CN116435408B - 一种滚筒式连续层压的层压机 - Google Patents
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- 238000010030 laminating Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 238000003475 lamination Methods 0.000 title claims description 19
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 claims description 8
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 15
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
- H01L21/67115—Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67121—Apparatus for making assemblies not otherwise provided for, e.g. package constructions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/048—Encapsulation of modules
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
本发明公开了一种滚筒式连续层压的层压机，包括层压机主体，层压机主体的两端分别开设有进料口和出料口，层压机主体的内部从左往右依次开设有多个相互独立的空间，相邻空间之间开设有供光伏组件通过的通槽，空间的内部设置有多个用于对光伏组件进行传动以及挤压的转动滚筒对，转动滚筒对包括上下两个转动安装在层压机主体上的滚筒，滚筒通过驱动机构驱动转动，本发明涉及层压机技术领域，该一种滚筒式连续层压的层压机，采用硅橡胶以及氟橡胶的滚筒代替硅胶板的新的层压方式和设备，不需要定期更换，自动化程度高，以及采用了相似温度场的方式形成真空度场，从而克服了层压过程中真空度的难度要求。
Description
技术领域
本发明涉及层压机技术领域，具体为一种滚筒式连续层压的层压机。
背景技术
当前光伏组件层压工艺所采用的的层压机需要使用硅胶板对光伏组件进行挤压进行层压，但硅胶板在使用过程中需要进行定期更换，导致自动化程度不高；另外当前光伏组件层压工艺对材料降低成本的改革，希望层压过程实现连续、温度梯度的曲线，由低到高，对材料适应的窗口做到最大化，连续生产更为节能，为了实现连续进出料，所以给真空腔室的真空度带来了难度，为了解决上述问题，我们提出了一种滚筒式连续层压的层压机。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足，本发明提供了一种滚筒式连续层压的层压机，采用硅橡胶以及氟橡胶的滚筒代替硅胶板的新的层压方式和设备，以及采用了相似温度场的方式形成真空度场，从而克服了层压过程中真空度的难度要求，解决了现有的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种滚筒式连续层压的层压机，包括层压机主体，所述层压机主体的两端分别开设有进料口和出料口，所述层压机主体的内部从左往右依次开设有多个相互独立的空间，每两个相邻空间之间开设有供光伏组件通过的通槽，每个所述空间的内部设置有多个用于对光伏组件进行传动以及挤压的转动滚筒对，所述转动滚筒对包括上下两个转动安装在层压机主体上的滚筒，所述滚筒通过驱动机构驱动转动，每个所述空间的内壁固定安装有电加热管，每个所述空间上固定安装有抽真空管，所述抽真空管上固定安装有阀门，所述抽真空管与外部真空泵连接，每个所述空间内壁固定安装有温度传感器和真空度传感器，每个所述空间上固定安装有真空度调节阀，所述层压机主体上固定安装有控制器，所述控制器上固定安装有显示屏；
所述进料口、出料口上沿自上而下分别设置有风幕，用于使空间内形成相对密闭空间。
优选的，所述驱动机构包括转轴，所述滚筒固定安装在转轴上，所述转轴一端通过轴承与层压机主体内壁转动连接，另一端固定安装在电机的输出端，所述电机固定安装在层压机主体上。
优选的，所述滚筒采用硅橡胶以及氟橡胶材质。
优选的，所述温度传感器、真空度传感器的信号输出端分别与控制器的信号输入端连接。
优选的，所述真空泵用于对空间内部进行抽真空，所述真空泵的信号输入端与控制器的控制端连接。
优选的，所述电机的信号输入端与控制器的控制端连接。
优选的，所述真空度调节阀的信号输入端与控制器的控制端连接。
