CN116688837B - 一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置，涉及清洁装置领域，一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置，包括：用于承载被搅拌物料的搅拌筒；主轴，安装用以对物料搅拌的搅拌杆的载体；本发明通过将搅拌叶片设置成能够往复摇摆，在对搅拌叶片进行清洁时，通过喷管中喷出的介质，能够更好的以更多的方位对搅拌叶片表面进行清洗，使往复摇摆的搅拌叶片与喷管之间形成多角度夹角，更好的对搅拌叶片表面进行清洗清洁，同时在摇摆的状态下，能够方便将粘黏在搅拌叶片上的物料甩掉，进而方便对搅拌叶片上犄角、凹槽等一些不易被清洗到的位置进行有效清洁。

Description

一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置

技术领域

本发明属于清洁装置技术领域，具体地说，涉及一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置。

背景技术

高粘度的物体可以包括以下几种：高粘度液体：这种液体的粘度很高，比如糖浆、蜂蜜、果酱等；高分子材料：这种材料由大量分子链组成，通常具有很高的粘度，比如聚合物、胶水、胶带等；热塑性胶体：这种物体通常由高分子、稳定剂和功能剂等混合而成，具有很强的黏着性，比如软膏、胶水、胶布等；熔融态物质：这种物体通常在高温下处于熔融状态，具有很高的黏稠度，比如熔岩、黏土、石蜡等；

以上这些高粘度的物体通常都具有很强的黏着力和流动性差的特点，在对其原料进行混合加工时，需要使用到搅拌设备，搅拌设备通常通过电机驱动主轴旋转，主轴上设有用于对原料混合的搅拌叶片，而为了提高搅拌效果，搅拌叶片会设置成弯曲状或其他各类形状，用于提高搅拌效果；

而在将搅拌物排出后，搅拌筒内的搅拌叶片上会附着有大量的高粘度流体物质，尤其是搅拌轴、搅拌叶片上的犄角、凹槽处中会残留有较多的高粘度流体物质难以在清洗过程中清洗干净。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于克服现有技术的不足，提供一种可以克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置。

为解决上述技术问题，本发明采用技术方案的基本构思是：一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置，包括：用于承载被搅拌物料的搅拌筒；主轴，安装用以对物料搅拌的搅拌杆的载体；搅拌叶片，所述搅拌叶片安装在搅拌杆上，在所述搅拌筒中往复摇摆；喷管，设置于所述搅拌叶片两侧，形成对搅拌叶片的清洗通道，用以对所述搅拌叶片清洁。

优选地，还包括：摆动槽，所述搅拌杆用于安装搅拌叶片的一端开设有安装槽，所述摆动槽开设在搅拌杆的安装槽侧壁上，用以对搅拌叶片的摆动角度进行限位。

优选地，所述摆动槽还包括弧形槽和阻挡壁，用以限位所述搅拌叶片往复摆动的角度在0-50°区间，所述搅拌叶片上固定连接有限位柱，所述限位柱的一端与安装槽底壁转动相连，所述限位柱棱边与摆动槽中的弧形槽、阻挡壁相对应。

优选地，还包括：多组安置板，多组所述安置板安装于搅拌筒上，所述安置板一端位于搅拌筒内，所述安置板分布在搅拌叶片的两侧；N极块、S极块，分别设置在所述安置板两侧，且所述N极块、S极块呈交错设置；N极区、S极区，设置在所述搅拌叶片的两侧，用以与所述N极块、S极块间断性发生排斥反应。

优选地，所述喷管设置在安置板上，且当所述搅拌叶片摇摆时，所述喷管一端与搅拌叶片侧面之间的间距保持统一。

优选地，所述安置板上固定连接有滑筒，所述喷管一端滑动连接在滑筒中，所述滑筒末端与滑筒之间通过弹簧相连接；还包括：N极磁头、S极磁头，分别设置在与搅拌叶片上的N极区、S极区相对应一侧的喷管顶端，用于发生排斥反应。

优选地，还包括：清洗板，对所述搅拌筒内进行清洁。

优选地，所述清洗板的侧壁上开设有第一喷口，所述清洗板朝向搅拌筒轴心的一面上开设有多组第二喷口。

优选地，还包括：上料口，设置在所述搅拌筒上，用以向所述搅拌筒中倾倒物料；下料口，设置在所述搅拌筒上，用以方便排出所述搅拌筒中的物料。

优选地，还包括支架，用于对所述搅拌筒进行支撑安装。

采用上述技术方案后，本发明与现有技术相比具有以下有益效果：本发明通过将搅拌叶片设置成能够往复摇摆，在对搅拌叶片进行清洁时，通过喷管中喷出的介质，能够更好的以更多的方位对搅拌叶片表面进行清洗，使往复摇摆的搅拌叶片与喷管之间形成多角度夹角，更好的对搅拌叶片表面进行清洗清洁，同时在摇摆的状态下，能够方便将粘黏在搅拌叶片上的物料甩掉，进而方便对搅拌叶片上犄角、凹槽等一些不易被清洗到的位置进行有效清洁，或使得喷管喷出的介质更好的与犄角、凹槽处的物料接触。

其次，在搅拌时，通过喷管中喷出的介质与摇摆的搅拌叶片接触，能够将搅拌叶片上附着的物料吹掉，避免搅拌叶片上粘附太多物料，导致搅拌叶片增厚，使搅拌效果变差。

下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的描述。

附图说明

在附图中：

图1为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的立体结构示意图一；

图2为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的图1中A处的结构示意图；

图3为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的立体结构示意图二；

图4为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的图3中B处的结构示意图；

图5为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的立体结构示意图三；

图6为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的立体结构示意图四；

图7为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的俯视结构示意图一；

图8为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的俯视结构示意图二；

图9为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的安置板的结构示意图；

图10为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的摆动槽、限位柱的结构示意图；

图11为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的弧形槽和阻挡壁的结构示意图；

图12为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的N极块和S极块的结构示意图；

图13为本发明提出的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置的喷管的结构示意图。

图中：1、支架；11、安装板；12、搅拌筒；121、筒门；122、下料口；123、锁扣；124、上料口；13、减速机；14、电机；15、主轴；150、摆动槽；1501、弧形槽；1502、阻挡壁；151、搅拌杆；152、安装槽；153、搅拌叶片；154、N极区；155、S极区；156、限位柱；16、连接盒；161、伸缩机构；162、清洗板；163、第一喷口；164、第二喷口；17、安置板；171、N极块；172、S极块；18、连接管；181、滑筒；182、弹簧；183、喷管；184、N极磁头；185、S极磁头。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

实施例1：

参照图1-图13，一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置，包括：用于承载被搅拌物料的搅拌筒12；主轴15，安装用以对物料搅拌的搅拌杆151的载体；搅拌叶片153，搅拌叶片153安装在搅拌杆151上，在搅拌筒12中往复摇摆；喷管183，设置于搅拌叶片153两侧，形成对搅拌叶片153的清洗通道，用以对搅拌叶片153清洁；

本装置在对高粘度体系的物料进行搅拌后，为了方便对搅拌叶片153的犄角、凹槽上的物料，通过在搅拌筒12中设置用于对搅拌叶片153清洗的清洗通道，并将清洗通道设置在搅拌筒12远离地面最上方处的内壁上；

由于搅拌筒12呈卧式状态设置，在将物料加入搅拌筒12中时，不会加满，因此物料与搅拌筒12上端之间留有一定的空间，因此将清洗通道设置在该处，能够起到更好的清洗效果；

本装置通过使搅拌叶片153能够往复摇摆，一方面，在搅拌时，通过喷管183中喷出的介质与摇摆的搅拌叶片153接触，能够将搅拌叶片153上附着的物料吹掉，避免搅拌叶片153上粘附太多物料，导致搅拌叶片153增厚，使搅拌效果变差；

该介质可以为需要向物料中加入的水，或其他需要与物料进行混合的添加剂等液体介质，通过喷管183一方面能够对搅拌叶片153表面附着的物料进行清除，另一方面通过喷管183将介质喷射在搅拌叶片153上，能够使得介质在搅拌筒12中四溅，更好的使介质与物料进行混合，提高混合效果；

其次：在需要对搅拌筒12进行清洁时，往复摆动的搅拌叶片153能够在喷管183向其表面喷射清洗液、清洗气体、清洗蒸汽时，能够更好的以更多的方位对搅拌叶片153表面进行清洗，使往复摇摆的搅拌叶片153与喷管183之间形成多角度夹角，更好的对搅拌叶片153表面进行清洗清洁，同时在摇摆的状态下，能够方便将粘黏在搅拌叶片153上的物料甩掉，进而方便对搅拌叶片153上犄角、凹槽等一些不易被清洗到的位置进行有效清洁，或使得喷管183喷出的介质更好的与犄角、凹槽处的物料接触；

在一个实施例中，还包括：摆动槽150，搅拌杆151用于安装搅拌叶片153的一端开设有安装槽152，摆动槽150开设在搅拌杆151的安装槽152侧壁上，用以对搅拌叶片153的摆动角度进行限位；

搅拌叶片153通过摆动槽150对其摇摆角度进行限制，使得搅拌叶片153在一定角度范围内进行摇摆，能够在一定角度范围内快速发生摇摆，提高对其自身的清洗效果，避免大角度的摇摆，造成摆动行程增加，导致摆动速度降低的问题。

在一个实施例中，参照图10、图11，摆动槽150还包括弧形槽1501和阻挡壁1502，用以限位搅拌叶片153往复摆动的角度在0-50°区间，搅拌叶片153上固定连接有限位柱156，限位柱156的一端与安装槽152底壁转动相连，限位柱156棱边与摆动槽150中的弧形槽1501、阻挡壁1502相对应；

搅拌叶片153的摆动角度通过摆动槽150中设定的弧形槽1501、阻挡壁1502以及限位柱156达到所要的摇摆角度；

本装置限位柱156优选截面为矩形的形状，通过将限位柱156设置在安装槽152中，当搅拌叶片153进行摇摆时，限位柱156与弧形槽1501相邻的棱边在弧形槽1501的运动，弧形槽1501的圆心与限位柱156同轴，因此限位柱156的棱边能在弧形槽1501中做小幅度运动，而当搅拌叶片153发生摇摆后，限位柱156摇摆一定角度后，限位柱156的一侧面与阻挡壁1502相贴，此时阻挡壁1502将限位柱156抵住，使其限位柱156无法再继续向一个方向摇摆，进而对摇摆方向进行限位；

在一个实施例中，参照图4、图12，还包括：多组安置板17，多组安置板17安装于搅拌筒12上，安置板17一端位于搅拌筒12内，安置板17分布在搅拌叶片153的两侧；N极块171、S极块172，分别设置在安置板17两侧，且N极块171、S极块172呈交错设置；N极区154、S极区155，设置在搅拌叶片153的两侧，用以与N极块171、S极块172间断性发生排斥反应；

通过在搅拌叶片153两侧面上，分别设置N极区154、S极区155，利用磁铁中同极相斥原理，使得搅拌叶片153在经过两个安置板17之间的区域时，由于喷管183安装在安置板17上，因此两个安置板17之间的区域即为清洗通道，搅拌叶片153上的N极区154、S极区155与安置板17上的N极块171、S极块172发生同极相斥反应，进而使得搅拌叶片153在安置板17之间的区域内发生摇摆现象。

在另一个实施例中，用于驱动搅拌叶片153往复摆动的机构可以采用伺服电机，将伺服电机安装于搅拌杆151中，并做防水处理，伺服电机输出端与搅拌叶片153相连接，通过伺服电机反复的正反转，带动搅拌叶片153在搅拌筒12中往复摇摆，同时通过外部控制设备，能够调节伺服电机单方向的旋转角度，进而便于调节搅拌叶片153摇摆角度；

而用于给伺服电机供电的输电线，从搅拌杆151穿入到主轴15中，将主轴15设置为中空，中空区域用于存放输电线，并在主轴15的一端安装旋转接头，通过外部供电线与旋转接头相连，便于为伺服电机供电，且不会发生输电线缠绕问题；

通过伺服电机控制搅拌叶片153的旋转角度，能够在本装置对物料进行搅拌时，通过往复摇摆的搅拌叶片153能够更好的将搅拌筒12中的物料进行打散，并通过往复摇摆的动作，使物料在搅拌筒12中呈现出不规则运动的轨迹，更进一步的提高对物料的搅拌效果，进一步提高装置的实用效果。

在一个实施例中，参照图13，喷管183设置在安置板17上，且当搅拌叶片153摇摆时，喷管183一端与搅拌叶片153侧面之间的间距保持统一；安置板17上固定连接有滑筒181，喷管183一端滑动连接在滑筒181中，滑筒181末端与滑筒181之间通过弹簧182相连接，滑筒181末端连接有连接管18，连接管18用于向滑筒181中泵入液体介质；还包括：N极磁头184、S极磁头185，分别设置在与搅拌叶片153上的N极区154、S极区155相对应一侧的喷管183顶端，用于发生排斥反应；

在搅拌叶片153摇摆的过程中，喷管183前端与搅拌叶片153之间的间距会发生改变，会造成降低对搅拌叶片153的清洗效果，本装置通过将喷管183设置能滑动的方式，并在喷管183的一端设置N极磁头184、S极磁头185，通过在搅拌叶片153摇摆过程中，与相应的N极磁头184、S极磁头185靠近时，发生相斥反应，推动喷管183向滑筒181中滑动，并挤压弹簧182，使得喷管183能够在与搅拌叶片153之间保持一定的间距的同时，使得多根设置在安置板17上的喷管183一端与搅拌叶片153侧面保持相对统一的间距，进而提高喷管183对搅拌叶片153的清洗效果。

在一个实施例中，还包括：清洗板162，对搅拌筒12内进行清洁；清洗板162的侧壁上开设有第一喷口163，清洗板162朝向搅拌筒12轴心的一面上开设有多组第二喷口164；

通过在搅拌筒12的上端表面固定连接连接盒16，清洗板162置于连接盒16中，清洗板162为弧形，与搅拌筒12内圆弧度相同；

清洗板162上固定连通有管路，与第一喷口163、第二喷口164相连通，用于向第一喷口163、第二喷口164中泵入液体介质；

进一步的，连接管18与清洗板162上的管路相连通；

在搅拌筒12对物料进行过程中，能够将需要向搅拌筒12中加入的液体介质通过清洗板162上的第一喷口163、第二喷口164中喷进搅拌筒12中，进一步提高物料之间的混合效果；

当需要对搅拌筒12进行清洗时，通过水泵将清洗液泵入管路中，清洗液从第一喷口163、第二喷口164喷出，第一喷口163设置在清洗板162的侧面上，能够以多个角度向搅拌筒12中喷入清洗液；

通过在搅拌筒12上安装伸缩机构161，驱动清洗板162从连接盒16中伸出，使得第一喷口163的中心与搅拌筒12内壁处于同一直径上，使得清洗板162两侧的第一喷口163喷出的液体绕搅拌筒12内壁运动，进一步提高对搅拌筒12内壁的清洗效果。

伸缩机构161为气缸或其他能够往复直线运动的设备。

在一个实施例中，还包括：上料口124，设置在搅拌筒12上，用以向搅拌筒12中倾倒物料；下料口122，设置在搅拌筒12上，用以方便排出搅拌筒12中的物料；

通过设置上料口124、下料口122能够便于上料和排料。

还包括支架1，用于对搅拌筒12进行支撑安装。

更进一步的是，搅拌筒12上安装有筒门121，能够打开查看搅拌筒12中内的情况，同时搅拌筒12上安装有用于对筒门121锁死的锁扣123，防止筒门121在使用过程中自己打开。

