CN116393336A - 用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法 - Google Patents

用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法 Download PDF

Info

Publication number
CN116393336A
CN116393336A CN202310679520.9A CN202310679520A CN116393336A CN 116393336 A CN116393336 A CN 116393336A CN 202310679520 A CN202310679520 A CN 202310679520A CN 116393336 A CN116393336 A CN 116393336A
Authority
CN
China
Prior art keywords
glass plate
film
film substrate
strong magnetic
spin coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202310679520.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN116393336B (zh
Inventor
刘嘉辰
同阳
李俊钢
雍辉
张克维
胡季帆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiyuan University of Science and Technology
Original Assignee
Taiyuan University of Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiyuan University of Science and Technology filed Critical Taiyuan University of Science and Technology
Priority to CN202310679520.9A priority Critical patent/CN116393336B/zh
Publication of CN116393336A publication Critical patent/CN116393336A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN116393336B publication Critical patent/CN116393336B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C13/00—Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles
    • B05C13/02—Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles for particular articles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
    • B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/08—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation
    • B05C9/12—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation the auxiliary operation being performed after the application
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/04—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases
    • B05D3/0406—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases the gas being air
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

本发明涉及一种用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法，属于薄膜涂覆技术领域，解决磁致伸缩材料薄膜基体装夹的问题，解决方案为：夹具包括上层玻璃板、下层玻璃板以及强磁材料阵列，上层玻璃板与下层玻璃板相对的表面上分别贴附双面胶带，强磁材料阵列两侧的端面粘贴在对应的双面胶带上，上层玻璃板与下层玻璃板通过双面胶带连接，薄膜基体吸附于上层玻璃板的上表面上；在此基础上，还提供了磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具的使用方法。本发明在运用旋转涂布法的基础上，能够在磁致伸缩材料薄膜基体表面快速、均匀和高质量的涂覆单层功能性的聚合物材料薄膜，使其能够应用于无线湿度传感元件对相对湿度进行无线传感。