有益效果
本发明提供了一种滚筒式连续层压的层压机。与现有技术相比具备以下
有益效果：
1、该一种滚筒式连续层压的层压机，形成一个隧道式层压系统，包括多个不同温度梯度和真空度梯度的相对独立的空间，每个空间是相连的，层压过程从系统的首端一直进行到系统的尾端，在此过程中，经历不同的真空度和温度，并完成挤压，采用了相似温度场的方式形成真空度场，从而解决了层压过程中真空度的要求；
2、该一种滚筒式连续层压的层压机，采用滚筒方式进行输送以及挤压，相较于传统硅胶板，不需要定期更换，自动化程度高，既解决了传动动力，又解决了在真空状态下对光伏组件的进一步挤压，消除了组件对于无气泡的要求；
3、该一种滚筒式连续层压的层压机，采用电加热管的辐射无接触加热，使光伏组件接受的温度要求更为均匀，温度的控制精度更高；
4、该一种滚筒式连续层压的层压机，采用控制器进行自动控制控制，可实现全自动化、免维护、节能对层压组件的一些工艺过程的参数同时可通过显示屏实现实时显示图像，显示故障等意外报警信息。
附图说明
图1为本发明主视结构示意图；
图2为本发明整体结构示意图；
图3为本发明空间内部侧视结构示意图；
图4为本发明转动滚筒对结构示意图；
图5为本发明电路连接示意图。
图中，1、层压机主体；2、进料口；3、出料口；4、空间；5、通槽；6、转动滚筒对；61、滚筒；62、转轴；63、轴承；64、电机；7、电加热管；8、温度传感器；9、真空度传感器；10、控制器；11、抽真空管。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-5，本发明实施例提供两种技术方案：
实施例一：
一种滚筒式连续层压的层压机，包括层压机主体1，层压机主体1的两端分别开设有进料口2和出料口3，层压机主体1的内部从左往右依次开设有多个相互独立的空间4，每两个相邻空间4之间开设有供光伏组件通过的通槽5，每个空间4的内部设置有多个用于对光伏组件进行传动以及挤压的转动滚筒对6，转动滚筒对6包括上下两个转动安装在层压机主体1上的滚筒61，滚筒61通过驱动机构驱动转动，每个空间4的内壁固定安装有电加热管7，每个空间4上固定安装有抽真空管11，抽真空管11上固定安装有阀门，抽真空管11与外部真空泵连接，每个空间4内壁固定安装有温度传感器8和真空度传感器9，每个空间4上固定安装有真空度调节阀，层压机主体1上固定安装有控制器10，控制器10上固定安装有显示屏。
实施例二：
一种滚筒式连续层压的层压机，包括层压机主体1，层压机主体1的两端分别开设有进料口2和出料口3，进料口2、出料口3上沿自上而下分别设置有风幕，用于使空间4内形成相对密闭空间；层压机主体1的内部从左往右依次开设有多个相互独立的空间4，每两个个相邻空间4之间开设有供光伏组件通过的通槽5，每个空间4的内部设置有多个用于对光伏组件进行传动以及挤压的转动滚筒对6，转动滚筒对6包括上下两个转动安装在层压机主体1上的滚筒61，滚筒61通过驱动机构驱动转动，驱动机构包括转轴62，滚筒61采用硅橡胶以及氟橡胶材质，质软不会对光伏组件挤压时造成损坏；滚筒61固定安装在转轴62上，转轴62一端通过轴承63与层压机主体1内壁转动连接，另一端固定安装在电机64的输出端，电机64固定安装在层压机主体1上，启动电机64能驱动转轴62转动进而带动滚筒61转动，通过两个滚筒61相互转动对光伏组件进行挤压与传送；每个空间4的内壁固定安装有电加热管7，空间4上固定安装有抽真空管11，抽真空管11上固定安装有阀门，抽真空管11与外部真空泵连接，每个空间4内壁固定安装有温度传感器8和真空度传感器9，每个空间4上固定安装有真空度调节阀，层压机主体1上固定安装有控制器10，控制器10上固定安装有显示屏对层压组件的一些工艺过程的参数可实现实时显示图像，显示故障等意外报警信息；温度传感器8、真空度传感器9的信号输出端分别与控制器10的信号输入端连接，通过温度传感器8、真空度传感器9能分别对空间4内部的温度以及真空度进行检测；真空泵用于对空间4内部进行抽真空，真空泵的信号输入端与控制器10的控制端连接，通过控制器10能控制真空泵对空间4内部进行抽真空；电机64的信号输入端与控制器10的控制端连接，通过控制器10能控制电机64转动从而对光伏组件进行挤压与传送；真空度调节阀的信号输入端与控制器10的控制端连接，通过控制器10能自动控制真空度调节阀，并通过真空度调节阀对空间4内部真空度进行调节。
该一种滚筒式连续层压的层压机使用时，层压机主体1的多个空间4形成一个隧道式层压系统，包括多个不同温度梯度和真空度梯度的相对独立的空间4，相邻空间4之间是相连的，层压过程从光伏组件从进料口2进入一直进行到系统的尾端出料口3，在此过程中，经历多个空间4不同的真空度和温度，并完成挤压；在该系统中，加热的方式为电加热管7的辐射即热，辐射的形式为红外辐射；挤压的方式为转动滚筒对6的滚筒挤压，采用两个滚筒对滚，实现传动和挤压，并保持平行度；真空度以及温度的变化均采用控制器10对电加热管7、真空泵进行控制调节，以实现自动化；层压步骤为：光伏组件由进料口2传动进层压机主体1内部，预热；初步熔化和小压力挤压；之后熔化和正常压力挤压；之后提高温度固化和挤压；之后缓慢降低温度以及缓慢卸压；最后在滚筒传动下，一致延续最终状态至出系统。
同时本说明书中未作详细描述的内容均属于本领域技术人员公知的现有技术。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种滚筒式连续层压的层压机，包括层压机主体(1)，其特征在于：所述层压机主体(1)的两端分别开设有进料口(2)和出料口(3)，所述层压机主体(1)的内部从左往右依次开设有多个相互独立的空间(4)，每两个相邻空间(4)之间开设有供光伏组件通过的通槽(5)，每个所述空间(4)的内部设置有多个用于对光伏组件进行传动以及挤压的转动滚筒对(6)，所述转动滚筒对(6)包括上下两个转动安装在层压机主体(1)上的滚筒(61)，所述滚筒(61)通过驱动机构驱动转动，每个所述空间(4)的内壁固定安装有电加热管(7)，每个所述空间(4)上固定安装有抽真空管(11)，所述抽真空管(11)上固定安装有阀门，所述抽真空管(11)与外部真空泵连接，每个所述空间(4)内壁固定安装有温度传感器(8)和真空度传感器(9)，每个所述空间(4)上固定安装有真空度调节阀，所述层压机主体(1)上固定安装有控制器(10)，所述控制器(10)上固定安装有显示屏；
所述进料口(2)、出料口(3)上沿自上而下分别设置有风幕，用于使空间(4)内形成相对密闭空间。
2.根据权利要求1所述的一种滚筒式连续层压的层压机，其特征在于：所述驱动机构包括转轴(62)，所述滚筒(61)固定安装在转轴(62)上，所述转轴(62)一端通过轴承(63)与层压机主体(1)内壁转动连接，另一端固定安装在电机(64)的输出端，所述电机(64)固定安装在层压机主体(1)上。
3.根据权利要求1所述的一种滚筒式连续层压的层压机，其特征在于：所述滚筒(61)采用硅橡胶以及氟橡胶材质。
4.根据权利要求1所述的一种滚筒式连续层压的层压机，其特征在于：所述温度传感器(8)、真空度传感器(9)的信号输出端分别与控制器(10)的信号输入端连接。
5.根据权利要求1所述的一种滚筒式连续层压的层压机，其特征在于：所述真空泵用于对空间(4)内部进行抽真空，所述真空泵的信号输入端与控制器(10)的控制端连接。
6.根据权利要求2所述的一种滚筒式连续层压的层压机，其特征在于：所述电机(64)的信号输入端与控制器(10)的控制端连接。
7.根据权利要求1所述的一种滚筒式连续层压的层压机，其特征在于：所述真空度调节阀的信号输入端与控制器(10)的控制端连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310494967.9A CN116435408B (zh) | 2023-05-05 | 2023-05-05 | 一种滚筒式连续层压的层压机 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310494967.9A CN116435408B (zh) | 2023-05-05 | 2023-05-05 | 一种滚筒式连续层压的层压机 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116435408A CN116435408A (zh) | 2023-07-14 |
| CN116435408B true CN116435408B (zh) | 2023-10-10 |
Family
ID=87083296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202310494967.9A Active CN116435408B (zh) | 2023-05-05 | 2023-05-05 | 一种滚筒式连续层压的层压机 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116435408B (zh) |
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- 2023-05-05 CN CN202310494967.9A patent/CN116435408B/zh active Active
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|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |