CN116237858A - 一种应用于靶材生产的ito旋转靶材表面制备设备 - Google Patents

Abstract

一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，属于靶材生产技术领域，为了解决现有技术大多通过机器夹持于盘体的中央，若工作人员手持盘体，不便于找准工件的中间位置，进而在抛光的过程中，抛光面易出现偏移，影响靶材的品质的问题；本发明通过锁定定位顶盖和中心推压件之间的位置关系，置物转盘处于转动状态，进而使靶材处于旋转状态，抛光组件的一端与靶材的边缘进行抛光，以完成靶材的表面处理；本发明不仅可使中心推压件顺利在衔接杆的下端进行活动，且可保持定位顶盖的位置稳定，在不影响中心推压件的活动状态下，进一步提升转动内盘和置物转盘对靶材的上下定位作用。

Description

一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备

技术领域

本发明涉及靶材生产技术领域，特别涉及一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备。

背景技术

ITO旋转靶材是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结形成的黑灰色陶瓷半导体，ITO薄膜是利用ITO靶材作为原材料，通过磁控溅射把ITO靶气化溅渡到玻璃基板或柔性有机薄膜上，ITO靶材主要是在平板显示器中得到广泛的运用，靶材主用是在半导体中运用广泛。

ITO旋转靶材在制备的过程中，针对烧结完成的ITO旋转靶胚，根据加工工艺的需求，对靶材的表面进行抛光加工，ITO旋转靶材呈盘状、柱状、片状及块状，进一步考虑，现有技术大多通过机器对ITO旋转靶材进行直接夹持，再通过抛光组件与其对接，但因大批量的ITO旋转靶材的形状存在差异，不便于找准工件的中间位置，进而在抛光的过程中，抛光面易出现偏移，影响靶材的品质。

针对以上问题，对现有装置进行了改进，提出了一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备。

发明内容

本发明的目的在于提供一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，解决了背景技术中现有技术大多通过机器夹持于盘体的中央，若工作人员手持盘体，不便于找准工件的中间位置，进而在抛光的过程中，抛光面易出现偏移，影响靶材的品质的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，包括定位底盘以及安装在定位底盘上端的定位顶盖，定位底盘的侧表面设置有拼接侧杆，拼接侧杆设置有四组，拼接侧杆的上表面安装有中心推压件，定位底盘包括置地盘体和设置在置地盘体上表面的置物转盘，置地盘体的上表面开设有转动敞槽，转动敞槽与置物转盘相匹配，转动敞槽内底面的中央设置有驱动轴杆，置物转盘通过驱动轴杆与转动敞槽的内底面相连接，拼接侧杆包括安装在置地盘体侧表面的侧板体和开设在侧板体上表面的滑动长槽，中心推压件与滑动长槽相对接，定位顶盖包括固定环柄和设置在固定环柄内侧的转动内盘，转动内盘的中央设置有挤压组件，固定环柄和转动内盘与置地盘体相匹配，固定环柄的侧表面安装有衔接杆，衔接杆设置有四组，且衔接杆与侧板体相匹配；中心推压件包括设置在滑动长槽内侧的立式滑移调解中柱和开设在立式滑移调解中柱上表面的锁合槽，立式滑移调解中柱的外侧安装有拼接套，拼接套的内侧开设有匹配空槽，匹配空槽与立式滑移调解中柱的外尺寸相匹配，拼接套的侧表面开设有显露敞槽，立式滑移调解中柱的侧表面安装有锁合插杆；立式滑移调解中柱的侧表面开设有侧开安装槽，侧开安装槽与显露敞槽相对应，侧开安装槽的内侧设置有匹配滑块，匹配滑块与侧开安装槽相匹配，匹配滑块的一侧表面安装有驱动伸缩杆，匹配滑块的相对侧表面设置有抛光组件。

进一步地，挤压组件包括设置在转动内盘上表面的转动柄块和安装在转动柄块下表面的螺纹杆。

进一步地，螺纹杆与转动内盘的中央啮合连接，螺纹杆贯穿转动内盘设置有施力匹配盘，施力匹配盘安装在转动内盘的下端，施力匹配盘的下表面安装有贴合防护片。

进一步地，驱动伸缩杆的一端与侧开安装槽的内底面相连接，匹配滑块的两侧均安装有第一限位滑移件，匹配滑块通过第一限位滑移件与侧开安装槽的两侧表面相连接，抛光组件的一端与显露敞槽相对应。

进一步地，转动内盘的侧表面安装有对接柄块，固定环柄的内侧表面开设有对接环形槽，对接柄块与对接环形槽相匹配。

进一步地，对接柄块的侧端开设有侧开暗槽，侧开暗槽的内部设置有套接柱，套接柱的表面套接有转动滚柱，转动滚柱与对接环形槽的内底面相连接。

进一步地，侧板体的内部开设有调节长槽，调节长槽设置在滑动长槽的下端，调节长槽的内部安装有驱动丝杆，驱动丝杆的表面套接有套接滑移柱。

进一步地，套接滑移柱的上表面安装有衔接柄块，衔接柄块的顶端与立式滑移调解中柱的下表面相连接。

进一步地，衔接杆的下表面开设有滑移开槽，滑移开槽的两侧端均开设有侧开防脱槽，滑移开槽的内部安装有滑移块，滑移块的两端均设置有插接侧杆，插接侧杆与侧开防脱槽相连接。

进一步地，滑移块的上表面安装有第二限位滑移件，滑移块通过第二限位滑移件与滑移开槽的内表面相连接，滑移块的下表面设置有导向插杆，导向插杆的一侧表面开设有侧开锁槽，锁合插杆的一端穿过立式滑移调解中柱与侧开锁槽相连接。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

1.本发明提出的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，四组中心推压件沿着滑动长槽逐渐向中心位置进行对移，以此调整靶材的放置位置，便于找准中心点位，再将定位顶盖整体盖于靶材的上端，并使衔接杆与侧板体相对应，导向插杆插入锁合槽，并使锁合插杆插入侧开锁槽中，以锁定定位顶盖和中心推压件之间的位置关系，置物转盘处于转动状态，进而使靶材处于旋转状态，抛光组件的一端与靶材的边缘进行抛光，以完成靶材的表面处理。

2.本发明提出的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，一方面，利用转动内盘和置物转盘对靶材的上下定位作用，转动滚柱在对接环形槽的内表面进行滚动，以提升转动内盘和固定环柄之间连接的顺畅度，以便于靶材的正常旋转活动，另一方面，不仅可使中心推压件顺利在衔接杆的下端进行活动，且可保持定位顶盖的位置稳定，在不影响中心推压件的活动状态下，进一步提升转动内盘和置物转盘对靶材的上下定位作用。

附图说明

图1为本发明应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备整体结构示意图；

图2为本发明应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备定位底盘结构示意图；

图3为本发明应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备定位顶盖结构示意图；

图4为本发明应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备中心推压件结构示意图；

图5为本发明应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备挤压组件内部平面结构示意图；

图6为本发明应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备立式滑移调解中柱内部平面结构示意图；

图7为本发明应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备转动内盘内部平面结构示意图；

图8为本发明应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备侧板体内部平面结构示意图；

图9为本发明应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备衔接杆下端内部平面结构示意图。

图中：1、定位底盘；11、置地盘体；12、置物转盘；13、转动敞槽；14、驱动轴杆；2、定位顶盖；21、固定环柄；22、转动内盘；221、对接柄块；222、对接环形槽；223、侧开暗槽；224、套接柱；225、转动滚柱；23、挤压组件；231、转动柄块；232、螺纹杆；233、施力匹配盘；234、贴合防护片；24、衔接杆；241、滑移开槽；242、侧开防脱槽；243、滑移块；244、第二限位滑移件；245、插接侧杆；246、导向插杆；247、侧开锁槽；3、拼接侧杆；31、侧板体；311、调节长槽；312、驱动丝杆；313、套接滑移柱；314、衔接柄块；32、滑动长槽；4、中心推压件；41、立式滑移调解中柱；411、侧开安装槽；412、匹配滑块；413、驱动伸缩杆；414、第一限位滑移件；415、抛光组件；42、锁合槽；43、拼接套；44、匹配空槽；45、显露敞槽；46、锁合插杆。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-图9，为了解决现有技术大多通过机器夹持于盘体的中央，若工作人员手持盘体，不便于找准工件的中间位置，进而在抛光的过程中，抛光面易出现偏移，影响靶材的品质的技术问题，提供以下优选技术方案：

一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，包括定位底盘1以及安装在定位底盘1上端的定位顶盖2，定位底盘1的侧表面设置有拼接侧杆3，拼接侧杆3设置有四组，拼接侧杆3的上表面安装有中心推压件4，定位底盘1包括置地盘体11和设置在置地盘体11上表面的置物转盘12，置地盘体11的上表面开设有转动敞槽13，转动敞槽13与置物转盘12相匹配，转动敞槽13内底面的中央设置有驱动轴杆14，置物转盘12通过驱动轴杆14与转动敞槽13的内底面相连接，拼接侧杆3包括安装在置地盘体11侧表面的侧板体31和开设在侧板体31上表面的滑动长槽32，中心推压件4与滑动长槽32相对接，定位顶盖2包括固定环柄21和设置在固定环柄21内侧的转动内盘22，转动内盘22的中央设置有挤压组件23，固定环柄21和转动内盘22与置地盘体11相匹配，固定环柄21的侧表面安装有衔接杆24，衔接杆24设置有四组，且衔接杆24与侧板体31相匹配。

中心推压件4包括设置在滑动长槽32内侧的立式滑移调解中柱41和开设在立式滑移调解中柱41上表面的锁合槽42，立式滑移调解中柱41的外侧安装有拼接套43，拼接套43的内侧开设有匹配空槽44，匹配空槽44与立式滑移调解中柱41的外尺寸相匹配，拼接套43的侧表面开设有显露敞槽45，立式滑移调解中柱41的侧表面安装有锁合插杆46。

挤压组件23包括设置在转动内盘22上表面的转动柄块231和安装在转动柄块231下表面的螺纹杆232，螺纹杆232与转动内盘22的中央啮合连接，螺纹杆232贯穿转动内盘22设置有施力匹配盘233，施力匹配盘233安装在转动内盘22的下端，施力匹配盘233的下表面安装有贴合防护片234，立式滑移调解中柱41的侧表面开设有侧开安装槽411，侧开安装槽411与显露敞槽45相对应，侧开安装槽411的内侧设置有匹配滑块412，匹配滑块412与侧开安装槽411相匹配，匹配滑块412的一侧表面安装有驱动伸缩杆413，匹配滑块412的相对侧表面设置有抛光组件415，驱动伸缩杆413的一端与侧开安装槽411的内底面相连接，匹配滑块412的两侧均安装有第一限位滑移件414，匹配滑块412通过第一限位滑移件414与侧开安装槽411的两侧表面相连接，抛光组件415的一端与显露敞槽45相对应，转动内盘22的侧表面安装有对接柄块221，固定环柄21的内侧表面开设有对接环形槽222，对接柄块221与对接环形槽222相匹配。

具体的，将ITO旋转靶材放置于置物转盘12的上端，启动四组驱动丝杆312，使套接滑移柱313沿着调节长槽311进行滑移，拼接套43与靶材相贴合，四组中心推压件4沿着滑动长槽32逐渐向中心位置进行对移，以此调整靶材的放置位置，便于找准中心点位，再将定位顶盖2整体盖于靶材的上端，并使衔接杆24与侧板体31相对应，导向插杆246插入锁合槽42，并使锁合插杆46插入侧开锁槽247中，以锁定定位顶盖2和中心推压件4之间的位置关系，转动转动柄块231，利用螺纹杆232与转动内盘22的啮合连接，使施力匹配盘233逐渐下移，施力匹配盘233通过贴合防护片234与靶材的上表面进行挤压贴合，靶材位于施力匹配盘233和置物转盘12之间，启动驱动丝杆312，使套接滑移柱313沿着调节长槽311进行回移，拼接套43与靶材相分离，避免产生相互作用力，启动驱动伸缩杆413，匹配滑块412在侧开安装槽411的内侧进行滑移，匹配滑块412带动抛光组件415顺着显露敞槽45向外侧进行推移，启动驱动轴杆14，使置物转盘12处于转动状态，进而使靶材处于旋转状态，抛光组件415的一端与靶材的边缘进行抛光，以完成靶材的表面处理。

为了解决靶材抛光过程不便的技术问题，提供以下优选技术方案：

对接柄块221的侧端开设有侧开暗槽223，侧开暗槽223的内部设置有套接柱224，套接柱224的表面套接有转动滚柱225，转动滚柱225与对接环形槽222的内底面相连接，侧板体31的内部开设有调节长槽311，调节长槽311设置在滑动长槽32的下端，调节长槽311的内部安装有驱动丝杆312，驱动丝杆312的表面套接有套接滑移柱313，套接滑移柱313的上表面安装有衔接柄块314，衔接柄块314的顶端与立式滑移调解中柱41的下表面相连接。

衔接杆24的下表面开设有滑移开槽241，滑移开槽241的两侧端均开设有侧开防脱槽242，滑移开槽241的内部安装有滑移块243，滑移块243的两端均设置有插接侧杆245，插接侧杆245与侧开防脱槽242相连接，滑移块243的上表面安装有第二限位滑移件244，滑移块243通过第二限位滑移件244与滑移开槽241的内表面相连接，滑移块243的下表面设置有导向插杆246，导向插杆246的一侧表面开设有侧开锁槽247，锁合插杆46的一端穿过立式滑移调解中柱41与侧开锁槽247相连接。

具体的，一方面，当靶材处于旋转状态时，利用转动内盘22和置物转盘12对靶材的上下定位作用，转动内盘22在固定环柄21的内侧进行转动，转动滚柱225在对接环形槽222的内表面进行滚动，以提升转动内盘22和固定环柄21之间连接的顺畅度，以便于靶材的正常旋转活动，另一方面，当中心推压件4沿着滑动长槽32进行左右滑移时，滑移块243在滑移开槽241的内侧进行滑移，插接侧杆245沿着侧开防脱槽242的内侧进行滑移，不仅可使中心推压件4顺利在衔接杆24的下端进行活动，且可保持定位顶盖2的位置稳定，在不影响中心推压件4的活动状态下，进一步提升转动内盘22和置物转盘12对靶材的上下定位作用。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明披露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，包括定位底盘（1）以及安装在定位底盘（1）上端的定位顶盖（2），其特征在于：定位底盘（1）的侧表面设置有拼接侧杆（3），拼接侧杆（3）设置有四组，拼接侧杆（3）的上表面安装有中心推压件（4），定位底盘（1）包括置地盘体（11）和设置在置地盘体（11）上表面的置物转盘（12），置地盘体（11）的上表面开设有转动敞槽（13），转动敞槽（13）与置物转盘（12）相匹配，转动敞槽（13）内底面的中央设置有驱动轴杆（14），置物转盘（12）通过驱动轴杆（14）与转动敞槽（13）的内底面相连接，拼接侧杆（3）包括安装在置地盘体（11）侧表面的侧板体（31）和开设在侧板体（31）上表面的滑动长槽（32），中心推压件（4）与滑动长槽（32）相对接，定位顶盖（2）包括固定环柄（21）和设置在固定环柄（21）内侧的转动内盘（22），转动内盘（22）的中央设置有挤压组件（23），固定环柄（21）和转动内盘（22）与置地盘体（11）相匹配，固定环柄（21）的侧表面安装有衔接杆（24），衔接杆（24）设置有四组，且衔接杆（24）与侧板体（31）相匹配；中心推压件（4）包括设置在滑动长槽（32）内侧的立式滑移调解中柱（41）和开设在立式滑移调解中柱（41）上表面的锁合槽（42），立式滑移调解中柱（41）的外侧安装有拼接套（43），拼接套（43）的内侧开设有匹配空槽（44），匹配空槽（44）与立式滑移调解中柱（41）的外尺寸相匹配，拼接套（43）的侧表面开设有显露敞槽（45），立式滑移调解中柱（41）的侧表面安装有锁合插杆（46）；立式滑移调解中柱（41）的侧表面开设有侧开安装槽（411），侧开安装槽（411）与显露敞槽（45）相对应，侧开安装槽（411）的内侧设置有匹配滑块（412），匹配滑块（412）与侧开安装槽（411）相匹配，匹配滑块（412）的一侧表面安装有驱动伸缩杆（413），匹配滑块（412）的相对侧表面设置有抛光组件（415）。

2.如权利要求1所述的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，其特征在于：挤压组件（23）包括设置在转动内盘（22）上表面的转动柄块（231）和安装在转动柄块（231）下表面的螺纹杆（232）。

3.如权利要求2所述的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，其特征在于：螺纹杆（232）与转动内盘（22）的中央啮合连接，螺纹杆（232）贯穿转动内盘（22）设置有施力匹配盘（233），施力匹配盘（233）安装在转动内盘（22）的下端，施力匹配盘（233）的下表面安装有贴合防护片（234）。

4.如权利要求1所述的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，其特征在于：驱动伸缩杆（413）的一端与侧开安装槽（411）的内底面相连接，匹配滑块（412）的两侧均安装有第一限位滑移件（414），匹配滑块（412）通过第一限位滑移件（414）与侧开安装槽（411）的两侧表面相连接，抛光组件（415）的一端与显露敞槽（45）相对应。

5.如权利要求1所述的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，其特征在于：转动内盘（22）的侧表面安装有对接柄块（221），固定环柄（21）的内侧表面开设有对接环形槽（222），对接柄块（221）与对接环形槽（222）相匹配。

6.如权利要求5所述的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，其特征在于：对接柄块（221）的侧端开设有侧开暗槽（223），侧开暗槽（223）的内部设置有套接柱（224），套接柱（224）的表面套接有转动滚柱（225），转动滚柱（225）与对接环形槽（222）的内底面相连接。

7.如权利要求1所述的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，其特征在于：侧板体（31）的内部开设有调节长槽（311），调节长槽（311）设置在滑动长槽（32）的下端，调节长槽（311）的内部安装有驱动丝杆（312），驱动丝杆（312）的表面套接有套接滑移柱（313）。

8.如权利要求7所述的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，其特征在于：套接滑移柱（313）的上表面安装有衔接柄块（314），衔接柄块（314）的顶端与立式滑移调解中柱（41）的下表面相连接。

9.如权利要求1所述的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，其特征在于：衔接杆（24）的下表面开设有滑移开槽（241），滑移开槽（241）的两侧端均开设有侧开防脱槽（242），滑移开槽（241）的内部安装有滑移块（243），滑移块（243）的两端均设置有插接侧杆（245），插接侧杆（245）与侧开防脱槽（242）相连接。

10.如权利要求9所述的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，其特征在于：滑移块（243）的上表面安装有第二限位滑移件（244），滑移块（243）通过第二限位滑移件（244）与滑移开槽（241）的内表面相连接，滑移块（243）的下表面设置有导向插杆（246），导向插杆（246）的一侧表面开设有侧开锁槽（247），锁合插杆（46）的一端穿过立式滑移调解中柱（41）与侧开锁槽（247）相连接。

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