CN116156960A - 发光装置及包括发光装置的电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请提供了发光装置，其包括第一电极、第二电极以及在所述第一电极与所述第二电极之间的中间层。所述中间层包括发射层、在所述发射层与所述第二电极之间的第三层、在所述第三层与所述第二电极之间的第一层、以及在所述第一层与所述第三层之间的第二层。所述第一层包含第一不含金属的材料和第一含金属的材料，所述第二层包含第二不含金属的材料和第二含金属的材料，所述第一不含金属的材料和所述第二不含金属的材料彼此不同，所述第一含金属的材料和所述第二含金属的材料彼此不同，并且所述第三层由第三不含金属的材料组成。本申请还提供了包含所述发光装置的电子设备。

Description

发光装置及包括发光装置的电子设备

相关申请的交叉引用

本申请要求于2021年11月23日向韩国知识产权局提交的第10-2021-0162595号韩国专利申请的优先权和权益，所述韩国专利申请的全部内容通过援引并入本文。

技术领域

实施方案涉及发光装置及包括发光装置的电子设备。

背景技术

发光装置是自发射装置，其具有广视角、高对比度、短响应时间，以及在亮度、驱动电压和响应速度方面的优异的特性。

在发光装置中，第一电极位于衬底上，并且空穴传输区、发射层、电子传输区和第二电极依次布置在第一电极上。由第一电极提供的空穴通过空穴传输区朝向发射层移动，并且由第二电极提供的电子通过电子传输区朝向发射层移动。诸如空穴和电子的载流子在发射层中复合以产生激子。这些激子从激发态跃迁至基态，从而产生光。

应理解，该背景技术部分旨在部分地为理解该技术提供有用的背景。然而，该背景技术部分也可以包括在本文所公开的主题的相应有效申请日之前不是相关领域的技术人员已知或理解的部分的构思、概念或认知。

发明内容

实施方案涉及具有低驱动电压、高发光效率和长使用寿命的发光装置。

其它的方面将在随后的描述中被部分地阐述并且将部分地从描述中显而易见，或者可以通过本公开内容的实施方案的实践而获悉。

根据实施方案，发光装置可以包括第一电极、第二电极、以及在所述第一电极与所述第二电极之间的中间层，其中

所述中间层可以包括发射层、在所述发射层与所述第二电极之间的第三层、在所述第三层与所述第二电极之间的第一层、以及在所述第一层与所述第三层之间的第二层，

所述第一层可以包含第一不含金属的材料和第一含金属的材料，所述第二层可以包括第二不含金属的材料和第二含金属的材料，

所述第一不含金属的材料和所述第二不含金属的材料可以彼此不同，所述第一含金属的材料和第二含金属的材料可以彼此不同，并且所述第三层可以由第三不含金属的材料组成。

在实施方案中，所述中间层可以包括m个发射单元，以及在所述m个发射单元中的相邻发射单元之间的m-1个电荷产生单元，其中m可以是2或大于2的整数，并且所述m个发射单元中的任何一个可以包括所述发射层、所述第一层、所述第二层和所述第三层。

在实施方案中，从所述m个发射单元中的至少一个发射的光的最大发射波长可以不同于从所述m个发射单元的余者中的至少一个发射的光的最大发射波长。

在实施方案中，在所述m个发射单元中与所述第二电极相邻的发射单元可以包括所述发射层、所述第一层、所述第二层和所述第三层。

在实施方案中，m可以是4。

在实施方案中，所述m个发射单元可以包括第一发射单元、第二发射单元、第三发射单元和第四发射单元；所述m-1个电荷产生单元可以包括第一电荷产生单元、第二电荷产生单元和第三电荷产生单元；所述第一电荷产生单元可以在所述第一发射单元与所述第二发射单元之间；所述第二电荷产生单元可以在所述第二发射单元与所述第三发射单元之间；所述第三电荷产生单元可以在所述第三发射单元与所述第四发射单元之间；所述第一发射单元可以在所述第一电极与所述第一电荷产生单元之间；所述第二发射单元可以在所述第一电荷产生单元与所述第二电荷产生单元之间；所述第三发射单元可以在所述第二电荷产生单元与所述第三电荷产生单元之间；所述第四发射单元可以在所述第三电荷产生单元与所述第二电极之间；以及所述第一发射单元、所述第二发射单元、所述第三发射单元和所述第四发射单元中的任一个可以包括所述发射层、所述第一层、所述第二层和所述第三层。

在实施方案中，所述第四发射单元可以包括所述发射层、所述第一层、所述第二层和所述第三层。

在实施方案中，所述第四发射单元可以发射绿色光。

在实施方案中，所述第一不含金属的材料可以包括基于氧化膦的化合物、基于菲咯啉的化合物或其任意组合。

在实施方案中，所述第一含金属的材料可以包括碱金属、碱土金属、镧系金属或其任意组合。

在实施方案中，所述第一含金属的材料可以是Yb、Li、Cu、Ag、Au、Cu、Al、Mg或其任意组合。

在实施方案中，所述第二不含金属的材料可以包括包含以下中的至少一种的化合物：组2A的基团；其中组2A的两个或多于两个的基团彼此稠合的稠合环状基团；或者其中组2A的至少一个基团和至少一个组2B彼此稠合的稠合环状基团，其中组2A和组2B在下面解释。

在实施方案中，所述第二含金属的材料可以包括碱金属络合物。

在实施方案中，所述第三不含金属的材料可以包括包含以下中的至少一种的化合物：组3A的基团；其中组3A的两个或多于两个的基团彼此稠合的稠合环状基团；或者其中组3A的至少一个基团和至少一个组3B彼此稠合的稠合环状基团，其中组3A和组3B在下面解释。

在实施方案中，所述第二不含金属的材料和所述第三不含金属的材料可以彼此相同。

在实施方案中，基于100重量份的所述第二不含金属的材料和所述第二含金属的材料，所述第二不含金属的材料的量可以为约10重量份至约90重量份。

在实施方案中，所述第一层可以直接接触所述第二层。

在实施方案中，所述第一层的厚度可以等于或小于所述第二层的厚度。

根据实施方案，电子设备可以包括所述发光装置和薄膜晶体管，其中所述薄膜晶体管可以包括源电极和漏电极，并且所述发光装置的所述第一电极可以电连接至所述源电极或所述漏电极。

在实施方案中，所述电子设备可以进一步包括滤色器、颜色转换层、触摸屏层、偏振层或其任意组合。

附图说明

通过参考附图详细地描述本公开内容的实施方案，本公开内容的以上和其它的方面和特征将更加明显，在附图中：

图1是根据实施方案的发光装置的示意性横截面视图；

图2是根据实施方案的发光装置的示意性横截面视图；

图3是根据另一个实施方案的发光装置的示意性横截面视图；

图4是根据实施方案的电子设备的示意性横截面视图；以及

图5是根据另一实施方案的电子设备的示意性横截面视图。

具体实施方式

现在将参考其中示出了实施方案的附图在下文更全面地描述本公开内容。然而，本公开内容可以以不同的形式实施，并且不应解释为局限于本文阐述的实施方案。相反，提供这些实施方案使得本公开内容将是透彻且完整的，并且将向本领域技术人员充分地传达本公开内容的范围。

在附图中，为了便于描述且为了清晰，可以放大元件的大小、厚度、比例和尺寸。相同的数字通篇是指相同的元件。

在描述中，应理解，当元件(或区、层、部件等)被称为在另一个元件“上”、“连接至”另一个元件或“联接至”另一个元件时，它可以直接在其它元件上、直接连接至其它元件或直接联接至其它元件，或者一个或多于一个的介于中间的元件可以存在于其间。在类似的含义中，当元件(或区、层、部件等)被描述为“覆盖”另一个元件时，它可以直接覆盖其它元件，或者一个或多于一个的介于中间的元件可以存在于其间。

在描述中，当元件“直接在”另一个元件“上”、“直接连接至”另一个元件或“直接联接至”另一个元件时，不存在介于中间的元件。例如，“直接在......上”可以意指设置两个层或两个元件，而在其间没有额外的元件，例如粘合元件。

如本文使用，诸如“一(a)”、“一(an)”和“所述(the)”的用于单数的表述旨在还包括复数形式，除非上下文另外明确指出。

如本文使用，术语“和/或”包括相关列出项中的一个或多于一个的任意组合和所有组合。例如，“A和/或B”可以理解为意指“A、B、或者A和B”。术语“和”和“或”可以以连接词或反意连接词的意义使用，并且可以理解为等同于“和/或”。

在说明书和权利要求书中，出于其含义和解释的目的，术语“......中的至少一个(种)”旨在包括“选自......的组中的至少一个(种)”的含义。例如，“A和B中的至少一个(种)”可以理解为意指“A、B、或者A和B”。当在一列要素之前时，术语“......中的至少一个(种)”修饰整列的要素而不修饰该列的单个要素。

应理解，尽管术语第一、第二等可以在本文用于描述各种元件，但这些元件不应受到这些术语限制。这些术语仅用于区分一个元件与另一个元件。因此，在不背离本公开内容的教导的情况下，第一元件可以被称为第二元件。类似地，在不背离本公开内容的范围的情况下，第二元件可以被称为第一元件。

为了便于描述，空间相对术语“下方”、“之下”、“下”、“上方”、“上”等可以在本文用于描述如附图中例示的一个元件或组件与另一个元件或组件之间的关系。应理解，空间相对术语旨在涵盖除了附图中描绘的方向之外的装置在使用或操作时的不同方向。例如，在其中附图中例示的装置被翻转的情况下，位于另一个装置“下方”或“之下”的装置可以被放置在另一个装置“上方”。因此，示例性术语“下方”可以包括下部位置和上部位置两者。装置也可以定向在其它方向上，并且因此空间相对术语可以根据方向进行不同地解释。

如本文使用的术语“约”或“大约”包括规定值并且意指在如由本领域普通技术人员考虑相关测量和与所述量的测量相关的误差(即，测量系统的限制)所确定的所述值的可接受的偏差范围内。例如，“约”可以意指在一个或多于一个的标准偏差内，或者在规定值的±20％、±10％或±5％内。

应理解，术语“包括(comprises)”、“包括(comprising)”、“包含(includes)”、“包含(including)”、“具有(have)”、“具有(having)”、“含有(contains)”、“含有(containing)”等旨在指明本公开内容中的规定的特征、整数、步骤、操作、元件、组件或其组合的存在，但不排除一个或多于一个的其它的特征、整数、步骤、操作、元件、组件或其组合的存在或增添。

除非本文另外定义或暗示，使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开内容所属领域的技术人员通常理解的相同含义。应进一步理解，术语(例如在常用词典中定义的那些术语)应解释为具有与其在相关领域的语境中的含义相符的含义，并且不应以理想化或过于形式的含义进行解释，除非在说明书中明确定义。

如本文使用的术语“中间层”是指位于发光装置的第一电极与第二电极之间的单个层和/或多个层。

如本文使用的术语“B由A组成”是指其中B的特定范围仅由属于化合物A的范围的化合物或其任意组合组成的情况。因此，当B由A组成时，不属于化合物A的任何化合物可以不包括在B中。

如本文使用的术语“含金属的材料”是指包含金属原子的材料，其可以包括金属、含金属的化合物或金属络合物。

例如，“含金属的材料”可以包括碱金属、碱土金属、稀土金属、含碱金属的化合物、含碱土金属的化合物、含稀土金属的化合物、碱金属络合物、碱土金属络合物、稀土金属络合物或其任意组合。

碱金属可以包括Li、Na、K、Rb、Cs或其任意组合。碱土金属可以包括Mg、Ca、Sr、Ba或其任意组合。稀土金属可以包括Sc、Y、Ce、Tb、Yb、Gd或其任意组合。

含碱金属的化合物、含碱土金属的化合物和含稀土金属的化合物可以包括：碱金属、碱土金属和稀土金属中的每一种的氧化物、卤化物(例如氟化物，氯化物、溴化物或碘化物)或碲化物；或其任意组合。

含碱金属的化合物可以包括：碱金属氧化物，例如Li₂O、Cs₂O或K₂O；碱金属卤化物，例如LiF、NaF、CsF、KF、LiI、NaI、CsI或KI；或其任意组合。含碱土金属的化合物可以包括碱土金属氧化物，例如BaO、SrO、CaO、Ba_xSr_1-xO(其中x是满足0<x<1的条件的实数)、Ba_xCa_1-xO(其中x是满足0<x<1的条件的实数)等。含稀土金属的化合物可以包括YbF₃、ScF₃、Sc₂O₃、Y₂O₃、Ce₂O₃、GdF₃、TbF₃、YbI₃、ScI₃、TbI₃或其任意组合。在实施方案中，含稀土金属的化合物可以包括镧系金属碲化物。镧系金属碲化物的实例可以包括LaTe、CeTe、PrTe、NdTe、PmTe、SmTe、EuTe、GdTe、TbTe、DyTe、HoTe、ErTe、TmTe、YbTe、LuTe、La₂Te₃、Ce₂Te₃、Pr₂Te₃、Nd₂Te₃、Pm₂Te₃、Sm₂Te₃、Eu₂Te₃、Gd₂Te₃、Tb₂Te₃、Dy₂Te₃、Ho₂Te₃、Er₂Te₃、Tm₂Te₃、Yb₂Te₃和Lu₂Te₃。

碱金属络合物、碱土金属络合物和稀土金属络合物可以包括碱金属的离子、碱土金属的离子和稀土金属的离子中的一种，以及与金属离子键合的配体(例如，羟基喹啉、羟基异喹啉、羟基苯并喹啉、羟基吖啶、羟基菲啶、羟基苯基噁唑、羟基苯基噻唑、羟基苯基噁二唑、羟基苯基噻二唑、羟基苯基吡啶、羟基苯基苯并咪唑、羟基苯基苯并噻唑、联吡啶、菲咯啉、环戊二烯或其任意组合)。

如本文使用的术语“不含金属的材料”是指不含有金属原子的材料，其包括非金属元素、重金属元素或其任意组合。例如，“不含金属的材料”不包括碱金属、碱土金属和稀土金属。

在实施方案中，发光装置可以包括第一电极、第二电极、以及在第一电极与第二电极之间的中间层，其中

中间层可以包括发射层、在发射层与第二电极之间的第三层、在第三层与第二电极之间的第一层、以及在第一层与第三层之间的第二层，

第一层可以包括第一不含金属的材料和第一含金属的材料，第二层可以包括第二不含金属的材料和第二含金属的材料，

第一不含金属的材料和第二不含金属的材料可以彼此不同，第一含金属的材料和第二含金属的材料可以彼此不同，并且第三层可以由第三不含金属的材料组成。

根据实施方案的发光装置可以通过包括包含第一不含金属的材料和第一含金属的材料的第一层和包含第二不含金属的材料和第二含金属的材料的第二层而具有高的电子注入能力。

发光装置可以具有高的电子传输能力，并且可以通过包括由第三不含金属的材料组成的第三层来防止激子淬灭。

因此，根据实施方案的发光装置可以通过包括第一层、第二层和第三层同时具有高的电子注入能力和电子传输能力，从而具有低驱动电压和优异的发光效率和使用寿命。

在实施方案中，第一不含金属的材料可以包括基于氧化膦的化合物、基于菲咯啉的化合物或其任意组合。

如本文使用的术语“基于氧化膦的化合物”是指包含至少一个氧化膦基团的化合物，其中基于氧化膦的化合物为氧化膦的形式或包括氧化膦作为化合物的一部分。

如本文使用的术语“基于菲咯啉的化合物”是指包括至少一个菲咯啉基团的化合物，其中基于菲咯啉的化合物包括取代或未取代的菲咯啉基团。

在实施方案中，第一不含金属的材料可以包括由式1-1表示的化合物。

[式1-1]

[式1C]

在式1-1中，B₁可以是由式1A表示的基团、由式1B表示的基团、或由式1C表示的基团。

在式1-1、式1A、式1B和式1C中，

环A₁、环A₁₁和环A₁₂可以各自独立地为C₅-C₆₀碳环基团或C₂-C₆₀杂环基团，

环A₁₁和环A₁₂可以任选地经由单键彼此连接，

c1和c2可以各自独立地为1至3的整数,

T₁至T₄可以各自独立地为碳或氮，

E₁₁可以是*-(L₁₁)_a11-(R₁₁)_b11，

E₁₂可以是*-(L₁₂)_a12-(R₁₂)_b12，

E₁₄可以是*-(L₁₄)_a14-(R₁₄)_b14，

E₁₅可以是*-(L₁₅)_a15-(R₁₅)_b15，

E₁₆可以是*-(L₁₆)_a16-(R₁₆)_b16，

E₁₇可以是*-(L₁₇)_a17-(R₁₇)_b17，

E₁₈可以是*-(L₁₈)_a18-(R₁₈)_b18，

L₁至L₃和L₁₁至L₁₈可以各自独立地是单键、未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₃-C₆₀碳环基团、或者未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₁-C₆₀杂环基团，

a1至a3和a11至a18可以各自独立地为0至4的整数，

L₄可以是单键、*-C(R₅)(R₆)-*'、*-C(R₅)＝C(R₆)-*'或*-N(R₅)-C(＝R₆)-*'，其中R₅和R₆可以任选地彼此连接以形成未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团、或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团，

Ar₁和Ar₂可以各自独立地是未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团、或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团，

R₁、R₂、R₄至R₆、R₁₁、R₁₂和R₁₄至R₁₈可以各自独立地是氢、氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团、硝基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀烷基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀烯基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀炔基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀烷氧基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₆-C₆₀芳氧基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₆-C₆₀芳硫基基团、-Si(Q₁)(Q₂)(Q₃)、-B(Q₁)(Q₂)、-C(＝O)(Q₁)、-S(＝O)₂(Q₁)或-P(＝O)(Q₁)(Q₂)，

R₁和R₂可以任选地彼此连接以形成未取代的或被至少一个R_10a取代的C₅-C₆₀碳环基团、或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀杂环基团，

在式1-1中，当b4是2或大于2时，在b4数量的R₄中的任意两个可以任选地通过单键、*-C(R₇)(R₈)-*'、*-N(R₇)-*'、*-O-*'或*-S-*'彼此连接，以形成未取代的或被至少一个R_10a取代的C₅-C₆₀碳环基团、或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀杂环基团，并且R₇和R₈各自与关于R₁描述的相同，

b1、b2和b4可以各自独立地为0至5的整数，

b11、b12和b14至b18可以各自独立地为0至10的整数，

Q₁至Q₃各自与本文定义的相同，R_10a可以通过参考本文提供的R_10a的描述来理解，以及

*和*'各自表示与相邻原子的结合位点。

在实施方案中，第一不含金属的材料可以包括由式1-2表示的化合物。

[式1-2]

在式1-2中，

E₁₁可以是*-(L₁₁)_a11-(R₁₁)_b11，

E₁₂可以是*-(L₁₂)_a12-(R₁₂)_b12，

E₁₃可以是*-(L₁₃)_a13-(R₁₃)_b13，

E₁₄可以是*-(L₁₄)_a14-(R₁₄)_b14，

E₁₅可以是*-(L₁₅)_a15-(R₁₅)_b15，

E₁₆可以是*-(L₁₆)_a16-(R₁₆)_b16，

E₁₇可以是*-(L₁₇)_a17-(R₁₇)_b17，

E₁₈可以是*-(L₁₈)_a18-(R₁₈)_b18，

L₁₁至L₁₈可以各自独立地是单键、未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₅-C₆₀碳环基团、或者未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₂-C₆₀杂环基团，

a11至a18可以各自独立地是1至3的整数，

R₁₁至R₁₈可以各自独立地是氢、氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团、硝基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀烷基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀烯基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀炔基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀烷氧基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₆-C₆₀芳氧基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₆-C₆₀芳硫基基团、-Si(Q₁)(Q₂)(Q₃)、-B(Q₁)(Q₂)、-C(＝O)(Q₁)、-S(＝O)₂(Q₁)或-P(＝O)(Q₁)(Q₂)，以及

b11至b18可以各自独立地是0至10的整数，

Q₁至Q₃各自与本文定义的相同，R_10a可以通过参考本文提供的R_10a的描述来理解，以及

*表示与相邻原子的结合位点。

在实施方案中，第一含金属的材料可以包括碱金属、碱土金属、镧系金属或其任意组合。

在实施方案中，第一含金属的材料可以包括Yb、Li、Cu、Ag、Au、Cu、Al、Mg或其任意组合。

在实施方案中，第二不含金属的材料可以包括包含以下中的至少一种的化合物：组2A的基团；其中组2A的两个或多于两个的基团彼此稠合的稠合环状基团；或者其中组2A的至少一个基团和至少一个组2B彼此稠合的稠合环状基团：

[组2A]

吡啶基团、二嗪基团、三嗪基团、四嗪基团，

[组2B]

苯基团。

例如，第二不含金属的材料可以包括吡啶基团、嘧啶基团、吡嗪基团、哒嗪基团、三嗪基团、喹啉基团、异喹啉基团、苯并喹啉基团、苯并异喹啉基团、喹喔啉基团、苯并喹喔啉基团、喹唑啉基团、苯并喹唑啉基团、菲咯啉基团、噌啉基团、酞嗪基团、萘啶基团中至少一种，或其任意组合。

例如，第二不含金属的材料是取代或未取代的吡啶基团或者可以包括吡啶基团作为化合物的一部分。

在实施方案中，第二含金属的材料可以包括碱金属络合物。

在实施方案中，第二含金属的材料可以包括Li络合物。

在实施方案中，第二含金属的材料可以包括化合物ET-D1、化合物ET-D2或其任意组合：

在实施方案中，第三不含金属的材料可以包括包含以下中的至少一种的化合物：组3A的基团；其中组3A的两个或多于两个的基团彼此稠合的稠合环状基团；或者其中组3A的至少一个基团和至少一个组3B彼此稠合的稠合环状基团：

[组3A]

吡啶基团、二嗪基团、三嗪基团、四嗪基团，

[组3B]

苯基团。

例如，第三不含金属的材料可以包括吡啶基团、嘧啶基团、吡嗪基团、哒嗪基团、三嗪基团、喹啉基团、异喹啉基团、苯并喹啉基团、苯并异喹啉基团、喹喔啉基团、苯并喹喔啉基团、喹唑啉基团、苯并喹唑啉基团、菲咯啉基团、噌啉基团、酞嗪基团、萘啶基团中至少一种，或其任意组合。

在实施方案中，第二不含金属的材料和第三不含金属的材料可以各自独立地由式2表示。

[式2]

在式2中，

X₂₁可以是C(R₂₁)或N，

X₂₂可以是C(R₂₂)或N，

X₂₃可以是C(R₂₃)或N，

X₂₁至X₂₃中的至少一个可以是N，

A₂₁可以是单键、*-C(R₂₅)(R₂₆)-*'、C₅-C₆₀碳环基团或C₂-C₆₀杂环基团，

d24可以是0至10的整数，

L₂₁至L₂₃可以各自独立地是单键、未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₅-C₆₀碳环基团、或者未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₂-C₆₀杂环基团，

a21至a23可以各自独立地是0至3的整数。

b22和b23可以各自独立地为1至5的整数，

c21可以为1或2，

R₂₁至R₂₆、Ar₂₂和Ar₂₃可以各自独立地为氢、氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团、硝基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀烷基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀烯基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀炔基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀烷氧基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₆-C₆₀芳氧基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₆-C₆₀芳硫基基团、-Si(Q₁)(Q₂)(Q₃)、-B(Q₁)(Q₂)、-C(＝O)(Q₁)、-S(＝O)₂(Q₁)或-P(＝O)(Q₁)(Q₂)，

R₂₁至R₂₃、Ar₂₂和Ar₂₃中的相邻基团可以彼此连接以形成未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀杂环基团，

R₂₅和R₂₆可以彼此连接以形成未取代的或被至少一个R_10a取代的C₅-C₆₀碳环基团、或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀杂环基团，

Q₁至Q₃各自与本文定义的相同，R_10a可以通过参考本文提供的R_10a的描述来理解，以及

*和*'各自表示与相邻原子的结合位点。

如本文使用的术语“R_10a”可以是：

氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团或硝基基团；

各自未取代的或者被氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团、硝基基团、C₃-C₆₀碳环基团、C₁-C₆₀杂环基团、C₆-C₆₀芳氧基基团、C₆-C₆₀芳硫基基团、-Si(Q₁₁)(Q₁₂)(Q₁₃)、-B(Q₁₁)(Q₁₂)、-C(＝O)(Q₁₁)、-S(＝O)₂(Q₁₁)、-P(＝O)(Q₁₁)(Q₁₂)或其任意组合取代的C₁-C₆₀烷基基团、C₂-C₆₀烯基基团、C₂-C₆₀炔基基团或C₁-C₆₀烷氧基基团；

各自未取代的或者被氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团、硝基基团、C₁-C₆₀烷基基团、C₂-C₆₀烯基基团、C₂-C₆₀炔基基团、C₁-C₆₀烷氧基基团、C₃-C₆₀碳环基团、C₁-C₆₀杂环基团、C₆-C₆₀芳氧基基团、C₆-C₆₀芳硫基基团、-Si(Q₂₁)(Q₂₂)(Q₂₃)、-B(Q₂₁)(Q₂₂)、-C(＝O)(Q₂₁)、-S(＝O)₂(Q₂₁)、-P(＝O)(Q₂₁)(Q₂₂)或其任意组合取代的C₃-C₆₀碳环基团、C₁-C₆₀杂环基团、C₆-C₆₀芳氧基基团或C₆-C₆₀芳硫基基团；或者

-Si(Q₃₁)(Q₃₂)(Q₃₃)、-B(Q₃₁)(Q₃₂)、-C(＝O)(Q₃₁)、-S(＝O)₂(Q₃₁)或-P(＝O)(Q₃₁)(Q₃₂)，

其中Q₁至Q₃、Q₁₁至Q₁₃、Q₂₁至Q₂₃和Q₃₁至Q₃₃可以各自独立地是：氢；氘；-F；-Cl；-Br；-I；羟基基团；氰基基团；硝基基团；C₁-C₆₀烷基基团；C₂-C₆₀烯基基团；C₂-C₆₀炔基基团；C₁-C₆₀烷氧基基团；或者各自未取代的或被氘、-F、氰基基团、C₁-C₆₀烷基基团、C₁-C₆₀烷氧基基团、C₃-C₆₀碳环基团、C₁-C₆₀杂环基团或其任意组合取代的C₃-C₆₀碳环基团或C₁-C₆₀杂环基团。

在实施方案中，c21可以是2。

在实施方案中，第一不含金属的材料可以选自组I和组II，但不限于此：

[组I]

[组II]

在实施方案中，第二不含金属的材料和第三不含金属的材料可以各自独立地选自组III，但不限于此：

[组III]

/>

在实施方案中，第一层可以由第一不含金属的材料和第一含金属的材料的混合物组成。

在实施方案中，第二层可以由第二不含金属的材料和第二含金属的材料的混合物组成。

在实施方案中，第二不含金属的材料和第三不含金属的材料可以彼此相同。

在实施方案中，基于100重量份的第一不含金属的材料和第一含金属的材料，第一不含金属的材料的量可以为约75重量份至约100重量份。

在实施方案中，基于100重量份的第一层，第一不含金属的材料的量可以为约75重量份至约100重量份。

在实施方案中，基于100重量份的第二不含金属的材料和第二含金属的材料，第二不含金属的材料的量可以为约10重量份至约90重量份。例如，基于100重量份的第二不含金属的材料和第二含金属的材料，第二不含金属的材料的量可以为约20重量份至约80重量份。

在实施方案中，基于100重量份的第二层，第二不含金属的材料的量可以为约20重量份至约80重量份。

在实施方案中，第一层可以直接接触第二层。

在实施方案中，第一层可以直接接触第二电极。

在实施方案中，第二层可以直接接触第三层。

在实施方案中，第一层的厚度可以等于或小于第二层的厚度。

在实施方案中，第三层的厚度可以大于第二层的厚度。

在实施方案中，第一层的厚度可以为约

至约/>

在实施方案中，第二层的厚度可以为约

至约/>

在实施方案中，发光装置可以进一步包括位于第二电极外部的覆盖层，并且覆盖层可以具有等于或大于约1.6的折射率。例如，覆盖层可以具有约1.6至约2.5的折射率。

在实施方案中，发光装置可以发射具有约490nm至约580nm的最大发射波长的绿色光。例如，发光装置可以发射具有约500nm至约560nm的最大发射波长的绿色光。

在实施方案中，发光装置的第一电极可以是阳极，发光装置的第二电极可以是阴极，并且中间层可以进一步包括在第一电极与发射层之间的空穴传输区和在发射层与第二电极之间的电子传输区。

在实施方案中，电子传输区可以包括第一层、第二层和第三层。

在实施方案中，空穴传输区可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层或其任意组合，并且电子传输区可以包括空穴阻挡层、电子控制层、电子传输层、电子注入层或其任意组合。

在实施方案中，中间层可以包括m个发射单元，以及在m个发射单元中的相邻发射单元之间的m-1个电荷产生单元，其中m可以是2或大于2的整数，并且m个发射单元中的任何一个可以包括发射层、第一层、第二层和第三层。发射层、第一层、第二层和第三层各自与本文描述的相同。

发光装置可以包括在m个发射单元中的相邻发射单元之间的m-1个电荷产生单元。

例如，第m-1个电荷产生单元可以包括在第m个发射单元与第m-1个发射单元之间。在实施方案中，m可以是2或大于2的自然数。例如，m可以是从2至10的自然数。

在实施方案中，m可以是4。

例如，当m是2时，可以依次设置第一电极、第一发射单元、第一电荷产生单元、第二发射单元和第二电极。第一发射单元可以发射第一颜色光，第二发射单元可以发射第二颜色光，并且第一颜色光的最大发射波长和第二颜色光的最大发射波长可以彼此相同或不同。

作为另一个实例，当m是3时，可以依次设置第一电极、第一发射单元、第一电荷产生单元、第二发射单元、第二电荷产生单元、第三发射单元和第二电极。第一发射单元可以发射第一颜色光，第二发射单元可以发射第二颜色光，第三发射单元可以发射第三颜色光，并且第一颜色光的最大发射波长、第二颜色光的最大发射波长和第三颜色光的最大发射波长可以彼此相同或不同。

作为又一个实例，当m是4时，可以依次设置第一电极、第一发射单元、第一电荷产生单元、第二发射单元、第二电荷产生单元、第三发射单元、第三电荷产生单元、第四发射单元和第二电极。第一发射单元可以发射第一颜色光，第二发射单元可以发射第二颜色光，第三发射单元可以发射第三颜色光，第四发射单元可以发射第四颜色光，并且第一颜色光的最大发射波长、第二颜色光的最大发射波长、第三颜色光的最大发射波长和第四颜色光的最大发射波长可以彼此相同或不同。

在实施方案中，从m个发射单元中的至少一个发射的光的最大发射波长可以不同于从m个发射单元的余者中的至少一个发射的光的最大发射波长。

在根据实施方案的发光装置中，m个发射单元中的至少一个可以包括发射层、第一层、第二层和第三层。

例如，可以是最靠近第二电极150的发射单元的第m个发射单元可以包括空穴传输区、发射层和电子传输区，其中电子传输区可以包括第一层、第二层和第三层。

参照图2和图3，在m个发射单元中最靠近第二电极150的第m个发射单元可以被称为第m个发射单元(145(m))。

m个发射单元中最靠近第一电极的发射单元为第一发射单元(145(1))，距第一电极最远的发射单元为第m个发射单元(145(m))，并且第一发射单元(ELU(1))至第m个发射单元(ELU(m))依次布置。因此，第m-1个发射单元(145(m-1))可以位于第一电极(145(1))与第m个发射单元(145(m))之间。

另一方面提供了包括发光装置的电子设备。电子设备可以进一步包括薄膜晶体管。例如，电子设备可以进一步包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管可以包括源电极和漏电极，其中发光装置的第一电极可以电连接至源电极或漏电极。

在实施方案中，电子设备可以进一步包括滤色器、颜色转换层、触摸屏层、偏振层或其任意组合。关于电子设备的更多细节，可以参考本文提供的相关描述。

[图1至图3的描述]

图1至图3各自为根据实施方案的发光装置10的示意性横截面视图。发光装置10包括第一电极110、中间层130和第二电极150。

在图2中，发光装置的中间层可以包括位于相邻的发射单元之间的m个发射单元(145(1)......145(m-1)、145(m))和m-1个电荷产生单元(144(1)....144(m-1))，其中m个发射单元(145(1)....145(m-1)、145(m))可以包括发射层、第一层、第二层和第三层。

图3示出了其中m是4的发光装置。四个发射单元145(1)、145(2)、145(3)和145(4)(下文也称为第一发射单元145(1)、第二发射单元145(2)、第三发射单元145(3)和第四发射单元145(4))中的任一个可以包括发射层、第一层、第二层和第三层。

在下文，将结合图1至图3描述根据实施方案的发光装置10的结构和方法。

[第一电极110]

尽管未例示在图1中，但衬底可以进一步被包括在第一电极110下或在第二电极150上。衬底可以是玻璃衬底或塑料衬底，但不限于此。在实施方案中，衬底可以是柔性衬底，并且可以包含具有优异的耐热性和耐久性的塑料，例如聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯(PAR)、聚醚酰亚胺或其任意组合。

可以通过例如在衬底上沉积或溅射用于形成第一电极110的材料来形成第一电极110。当第一电极110是阳极时，用于形成第一电极110的材料可以是促进空穴注入的高功函数材料。

第一电极110可以是反射电极、半透反射电极或透射电极。当第一电极110是透射电极时，用于形成第一电极110的材料可以包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锡(SnO₂)、氧化锌(ZnO)或其任意组合。在实施方案中，当第一电极110是半透反射电极或反射电极时，用于形成第一电极110的材料可以包括镁(Mg)、银(Ag)、铝(Al)、铝-锂(Al-Li)、钙(Ca)、镁-铟(Mg-In)、镁-银(Mg-Ag)或其任意组合。

第一电极110可以具有由单个层组成的结构或者包括多个层的结构。例如，第一电极110可以具有ITO/Ag/ITO的三层结构。

[中间层130]

中间层130可以位于第一电极110上。中间层130可以包括发射层。

中间层130可以进一步包括位于第一电极110与发射层之间的空穴传输区和位于发射层与第二电极150之间的电子传输区。

除了各种有机材料之外，中间层130可以进一步包含含金属的化合物(例如有机金属化合物)、无机材料(例如量子点)等。

在实施方案中，中间层130可以包括堆叠在第一电极110与第二电极150之间的两个或多于两个的发射单元，以及位于两个或多于两个的发射单元之间的至少一个电荷产生单元。当中间层130包括如以上描述的两个或多于两个的发射单元和至少一个电荷产生单元时，发光装置10可以是串联发光装置。

[中间层130中的空穴传输区]

空穴传输区可以具有由由单一材料组成的层组成的结构、由由不同材料组成的层组成的结构、或者包括包含不同材料的多个层的结构。

空穴传输区可以包括空穴注入层、空穴传输层、发射辅助层、电子阻挡层或其任意组合。

例如，空穴传输区可以具有包括空穴注入层/空穴传输层结构、空穴注入层/空穴传输层/发射辅助层结构、空穴注入层/发射辅助层结构、空穴传输层/发射辅助层结构、或空穴注入层/空穴传输层/电子阻挡层结构的多层结构，其中每种结构的层可以从第一电极110按其各自规定的顺序堆叠，但空穴传输区的结构不限于此。

空穴传输区可以包含由式201表示的化合物、由式202表示的化合物或其任意组合。

[式201]

[式202]

在式201和式202中，

L₂₀₁至L₂₀₄可以各自独立地是未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₃-C₆₀碳环基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₁-C₆₀杂环基团，

L₂₀₅可以是*-O-*'、*-S-*'、*-N(Q₂₀₁)-*'、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₂₀亚烷基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₂₀亚烯基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₃-C₆₀碳环基团、或者未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₁-C₆₀杂环基团，*和*'各自是指与相邻原子的结合位点，

xa1至xa4可以各自独立地是0至5的整数，

xa5可以是1至10的整数，

R₂₀₁至R₂₀₄和Q₂₀₁可以各自独立地是未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团，

R₂₀₁和R₂₀₂可以任选地经由单键、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₅亚烷基基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₅亚烯基基团彼此连接以形成未取代的或被至少一个R_10a取代的C₈-C₆₀多环基团(例如，咔唑基团等)(例如，化合物HT16)，

R₂₀₃和R₂₀₄可以任选地经由单键、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₅亚烷基基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₅亚烯基基团彼此连接以形成未取代的或被至少一个R_10a取代的C₈-C₆₀多环基团，以及

na1可以是1至4的整数，和R_10a可以通过参考本文提供的R_10a的描述来理解。

例如，式201和式202中的每一个可以包含由式CY201至式CY217表示的基团中的至少一种：

在式CY201至式CY217中，R_10b和R_10c可以各自独立地与关于R_10a描述的相同，环CY₂₀₁至环CY₂₀₄可以各自独立地是C₃-C₂₀碳环基团或C₁-C₂₀杂环基团，并且式CY201至式CY217中的至少一个氢可以是未取代的或被如本文描述的R_10a取代。

在实施方案中，式CY201至式CY217中的环CY₂₀₁至环CY₂₀₄可以各自独立地是苯基团、萘基团、菲基团或蒽基团。

在实施方案中，式201和式202中的每一个可以包含由式CY201至式CY203表示的基团中的至少一种。

在实施方案中，式201可以包含由式CY201至式CY203表示的基团中的至少一种和由式CY204至式CY217表示的基团中的至少一种。

在实施方案中，在式201中，xa1可以是1，R₂₀₁可以是由式CY201至式CY203中的一种表示的基团，xa2可以是0，并且R₂₀₂可以是由式CY204至式CY207中的一种表示的基团。

在实施方案中，式201和式202中的每一个可以不包含由式CY201至式CY203中的一个表示的基团。

在实施方案中，式201和式202中的每一个可以不包含由式CY201至式CY203中的一个表示的基团，并且可以包含由式CY204至式CY217表示的基团中的至少一种。

在实施方案中，式201和式202中的每一个可以不包含由式CY201至式CY217中的一个表示的基团。

在实施方案中，空穴传输区可以包含化合物HT1至化合物HT46、m-MTDATA、TDATA、2-TNATA、NPB(NPD)、β-NPB、TPD、螺-TPD、螺-NPB、甲基化-NPB、TAPC、HMTPD、4,4',4”-三(N-咔唑基)三苯胺(TCTA)、聚苯胺/十二烷基苯磺酸(PANI/DBSA)、聚(3,4-亚乙基二氧基噻吩)/聚(4-苯乙烯磺酸酯)(PEDOT/PSS)、聚苯胺/樟脑磺酸(PANI/CSA)、聚苯胺/聚(4-苯乙烯磺酸酯)(PANI/PSS)中的一种或其任意组合：

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空穴传输区的厚度可以是约

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例如，空穴传输区的厚度可以是约/>

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当空穴传输区包括空穴注入层、空穴传输层或其任意组合时，空穴注入层的厚度可以是约/>

至约/>

并且空穴传输层的厚度可以是约/>

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例如，空穴注入层的厚度可以是约/>

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例如，空穴传输层的厚度可以是约/>

至约/>

当空穴传输区、空穴注入层和空穴传输层的厚度在这些范围内时，可以获得令人满意的空穴传输特性，而没有驱动电压的显著增加。

发射辅助层可以通过根据由发射层发射的光的波长补偿光学共振距离来增加光发射效率，并且电子阻挡层可以阻挡从发射层至空穴传输区的电子的泄露。可以包含在空穴传输区中的材料可以被包含在发射辅助层和电子阻挡层中。

[p-掺杂剂]

除了这些材料之外，空穴传输区可以进一步包含用于改善传导性质的电荷产生材料。电荷产生材料可以均匀地或非均匀地分散在空穴传输区中(例如，以由电荷产生材料组成的单个层的形式)。

电荷产生材料可以是例如p-掺杂剂。

例如，p-掺杂剂的最低未占据分子轨道(LUMO)能级可以等于或小于约-3.5eV。

在实施方案中，p-掺杂剂可以包括醌衍生物、含氰基基团的化合物、含有元素EL1和元素EL2的化合物或其任意组合。

醌衍生物的实例可以包括TCNQ、F4-TCNQ等。

含氰基基团的化合物的实例可以包括HAT-CN和由式221表示的化合物。

[式221]

在式221中，

R₂₂₁至R₂₂₃可以各自独立地是未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团，和R_10a可以通过参考本文提供的R_10a的描述来理解，以及

R₂₂₁至R₂₂₃中的至少一个可以各自独立地是各自被氰基基团；-F；-Cl；-Br；-I；被氰基基团、-F、-Cl、-Br、-I或其任意组合取代的C₁-C₂₀烷基基团；或者其任意组合取代的C₃-C₆₀碳环基团或C₁-C₆₀杂环基团。

在含有元素EL1和元素EL2的化合物中，元素EL1可以是金属、准金属或其任意组合，并且元素EL2可以是非金属、准金属或其任意组合。

金属的实例可以包括碱金属(例如，锂(Li)、钠(Na)、钾(K)、铷(Rb)、铯(Cs)等)；碱土金属(例如，铍(Be)、镁(Mg)、钙(Ca)、锶(Sr)、钡(Ba)等)；过渡金属(例如，钛(Ti)、锆(Zr)、铪(Hf)、钒(V)、铌(Nb)、钽(Ta)、铬(Cr)、钼(Mo)、钨(W)、锰(Mn)、锝(Tc)、铼(Re)、铁(Fe)、钌(Ru)、锇(Os)、钴(Co)、铑(Rh)、铱(Ir)、镍(Ni)、钯(Pd)、铂(Pt)、铜(Cu)、银(Ag)、金(Au)等)；后过渡金属(例如，锌(Zn)、铟(In)、锡(Sn)等)；以及镧系金属(例如，镧(La)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu)等)。

准金属的实例可以包括硅(Si)、锑(Sb)和碲(Te)。

非金属的实例可以包括氧(O)和卤素(例如，F、Cl、Br、I等)。

含有元素EL1和元素EL2的化合物的实例可以包括金属氧化物、金属卤化物(例如，金属氟化物、金属氯化物、金属溴化物或金属碘化物)、准金属卤化物(例如，准金属氟化物、准金属氯化物、准金属溴化物或准金属碘化物)、金属碲化物或其任意组合。

金属氧化物的实例可以包括钨氧化物(例如，WO、W₂O₃、WO₂、WO₃、W₂O₅等)、钒氧化物(例如，VO、V₂O₃、VO₂、V₂O₅等)、钼氧化物(例如，MoO、Mo₂O₃、MoO₂、MoO₃、Mo₂O₅等)和铼氧化物(例如，ReO₃等)。

金属卤化物的实例可以包括碱金属卤化物、碱土金属卤化物、过渡金属卤化物、后过渡金属卤化物和镧系金属卤化物。

碱金属卤化物的实例可以包括LiF、NaF、KF、RbF、CsF、LiCl、NaCl、KCl、RbCl、CsCl、LiBr、NaBr、KBr、RbBr、CsBr、LiI、NaI、KI、RbI和CsI。

碱土金属卤化物的实例可以包括BeF₂、MgF₂、CaF₂、SrF₂、BaF₂、BeCl₂、MgCl₂、CaCl₂、SrCl₂、BaCl₂、BeBr₂、MgBr₂、CaBr₂、SrBr₂、BaBr₂、BeI₂、MgI₂、CaI₂、SrI₂和BaI₂。

过渡金属卤化物的实例可以包括钛卤化物(例如，TiF₄、TiCl₄、TiBr₄、TiI₄等)、锆卤化物(例如，ZrF₄、ZrCl₄、ZrBr₄、ZrI₄等)、铪卤化物(例如，HfF₄、HfCl₄、HfBr₄、HfI₄等)、钒卤化物(例如，VF₃、VCl₃、VBr₃、VI₃等)、铌卤化物(例如，NbF₃、NbCl₃、NbBr₃、NbI₃等)、钽卤化物(例如，TaF₃、TaCl₃、TaBr₃、TaI₃等)、铬卤化物(例如，CrF₃、CrCl₃、CrBr₃、CrI₃等)、钼卤化物(例如，MoF₃、MoCl₃、MoBr₃、MoI₃等)、钨卤化物(例如，WF₃、WCl₃、WBr₃、WI₃等)、锰卤化物(例如，MnF₂、MnCl₂、MnBr₂、MnI₂等)、锝卤化物(例如，TcF₂、TcCl₂、TcBr₂、TcI₂等)、铼卤化物(例如，ReF₂、ReCl₂、ReBr₂、ReI₂等)、铁卤化物(例如，FeF₂、FeCl₂、FeBr₂、FeI₂等)、钌卤化物(例如，RuF₂、RuCl₂、RuBr₂、RuI₂等)、锇卤化物(例如，OsF₂、OsCl₂、OsBr₂、OsI₂等)、钴卤化物(例如，CoF₂、CoCl₂、CoBr₂、CoI₂等)、铑卤化物(例如，RhF₂、RhCl₂、RhBr₂、RhI₂等)、铱卤化物(例如，IrF₂、IrCl₂、IrBr₂、IrI₂等)、镍卤化物(例如，NiF₂、NiCl₂、NiBr₂、NiI₂等)、钯卤化物(例如，PdF₂、PdCl₂、PdBr₂、PdI₂等)、铂卤化物(例如，PtF₂、PtCl₂、PtBr₂、PtI₂等)、铜卤化物(例如，CuF、CuCl、CuBr、CuI等)、银卤化物(例如，AgF、AgCl、AgBr、AgI等)和金卤化物(例如，AuF、AuCl、AuBr、AuI等)。

后过渡金属卤化物的实例可以包括锌卤化物(例如，ZnF₂、ZnCl₂、ZnBr₂、ZnI₂等)、铟卤化物(例如，InI₃等)和锡卤化物(例如，SnI₂等)。

镧系金属卤化物的实例可以包括YbF、YbF₂、YbF₃、SmF₃、YbCl、YbCl₂、YbCl₃、SmCl₃、YbBr、YbBr₂、YbBr₃、SmBr₃、YbI、YbI₂、YbI₃和SmI₃。

准金属卤化物的实例可以包括锑卤化物(例如，SbCl₅等)。

金属碲化物的实例可以包括碱金属碲化物(例如，Li₂Te、Na₂Te、K₂Te、Rb₂Te、Cs₂Te等)、碱土金属碲化物(例如，BeTe、MgTe、CaTe、SrTe、BaTe等)、过渡金属碲化物(例如，TiTe₂、ZrTe₂、HfTe₂、V₂Te₃、Nb₂Te₃、Ta₂Te₃、Cr₂Te₃、Mo₂Te₃、W₂Te₃、MnTe、TcTe、ReTe、FeTe、RuTe、OsTe、CoTe、RhTe、IrTe、NiTe、PdTe、PtTe、Cu₂Te、CuTe、Ag₂Te、AgTe、Au₂Te等)、后过渡金属碲化物(例如，ZnTe等)和镧系金属碲化物(例如，LaTe、CeTe、PrTe、NdTe、PmTe、EuTe、GdTe、TbTe、DyTe、HoTe、ErTe、TmTe、YbTe、LuTe等)。

[中间层130中的发射层]

当发光装置10是全色发光装置时，根据子像素，可以将发射层图案化成红色发射层、绿色发射层和/或蓝色发射层。在实施方案中，发射层可以具有红色发射层、绿色发射层和蓝色发射层中的两个或多于两个的层的堆叠结构，其中所述两个或多于两个的层可以彼此接触或可以彼此隔开以发射白色光。在实施方案中，发射层可以包含发红色光的材料、发绿色光的材料和发蓝色光的材料中的两种或多于两种的材料，其中所述两种或多于两种的材料在单个层中彼此混合以发射白色光。

发射层可以包含主体和掺杂剂。掺杂剂可以包括磷光掺杂剂、荧光掺杂剂或其任意组合。

基于100重量份的主体，发射层中的掺杂剂的量可以是约0.01重量份至约15重量份。

在实施方案中，发射层可以包含量子点。

在实施方案中，发射层可以包含延迟荧光材料。延迟荧光材料可以在发射层中用作主体或用作掺杂剂。

发射层的厚度可以是约

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例如，发射层的厚度可以是约

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当发射层的厚度在这些范围内时，可以获得优异的光发射特性，而没有驱动电压的显著增加。

[主体]

在实施方案中，主体可以包含由式301表示的化合物。

[式301]

[Ar₃₀₁]_xb11-[(L₃₀₁)_xb1-R₃₀₁]_xb21

在式301中，

Ar₃₀₁可以是未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团，和L₃₀₁可以是未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₃-C₆₀碳环基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₁-C₆₀杂环基团，

xb11可以是1、2或3，

xb1可以是0至5的整数，

R₃₀₁可以是氢、氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团、硝基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀烷基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀烯基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₂-C₆₀炔基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀烷氧基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团、-Si(Q₃₀₁)(Q₃₀₂)(Q₃₀₃)、-N(Q₃₀₁)(Q₃₀₂)、-B(Q₃₀₁)(Q₃₀₂)、-C(＝O)(Q₃₀₁)、-S(＝O)₂(Q₃₀₁)或-P(＝O)(Q₃₀₁)(Q₃₀₂)，

xb21可以是1至5的整数，以及

Q₃₀₁至Q₃₀₃各自独立地与本文关于Q₁描述的相同，以及R_10a可以通过参考本文提供的R_10a的描述来理解。

例如，当式301中的xb11是2或大于2时，两个或多于两个的Ar₃₀₁可以经由单键彼此连接。

在实施方案中，主体可以包括由式301-1表示的化合物、由式301-2表示的化合物或其任意组合：

[式301-1]

[式301-2]

在式301-1和式301-2中，

环A₃₀₁至环A₃₀₄可以各自独立地是未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团，

X₃₀₁可以是O、S、N[(L₃₀₄)_xb4-R₃₀₄]、C(R₃₀₄)(R₃₀₅)或Si(R₃₀₄)(R₃₀₅)，

xb22和xb23可以各自独立地是0、1或2，

L₃₀₁、xb1和R₃₀₁各自与本文描述的相同，

L₃₀₂至L₃₀₄各自独立地与本文关于L₃₀₁描述的相同，

xb2至xb4各自独立地与本文关于xb1描述的相同，以及

R₃₀₂至R₃₀₅和R₃₁₁至R₃₁₄各自独立地与本文关于R₃₀₁描述的相同。

在实施方案中，主体可以包括碱土金属络合物、后过渡金属络合物或其任意组合。例如，主体可以包括Be络合物(例如，化合物H55)、Mg络合物、Zn络合物或其任意组合。

在实施方案中，主体可以包括化合物H1至化合物H124、9,10-二(2-萘基)蒽(ADN)、2-甲基-9,10-双(萘-2-基)蒽(MADN)、9,10-二(2-萘基)-2-叔丁基-蒽(TBADN)、4,4'-双(N-咔唑基)-1,1'-联苯(CBP)、1,3-二(9-咔唑基)苯(mCP)、1,3,5-三(咔唑-9-基)苯(TCP)中的一种或其任意组合：

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[磷光掺杂剂]

在实施方案中，磷光掺杂剂可以包含至少一种过渡金属作为中心金属。

磷光掺杂剂可以包含单齿配体、二齿配体、三齿配体、四齿配体、五齿配体、六齿配体或其任意组合。

磷光掺杂剂可以是电中性的。

例如，磷光掺杂剂可以包括由式401表示的有机金属化合物。

[式401]

M(L₄₀₁)_xc1(L₄₀₂)_xc2

[式402]

在式401和式402中，

M可以是过渡金属(例如，铱(Ir)、铂(Pt)、钯(Pd)、锇(Os)、钛(Ti)、金(Au)、铪(Hf)、铕(Eu)、铽(Tb)、铑(Rh)、铼(Re)或铥(Tm))，

L₄₀₁可以是由式402表示的配体，并且xc1可以是1、2或3，其中当xc1是二或大于二时，两个或多于两个的L₄₀₁可以彼此相同或不同，

L₄₀₂可以是有机配体，并且xc2可以是0、1、2、3或4，并且当xc2是2或大于2时，两个或多于两个的L₄₀₂可以彼此相同或不同，

X₄₀₁和X₄₀₂可以各自独立地是氮或碳，

环A₄₀₁和环A₄₀₂可以各自独立地是C₃-C₆₀碳环基团或者C₁-C₆₀杂环基团，

T₄₀₁可以是单键、*-O-*'、*-S-*'、*-C(＝O)-*'、*-N(Q₄₁₁)-*'、*-C(Q₄₁₁)(Q₄₁₂)-*'、*-C(Q₄₁₁)＝C(Q₄₁₂)-*'、*-C(Q₄₁₁)＝*'或*＝C＝*'，

X₄₀₃和X₄₀₄可以各自独立地是化学键(例如，共价键或配位键)、O、S、N(Q₄₁₃)、B(Q₄₁₃)、P(Q₄₁₃)、C(Q₄₁₃)(Q₄₁₄)或Si(Q₄₁₃)(Q₄₁₄)，

Q₄₁₁至Q₄₁₄可以各自独立地与本文关于Q₁描述的相同，

R₄₀₁和R₄₀₂可以各自独立地是氢、氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团、硝基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₂₀烷基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₂₀烷氧基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团、-Si(Q₄₀₁)(Q₄₀₂)(Q₄₀₃)、-N(Q₄₀₁)(Q₄₀₂)、-B(Q₄₀₁)(Q₄₀₂)、-C(＝O)(Q₄₀₁)、-S(＝O)₂(Q₄₀₁)或-P(＝O)(Q₄₀₁)(Q₄₀₂)，

Q₄₀₁至Q₄₀₃可以各自独立地与本文关于Q₁描述的相同，R_10a可以通过参考本文提供的R_10a的描述来理解，

xc11和xc12可以各自独立地是0至10的整数，以及

式402中的*和*'各自表示与式401中的M的结合位点。

例如，在式402中，X₄₀₁可以是氮，并且X₄₀₂可以是碳，或者X₄₀₁和X₄₀₂中的每一个可以是氮。

在实施方案中，当式401中的xc1是2或大于2时，两个或多于两个的L₄₀₁中的两个环A₄₀₁可以任选地经由作为连接基团的T₄₀₂彼此连接，并且两个环A₄₀₂可以任选地经由作为连接基团的T₄₀₃彼此连接(参见化合物PD1至化合物PD4和化合物PD7)。T₄₀₂和T₄₀₃可以各自独立地与本文关于T₄₀₁描述的相同。

在式401中，L₄₀₂可以是有机配体。例如，L₄₀₂可以包括卤素基团、二酮基团(例如，乙酰丙酮酸酯基团)、羧酸基团(例如，吡啶甲酸酯基团)、-C(＝O)、异腈基团、-CN、含磷基团(例如，膦基团、亚磷酸酯基团等)或其任意组合。

磷光掺杂剂可以包括，例如，化合物PD1至化合物PD39中的一种或其任意组合：

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[荧光掺杂剂]

荧光掺杂剂可以包括含胺基团的化合物、含苯乙烯基基团的化合物或其任意组合。

例如，荧光掺杂剂可以包括由式501表示的化合物。

[式501]

在式501中，

Ar₅₀₁、R₅₀₁和R₅₀₂可以各自独立地是未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团，L₅₀₁至L₅₀₃可以各自独立地是未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₃-C₆₀碳环基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₁-C₆₀杂环基团，以及R_10a可以通过参考本文提供的R_10a的描述来理解，

xd1至xd3可以各自独立地是0、1、2或3，以及

xd4可以是1、2、3、4、5或6。

在实施方案中，式501中的Ar₅₀₁可以是其中三个或多于三个的单环基团稠合在一起的稠合环状基团(例如，蒽基团、

基团或芘基团)。

在实施方案中，式501中的xd4可以是2。

在实施方案中，荧光掺杂剂可以包括化合物FD1至化合物FD36、DPVBi、DPAVBi中的一种或其任意组合：

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[延迟荧光材料]

发射层可以包含延迟荧光材料。

在说明书中，延迟荧光材料可以选自基于延迟荧光发射机理能够发射延迟荧光的化合物。

根据包含在发射层中的其它材料的类型，包含在发射层中的延迟荧光材料可以用作主体或用作掺杂剂。

在实施方案中，延迟荧光材料的三重态能级(eV)与延迟荧光材料的单重态能级(eV)之间的差可以大于或等于约0eV且小于或等于约0.5eV。当延迟荧光材料的三重态能级(eV)与延迟荧光材料的单重态能级(eV)之间的差满足以上描述的范围时，可以有效地发生延迟荧光材料的从三重态至单重态的向上转换，并且因此可以改善发光装置10的发光效率。

在实施方案中，延迟荧光材料可以包括：包含至少一个电子供体(例如，富π电子的C₃-C₆₀环状基团，例如咔唑基团)和至少一个电子受体(例如，亚砜基团、氰基基团或缺π电子的含氮C₁-C₆₀环状基团)的材料；或者包含其中两个或多于两个的环状基团稠合同时共用硼(B)的C₈-C₆₀多环基团的材料。

延迟荧光材料的实例可以包括化合物DF1至化合物DF9中的至少一种：

[量子点]

发射层可以包含量子点。

在说明书中，量子点可以是半导体化合物的晶体，并且可以包括能够根据晶体的尺寸发射各种发射波长的光的任何材料。

量子点的直径可以是例如约1nm至约10nm。

可以通过湿法化学工艺、金属有机化学气相沉积工艺、分子束外延工艺或与其类似的任何工艺合成量子点。

湿法化学工艺是包括将前体材料与有机溶剂混合并且生长量子点颗粒晶体的方法。当晶体生长时，有机溶剂自然地充当配位在量子点晶体的表面上的分散剂并且控制晶体的生长，使得量子点颗粒的生长可以通过比气相沉积方法(例如金属有机化学气相沉积(MOCVD)或分子束外延(MBE))更低成本且更容易进行的工艺来控制。

量子点可以包括II-VI族半导体化合物、III-V族半导体化合物、III-VI族半导体化合物、I-III-VI族半导体化合物、IV-VI族半导体化合物、IV族元素或化合物、或者其任意组合。

II-VI族半导体化合物的实例可以包括：二元化合物，例如CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、MgSe或MgS；三元化合物，例如CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、MgZnSe或MgZnS；四元化合物，例如CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe或HgZnSTe；或者其任意组合。

III-V族半导体化合物的实例可以包括：二元化合物，例如GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs或InSb；三元化合物，例如GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InGaP、InNP、InAlP、InNAs、InNSb、InPAs或InPSb；四元化合物，例如GaAlNP、GaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs或InAlPSb；或者其任意组合。在实施方案中，III-V族半导体化合物可以进一步包含II族元素。进一步包含II族元素的III-V族半导体化合物的实例是InZnP、InGaZnP、InAlZnP等。

III-VI族半导体化合物的实例可以包括：二元化合物，例如GaS、GaSe、Ga₂Se₃、GaTe、InS、InSe、In₂S₃、In₂Se₃或InTe；三元化合物，例如InGaS₃或InGaSe₃；或其任意组合。

I-III-VI族半导体化合物的实例可以包括：三元化合物，例如AgInS、AgInS₂、CuInS、CuInS₂、CuGaO₂、AgGaO₂或AgAlO₂；或者其任意组合。

IV-VI族半导体化合物的实例可以包括：二元化合物，例如SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe或PbTe；三元化合物，例如SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe或SnPbTe；四元化合物，例如SnPbSSe、SnPbSeTe或SnPbSTe；或者其任意组合。