本装置通过电机14与减速机13配合，带动主轴15旋转，搅拌筒12安装在安装板11上，安装板11与支架1相连。

本发明通过将搅拌叶片153设置成能够往复摇摆，在对搅拌叶片153进行清洁时，通过喷管183中喷出的介质，能够更好的以更多的方位对搅拌叶片153表面进行清洗，使往复摇摆的搅拌叶片153与喷管183之间形成多角度夹角，更好的对搅拌叶片153表面进行清洗清洁，同时在摇摆的状态下，能够方便将粘黏在搅拌叶片153上的物料甩掉，进而方便对搅拌叶片153上犄角、凹槽等一些不易被清洗到的位置进行有效清洁，或使得喷管183喷出的介质更好的与犄角、凹槽处的物料接触。

以上所述仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专利的技术人员在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述提示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明方案的范围内。

Claims (6)

1.一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置，其特征在于，包括：

用于承载被搅拌物料的搅拌筒（12）；

主轴（15），安装用以对物料搅拌的搅拌杆（151）的载体；

搅拌叶片（153），所述搅拌叶片（153）安装在搅拌杆（151）上，在所述搅拌筒（12）中往复摇摆；

喷管（183），设置于所述搅拌叶片（153）两侧，形成对搅拌叶片（153）的清洗通道，用以对所述搅拌叶片（153）清洁；

还包括：摆动槽（150），所述搅拌杆（151）用于安装搅拌叶片（153）的一端开设有安装槽（152），所述摆动槽（150）开设在搅拌杆（151）的安装槽（152）侧壁上，用以对搅拌叶片（153）的摆动角度进行限位；

还包括：

多组安置板（17），多组所述安置板（17）安装于搅拌筒（12）上，所述安置板（17）一端位于搅拌筒（12）内，所述安置板（17）分布在搅拌叶片（153）的两侧；

N极块（171）、S极块（172），分别设置在所述安置板（17）两侧，且所述N极块（171）、S极块（172）呈交错设置；

N极区（154）、S极区（155），设置在所述搅拌叶片（153）的两侧，用以与所述N极块（171）、S极块（172）间断性发生排斥反应；

所述喷管（183）设置在安置板（17）上，且当所述搅拌叶片（153）摇摆时，所述喷管（183）一端与搅拌叶片（153）侧面之间的间距保持统一；

所述安置板（17）上固定连接有滑筒（181），所述喷管（183）一端滑动连接在滑筒（181）中，所述滑筒（181）末端与滑筒（181）之间通过弹簧（182）相连接；

还包括：N极磁头（184）、S极磁头（185），分别设置在与搅拌叶片（153）上的N极区（154）、S极区（155）相对应一侧的喷管（183）顶端，用于发生排斥反应。

2.根据权利要求1所述的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置，其特征在于，所述摆动槽（150）还包括弧形槽（1501）和阻挡壁（1502），用以限位所述搅拌叶片（153）摆动角度在0-50°区间，所述搅拌叶片（153）上固定连接有限位柱（156），所述限位柱（156）的一端与安装槽（152）底壁转动相连，所述限位柱（156）棱边与摆动槽（150）中的弧形槽（1501）、阻挡壁（1502）相对应。

3.根据权利要求1所述的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置，其特征在于，还包括：

清洗板（162），对所述搅拌筒（12）内进行清洁。

4.根据权利要求3所述的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置，其特征在于，所述清洗板（162）的侧壁上开设有第一喷口（163），所述清洗板（162）朝向搅拌筒（12）轴心的一面上开设有多组第二喷口（164）。

5.根据权利要求1所述的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置，其特征在于，还包括：

上料口（124），设置在所述搅拌筒（12）上，用以向所述搅拌筒（12）中倾倒物料；

下料口（122），设置在所述搅拌筒（12）上，用以方便排出所述搅拌筒（12）中的物料。

6.根据权利要求1所述的一种用于高粘度体系的卧式单轴搅拌设备的自清洁装置，其特征在于，还包括支架（1），用于对所述搅拌筒（12）进行支撑安装。