CN116218611A - 一种聚酰亚胺清洗液 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种聚酰亚胺清洗液。本发明的清洗液的原料包括下列质量分数的组分：30％‑80％有机溶剂、0.001％‑0.01％还原型谷胱甘肽、0.001％‑0.25％半胱氨酸、1％‑5％醇胺、1％‑5％有机碱、0.01％‑2％螯合剂、0.01％‑2％缓蚀剂、0.5％‑3％羧酸铵、0.01‑1％表面活性剂、0.01％‑2％流平剂和水，水补足余量；各组分质量分数之和为100％。本发明的清洗液的清洗能力强、腐蚀速率低和避免了等离子刻蚀及灰化等繁琐工艺。

Description

一种聚酰亚胺清洗液
技术领域
本发明涉及一种聚酰亚胺清洗液。
背景技术
在半导体器件制造过程中，当在晶圆上形成器件结构和互连结构等后会在晶圆上形成阻挡层以保护内部的器件。在目前的技术中，聚酰亚胺(polyimide)由于具有很好的耐高温、低温、耐辐射性能和优良的电气绝缘性能，常用来作为阻挡层。然而在晶圆上形成聚酰亚胺的过程中由于各种异常，某些时候形成的聚酰亚胺阻挡层不符合要求，因此需要去除聚酰亚胺阻挡层，并重新形成符合要求的聚酰亚胺阻挡层。
在目前的工艺中一般使用可溶性有机溶剂和氧等离子体去除聚酰亚胺。例如厚度在60微米(um)的聚酰亚胺阻挡层去除时，首先通过有机溶剂处理100分钟来去除部分聚酰亚胺阻挡层，例如去除50um的聚酰亚胺阻挡层；接着通过灰化(Ash)刻蚀去除剩余的聚酰亚胺阻挡层，并通过光学检测观察聚酰亚胺阻挡层是否去除干净。若有灰化刻蚀的残余物，还需另外清洗，并通过光学检测观察灰化刻蚀的残余物是否去除干净。这些方法存在处理时间长，并且容易损伤晶圆表面的铝焊盘及介质层的问题，进而影响出货和生产效率。
因此，市场亟需开发一款聚酰亚胺清洗液，能直接用于聚酰亚胺层的清洗，无需等离子刻蚀及灰化等繁琐工艺，且能兼顾金属和介质层的缓蚀，以解决上述问题。
发明内容
本发明所要解决的问题是为了克服现有技术中清洗聚酰亚胺层过程中存在的工艺复杂、时间长、容易损伤晶圆表面的金属或介质层等缺陷，而提供了一种聚酰亚胺清洗液。本发明的清洗液的清洗能力强、腐蚀速率低和避免了等离子刻蚀及灰化等繁琐工艺。
本发明提供了一种聚酰亚胺清洗液：其原料包括下列质量分数的组分：30％-80％有机溶剂、0.001％-0.01％还原型谷胱甘肽、0.001％-0.25％半胱氨酸、1％-5％醇胺、1％-5％有机碱、0.01％-2％螯合剂、0.01％-2％缓蚀剂、0.5％-3％羧酸铵、0.01-1％表面活性剂、0.01％-2％流平剂和水，水补足余量；各组分质量分数之和为100％；所述各组分质量分数为该组分在聚酰亚胺清洗液中的质量分数。
所述聚酰亚胺清洗液，所述有机溶剂可为本领域常规的有机溶剂，优选亚砜类溶剂、砜类溶剂、咪唑烷酮类溶剂、吡咯烷酮类溶剂、咪唑啉酮类溶剂、酰胺类溶剂和醇醚类溶剂中的一种或多种，更优选亚砜类溶剂、砜类溶剂和吡咯烷酮类溶剂中的一种或多种。
所述亚砜类溶剂可为二甲基亚砜和/或甲乙基亚砜，优选二甲基亚砜。
所述砜类溶剂可为甲基砜和/或环丁砜，优选环丁砜。
所述咪唑烷酮类溶剂可为2-咪唑烷酮和/或1,3-二甲基-2-咪唑烷酮。
所述吡咯烷酮类溶剂可为N-甲基吡咯烷酮和/或N-环己基吡咯烷酮，优选N-甲基吡咯烷酮。
所述咪唑啉酮类溶剂可为1,3-二甲基-2-咪唑啉酮。
所述酰胺类溶剂可为N,N-二甲基甲酰胺和/或N,N-二甲基乙酰胺。
所述聚酰亚胺清洗液，所述醇胺可为本领域常规的醇胺，优选单乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺中的一种或多种，更优选三乙醇胺。
所述聚酰亚胺清洗液，所述有机碱可为本领域常规的有机碱，优选四甲基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵(TEAH)、苄基三甲基氢氧化铵(BTAH)、胆碱、(2-羟基乙基)三甲基氢氧化铵、三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵、单乙醇胺(MEA)、二甘醇胺(DGA)、三乙醇胺(TEA)、异丁醇胺、异丙醇胺、四丁基氢氧化(TBPH)鏻和四甲基胍中的一种或多种，更优选四甲基氢氧化铵(TMAH)和/或胆碱。
所述聚酰亚胺清洗液，所述螯合剂可为本领域常规的螯合剂，优选1,2-环己二胺-N,N,N',N'-四乙酸(CDTA)、乙二胺四乙酸、次氮基三乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、1,4,7,10-四氮杂环十二烷-1,4,7,10-四乙酸、乙二醇四乙酸(EGTA)、1,2-双(邻氨基苯氧基)乙烷-N,N,N',N'-四乙酸、N-{2-[双(羧甲基)氨基]乙基}-N-(2-羟乙基)甘氨酸(HEDTA)、乙二胺-N,N'-双(2-羟基苯乙酸)(EDDHA)、二氧杂八亚甲基二氮基四乙酸(DOCTA)和三亚乙基四胺六乙酸(TTHA)中的一种或多种，更优选为乙二胺四乙酸和/或1,2-环己二胺-N,N,N',N'-四乙酸(CDTA)。
所述聚酰亚胺清洗液，所述缓蚀剂可为本领域常规的缓蚀剂，优选苯并三唑(BTA)、甲苯三唑、5-苯基-苯并三唑、5-硝基-苯并三唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三唑、1-氨基-1,2,4-三唑、羟苯并三唑、2-(5-氨基-戊基)-苯并三唑、1-氨基-1,2,3-三唑、1-氨基-5-甲基-1,2,3-三唑、3-氨基-1,2,4-三唑、3-巯基-1,2,4-三唑、3-异丙基-1,2,4-三唑、5-苯硫醇-苯并三唑、卤代-苯并三唑(卤素＝F、Cl、Br或I)、萘并三唑、2-巯基苯并咪唑(MBI)、2-巯基苯并噻唑、4-甲基-2-苯基咪唑、2-巯基噻唑啉、5-氨基四唑、5-氨基四唑一水合物、5-氨基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇、2,4-二氨基-6-甲基-1,3,5-三嗪、噻唑、三嗪、甲基四唑、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、1,5-五亚甲基四唑、1-苯基-5-巯基四唑、二氨基甲基三嗪、咪唑啉硫酮、巯基苯并咪唑、4-甲基-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇、5-氨基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇和苯并噻唑中的一种或多种，更优选苯并三唑和/或甲苯三唑。
所述聚酰亚胺清洗液，所述羧酸铵可为本领域常规的羧酸铵，优选草酸铵、乳酸铵、酒石酸铵、柠檬酸三铵、乙酸铵、氨基甲酸铵、碳酸铵、苯甲酸铵、乙二胺四乙酸铵、乙二胺四乙酸二铵、乙二胺四乙酸三铵、乙二胺四乙酸四铵、琥珀酸铵、甲酸铵和1-H-吡唑-3-甲酸铵中的一种或多种，更优选为草酸铵和/或柠檬酸三铵。
所述聚酰亚胺清洗液，所述表面活性剂可为本领域常规的表面活性剂，优选为EO-PO聚合物L81。
所述聚酰亚胺清洗液，所述流平剂可为本领域常规的流平剂，优选为1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)。
所述聚酰亚胺清洗液，所述有机溶剂的质量分数优选40％-65％，例如40％、45％、60％或65％。
所述聚酰亚胺清洗液，所述还原型谷胱甘肽的质量分数优选0.005％-0.01％，例如为0.005％或0.01％。
所述聚酰亚胺清洗液，所述半胱氨酸的质量分数为0.15％-0.25％，例如0.15％或0.25％。
在本发明一实施方案中，所述有机溶剂的质量分数40％-65％；所述有机溶剂为N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜和环丁砜中的一种或多种；
所述还原型谷胱甘肽的质量分数为0.005％-0.01％；
所述半胱氨酸的质量分数为0.15％-0.25％；
所述有机碱为四甲基氢氧化铵和/或胆碱；
所述螯合剂为乙二胺四乙酸和/或1,2-环己二胺-N,N,N',N'-四乙酸；
所述缓蚀剂为苯并三唑和/或甲苯三唑；
所述羧酸铵为草酸铵和/或柠檬酸三铵。
在本发明一实施方案中，所述聚酰亚胺清洗液，其原料由下列质量分数的组分组成：30％-80％有机溶剂、0.001％-0.01％还原型谷胱甘肽、0.001％-0.25％半胱氨酸、1％-5％醇胺、1％-5％有机碱、0.01％-2％螯合剂、0.01％-2％缓蚀剂、0.5％-3％羧酸铵、0.01-1％表面活性剂、0.01％-2％流平剂和水，水补足余量；
其中，所述有机溶剂、所述还原型谷胱甘肽、所述半胱氨酸、所述醇胺、所述有机碱、所述螯合剂、所述缓蚀剂、所述羧酸铵、所述表面活性剂、所述流平剂和所述水的种类和质量分数均同前所述。
较佳地，所述聚酰亚胺清洗液的原料由以下任一配方组成：
方案一：45％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案二：40％的N-甲基吡咯烷酮、0.01％的还原型谷胱甘肽、0.15％的半胱氨酸、1％的三乙醇胺、1％的四甲基氢氧化铵、0.01％的乙二胺四乙酸、0.01％的苯并三唑、0.5％的草酸铵、0.01％的EO-PO聚合物L81、0.01％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案三：60％的N-甲基吡咯烷酮、0.01％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、5％的三乙醇胺、5％的四甲基氢氧化铵、2％的乙二胺四乙酸、2％的苯并三唑、3％的草酸铵、1％的EO-PO聚合物L81、2％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案四：65％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案五：40％的N-甲基吡咯烷酮、0.01％的还原型谷胱甘肽、0.15％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、5％的四甲基氢氧化铵、2％的乙二胺四乙酸、2％的苯并三唑、3％的草酸铵、1％的EO-PO聚合物L81、2％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案六：45％的二甲基亚砜、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案七：45％的环丁砜、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案八：45％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的胆碱、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案九：45％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的1,2-环己二胺-N,N,N',N'-四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案十：45％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的甲苯三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案十一：45％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的柠檬酸三铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水。
本发明还提供了一种上述聚酰亚胺清洗液的制备方法：其包括以下步骤：将所述原料混合，即可。
所述制备方法中，所述混合优选为将所述原料中的固体组分加入到液体组分中，搅拌均匀，即可。
所述制备方法中，所述混合的温度优选为室温。
所述制备方法中，较佳地，所述混合后，还进一步包含振荡，过滤的操作，所述振荡的目的是为了使各原料组分充分混合，所述振荡速度和时间不限，所述过滤是为了除去不溶物。
本发明还提供了一种的上述聚酰亚胺清洗液在清洗硅晶片上的聚酰亚胺的中的应用。
所述应用中，所述清洗硅晶片上的聚酰亚胺的温度优选为60-90℃。
所述应用中，所述清洗硅晶片上的聚酰亚胺的时间优选为20-150min。
所述应用中，所述清洗硅晶片上的聚酰亚胺结束后，还优选包括水洗(例如去离子水清洗)和吹干(例如氮气吹干)。
本发明中，“室温”是指10-30℃。
在符合本领域常识的基础上，上述各优选条件，可任意组合，即得本发明各较佳实例。
本发明中1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)为自制，其它所用试剂和原料均市售可得。
本发明的积极进步效果在于：本发明的清洗液具有清洗能力强、对晶片腐蚀度低以及还避免了等离子刻蚀及灰化等繁琐工艺。
具体实施方式
下面通过实施例的方式进一步说明本发明，但并不因此将本发明限制在所述实施例范围之中。下列实施例中未注明具体条件的实验方法，按照常规方法和条件，或按照商品说明书选择。
表面活性剂EO-PO聚合物L81、EO-PO聚合物L42、EO-PO聚合物L62、EO-PO聚合物L31购自南通锦莱化工有限公司。
流平剂1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)(
Figure BDA0003395355070000071
)为自制，按照CN105968127A实施例1制得。
一、实施例1-11及对比例1-19：
清洗液的制备
清洗液的原料组分种类为表1中的原料组分(即有机溶剂、还原型谷胱甘肽、半胱氨酸、醇胺、有机碱、螯合剂、缓蚀剂、羧酸铵、表面活性剂和流平剂)和去离子水；清洗液的原料组分含量为表2中的原料组分含量。
在室温下，将表1中原料组分按照表2中的质量分数，将固体原料加入到液体原料中，用去离子水补足余量至100％后，搅拌均匀。混合后，振荡使各原料组分充分混合，然后过滤除去不溶物。
下述实施例中，未限定具体操作温度的，均是指在室温条件下进行。
表1：各实施例中的组分种类
Figure BDA0003395355070000081
/>
Figure BDA0003395355070000091
/>
Figure BDA0003395355070000101
/>
Figure BDA0003395355070000111
/>
Figure BDA0003395355070000121
表2：实施例清洗液中各原料组分含量
Figure BDA0003395355070000122
/>
Figure BDA0003395355070000131
/>
Figure BDA0003395355070000141
表中的“余量”为各实施例中，100％减去除水之外其它组分的质量百分比。
二、效果实施例
测试步骤：
实施例1-11清洗液及对比例1-19清洗液的性能检测见表3-表4。具体测试方法分别如下：
1.ER的检测
刻蚀速率待检测样品：
硅晶片上沉积了单一材料的dummy片子(假片)，如铝、钨、钛、硅、氮化硅、多晶硅等。
刻蚀实验：
在70℃条件下，将待检测样品在清洗液中静态浸渍60min，然后去离子水清洗后氮气吹干。
测试方法：
分别检测样品在刻蚀前后的厚度，其中金属样品采用四点探针仪器(日本Napson的CRESTEST-e)测试厚度，非金属样品采用椭偏仪测试厚度，硅腐蚀速率的厚度测量用SEM进行测量。
2.清洗效果的检测
清洗效果待检测样品：
具有图形特征(金属线metal、孔via、金属垫pad或沟槽trench等)的含有一定厚度聚酰亚胺层的图案化晶片。
测试方法：
在70℃条件下，将样品在清洗液中静态浸渍60min，然后去离子水清洗后氮气吹干。用电子显微镜SEM观测清洗和腐蚀效果。
表3：腐蚀速率
Figure BDA0003395355070000151
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表4：清洗效果和腐蚀效果
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Figure BDA0003395355070000181
表中的清洗效果分为四个等级：A-观察不到残留物；B-观察到极少量残留物；C-观察到少量残留物；D-观察到有明显较多残留物；表中的腐蚀效果分为四个等级：A-相容性佳，无底切；B-有极轻微底切；C-有少量底切；D-底切较为明显和严重。
根据以上的实施例，本发明的清洗液能够节省清洗工序且器件上的金属和介质层腐蚀率均较低。

Claims (10)

1.一种聚酰亚胺清洗液，其特征在于：其原料包括下列质量分数的组分：30％-80％有机溶剂、0.001％-0.01％还原型谷胱甘肽、0.001％-0.25％半胱氨酸、1％-5％醇胺、1％-5％有机碱、0.01％-2％螯合剂、0.01％-2％缓蚀剂、0.5％-3％羧酸铵、0.01-1％表面活性剂、0.01％-2％流平剂和水，水补足余量；各组分质量分数之和为100％。
2.如权利要求1所述聚酰亚胺清洗液，其特征在于：所述聚酰亚胺清洗液满足如下1个或多个条件：
(1)所述聚酰亚胺清洗液，所述有机溶剂为亚砜类溶剂、砜类溶剂、咪唑烷酮类溶剂、吡咯烷酮类溶剂、咪唑啉酮类溶剂、酰胺类溶剂和醇醚类溶剂中的一种或多种；
(2)所述聚酰亚胺清洗液，所述醇胺为单乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺中的一种或多种；
(3)所述聚酰亚胺清洗液，所述有机碱为四甲基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、胆碱、(2-羟基乙基)三甲基氢氧化铵、三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵、单乙醇胺、二甘醇胺、三乙醇胺、异丁醇胺、异丙醇胺、四丁基氢氧化鏻和四甲基胍中的一种或多种；
(4)所述聚酰亚胺清洗液，所述螯合剂为1,2-环己二胺-N,N,N',N'-四乙酸、乙二胺四乙酸、次氮基三乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、1,4,7,10-四氮杂环十二烷-1,4,7,10-四乙酸、乙二醇四乙酸、1,2-双(邻氨基苯氧基)乙烷-N,N,N',N'-四乙酸、N-{2-[双(羧甲基)氨基]乙基}-N-(2-羟乙基)甘氨酸、乙二胺-N,N'-双(2-羟基苯乙酸)、二氧杂八亚甲基二氮基四乙酸和三亚乙基四胺六乙酸中的一种或多种；
(5)所述聚酰亚胺清洗液，所述缓蚀剂为苯并三唑、甲苯三唑、5-苯基-苯并三唑、5-硝基-苯并三唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三唑、1-氨基-1,2,4-三唑、羟苯并三唑、2-(5-氨基-戊基)-苯并三唑、1-氨基-1，2，3-三唑、1-氨基-5-甲基-1,2,3-三唑、3-氨基-1,2,4-三唑、3-巯基-1,2,4-三唑、3-异丙基-1,2,4-三唑、5-苯硫醇-苯并三唑、卤代-苯并三唑(卤素＝F、Cl、Br或I)、萘并三唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、4-甲基-2-苯基咪唑、2-巯基噻唑啉、5-氨基四唑、5-氨基四唑一水合物、5-氨基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇、2,4-二氨基-6-甲基-1,3,5-三嗪、噻唑、三嗪、甲基四唑、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、1,5-五亚甲基四唑、1-苯基-5-巯基四唑、二氨基甲基三嗪、咪唑啉硫酮、巯基苯并咪唑、4-甲基-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇、5-氨基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇和苯并噻唑中的一种或多种；
(6)所述聚酰亚胺清洗液，所述羧酸铵为草酸铵、乳酸铵、酒石酸铵、柠檬酸三铵、乙酸铵、氨基甲酸铵、碳酸铵、苯甲酸铵、乙二胺四乙酸铵、乙二胺四乙酸二铵、乙二胺四乙酸三铵、乙二胺四乙酸四铵、琥珀酸铵、甲酸铵和1-H-吡唑-3-甲酸铵中的一种或多种；
(7)所述聚酰亚胺清洗液，所述表面活性剂为EO-PO聚合物L81；
(8)所述聚酰亚胺清洗液，所述流平剂为1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)。
3.如权利要求2所述聚酰亚胺清洗液，其特征在于：所述有机溶剂为亚砜类溶剂、砜类溶剂和吡咯烷酮类溶剂中的一种或多种。
4.如权利要求2所述聚酰亚胺清洗液，其特征在于：所述聚酰亚胺清洗液满足如下1个或多个条件：
(1)所述亚砜类溶剂为二甲基亚砜和/或甲乙基亚砜；
(2)所述砜类溶剂甲基砜和/或环丁砜；
(3)所述咪唑烷酮类溶剂为2-咪唑烷酮和/或1,3-二甲基-2-咪唑烷酮；
(4)所述吡咯烷酮类溶剂为N-甲基吡咯烷酮和/或N-环己基吡咯烷酮；
(5)所述咪唑啉酮类溶剂为1,3-二甲基-2-咪唑啉酮；
(6)所述酰胺类溶剂为N,N-二甲基甲酰胺和/或N,N-二甲基乙酰胺；
(7)所述醇胺为三乙醇胺；
(8)所述有机碱为四甲基氢氧化铵和/胆碱；
(9)所述螯合剂为乙二胺四乙酸和/或1,2-环己二胺-N,N,N',N'-四乙酸；
(10)所述缓蚀剂为苯并三唑和/或甲苯三唑；
(11)所述羧酸铵为草酸铵和/或柠檬酸三铵。
5.如权利要求4所述聚酰亚胺清洗液，其特征在于：所述聚酰亚胺清洗液满足如下1个或多个条件：
(1)所述亚砜类溶剂为二甲基亚砜；
(2)所述砜类溶剂为环丁砜；
(3)所述吡咯烷酮类溶剂为N-甲基吡咯烷酮。
6.如权利要求1所述聚酰亚胺清洗液，其特征在于：所述聚酰亚胺清洗液满足如下1个或多个条件：
(1)所述聚酰亚胺清洗液，所述有机溶剂的质量分数为40％-65％；
(2)所述聚酰亚胺清洗液，所述还原型谷胱甘肽的质量分数0.005％-0.01％；
(3)所述聚酰亚胺清洗液，所述半胱氨酸的质量分数为0.15％-0.25％。
7.如权利要求6所述聚酰亚胺清洗液，其特征在于：所述聚酰亚胺清洗液满足如下1个或多个条件：
(1)所述聚酰亚胺清洗液，所述有机溶剂的质量分数为40％、45％、60％或65％；
(2)所述聚酰亚胺清洗液，所述还原型谷胱甘肽的质量分数为0.005％或0.01％；
(3)所述聚酰亚胺清洗液，所述半胱氨酸的质量分数为0.15％或0.25％。
8.如权利要求1所述聚酰亚胺清洗液，其特征在于：所述有机溶剂的质量分数40％-65％；所述有机溶剂为N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜和环丁砜中的一种或多种；
所述还原型谷胱甘肽的质量分数为0.005％-0.01％；
所述半胱氨酸的质量分数为0.15％-0.25％；
所述有机碱为四甲基氢氧化铵和/或胆碱；
所述螯合剂为乙二胺四乙酸和/或1,2-环己二胺-N,N,N',N'-四乙酸；
所述缓蚀剂为苯并三唑和/或甲苯三唑；
所述羧酸铵为草酸铵和/或柠檬酸三铵。
9.如权利要求1～8中任一项所述聚酰亚胺清洗液，其特征在于：所述聚酰亚胺清洗液，其原料由下列质量分数的组分组成：30％-80％有机溶剂、0.001％-0.01％还原型谷胱甘肽、0.001％-0.25％半胱氨酸、1％-5％醇胺、1％-5％有机碱、0.01％-2％螯合剂、0.01％-2％缓蚀剂、0.5％-3％羧酸铵、0.01-1％表面活性剂、0.01％-2％流平剂和水，水补足余量；
所述有机溶剂、所述还原型谷胱甘肽、所述半胱氨酸、所述醇胺、所述有机碱、所述螯合剂、所述缓蚀剂、所述羧酸铵、所述表面活性剂、所述流平剂和所述水的种类和质量分数如权利要求1～8中任一项。
10.如权利要求1所述聚酰亚胺清洗液，其特征在于：所述聚酰亚胺清洗液由以下任一配方组成：
方案一：45％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案二：40％的N-甲基吡咯烷酮、0.01％的还原型谷胱甘肽、0.15％的半胱氨酸、1％的三乙醇胺、1％的四甲基氢氧化铵、0.01％的乙二胺四乙酸、0.01％的苯并三唑、0.5％的草酸铵、0.01％的EO-PO聚合物L81、0.01％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案三：60％的N-甲基吡咯烷酮、0.01％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、5％的三乙醇胺、5％的四甲基氢氧化铵、2％的乙二胺四乙酸、2％的苯并三唑、3％的草酸铵、1％的EO-PO聚合物L81、2％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案四：65％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案五：40％的N-甲基吡咯烷酮、0.01％的还原型谷胱甘肽、0.15％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、5％的四甲基氢氧化铵、2％的乙二胺四乙酸、2％的苯并三唑、3％的草酸铵、1％的EO-PO聚合物L81、2％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案六：45％的二甲基亚砜、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案七：45％的环丁砜、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案八：45％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的胆碱、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案九：45％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的1,2-环己二胺-N,N,N',N'-四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案十：45％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的甲苯三唑、1％的草酸铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水；
方案十一：45％的N-甲基吡咯烷酮、0.005％的还原型谷胱甘肽、0.25％的半胱氨酸、2.5％的三乙醇胺、2.5％的四甲基氢氧化铵、1％的乙二胺四乙酸、0.5％的苯并三唑、1％的柠檬酸三铵、0.05％的EO-PO聚合物L81、0.7％的1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-乙基咪唑)和补足余量的去离子水。
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