Description

用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法
技术领域
本发明属于薄膜涂覆技术领域，具体涉及的是一种用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法。
背景技术
功能性聚合物材料-磁致伸缩材料所构成的双层薄膜能够应用于无线湿度传感元件，对相对湿度进行无线传感，现有技术中通常采用溶液流延法和热压法制备聚合物材料-磁致伸缩材料双层薄膜，但是存在以下缺点：
1、溶液流延法：由于聚合物材料的溶液（或悬浊溶液）在溶剂挥发过程中，不同位置溶剂挥发时间不一致性，导致在磁致伸缩材料薄膜表面涂覆的聚合物材料薄膜厚度分布不均匀（如图1所示）；
2、热压法：由于在密闭成形模具中进行高压成形，一方面，会导致磁致伸缩材料发生微小的塑形形变，另一方面，聚合物材料挤入到磁致伸缩材料的四周及其底面上（如图2所示），严重影响双层薄膜的制造质量和传感功能的稳定性。
综上所述，聚合物材料-磁致伸缩材料双层薄膜的制造工艺的难点在于：如何实现在磁致伸缩材料薄膜上表面快速、均匀和高质量的涂覆单层聚合物材料薄膜。
旋转涂布法能够实现在刚度较大的基体材料（如玻璃片、陶瓷片、石英晶体片、各类天然石材、金属块或金属片（较厚、不易变形）等）平整光洁的表面快速、均匀涂覆单层聚合物材料薄膜，为了在磁致伸缩材料（即基底材料）薄膜表面涂覆单层聚合物材料薄膜，需要将此磁致伸缩材料薄膜放置在旋转涂布转盘中心处，并使用卡槽法或者抽真空法将其固定从而对其进行旋转涂布工艺。然而，如图4所示，卡槽法制备过程中，由于受卡槽壁的影响，在磁致伸缩薄膜表面无法得到均匀且高质量的聚合物材料薄膜；如图3所示，抽真空法会使磁致伸缩材料薄膜形变导致其磁致伸缩性能的变化，并且也严重影响聚合物材料薄膜的旋转涂布工艺的稳定性和所涂覆的薄膜厚度的均匀性。所以，如何采用旋转涂布法在磁致伸缩材料单侧面制备厚度均匀一致的聚合物材料薄膜，是现有技术中亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明的主要目的在于克服现有技术中的不足，解决磁致伸缩材料薄膜基体装夹的问题，本发明提供一种用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法。
为了实现上述发明目的，本发明采用的技术方案为：
用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具，其中：它包括上层玻璃板、下层玻璃板以及设置于两层玻璃板之间的强磁材料阵列，上层玻璃板与下层玻璃板相对的表面上分别贴附双面胶带，强磁材料阵列两侧的端面粘贴在对应的双面胶带上，上层玻璃板与下层玻璃板通过双面胶带连接，薄膜基体吸附于上层玻璃板的上表面上；所述强磁材料阵列包括四个以上的偶数个强磁材料单元，并且若干强磁材料单元两两外切，与所述强磁材料阵列相外切的矩形框定义为有效吸附区，薄膜基体的形状不大于有效吸附区的边界，并且薄膜基体的几何中心与有效吸附区的几何中心位于同一铅垂线上。
进一步地，所述上层玻璃板的厚度小于下层玻璃板的厚度。
进一步地，所述上层玻璃板的上表面上设置用于确定有效吸附区几何中心的标记。
进一步地，所述强磁材料单元为圆片形状，圆片的直径为0.6cm。
进一步地，所述薄膜基体的厚度为10μm-50μm；当所述薄膜基体的形状为圆形时，薄膜基体的直径为0.2cm-15cm；当所述薄膜基体的形状为长方形时，长方形薄膜基体长边边长不大于15cm，短边边长为0.2cm-10cm，并且长边边长与短边边长之比为（1.5~3）:1。
如上所述旋转涂布的夹具的使用方法，包括以下步骤：
S1、首先，在上层玻璃板和下层玻璃板相对的表面上分别粘贴双面胶带，根据薄膜基体的大小选择若干强磁材料单元，将若干强磁材料单元依次贴附在下层玻璃板待粘接面的双面胶带上，并且若干强磁材料单元两两外切，组成强磁材料阵列；然后，将上层玻璃板有双面胶带一侧的表面与下层玻璃板的待粘接面连接；最后，将薄膜基体放置于上层玻璃板的上表面上，并且使薄膜基体的几何中心与有效吸附区的几何中心位于同一铅垂线上，由于强磁材料阵列产生由几何中心呈中心对称分布的非均匀磁场的作用，所以强磁材料阵列将具有铁磁性的薄膜基体紧密吸附于上层玻璃板的上表面上；
S2、将步骤S1制备的吸附薄膜基体的旋转涂布夹具放置于旋转涂布转盘中心，然后旋转涂布设备开始抽真空，使旋转涂布夹具压紧于旋转涂布转盘上；
S3、将预先配制好的聚合物材料溶液（或聚合物基悬浊溶液，具有一定的粘度）滴在薄膜基体的表面上，将薄膜基体完全覆盖即可，由于聚合物材料溶液的表面张力作用，所以聚合物材料溶液不会渗入上层玻璃板与薄膜基体之间；
S4、首先，启动旋转涂布设备，根据需要设定旋转涂布转盘转速及涂布时间，聚合物材料溶液均匀涂布于薄膜基体上；然后，旋转涂布设备停止，同时停止抽真空，从旋转涂布设备中将涂布半干状态聚合物材料薄膜的薄膜基体与旋转涂布夹具整体取出并置于鼓风干燥烘箱中，使半干状态聚合物材料薄膜凝固成膜（即聚合物材料薄膜中的残余溶剂挥发）；最后，将涂布聚合物材料的薄膜基体与旋转涂布夹具整体从鼓风干燥烘箱中取出，上层玻璃板、强磁材料阵列与下层玻璃板分离，即涂布聚合物材料的薄膜基体与强磁材料阵列分离，并将涂布聚合物材料的薄膜基体与上层玻璃板分离，去除薄膜基体范围之外的聚合物材料毛刺或者毛边，制得在薄膜基体单侧面均匀涂布聚合物材料薄膜的双层薄膜。
进一步地，所述步骤S4中，聚合物材料薄膜的厚度为0.5μm-10μm。
与现有技术相比本发明的有益效果为：
本发明提供的一种用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法，在运用旋转涂布法的基础上，解决磁致伸缩材料薄膜基体装夹的问题，进而在磁致伸缩材料薄膜基体表面快速、均匀和高质量的涂覆单层功能性的聚合物材料薄膜，使其能够应用于无线湿度传感元件对相对湿度进行无线传感。
附图说明
图1为现有技术中采用溶液流延法制得的聚合物材料-磁致伸缩材料双层薄膜主视剖视结构示意图；
图2为现有技术中采用热压法制得的聚合物材料-磁致伸缩材料双层薄膜主视剖视结构示意图；
图3为现有技术中采用旋转涂布法——抽真空法制得的聚合物材料-磁致伸缩材料双层薄膜主视剖视结构示意图；
图4为现有技术中采用旋转涂布法——卡槽法制得的聚合物材料-磁致伸缩材料双层薄膜主视剖视结构示意图；
图5为实施例1中旋转涂布的夹具的主视结构示意图；
图6为实施例1中旋转涂布的夹具的俯视结构示意图；
图7为实施例1中旋转涂布工艺初始状态主视剖视结构示意图；
图8为实施例1中旋转涂布工艺终了状态主视剖视结构示意图；
图9为实施例1制得的聚合物材料-磁致伸缩材料双层薄膜主视剖视结构示意图；
图10为实施例1制得的聚合物材料-磁致伸缩材料双层薄膜用作无线湿度传感元件时得到的从低湿度到高湿度环境中的扫描频率信号曲线对比图；
图11为实施例2中旋转涂布的夹具的主视结构示意图；
图12为实施例2中旋转涂布的夹具的俯视结构示意图；
图13为实施例3中旋转涂布的夹具的主视结构示意图；
图14为实施例3中旋转涂布的夹具的俯视结构示意图；
图15为实施例4中旋转涂布的夹具的主视结构示意图；
图16为实施例4中旋转涂布的夹具的俯视结构示意图。
图中，1为上层玻璃板，2为强磁材料阵列，3为下层玻璃板，4为双面胶带，5为薄膜基体，6为强磁材料单元，7为有效吸附区，8为聚合物材料薄膜。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细描述。
用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具，其中：它包括上层玻璃板1、下层玻璃板3以及设置于两层玻璃板之间的强磁材料阵列2，上层玻璃板1与下层玻璃板3相对的表面上分别贴附双面胶带4（无痕的双面胶带，removable double-sided tape），强磁材料阵列2两侧的端面粘贴在对应的双面胶带4上，上层玻璃板1与下层玻璃板3通过双面胶带4连接，薄膜基体5吸附于上层玻璃板1的上表面上，作为优选地，上层玻璃板1的厚度小于下层玻璃板3的厚度，以便强磁材料阵列2产生的磁场能够更好地吸附磁致伸缩材料的薄膜基体5；所述强磁材料阵列2包括四个以上的偶数个强磁材料单元6，作为优选地，强磁材料单元6为圆片形状，圆片的直径为0.6cm，并且若干强磁材料单元6两两外切，与所述强磁材料阵列2相外切的矩形框定义为有效吸附区7，薄膜基体5的形状不大于有效吸附区7的边界，并且薄膜基体5的几何中心与有效吸附区7的几何中心位于同一铅垂线上；作为优选地，上层玻璃板1的上表面上设置用于确定有效吸附区7几何中心的标记，方便薄膜基体5在旋转涂布夹具上快速装卡。
如上所述旋转涂布的夹具的使用方法，包括以下步骤：
S1、首先，在上层玻璃板1和下层玻璃板3相对的表面上分别粘贴双面胶带4，根据薄膜基体5的大小选择若干强磁材料单元6，将若干强磁材料单元6依次贴附在下层玻璃板3待粘接面的双面胶带4上，并且若干强磁材料单元6两两外切，组成强磁材料阵列2；然后，将上层玻璃板1有双面胶带4一侧的表面与下层玻璃板3的待粘接面连接；最后，将薄膜基体5放置于上层玻璃板1的上表面上，并且使薄膜基体5的几何中心与有效吸附区7的几何中心位于同一铅垂线上，强磁材料阵列2将薄膜基体5紧密吸附于上层玻璃板1的上表面上；
S2、将步骤S1制备的吸附薄膜基体5的旋转涂布夹具放置于旋转涂布转盘中心，然后旋转涂布设备开始抽真空，使旋转涂布夹具压紧于旋转涂布转盘上；
S3、将预先配制好的聚合物材料溶液滴在薄膜基体5的表面上，将薄膜基体5完全覆盖即可；
S4、首先，启动旋转涂布设备，聚合物材料溶液均匀涂布于薄膜基体5上；然后，旋转涂布设备停止，同时停止抽真空，从旋转涂布设备中将涂布半干状态聚合物材料薄膜8的薄膜基体5与旋转涂布夹具整体取出并置于鼓风干燥烘箱中，使半干状态聚合物材料薄膜8凝固成膜；最后，将涂布聚合物材料的薄膜基体5与旋转涂布夹具整体从鼓风干燥烘箱中取出，使用小刀割开粘接的双面胶带4以及强磁材料阵列2，将上层玻璃板1、强磁材料阵列2与下层玻璃板3分离，即涂布聚合物材料的薄膜基体5与强磁材料阵列2分离；进而再次使用小刀将涂布聚合物材料的薄膜基体5从上层玻璃板1上小心地铲下，并使用小刀去除薄膜基体5范围之外的聚合物材料毛刺或者毛边，制得在薄膜基体5单侧面均匀涂布聚合物材料薄膜8的双层薄膜。
实施例1
本实施例1中薄膜基体5的形状为长方形，其长边边长为1cm，短边边长为0.4cm，厚度为30μm；本实施例1中需要在薄膜基体5上采用旋转涂布的方式涂布厚度为0.5μm的聚合物材料薄膜8。
如图5和图6所示的用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具，它包括上层玻璃板1、下层玻璃板3以及设置于两层玻璃板之间的强磁材料阵列2，上层玻璃板1与下层玻璃板3相对的表面上分别贴附双面胶带4，强磁材料阵列2两侧的端面粘贴在对应的双面胶带4上，上层玻璃板1与下层玻璃板3通过双面胶带4连接，薄膜基体5吸附于上层玻璃板1的上表面上，本实施例1中上层玻璃板1上仅吸附一块薄膜基体5，上层玻璃板1的厚度为0.8mm，下层玻璃板3的厚度为2mm；所述强磁材料阵列2包括四个强磁材料单元6，强磁材料单元6为圆片形状，圆片的直径为0.6cm，并且四个强磁材料单元6两两外切，四个强磁材料单元6之间组成封闭的空格，与所述强磁材料阵列2相外切的矩形框定义为有效吸附区7，本实施例1中有效吸附区7的形状为正方形，薄膜基体5的形状不大于有效吸附区7的边界，并且薄膜基体5的几何中心与有效吸附区7的几何中心位于同一铅垂线上；作为优选地，上层玻璃板1的上表面上设置用于确定有效吸附区7几何中心的标记，方便薄膜基体5在旋转涂布夹具上快速装卡。
如图7~图9所示的采用上述旋转涂布的夹具的使用方法，包括以下步骤：
S1、首先，在上层玻璃板1和下层玻璃板3相对的表面上分别粘贴双面胶带4，根据薄膜基体5的大小选择四个强磁材料单元6，将四个强磁材料单元6依次贴附在下层玻璃板3待粘接面的双面胶带4上，并且若干强磁材料单元6两两外切，组成强磁材料阵列2；然后，将上层玻璃板1有双面胶带4一侧的表面与下层玻璃板3的待粘接面连接；最后，将薄膜基体5放置于上层玻璃板1的上表面上，并且使薄膜基体5的几何中心与有效吸附区7的几何中心位于同一铅垂线上，强磁材料阵列2将薄膜基体5紧密吸附于上层玻璃板1的上表面上；
S2、将步骤S1制备的吸附薄膜基体5的旋转涂布夹具放置于旋转涂布转盘中心，然后旋转涂布设备开始抽真空，使旋转涂布夹具压紧于旋转涂布转盘上；
S3、将预先配制好的聚合物材料溶液滴在薄膜基体5的表面上，将薄膜基体5完全覆盖即可；
S4、首先，启动旋转涂布设备，聚合物材料溶液均匀涂布于薄膜基体5上；然后，旋转涂布设备停止，同时停止抽真空，从旋转涂布设备中将涂布半干状态聚合物材料薄膜8的薄膜基体5与旋转涂布夹具整体取出并置于鼓风干燥烘箱中，使半干状态聚合物材料薄膜8凝固成膜；最后，将涂布聚合物材料的薄膜基体5与旋转涂布夹具整体从鼓风干燥烘箱中取出，使用小刀割开粘接的双面胶带4以及强磁材料阵列2，将上层玻璃板1、强磁材料阵列2与下层玻璃板3分离，即涂布聚合物材料的薄膜基体5与强磁材料阵列2分离；进而再次使用小刀将涂布聚合物材料的薄膜基体5从上层玻璃板1上小心地铲下，并使用小刀去除薄膜基体5范围之外的聚合物材料毛刺或者毛边，制得在薄膜基体5单侧面均匀涂布聚合物材料薄膜8的双层薄膜。
如图10所示，本实施例1制得的聚合物材料—磁致伸缩材料双层薄膜用作无线湿度传感元件时得到的从低湿度到高湿度环境中的扫描频率信号曲线对比图，从扫描频率信号曲线峰值可以看出，无线湿度传感器在低湿度和高湿度环境中均具有稳定的传感性能。
实施例2
如图11和图12所示的用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具，本实施例2与实施例1的区别仅在于薄膜基体5的形状不同，本实施例2中薄膜基体5的形状为圆形，其直径为Φ1.6cm。
由实施例1和实施例2的对比可知，实施例1和实施例2中有效吸附区7的形状均为正方形，而且大小相同，只要薄膜基体5的形状不大于有效吸附区7的边界，并且薄膜基体5的几何中心与有效吸附区7的几何中心位于同一铅垂线上，即可使用本发明提供的旋转涂布的夹具在磁致伸缩材料薄膜基体5上进行旋转涂布工艺。
实施例3
如图13和图14所示的用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具，本实施例3与实施例2的区别在于：
1）、薄膜基体5的大小不同，本实施例3中薄膜基体5的直径为Φ0.8cm；
2）、强磁材料阵列2包括八个强磁材料单元6，八个强磁材料单元6两两外切，八个强磁材料单元6之间组成三个封闭的空格，本实施例3中有效吸附区7的形状为长方形，薄膜基体5的形状不大于有效吸附区7的边界，并且薄膜基体5的几何中心与有效吸附区7的几何中心位于同一铅垂线上。
实施例4
如图15和图16所示的用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具，本实施例4与实施例3的区别仅在于：本实施例4中薄膜基体5的形状为长方形，其长边边长为1.5cm，短边边长为0.6cm，厚度为30μm。
由实施例1和实施例4的对比可知，用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具可以根据薄膜基体5的形状进而选择强磁材料阵列2包括的强磁材料单元6的个数，但是强磁材料单元6需要满足以下条件：强磁材料单元6的个数为四个以上的偶数个，若干强磁材料单元6两两相切并形成中心对称结构。
由实施例3和实施例4的对比可知，实施例3和实施例4中有效吸附区7的形状均为长方形，而且大小相同，只要薄膜基体5的形状不大于有效吸附区7的边界，并且薄膜基体5的几何中心与有效吸附区7的几何中心位于同一铅垂线上，即可使用本发明提供的旋转涂布的夹具在磁致伸缩材料薄膜基体上进行旋转涂布工艺。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (7)

1.用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具，其特征在于：它包括上层玻璃板（1）、下层玻璃板（3）以及设置于两层玻璃板之间的强磁材料阵列（2），上层玻璃板（1）与下层玻璃板（3）相对的表面上分别贴附双面胶带（4），强磁材料阵列（2）两侧的端面粘贴在对应的双面胶带（4）上，上层玻璃板（1）与下层玻璃板（3）通过双面胶带（4）连接，薄膜基体（5）吸附于上层玻璃板（1）的上表面上；所述强磁材料阵列（2）包括四个以上的偶数个强磁材料单元（6），并且若干强磁材料单元（6）两两外切，与所述强磁材料阵列（2）相外切的矩形框定义为有效吸附区（7），薄膜基体（5）的形状不大于有效吸附区（7）的边界，并且薄膜基体（5）的几何中心与有效吸附区（7）的几何中心位于同一铅垂线上。
2.根据权利要求1所述的用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具，其特征在于：所述上层玻璃板（1）的厚度小于下层玻璃板（3）的厚度。
3.根据权利要求2所述的用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具，其特征在于：所述上层玻璃板（1）的上表面上设置用于确定有效吸附区（7）几何中心的标记。
4.根据权利要求1所述的用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具，其特征在于：所述强磁材料单元（6）为圆片形状，圆片的直径为0.6cm。
5.根据权利要求1所述的用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具，其特征在于：所述薄膜基体（5）的厚度为10μm-50μm；当所述薄膜基体（5）的形状为圆形时，薄膜基体（5）的直径为0.2cm-15cm；当所述薄膜基体（5）的形状为长方形时，长方形薄膜基体（5）长边边长不大于15cm，短边边长为0.2cm-10cm，并且长边边长与短边边长之比为（1.5~3）:1。
6.根据权利要求1所述的用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、首先，在上层玻璃板（1）和下层玻璃板（3）相对的表面上分别粘贴双面胶带（4），根据薄膜基体（5）的大小选择若干强磁材料单元（6），将若干强磁材料单元（6）依次贴附在下层玻璃板（3）待粘接面的双面胶带（4）上，并且若干强磁材料单元（6）两两外切，组成强磁材料阵列（2）；然后，将上层玻璃板（1）有双面胶带（4）一侧的表面与下层玻璃板（3）的待粘接面连接；最后，将薄膜基体（5）放置于上层玻璃板（1）的上表面上，并且使薄膜基体（5）的几何中心与有效吸附区（7）的几何中心位于同一铅垂线上，强磁材料阵列（2）将薄膜基体（5）紧密吸附于上层玻璃板（1）的上表面上；
S2、将步骤S1制备的吸附薄膜基体（5）的旋转涂布夹具放置于旋转涂布转盘中心，然后旋转涂布设备开始抽真空，使旋转涂布夹具压紧于旋转涂布转盘上；
S3、将预先配制好的聚合物材料溶液滴在薄膜基体（5）的表面上，将薄膜基体（5）完全覆盖即可；
S4、首先，启动旋转涂布设备，聚合物材料溶液均匀涂布于薄膜基体（5）上；然后，旋转涂布设备停止，同时停止抽真空，从旋转涂布设备中将涂布半干状态聚合物材料薄膜（8）的薄膜基体（5）与旋转涂布夹具整体取出并置于鼓风干燥烘箱中，使半干状态聚合物材料薄膜（8）凝固成膜；最后，将涂布聚合物材料的薄膜基体（5）与旋转涂布夹具整体从鼓风干燥烘箱中取出，上层玻璃板（1）、强磁材料阵列（2）与下层玻璃板（3）分离，即涂布聚合物材料的薄膜基体（5）与强磁材料阵列（2）分离，并将涂布聚合物材料的薄膜基体（5）与上层玻璃板（1）分离，去除薄膜基体（5）范围之外的聚合物材料毛刺或者毛边，制得在薄膜基体（5）单侧面均匀涂布聚合物材料薄膜（8）的双层薄膜。
7.根据权利要求6所述的用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具的使用方法，其特征在于：所述步骤S4中，聚合物材料薄膜（8）的厚度为0.5μm-10μm。
CN202310679520.9A 2023-06-09 2023-06-09 用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法 Active CN116393336B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202310679520.9A CN116393336B (zh) 2023-06-09 2023-06-09 用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202310679520.9A CN116393336B (zh) 2023-06-09 2023-06-09 用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN116393336A true CN116393336A (zh) 2023-07-07
CN116393336B CN116393336B (zh) 2023-08-18

Family

ID=87012835

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202310679520.9A Active CN116393336B (zh) 2023-06-09 2023-06-09 用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN116393336B (zh)

Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5186986A (en) * 1990-09-17 1993-02-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Liquid crystal alignment film and method of manufacturing the same
JPH1036962A (ja) * 1996-07-22 1998-02-10 Olympus Optical Co Ltd 光学薄膜の製造装置および製造方法
JPH11121367A (ja) * 1997-10-17 1999-04-30 Ricoh Co Ltd 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置
US6294313B1 (en) * 1997-08-08 2001-09-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Pattern forming body, pattern forming method, and their applications
JP2002001198A (ja) * 2000-06-21 2002-01-08 Mitsubishi Chemicals Corp スピンコーター及び情報記録媒体の製造方法
JP2003309168A (ja) * 2002-04-16 2003-10-31 Anelva Corp 静電吸着ホルダー及び基板処理装置
US20090027149A1 (en) * 2005-09-26 2009-01-29 Magswitch Technology Worldwide Pty Ltd Magnet Arrays
US20110290129A1 (en) * 2007-05-10 2011-12-01 Kbs-Giori S.A. Device and Method for Magnetically Transferring Indicia to a Coating Composition Applied to a Substrate
CN102328903A (zh) * 2011-09-29 2012-01-25 西安交通大学 一种大面积纳米缝电极并行制造方法
CN102811837A (zh) * 2010-03-25 2012-12-05 旭硝子株式会社 玻璃基板保持用膜体及玻璃基板的研磨方法
EP2533102A2 (en) * 2011-06-07 2012-12-12 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd Apparatus and method for spin-coating, and method for manufacturing substrate having structure
CN103008175A (zh) * 2011-09-26 2013-04-03 株式会社东芝 涂覆设备和涂覆方法
JP2018202318A (ja) * 2017-06-02 2018-12-27 キヤノン株式会社 スピンコータ装置、スピンコート方法、ドライフィルムレジストの製造方法および液体吐出ヘッドの製造方法
CN211005607U (zh) * 2018-05-04 2020-07-14 伊扎维克技术有限责任公司 用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机
US20200246828A1 (en) * 2017-01-31 2020-08-06 Sicpa Holding Sa Apparatuses and methods for producing optical effect layers
CN211295066U (zh) * 2019-12-30 2020-08-18 北京中科飞鸿科技股份有限公司 一种磁吸附键合夹具
US20210143345A1 (en) * 2018-08-31 2021-05-13 Beijing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Flexible base material, flexible substrate, and preparation method thereof
CN113400216A (zh) * 2021-05-25 2021-09-17 复旦大学 一种通过磁性实现衬底固定的装置

Patent Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5186986A (en) * 1990-09-17 1993-02-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Liquid crystal alignment film and method of manufacturing the same
JPH1036962A (ja) * 1996-07-22 1998-02-10 Olympus Optical Co Ltd 光学薄膜の製造装置および製造方法
US6294313B1 (en) * 1997-08-08 2001-09-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Pattern forming body, pattern forming method, and their applications
JPH11121367A (ja) * 1997-10-17 1999-04-30 Ricoh Co Ltd 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置
JP2002001198A (ja) * 2000-06-21 2002-01-08 Mitsubishi Chemicals Corp スピンコーター及び情報記録媒体の製造方法
JP2003309168A (ja) * 2002-04-16 2003-10-31 Anelva Corp 静電吸着ホルダー及び基板処理装置
US20090027149A1 (en) * 2005-09-26 2009-01-29 Magswitch Technology Worldwide Pty Ltd Magnet Arrays
US20110290129A1 (en) * 2007-05-10 2011-12-01 Kbs-Giori S.A. Device and Method for Magnetically Transferring Indicia to a Coating Composition Applied to a Substrate
CN102811837A (zh) * 2010-03-25 2012-12-05 旭硝子株式会社 玻璃基板保持用膜体及玻璃基板的研磨方法
EP2533102A2 (en) * 2011-06-07 2012-12-12 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd Apparatus and method for spin-coating, and method for manufacturing substrate having structure
CN103008175A (zh) * 2011-09-26 2013-04-03 株式会社东芝 涂覆设备和涂覆方法
CN102328903A (zh) * 2011-09-29 2012-01-25 西安交通大学 一种大面积纳米缝电极并行制造方法
US20200246828A1 (en) * 2017-01-31 2020-08-06 Sicpa Holding Sa Apparatuses and methods for producing optical effect layers
JP2018202318A (ja) * 2017-06-02 2018-12-27 キヤノン株式会社 スピンコータ装置、スピンコート方法、ドライフィルムレジストの製造方法および液体吐出ヘッドの製造方法
CN211005607U (zh) * 2018-05-04 2020-07-14 伊扎维克技术有限责任公司 用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机
US20210143345A1 (en) * 2018-08-31 2021-05-13 Beijing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Flexible base material, flexible substrate, and preparation method thereof
CN211295066U (zh) * 2019-12-30 2020-08-18 北京中科飞鸿科技股份有限公司 一种磁吸附键合夹具
CN113400216A (zh) * 2021-05-25 2021-09-17 复旦大学 一种通过磁性实现衬底固定的装置

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
刘辉, 钟伟, 都有为: "新型磁性液体的制备及其旋转轴动态封油技术研究", 磁性材料及器件, no. 02, pages 45 - 49 *
常中春;李代禧;刘宝林;: "超声辅助磁性纳米Fe_3O_4粒子表面有机改性研究", 材料导报, no. 16, pages 39 - 41 *
张亚非等编著: "集成电路制造技术", vol. 1, 上海交通大学出版社, pages: 139 - 144 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN116393336B (zh) 2023-08-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101266669B1 (ko) 웨이퍼 배치 장치의 제조 방법
TWI458799B (zh) 撓性基板總成及其製備方法
US20160238368A1 (en) Method of fabrication of laminates of elastic material suitable for dielectric elastomer sensing
US10204816B2 (en) Substrate retaining carrier, method for retaining and separating substrate and method for evaporation
CN101738774A (zh) 超薄柔性液晶显示器及其制造方法
CN116393336B (zh) 用于磁致伸缩材料薄膜基体旋转涂布的夹具及其使用方法
TWI292070B (en) A panel for a liquid crystal display, a liquid crystal display including the panel, and a method of fabricating the same
TWI526313B (zh) The manufacturing method of the layered body
KR100580339B1 (ko) 액정 디스플레이 패널의 제조 방법
CN110791743B (zh) 长光纤传感器件镀膜工具及镀膜方法
US20090296963A1 (en) Diaphragm for condenser microphone, method for manufacturing the same, and condenser microphone
WO2014187142A1 (zh) 显示面板及显示装置
JPH01240243A (ja) 電極およびその製造方法
EP2561549A1 (en) Precision spacing for stacked wafer assemblies
KR20200025901A (ko) 고무 탄성체 다이아프램 타입 정전척 및 그 제조방법
JPS6126828B2 (zh)
US10385176B2 (en) Transparent polyimide composite film for flexible display and method for manufacturing the same
KR101110683B1 (ko) 정전척 및 이의 제조 방법
JPH06160865A (ja) 液晶表示素子およびその製造方法
US9682457B2 (en) Composite polishing pad and method for making the same
TWI363892B (zh)
JPS6019791B2 (ja) 接着装置およびその方法
JPS59232315A (ja) 液晶表示素子の製造方法
NL1016513A1 (nl) Werkwijze van en vervaardigingsinrichting voor optische opneemschijf.
JP2000076711A (ja) 貼合せ型光ディスクの製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant