为0.1ng/L以下。
以上,使各构成要素分别分担各功能(处理)来进行了说明,但该分配不限于上述情况。此外,对于构成要素的结构,上述方式也只不过是一个例子,不限于此。此外,也可以组合各实施方式。
以上参照实施方式对本发明进行了说明,但本发明不限于上述实施方式。对于本发明的结构、细节,能够在本发明的范围内进行本领域技术人员能理解的各种变更。
本申请主张以2021年2月5日申请的日本申请特愿2021-17488为基础的优先权,在此引入其公开的全部内容。

Claims (10)

1.一种杂质获取系统,获取检查对象液中的杂质,所述杂质获取系统具有:
吸附体,其吸附所述检查对象液中的杂质;以及
第一控制装置,其对所述检查对象液向所述吸附体的通液与洗脱液向所述吸附体的通液进行切换,所述洗脱液使吸附于所述吸附体的杂质洗脱。
2.根据权利要求1所述的杂质获取系统,其中,
所述杂质获取系统具有流量获取部,所述流量获取部获取通液至所述吸附体的液体的流量,
所述第一控制装置基于由所述流量获取部获取到的流量,对所述检查对象液向所述吸附体的通液与所述洗脱液向所述吸附体的通液进行切换。
3.根据权利要求2所述的杂质获取系统,其中,
所述第一控制装置执行:
浓缩工序,使所述检查对象液向所述吸附体通液;以及
洗脱工序,在所述浓缩工序中由所述流量获取部获取到的通液至所述吸附体的检查对象液的流量达到第一阈值时,使所述洗脱液向所述吸附体通液。
4.根据权利要求3所述的杂质获取系统,其中,
在所述洗脱工序中由所述流量获取部获取到的通液至所述吸附体的洗脱液的流量达到第二阈值时,所述第一控制装置执行使清洗所述吸附体的清洗液向所述吸附体通液的清洗工序。
5.根据权利要求4所述的杂质获取系统,其中,
将所述清洗工序作为第一清洗工序,在该第一清洗工序中由所述流量获取部获取到的通液至所述吸附体的清洗液的流量达到第三阈值时,所述第一控制装置执行使再生液向所述吸附体通液的再生工序,所述再生液使所述吸附体再生,
在所述再生工序中由所述流量获取部获取到的通液至所述吸附体的再生液的流量达到第四阈值时,所述第一控制装置执行使所述清洗液向所述吸附体通液的第二清洗工序。
6.根据权利要求7所述的杂质获取系统,其中,
所述杂质获取系统具有杂质去除部,所述杂质去除部去除所述清洗液中的杂质,
所述第一控制装置在所述第一清洗工序以及第二清洗工序中将经由所述杂质去除部的清洗液向所述吸附体供给。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的杂质获取系统,其中,
所述吸附体的官能团为阳离子交换基团或者阴离子交换基团或者螯合物。
8.一种水质检查系统,具备:
权利要求1至7中任一项所述的杂质获取系统;以及
信息处理装置,其对通液至所述吸附体的洗脱液中的杂质浓度进行分析,并基于该杂质浓度来计算所述检查对象液中的杂质浓度。
9.一种液体制造供给系统,具备:
权利要求8所述的水质检查系统;
阀部,其对所述检查对象液从液体制造供给设备到使用所述检查对象液的使用点的供给进行控制,所述液体制造供给设备进行所述检查对象液的制造和供给中的至少一者;以及
第二控制装置,其基于由所述信息处理装置计算出的所述杂质浓度来控制所述阀部。
10.一种杂质获取系统,获取检查对象液中的杂质,所述杂质获取系统具有:
多个吸附体,彼此并列配置,吸附所述检查对象液中的杂质;以及
控制装置,其对所述检查对象液向所述多个吸附体的通液进行切换。
CN202280009733.4A 2021-02-05 2022-01-17 杂质获取系统、水质检查系统以及液体制造供给系统 Pending CN116783483A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021017488A JP2022120536A (ja) 2021-02-05 2021-02-05 不純物取得システム、水質検査システムおよび液体製造供給システム
JP2021-017488 2021-02-05
PCT/JP2022/001263 WO2022168571A1 (ja) 2021-02-05 2022-01-17 不純物取得システム、水質検査システムおよび液体製造供給システム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN116783483A true CN116783483A (zh) 2023-09-19

Family

ID=82740616

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202280009733.4A Pending CN116783483A (zh) 2021-02-05 2022-01-17 杂质获取系统、水质检查系统以及液体制造供给系统

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20240101448A1 (zh)
JP (1) JP2022120536A (zh)
KR (1) KR20230136200A (zh)
CN (1) CN116783483A (zh)
TW (1) TW202237534A (zh)
WO (1) WO2022168571A1 (zh)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001153854A (ja) 1999-11-29 2001-06-08 Japan Organo Co Ltd 不純物濃度モニター方法およびシステム
US12025603B2 (en) * 2018-05-17 2024-07-02 Organo Corporation Method for analyzing metal impurity content and kit for analyzing metal impurity content
JP6754512B1 (ja) * 2018-10-17 2020-09-09 オルガノ株式会社 水質管理方法、イオン吸着装置、情報処理装置および情報処理システム

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022120536A (ja) 2022-08-18
WO2022168571A1 (ja) 2022-08-11
US20240101448A1 (en) 2024-03-28
KR20230136200A (ko) 2023-09-26
TW202237534A (zh) 2022-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11498852B2 (en) Ultrapure water generation and verification system
US6497136B2 (en) Trace-level gas analysis apparatus and method
KR102198919B1 (ko) 가스 측정 장치 및 그의 세척 방법
JP3229088B2 (ja) 自動ガス採取方法及び自動ガス分析方法
KR19980024535A (ko) 가스 분석 장치 및 가스 분석 방법
JP2000081422A (ja) 多点極微量物質自動分析装置及び分析方法並びに極微量物質自動分析装置及び分析方法
KR20240023199A (ko) 수질관리방법, 이온흡착장치, 정보처리장치 및 정보처리시스템
CN116783483A (zh) 杂质获取系统、水质检查系统以及液体制造供给系统
CN112748190B (zh) 接口系统及对应方法
JP2907269B2 (ja) 自動分析計の自動校正方法
US20230314332A1 (en) Analysis system and management system, analysis method, and analysis program
JPH1090134A (ja) 水中の微量揮発性有機化合物の分析方法およびその 装置
WO2024038777A1 (ja) 不純物取得システム、品質検査システムおよび液体製造供給システム
KR20220155173A (ko) 오염물질 분석 장치 및 실시간 수질 모니터링 시스템
JP7514303B2 (ja) 自動サンプリング装置と共に使用するための遠隔化学物質自動切替えシステム
KR101851059B1 (ko) 여과수 입자 감시시스템
CN110018038A (zh) 一种焦炉煤气氨气在线分析预处理系统及其使用方法
AU2021356901B2 (en) Analysis system and management system, analysis method, and analysis program
US20230204608A1 (en) Water quality management method, information processing device, and information processing system
US20240264194A1 (en) Contaminant analysis apparatus and water quality monitoring system
KR20240046198A (ko) 품질 관리 시스템, 대상물 관리 시스템 및 대상물 관리 방법
TW202210831A (zh) 流體監控系統
CN117619812A (zh) 一种半导体清洗药液管道结构和半导体工艺设备
JP2003028848A (ja) 陽イオン及び陰イオン連続分析方法およびこれに使用される分析装置
Gronheid et al. In-line monitoring of acid and base contaminants at low ppt levels for 193nm lithography

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination