CN116157737A - 用于创造尺寸放大的母版的熔接方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于创造压印程序的尺寸放大的母版的方法。至少两个母版被熔接在一起，其中至少一个母版至少部分地包含至少一个纹路化区域。光敏性树脂至少施加在至少两个母版之间，其中光源的光引导于波导系统内并当光敏性树脂与波导系统接触时，固化至少在至少两个子母版之间的光敏性树脂。本发明的进一步目的是一种由所述方法获得的尺寸放大的母版、一种得自所述尺寸放大的母版的压印产品以及一种用于通过执行所述方法制造尺寸放大的母版的设备。

Description

用于创造尺寸放大的母版的熔接方法
本发明涉及一种用于制造尺寸放大的纳和/或微纹路化的母版模具的方法。
纳及微纹路化表面可在越来越多的应用中发现。在这些应用中纹路化表面不是可增加装置的功能(例如，光伏模块的效率)就是使全新的功能(例如，全像显示)成为可能。这些纹路化表面通常通过使用例如注射成型或纳米压印石印术的方法从母版复制纹路来应用于产品。
母版的制造通常价昂且费时。此外，母版处理技术在纹路可被施加于其上的最大表面面积方面受到限制。某些应用需要具有超过母版处理技术的限制的纹路化表面面积。针对这些应用，较小的母版被加大尺度以执行尺寸的需求。针对其它的应用，虽然可以制作具有所需纹路化表面面积的母版，但出于经济原因，尺寸放大的母版是较受欢迎的。例如，尺寸放大的母版可用来在每个复制周期复制多个较小的产品。大部分用于将纹路化母版放大尺度的方法可分成两类。
第一类包括使用分步重复在较大的基材上多次印刷(通常相同的)纹路化图案的方法。印刷的子单元格通常由例如在专利US20130153534A1所述的未纹路化带隔开，或者例如由M.K.Kwak et al.Material Horizons Vol.2,2015,p.86-90(doi:10.1039/c4mh00159a)所述的印刷的子单元格彼此重迭。在两个示例中，其中紫外线纳米压印石印术用作压印技术，对于防止紫外线可固化树脂流至不需要的位置有很大的挑战，导致子单元格之间的交互污染。此挑战限制了可以使用的纹路、压印压力和树脂的类型。
用于制造尺寸放大的母版的第二类包括将多个较小的母版物理拼接在一起以形成尺寸放大的母版的方法，这些方法例如描述于专利CN 105911815及以申请人的名义的未公开的专利申请案EP 19202151.7。在这种方式下，子单元格的交互污染通常不存在。然而，不同的母版将由接缝连接，这些接缝可能会干扰尺寸放大的纹路的外观，并且可能会干扰后续的压印程序和/或可能会随着时间的推移而退化。因此，往往需要获得平滑、薄且耐用的接缝。专利CN 105911815描述了一种通过使用可剥离胶带密封和粘贴接缝，同时从背面用可固化树脂填充接缝来获得高质接缝的方法。专利CN107121890A描述了在接缝区域使用遮光条(例如金属或黑色树脂)在透明基板上使用光固化树脂创造大面积纳米模具的方法。未固化的树脂和遮光条可在压印之后移除。
在文件KR 2012/0082266中公开一种侧粘合方法，用于创造大面积纳米模板。对于这个方法，在不同单元之间使用可固化树脂。文件US 2016/0033818教导了大尺寸图案的制造，其中多个图案结构单元位于相同的平面上且借助单元之间的树脂连接。
文件US 2018/0113242公开了用于制造图案结构的制造方法。该文件主要聚焦于晶圆切割成不同的表面的方法。然而，该文件也公开了不同的单元图案结构对齐在一起。对于不同的单元图案结构的组合，液态树脂配备于第一和第二单元图案结构之间，其中树脂为热固性或光固化性树脂。
本发明描述以可控制方式物理性熔接多个母版在一起的替代方法，该方式产生具有高光学及机械性质的熔接接缝。
因此，本发明涉及一种针对压印程序创造尺寸放大的母版的方法。至少两个母版熔接在一起，其中至少一个母版包含至少一个纹路化区域。光敏性树脂至少施加在至少两个母版之间，其中光源的光引导于波导系统内并当光敏性树脂接触波导系统时固化至少在至少两个基板之间的光敏性树脂。
本方法必须将多个纹路化(子)母版彼此紧靠放置，并与光波导系统紧靠或直接接触。紫外光和/或可见光在波导系统的一个或多个边缘处或借助一个或多个输入耦合结构耦合到波导组件中。在波导系统中对光敏感的光可固化树脂从(子)母版的后界面施加在接缝处，在该处光可固化树脂将在毛细力和/或重力下流入接缝区域。当树脂已局部接触波导系统的波导时，在树脂可能(不希望地)沿着母版的(纹路化的)界面扩散之前，来自波导组件的光可以以可控制的方式逸出并固化树脂。为了让它发挥作用，未固化条件下的树脂的折射率不同于波导材料的折射率(该波导材料的折射率优选小于0.2，更优选小于0.1且最优选小于0.05的值)以便能够破坏波导材料的全内折射。当树脂被固化时，熔接接缝产生于两个母版之间。当熔接程序完成时，可以将背板或背片选择性地附接到尺寸放大的母版的后部，然后可以从尺寸放大的母版上移除波导。
所得的尺寸放大的母版包括熔接在一起以形成较大的母版数组的多个较小的单元(母版)。较小的母版之间的拼接接头或熔接接缝由光可固化树脂制成，该树脂与光波导系统的光接触，产生平滑且耐久的接缝。因此，相较于那些现有技术，所得的压印产品也具较高质量，在接缝高度及宽度方面较少变化。
本发明进一步涉及从尺寸放大的母版所得的压印产品。
根据权利要求1，至少两个母版熔接在一起。然而，尺寸放大的母版可包含多于三个、四个、五个或六个母版，这些母版熔接在一起以形成尺寸放大的母版。母版中至少一个至少部分地包含纹路化区域。纹路化区域具有基板的压印纹路的相反结构的浮凸图案。在一个实施方案中，所有或多于一个，优选是两个，更优选是三个且最优选是多于一半的母版至少部分包含纹路化区域。纹路化区域可以在整个母版区域上或仅在母版的部分上延伸。若纹路化区域仅在母版的部分区域上延伸，优选是至少60％，更优选是至少80％，且最优选是至少90％的母版区域包含纹路化区域。使用具有不同的纹路化区域(这意味着不同的浮凸图案)和/或纹路化区域具有不同尺寸(这意味着母版彼此之间的差异在于纹路化区域的大小)也是可能。
在一个实施方案中，至少一个母版定位成至少一个母版的至少一个纹路化区域是朝向波导系统定向和/或母版中至少一个是至少部分接触波导系统。术语“部分接触”优选意味着直接接触。在一个优选实施方案中，至少一个母版包含纹路化区域且至少一个母版的纹路化区域直接接触波导系统。术语“直接接触”意味着纹路化区域和/或母版物理接触波导系统，没有任何另外的材料(层、空气)出现在波导系统和纹路化区域之间。由于此配置，当树脂接触波导系统且快速固化树脂而无任何延迟时，波导系统的光可直接逸出。因此，可防止树脂在母版的部分上(例如在纹路化区域上)的不要的散布。由于母板以纹路化区域面对波导系统的优选配置，产生的熔接接缝与纹路化区域的高度大致相同。因此，在压印程序期间，基材上的力分布在基材的所有部分均相等且与接缝无关，此改进产生的压印产品的性质。
在一个实施方案中，至少一个母版定位成至少一个母版的至少一个纹路化区域朝离波导系统定向和/或母版中至少一个的后侧至少部分接触波导系统。术语“部分接触”优选意味着直接接触。在一个优选实施方案中至少一个母版包含纹路化区域且至少一个母版的纹路化区域直接接触波导系统。术语“直接接触”意味着母版的后侧物理接触波导系统，无任何另外的材料(层、空气)出现在波导系统和至少一个母版的后侧之间。在此配置中，当将树脂局部施加到至少两个母版之间的间隙时，树脂可以远离母版的纹路化区域。由于母版以后侧面对波导系统的配置，产生的熔接接缝与母版的后侧在一个平面，产生平滑的后侧，这例如通过真空吸盘大大地简化尺寸放大的母版的处理。在一个实施方案中，光源是水银蒸气灯或排成一排或放在狭缝帘后面的紫外线发光二极管(UV-LED)灯条，和/或该光源的光借助耦合工具耦合入波导系统。术语“耦合工具”例如意味着棱镜和/或光栅。由于耦合工具的使用，光源的位置独立于波导系统的位置并从而给予不同的装置的配置的较大自由度。在一个优选实施方案中，光源位于波导系统的侧边上且光从波导系统的侧边耦合入波导系统。
在一个实施方案中，力是与这些纹路化区域中至少一个垂直地施加在该至少两个母版上。例如，这可以是由重量产生的重力或空气压力控制的力，该空气压力控制的力或者替代地通过使用一体成形在波导板中的真空通道施加在至少两个母板的不与波导接触的外侧。力是在低于100N/cm2，优选低于50N/cm2的范围。
在一个优选实施方案中，至少两个母版是直接接触波导系统，其中纹路化区域面向波导系统并直接接触它。当力将母板压在波导系统上时，这可增加尺寸放大的母版内的母版的共面性。树脂污染和熔接接缝的不希望的浮凸可以避免，并提高尺寸放大的母版的质量。
在一个实施方案中，考虑到波导系统的传播方向，至少两个母版以在彼此之间以介于0和500微米之间的横向距离并排定位。母版之间的横向距离对应稍后的尺寸放大的母版中的母版之间的熔接接缝的宽度。在不同的母版之间，尺寸放大的母版内的不同距离是想象得到的。距离且因此熔接接缝可用于将尺寸放大的母版分隔成不同的单元。熔接接缝也可使用为一种标记以检测压印程序中的尺寸放大的母版的位置。
在一个实施方案中，至少两个母版的位置和/或至少两个母版之间的横向距离和/或至少两个母版和波导系统之间的垂直距离和/或光敏性树脂的量由至少一个控制装置检测和/或调节。任何类型的控制装置可使用。例如，具有或不具有其它的评估单元(例如计算器)的传感器或相机。当检测到母版的位置，知道用于施加树脂的位置且树脂可由树脂施加装置施加在这些位置处。此外，取决于母版之间的横向距离，可以控制和调整每个距离的树脂量。垂直距离的值可用为将作用在母版上的力的基础。此外，光敏性树脂的量可用为耦合入波导系统的光强度的基础。此外，测量的量也可以有用于检查被创造的尺寸放大的母版的质量。也可想象得到的是限制值被储存，当超过这些值，防止熔接程序的启动。这将节省资源并增加尺寸放大的母版的质量。
在一个实施方案中，光敏性树脂在熔接程序期间借助层压和/或分配和/或印刷和/或毛细力施加。局部施加树脂具有优点：树脂的量可善加控制且背侧可保持干净。另一方面，即使不知道母版的确切位置，借助层压施加树脂也可确保母版之间的体积被树脂充填。
在一个实施方案中，至少一个母版包含对来自光源的光透明且除了主波导系统外作用为另一波导系统的材料。由于另一波导系统，光特别有效地传送且损失量减少。尤其对于由复数个母版制造的更大的尺寸放大的母版，另一波导系统确保在整个母版配置上的相等的光强度。此外，在树脂接触主波导系统之前，另一波导系统可以启动固化程序。利用这个预固化方式，更防止不需要的树脂扩散且可产生较好质量的接缝。
在另一个实施方案中，至少两个母版和/或波导系统具有根据ISO 19403-2:2017所测量的小于15mN/m的表面自由能。由于母版和/或波导系统的优选表面自由能，树脂对例如纹路化区域的不需要的扩散的风险更可减少。此外，波导的低表面自由能减少接缝和波导之间的粘合，有助于尺寸放大程序之后的波导的移除。在本发明的一个实施方案中，如例如EP 3256907中概述的波导系统，至少部分地包括浮凸结构和/或光学结构和/或掺杂物。在一个实施方案中，浮凸结构对应至少一个母版的浮凸图案。例如，浮凸结构创造压印印模的起始区域且是压印程序开始的印模的区域。在另一个实施方案中，波导系统至少部分地包含光学结构，其中光源的光借助光学结构耦合入波导系统。由于光学结构，用于光耦合的位置可自由地选择。在另一个实施方案中，波导系统包含掺杂物，该掺杂物容许光在选择的区域上离开波导系统。在此实施方案中母版的部分可被照射以避免未固化树脂的污染。由于掺杂物，也可能调整波导系统的光强度。因此，波导系统的部分可具有比其它部分更高的光输出且独立于与树脂的接触。
在一个实施方案中，波导系统呈片状和/或至少部分由玻璃、熔融硅石、石英、聚合物或它们的混合物制成。也可能整个波导系统由玻璃、熔融硅石、石英、聚合物或它们的混合物制成，其中波导系统优选由一件制成。在一个另外的实施方案中，波导系统由不同件制成，其中每一件由相同或不同材料制成。
在本发明的另一个实施方案中，波导系统包含至少一个传感器装置。传感器装置是波导自身的部分或从波导分离的装置。传感器装置可连接控制器单元，该控制器单元控制光敏性树脂的量和/或光源的强度和/或母版的调整和/或树脂施加系统。
本发明的另一目的是通过上述的方法制造的尺寸放大的母版。尺寸放大的母版包含至少两个母版，其中至少一个母版至少部分地包含至少一个纹路化区域且其中熔接接缝(熔接区域)位于至少两个母版之间，其中一个纹路化母版和熔接接缝之间的高度差小于5微米。这意味着，尺寸放大的母版具有不受或几乎不受到熔接区域(接缝)的影响。由于此，复数个母版创造精确的尺寸放大的母版而无分布熔接接缝于不同的母版之间的缺点。不昂贵的程序制造所得的尺寸放大的母版，其中母版的尺寸和数量很容易适应实际要求。
在另一个实施方案中，尺寸放大的母版由一个或多个母版组合一个或多个侧磁砖制成以扩大尺寸放大的母版。在一个优选实施方案中，熔接接缝(熔接区域)位于至少一个母版和至少一个侧磁砖之间，其中这个母版和熔接接缝之间和/或熔接接缝和此侧磁砖之间的高度差小于5微米。这有在母版的外侧创造区域以收集树脂流的优点。一个或多个母版及侧磁砖可从尺寸放大的母版移除。在此实施方案中，熔接接缝在尺寸放大的母版内创造断点。移除的纹路化母版可再度使用以(在另一熔接程序中)建构相同的尺寸放大的母版或建构不同的尺寸放大的母版。在一个优选实施方案中，由一个或多个母版组合一个或多个侧磁砖制成的尺寸放大的母版在尺寸放大的母版的整个表面区域上具有小于5微米的平均高度差。侧磁砖(或框架)优选是没有任何产品纹路的磁砖，但也可具有相同的母版纹路或其它纹路以控制树脂流或压印间隙/压力。典型上，侧瓷砖至少在一个维度上比母版瓷砖长。以此方式，它们可助于将母版磁砖与共享参考对齐。
关于侧磁砖参考(仍未公开的)申请案EP 20188862.5。
在一个实施方案中，尺寸放大的母版由复数个母版制成，其中母版可从尺寸放大的母版移除。在此实施方案中，熔接区域也在尺寸放大的母版内创造断点。移除的母版可再使用以(在另一熔接程序中)建构相同的尺寸放大的母版或建构不同的尺寸放大的母版。
在另一个实施方案中，尺寸放大的母版具有表面区域，其中在整个表面区域上平均高度差小于5微米。此意味着，不同母版之间以及熔接区域和母版之间的高度差小于该值。所得的尺寸放大的母版具有平坦表面区域，这对于各种应用尤其有利。
本发明的另一主题是通过根据上述方法创造的尺寸放大的母版所得的压印产品。此意味着压印产品借助尺寸放大的母版压印在基板上的压印程序制造。尺寸放大的母版由至少两个母版制成，其中母版中至少一个包含纹路化区域且所得的产品至少部分包含纹路化区域的反浮凸图案。
本发明的另一主题是一种适合于生产根据上述方法所创造的尺寸放大的设备。尺寸放大的母版是由至少两个母版制成，其中母版中至少一个包含纹路化区域。
该设备可包含光源。在一个实施方案中，光源是可见光的光源。在一个实施方案中，光源是紫外线光源。在一个实施方案中，光源是紫外线光和可见光的光源。在一个实施方案中，设备的光源是水银蒸气灯或在狭缝帘后面排成一排或放在玻璃边缘旁边的紫外线发光二极管(UV-LED)灯条，和/或该光源的光借助耦合工具耦合入波导系统。术语“耦合工具”例如意味着棱镜和/或光栅。由于耦合工具的使用，光进入波导的耦合效率更高(导致更高的强度)，这是优点。此外，光源可于各种方向放置，容许更多配置方面的自由度。在一个实施方案中，光源位于波导系统的侧边上且光从波导系统的侧边耦合入波导系统。
该设备可包含波导系统。在一个实施方案中，波导系统为片状和/或至少部分由玻璃、熔融硅石、石英、聚合物或它们的混合物制成。在一个实施方案中，整个波导系统由玻璃、熔融硅石、石英、聚合物或它们的混合物制成，其中波导系统由一件制成。在另一个实施方案中，波导系统由不同件制成，其中每一件由相同或不同材料制成。这些件可利用粘着剂连接，粘着剂的折射率与这些件的材料的折射率相差至多+/-0.03，优选是至多+/-0.01。
在另一个实施方案中，根据本发明的设备的波导系统包含传感器装置。传感器装置可以是波导系统本身的一部分或是从波导系统分离的装置。传感器装置可连接控制器单元，该控制器单元控制光敏性树脂的量和/或光源的强度和/或母版的调整和/或树脂施加系统。
在另一个实施方案中，根据本发明的设备的波导系统至少部分地包含光学结构，其中光源的光借助光学结构耦合入波导系统。由于光学结构，用于光耦合的位置可自由地选择。在另一个实施方案中，设备的波导系统包含掺杂物，该掺杂物容许光在选择的区域上离开波导系统。在此实施方案中母版的部分可被照射以避免未固化树脂的污染。由于掺杂物，也可能调整设备的波导系统的光强度。因此，设备的波导系统的部分可具有比其它部分更高的光输出且独立于与树脂的接触。
在本发明的另一个实施方案中，波导系统包含传感器装置。传感器装置可以是波导系统本身的一部分或是从波导系统分离的装置。传感器装置可连接控制器单元，该控制器单元控制光敏性树脂的量和/或光源的强度和/或母版的调整和/或树脂施加系统。
该设备可包含用于施加力到至少两个母版的外侧上，不接触至少两个母版的波导的工具。在一个实施方案中，施加力的工具是可释放到至少两个母版上的重量。在一个实施方案中，施加力的工具是气动或液压驱动印模。在一个实施方案中，施加力的工具是机械或电力驱动印模。
该设备可包含施加光敏性树脂到至少两个母版的工具。在一个实施方案中，该工具可以是狭缝式涂布机、网版印刷机或甚至可能是旋转涂布机。在一个实施方案中，施加光敏性树脂的工具可以是在至少两个母版的背面上滴落或印刷液态树脂的分配装置。针对用光敏性树脂迭层背面，分配装置可以与可移动刮刀或可移动辊组合。在一个实施方案中，施加光敏性树脂的工具可以是至少一个可移动喷嘴，其可与喷墨打印机的喷嘴相媲美，其在至少两个母版的整个后侧或局部地释放光敏性树脂。在一个实施方案中，树脂通过使用毛细力流动于纹路化表面上。
该设备可包含控制装置，该控制装置适合于检测及控制至少两个母版的位置和/或至少两个母版和波导系统之间的横向距离和/或光敏性树脂的量。任何类型的控制装置可使用。例如，具有或不具有其它的评估单元(例如计算器)的传感器或相机。当检测到母版的位置，知道用于施加树脂的位置且树脂可由施加树脂的工具施加在这些位置处。此外，取决于母版之间的横向距离，可以控制和调整每个距离的树脂量。垂直距离的值可用为通过施力的工具必须作用在母版上的力的基础。此外，光敏性树脂的量可用为耦合入波导系统的光强度的基础。此外，测量的量也可以有用于检查被创造的尺寸放大的母版的质量。也可想象得到的是限制值被储存，当超过这些值，防止熔接程序的启动。这将节省资源并增加尺寸放大的母版的质量。
该设备可包含一个或多个提升装置，这些提升装置适合在波导系统的表面上定位至少两个母版和/或适合于从波导系统的表面提升尺寸放大的母版。一个或多个提升装置可以是一个或多个机器人。一个或多个提升装置可以是一个或多个并联式三轴机械手臂(delta robots)。一个或多个提升装置可配备有真空吸盘以暂时粘附到光滑表面。一个或多个提升装置可配备有电磁铁以暂时吸附到铁磁性物品。
该设备可包含保护波导系统的表面，母版和树脂不受例如灰尘的污染的外壳。而且，外壳对固化程序期间所使用的光可以是不透明以便保护员工免受强光照射，并防止来自外部光源的这种类型的光进入设置。外壳的至少部分可被移除或外壳可包含门以便进出设备的内部。为了安全理由，外壳可包括仅当外壳完全关闭时才允许打开光源的开关。
现在参考以下附图更详细地解释本发明，其中本发明的范围不受附图限制：
图1概略地显示用于熔接方法的配置；
图1b概略显示用于使用背板以稳定尺寸放大的母版以及使用侧磁砖的熔接方法的配置；
图2及图2b显示具有熔接区域(熔接接缝)的尺寸放大的母版的一部分的图像；
图3概略显示熔接的尺寸放大的母版的高度轮廓测量的三维表示。
在图1中显示用于制造尺寸放大的母版的方法。在图1中，两个母版2、2’位于波导系统5上并与之接触，其中纹路化区域4面向波导系统5。可固化光敏性树脂3存在于两个母版2、2’之间。光源6位于波导系统5的边缘区域中并在波导系统5内引导光。当可固化光敏性树脂3接触波导系统5时光离开波导系统5并固化树脂3。固化的树脂借助(熔接区域的)熔接接缝将母版2、2’熔接在一起以形成尺寸放大的母版。
在图1b中，背板8已装设在母版2、2’及侧磁砖9、9’上。背板8可用于操作稳定性。背板材料可以是任何片体，例如聚合物箔、玻璃板或金属片。装设例如使用层压步骤组合粘胶、压敏性树脂或可固化树脂完成。侧磁砖9和9’可使用来扩大尺寸放大的母版。侧磁砖9和9’通过固化的树脂3且因此通过另外的母版通过可固化树脂3连接在一起的相同方式装设在母版上。也在此，接缝创造于母版和侧磁砖之间，其中母版和熔接接缝之间的高度差也优选小于5微米。在一个优选实施方案中，由至少两个母版(2.2’)及至少一个侧磁砖(9,9’)制造的尺寸放大的母版(1)在整个表面区域上具有小于5微米的平均高度差。母版2和2’外侧的区域可用来收集树脂。
在图2中且也在图2b中显示尺寸放大的母版1的激光显微镜图像。在此图像中两个母版2、2’通过熔接接缝7熔接在一起。熔接接缝7由固化的树脂制成。图2的右侧上的高度轮廓显示熔接接缝7的高度从母版2、2’的平面偏离小于50纳米。
图3表示如在说明书中所述的已熔接在一起的两个纹路化母版2、2’的高度轮廓测量。熔接接缝7在两个母版2、2’之间且熔接接缝7的高度对应于母版2、2’的高度。

Claims (17)

1.一种用于创造压印程序用的尺寸放大的母版(1)的熔接方法，其中至少两个母版(2,2’)熔接一起，其中至少一个母版至少部分包含至少一个纹路化区域(4)，其中光敏性树脂(3)至少施加在所述至少两个母版(2,2’)之间，其中光源(6)的光引导于波导系统(5)内并当所述光敏性树脂(3)接触所述波导系统(5)时固化至少在所述至少两个母版(2,2')之间的所述光敏性树脂(3)。
2.根据权利要求1的熔接方法，其中所述至少两个母版定位成所述至少两个母版的所述至少一个纹路化区域(4)朝向所述波导系统(5)定向，和/或所述母版中至少一个至少部分接触所述光导系统(5)。
3.根据前述权利要求中任一项的熔接方法，其中所述光源(6)是水银蒸气灯或UV-LED灯条，和/或所述光源(6)的光借助耦合工具耦合入所述波导系统(5)。
4.根据前述权利要求中任一项的熔接方法，其中将力与所述纹路化区域(4)中至少一个垂直地施加在所述至少两个母版(2,2’)上。
5.根据前述权利要求中任一项的熔接方法，其中所述至少两个母版(2,2’)以在0至500微米之间的横向距离并排定位。
6.根据前述权利要求中任一项的熔接方法，其中所述至少两个母版(2,2’)的位置和/或所述至少两个母版(2,2’)之间的横向距离和/或所述至少两个母版(2,2’)和所述波导系统(5)之间的垂直距离和/或光敏性树脂(3)的量由至少一个控制装置检测和/或调节。
7.根据前述权利要求中任一项的熔接方法，其中所述光敏性树脂(3)借助层压和/或分配和/或印刷和/或毛细力添加。
8.根据前述权利要求中任一项的熔接方法，其中至少一个母版包含对来自所述光源(6)的光呈透明的材料且用作另一波导系统。
9.根据前述权利要求中任一项的熔接方法，其中所述至少两个母版(2,2’)和/或所述波导系统(5)具有根据接触角测量所测量的小于15mN/m的表面自由能，所述接触角测量是根据ISO 19403-2:2017。
10.根据前述权利要求中任一项的熔接方法，其中所述波导系统(5)至少部分包含浮凸结构和/或光学结构和/或掺杂物。
11.根据前述权利要求中任一项的熔接方法，其中所述波导系统(5)具有片状和/或至少部分由玻璃、熔融硅石、石英、聚合物或它们的混合物制成。
12.根据前述权利要求中任一项的熔接方法，其中所述波导系统(5)包含至少一个传感器装置。
13.一种尺寸放大的母版(1)，由根据前述权利要求中任一项的方法制造，其中所述尺寸放大的母版包含至少两个母版(2,2’)，其中至少一个母版至少部分包含至少一个纹路化区域(4)，且其中熔接缝(7)位于所述至少两个母版之间，其中一个纹路化的母版和所述熔接缝(7)之间的高度差小于5微米。
14.根据权利要求13的尺寸放大的母版(1)，其中所述尺寸放大的母版(1)包含至少一个侧磁砖(9)。
15.根据权利要求13或14的尺寸放大的母版(1)，其中所述尺寸放大的母版(1)具有表面区域，其中在所述整个表面区域上方，平均高度差小于5微米。
16.一种压印产品，其由根据权利要求13的尺寸放大的母版(1)制造。
17.一种用于通过执行根据权利要求1至12中任一项的熔接方法制造尺寸放大的母版的设备。
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