IV族元素或化合物的实例可以包括：单一元素材料，例如Si或Ge；二元化合物，例如SiC或SiGe；或者其任意组合。

包含在多元素化合物(例如二元化合物、三元化合物和四元化合物)中的每种元素可以以均匀的浓度或以非均匀的浓度存在于颗粒中。

在实施方案中，量子点可以具有单一结构，其中量子点中每种元素的浓度可以是均匀的，或者量子点可以具有核-壳结构。例如，当量子点具有核-壳结构时，包含在核中的材料和包含在壳中的材料可以彼此不同。

量子点的壳可以用作防止核的化学变性以保持半导体特性的保护层和/或可以用作向量子点赋予电泳特性的充电层。壳可以是单层或多层。核与壳之间的界面可以具有浓度梯度，其中壳中存在的元素的浓度朝向核降低。

量子点的壳的实例可以包括金属氧化物、准金属氧化物、非金属氧化物、半导体化合物及其任意组合。金属氧化物、准金属氧化物或非金属氧化物的实例可以包括：二元化合物(例如，SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、ZnO、MnO、Mn₂O₃、Mn₃O₄、CuO、FeO、Fe₂O₃、Fe₃O₄、CoO、Co₃O₄或NiO)；三元化合物(例如，MgAl₂O₄、CoFe₂O₄、NiFe₂O₄或CoMn₂O₄)；以及其任意组合。半导体化合物的实例可以包括如本文描述的II-VI族半导体化合物；III-V族半导体化合物；III-VI族半导体化合物；I-III-VI族半导体化合物；IV-VI族半导体化合物；以及其任意组合。例如，半导体化合物可以包括CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnSeS、ZnTeS、GaAs、GaP、GaSb、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InP、InGaP、InSb、AlAs、AlP、AlSb或其任意组合。

量子点的发射波长光谱的半峰全宽(FWHM)可以等于或小于约45nm。例如，量子点的发射波长光谱的FWHM可以等于或小于约40nm。例如，量子点的发射波长光谱的FWHM可以等于或小于约30nm。在这些范围内，可以增加颜色纯度或颜色再现性。通过量子点发射的光可以在所有方向上发射，使得可以改善广视角。

量子点可以是球形颗粒、角锥形颗粒、多臂颗粒、立方体纳米颗粒、纳米管、纳米线、纳米纤维或纳米板的形式。

由于能带间隙可以通过控制量子点的尺寸来调节，因此可以从量子点发射层获得具有各种波长带的光。因此，通过使用不同尺寸的量子点，可以实现发射各种波长的光的发光装置。在实施方案中，可以选择量子点的尺寸以发射红色光、绿色光和/或蓝色光。可以将量子点的尺寸配置成通过组合各种颜色的光来发射白色光。

[中间层130中的电子传输区]

根据实施方案的发光装置可以包括中间层中的电子传输区。电子传输区可以与以上描述中的相同，或者与以下发光装置的描述中的相同。

电子传输区可以具有由由单一材料组成的层组成的结构、由由不同材料组成的层组成的结构、或者包括包含不同材料的多个层的结构。

电子传输区可以包括缓冲层、空穴阻挡层、电子控制层、电子传输层、电子注入层或其任意组合。

例如，电子传输区可以具有电子传输层/电子注入层结构、空穴阻挡层/电子传输层/电子注入层结构、电子控制层/电子传输层/电子注入层结构、或缓冲层/电子传输层/电子注入层结构，其中每种结构的层可以从发射层按其各自规定的顺序堆叠，但电子传输区的结构不限于此。

在实施方案中，电子传输区(例如，在电子传输区中的缓冲层、空穴阻挡层、电子控制层或电子传输层)可以包含含有至少一个缺π电子的含氮C₁-C₆₀环状基团的不含金属的化合物。

在实施方案中，电子传输区可以包含由式601表示的化合物。

[式601]

[Ar₆₀₁]_xe11-[(L₆₀₁)_xe1-R₆₀₁]_xe21

在式601中，

Ar₆₀₁可以是未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团，和L₆₀₁可以是未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₃-C₆₀碳环基团或者未取代的或被至少一个R_10a取代的二价C₁-C₆₀杂环基团，

xe11可以是1、2或3，

xe1可以是0、1、2、3、4或5，

R₆₀₁可以是未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团、-Si(Q₆₀₁)(Q₆₀₂)(Q₆₀₃)、-C(＝O)(Q₆₀₁)、-S(＝O)₂(Q₆₀₁)或-P(＝O)(Q₆₀₁)(Q₆₀₂)，

Q₆₀₁至Q₆₀₃可以各自独立地与本文关于Q₁描述的相同，和R_10a可以通过参考本文提供的R_10a的描述来理解，

xe21可以是1、2、3、4或5，以及

Ar₆₀₁、L₆₀₁和R₆₀₁中的至少一个可以各自独立地是未取代的或被至少一个R_10a取代的缺π电子的含氮(二价)C₁-C₆₀环状基团。

在实施方案中，在式601中，当xe11是2或大于2时，两个或多于两个的Ar₆₀₁可以经由单键彼此连接。

在实施方案中，在式601中，Ar₆₀₁可以是取代或未取代的蒽基团。

在实施方案中，电子传输区可以包含由式601-1表示的化合物。

[式601-1]

在式601-1中，

X₆₁₄可以是N或C(R₆₁₄)，X₆₁₅可以是N或C(R₆₁₅)，X₆₁₆可以是N或C(R₆₁₆)，并且X₆₁₄至X₆₁₆中的至少一个可以是N，

L₆₁₁至L₆₁₃可以各自独立地与本文关于L₆₀₁描述的相同，

xe611至xe613可以各自独立地与本文关于xe1描述的相同，

R₆₁₁至R₆₁₃可以各自独立地与本文关于R₆₀₁描述的相同，以及

R₆₁₄至R₆₁₆可以各自独立地是氢、氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团、硝基基团、C₁-C₂₀烷基基团、C₁-C₂₀烷氧基基团、未取代的或被至少一个R_10a取代的C₃-C₆₀碳环基团、或者未取代的或被至少一个R_10a取代的C₁-C₆₀杂环基团，以及R_10a可以通过参考本文提供的R_10a的描述来理解。

在实施方案中，在式601和式601-1中，xe1和xe611至xe613可以各自独立地是0、1或2。

电子传输区可以包含化合物ET1至化合物ET45、2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉(BCP)、4,7-二苯基-1,10-菲咯啉(Bphen)、Alq₃、BAlq、TAZ、NTAZ中的一种或其任意组合：

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电子传输区的厚度可以是约

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例如，电子传输区的厚度可以是约/>

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当电子传输区包括缓冲层、空穴阻挡层、电子控制层、电子传输层或其任意组合时，缓冲层、空穴阻挡层或电子控制层的厚度可以各自独立地是约/>

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例如，并且电子传输层的厚度可以是约/>

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例如，缓冲层、空穴阻挡层或电子控制层的厚度可以各自独立地是约/>

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例如，电子传输层的厚度可以是约/>

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当缓冲层、空穴阻挡层、电子控制层、电子传输层和/或电子传输区的厚度在这些范围内时，可以获得令人满意的电子传输特性，而没有驱动电压的显著增加。

除了以上描述的材料之外，电子传输区(例如，电子传输区中的电子传输层)可以进一步包含含金属的材料。

含金属的材料可以包括碱金属络合物、碱土金属络合物或其任意组合。碱金属络合物的金属离子可以是Li离子、Na离子、K离子、Rb离子或Cs离子，并且碱土金属络合物的金属离子可以是Be离子、Mg离子、Ca离子、Sr离子或Ba离子。与碱金属络合物的金属离子或碱土金属络合物的金属离子配位的配体可以各自独立地包括羟基喹啉、羟基异喹啉、羟基苯并喹啉、羟基吖啶、羟基菲啶、羟基苯基噁唑、羟基苯基噻唑、羟基苯基噁二唑、羟基苯基噻二唑、羟基苯基吡啶、羟基苯基苯并咪唑、羟基苯基苯并噻唑、联吡啶、菲咯啉、环戊二烯或其任意组合。

在实施方案中，含金属的材料可以包括Li络合物。Li络合物可以包括例如化合物ET-D1(Liq)或化合物ET-D2：

电子传输区可以包括促进来自第二电极150的电子的注入的电子注入层。电子注入层可以直接接触第二电极150。

电子注入层可以具有由由单一材料组成的层组成的结构、由由不同材料组成的层组成的结构、或者包括包含不同材料的多个层的结构。

电子注入层可以包含碱金属、碱土金属、稀土金属、含碱金属的化合物、含碱土金属的化合物、含稀土金属的化合物、碱金属络合物、碱土金属络合物、稀土金属络合物或其任意组合。

碱金属可以包括Li、Na、K、Rb、Cs或其任意组合。碱土金属可以包括Mg、Ca、Sr、Ba或其任意组合。稀土金属可以包括Sc、Y、Ce、Tb、Yb、Gd或其任意组合。

含碱金属的化合物、含碱土金属的化合物和含稀土金属的化合物可以是碱金属、碱土金属和稀土金属的氧化物、卤化物(例如，氟化物、氯化物、溴化物或碘化物)或碲化物，或者其任意组合。

含碱金属的化合物可以包括：碱金属氧化物，例如Li₂O、Cs₂O或K₂O；碱金属卤化物，例如LiF、NaF、CsF、KF、LiI、NaI、CsI或KI；或者其任意组合。含碱土金属的化合物可以包括碱土金属氧化物，例如BaO、SrO、CaO、Ba_xSr_1-xO(其中x是满足0<x<1的条件的实数)、Ba_xCa_1-xO(其中x是满足0<x<1的条件的实数)等。含稀土金属的化合物可以包括YbF₃、ScF₃、Sc₂O₃、Y₂O₃、Ce₂O₃、GdF₃、TbF₃、YbI₃、ScI₃、TbI₃或其任意组合。在实施方案中，含稀土金属的化合物可以包括镧系金属碲化物。镧系金属碲化物的实例可以包括LaTe、CeTe、PrTe、NdTe、PmTe、SmTe、EuTe、GdTe、TbTe、DyTe、HoTe、ErTe、TmTe、YbTe、LuTe、La₂Te₃、Ce₂Te₃、Pr₂Te₃、Nd₂Te₃、Pm₂Te₃、Sm₂Te₃、Eu₂Te₃、Gd₂Te₃、Tb₂Te₃、Dy₂Te₃、Ho₂Te₃、Er₂Te₃、Tm₂Te₃、Yb₂Te₃和Lu₂Te₃。

碱金属络合物、碱土金属络合物和稀土金属络合物可以包含：碱金属的离子、碱土金属的离子和稀土金属的离子中的一种；以及键合至金属离子的配体，例如羟基喹啉、羟基异喹啉、羟基苯并喹啉、羟基吖啶、羟基菲啶、羟基苯基噁唑、羟基苯基噻唑、羟基苯基噁二唑、羟基苯基噻二唑、羟基苯基吡啶、羟基苯基苯并咪唑、羟基苯基苯并噻唑、联吡啶、菲咯啉、环戊二烯或其任意组合。

电子注入层可以由以下组成：如以上描述的碱金属、碱土金属、稀土金属、含碱金属的化合物、含碱土金属的化合物、含稀土金属的化合物、碱金属络合物、碱土金属络合物、稀土金属络合物或其任意组合。在实施方案中，电子注入层可以进一步包含有机材料(例如，由式601表示的化合物)。

在实施方案中，电子注入层可以由含碱金属的化合物(例如，碱金属卤化物)组成；或者电子注入层可以由含碱金属的化合物(例如，碱金属卤化物)，以及碱金属、碱土金属、稀土金属或其任意组合组成。例如，电子注入层可以是KI:Yb共沉积层、RbI:Yb共沉积层等。

当电子注入层进一步包含有机材料时，碱金属、碱土金属、稀土金属、含碱金属的化合物、含碱土金属的化合物、含稀土金属的化合物、碱金属络合物、碱土金属络合物、稀土金属络合物或其任意组合可以均匀地或非均匀地分散在包含有机材料的基体中。

电子注入层的厚度可以是约

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例如，电子注入层的厚度可以是约

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当电子注入层的厚度在以上描述的范围内时，可以获得令人满意的电子注入特性，而没有驱动电压的显著增加。

[第二电极150]

第二电极150可以位于具有如以上描述的结构的中间层130上。

第二电极150可以是阴极，其为电子注入电极。第二电极150可以包含具有低功函数的材料，例如，金属、合金、导电化合物或其任意组合。

第二电极150可以包含锂(Li)、银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铝-锂(Al-Li)、钙(Ca)、镁-铟(Mg-In)、镁-银(Mg-Ag)、镱(Yb)、银-镱(Ag-Yb)、ITO、IZO或其任意组合。第二电极150可以是透射电极、半透反射电极或反射电极。

第二电极150可以具有由单个层组成的结构、或包括多个层的结构。

[覆盖层]

发光装置10可以包括位于第一电极110外部的第一覆盖层和/或位于第二电极150外部的第二覆盖层。例如，发光装置10可以具有其中第一覆盖层、第一电极110、中间层130和第二电极150按此规定的顺序堆叠的结构，其中第一电极110、中间层130、第二电极150和第二覆盖层按此规定的顺序堆叠的结构，或者其中第一覆盖层、第一电极110、中间层130、第二电极150和第二覆盖层按此规定的顺序堆叠的结构。

发光装置10的中间层130的发射层中产生的光可以通过第一电极110(其可以是半透反射电极或透射电极)并且通过第一覆盖层朝向外部引出。发光装置10的中间层130的发射层中产生的光可以通过第二电极150(其可以是半透反射电极或透射电极)并且通过第二覆盖层朝向外部引出。

第一覆盖层和第二覆盖层可以各自根据相长干涉的原理来增加外部发射效率。因此，可以增加发光装置10的出光效率，使得可以改善发光装置10的发光效率。

第一覆盖层和第二覆盖层可以各自包含具有等于或大于约1.6(关于约589nm的波长)的折射率的材料。

第一覆盖层和第二覆盖层可以各自独立地是包含有机材料的有机覆盖层、包含无机材料的无机覆盖层、或者包含有机材料和无机材料的有机-无机复合覆盖层。

在实施方案中，第一覆盖层和第二覆盖层中的至少一个可以各自独立地包含碳环化合物、杂环化合物、含胺基团的化合物、卟啉衍生物、酞菁衍生物、萘酞菁衍生物、碱金属络合物、碱土金属络合物或其任意组合。碳环化合物、杂环化合物和含胺基团的化合物可以各自被包含O、N、S、Se、Si、F、Cl、Br、I或其任意组合的取代基任选地取代。

在实施方案中，第一覆盖层和第二覆盖层中的至少一个可以各自独立地包含含胺基团的化合物。

在实施方案中，第一覆盖层和第二覆盖层中的至少一个可以各自独立地包含由式201表示的化合物、由式202表示的化合物或其任意组合。

在实施方案中，第一覆盖层和第二覆盖层中的至少一个可以各自独立地包含化合物HT28至化合物HT33中的一种、化合物CP1至化合物CP6中的一种、β-NPB、或其任意组合：

[电子设备]

发光装置可以被包括在各种电子设备中。例如，包括发光装置的电子设备可以是发光设备、验证设备等。

除了发光装置之外，电子设备(例如，发光设备)可以进一步包括滤色器、颜色转换层、或者滤色器和颜色转换层。滤色器和/或颜色转换层可以位于从发光装置发射的光的至少一个行进方向上。例如，从发光装置发射的光可以是蓝色光或白色光。发光装置可以与本文描述的相同。在实施方案中，颜色转换层可以包含量子点。量子点可以是例如如本文描述的量子点。

电子设备可以包括衬底。衬底可以包括子像素，滤色器可以包括分别对应于子像素的滤色器区域，并且颜色转换层可以包括分别对应于子像素的颜色转换区域。

像素限定层可以位于子像素之间以限定每一个子像素。

滤色器可以进一步包括滤色器区域和位于滤色器区域之间的遮光图案，并且颜色转换层可以进一步包括颜色转换区域和位于颜色转换区域之间的遮光图案。

滤色器区域(或颜色转换区域)可以包括发射第一颜色光的第一区域、发射第二颜色光的第二区域和/或发射第三颜色光的第三区域，其中第一颜色光、第二颜色光和/或第三颜色光可以具有彼此不同的最大发射波长。例如，第一颜色光可以是红色光，第二颜色光可以是绿色光，并且第三颜色光可以是蓝色光。在实施方案中，滤色器区域(或颜色转换区域)可以包含量子点。例如，第一区域可以包含红色量子点，第二区域可以包含绿色量子点，并且第三区域可以不包含量子点。量子点可以与本文描述的相同。第一区域、第二区域和/或第三区域可以各自进一步包含散射体。

在实施方案中，发光装置可以发射第一光，第一区域可以吸收第一光以发射第一第一颜色光，第二区域可以吸收第一光以发射第二第一颜色光，并且第三区域可以吸收第一光以发射第三第一颜色光。第一第一颜色光、第二第一颜色光和第三第一颜色光可以具有彼此不同的最大发射波长。例如，第一光可以是蓝色光，第一第一颜色光可以是红色光，第二第一颜色光可以是绿色光，并且第三第一颜色光可以是蓝色光。

除了如本文描述的发光装置之外，电子设备可以进一步包括薄膜晶体管。薄膜晶体管可以包括源电极、漏电极和有源层，其中源电极和漏电极中的任一个可以电连接至发光装置的第一电极和第二电极中的任一个。

薄膜晶体管可以进一步包括栅电极、栅绝缘膜等。

有源层可以包含晶体硅、无定形硅、有机半导体、氧化物半导体等。

电子设备可以进一步包括用于密封发光装置的密封部。密封部可以位于颜色转换层和/或滤色器与发光装置之间。密封部可以允许来自发光装置的光被引出至外部，并且可以同时地防止环境空气和湿气渗透进入发光装置中。密封部可以是包括透明玻璃衬底或塑料衬底的密封衬底。密封部可以是包括有机层和/或无机层的薄膜封装层。当密封部是薄膜封装层时，电子设备可以是柔性的。

根据电子设备的用途，除了滤色器和/或颜色转换层之外，各种功能层可以进一步被包括在密封部上。功能层的实例可以包括触摸屏层、偏振层、验证设备等。触摸屏层可以是压敏触摸屏层、电容触摸屏层或红外触摸屏层。验证设备可以是例如通过使用生命体的生物测量信息(例如，指尖、瞳孔等)来验证个体的生物测量验证设备。

除了如以上描述的发光装置之外，验证设备可以进一步包括生物测量信息收集器。

电子设备可以应用于各种显示器，光源、照明设备、个人计算机(例如，移动个人计算机)、移动电话、数码相机、电子记事本、电子词典、电子游戏机、医疗仪器(例如，电子温度计、血压计、血糖仪、脉搏测量装置、脉搏波测量装置、心电图显示器、超声诊断装置或内窥镜显示器)、探鱼仪、各种测量仪器、仪表(例如，用于车辆、飞行器和船舶的仪表)、投影仪等。

[图3的描述]

图3是根据实施方案的发光装置的示意性横截面视图。

图3的发光装置可以包括第一发射单元145(1)、第二发射单元145(2)、第三发射单元145(3)和第四发射单元145(4)，并且可以包括第一电荷产生单元144(1)、第二电荷产生单元144(2)和第三电荷产生单元144(3)。

在实施方案中，第四发射单元145(4)可以包括第一层、第二层和第三层。例如，第四发射单元145(4)可以具有其中发射层、第三层、第二层和第一层以这种规定的顺序，以最接近第一电极的顺序堆叠的结构。

在实施方案中，第四发射单元145(4)可以发射绿色光。

在实施方案中，从第四发射单元145(4)发射的光的最大发射波长可以不同于从其余发射单元(例如，第一发射单元145(1)、第二发射单元145(2)和第三发射单元145(3))发射的光的最大发射波长。

例如，第四发射单元145(4)可以发射绿色光，并且第一发射单元145(1)、第二发射单元145(2)和第三发射单元145(3)可以各自发射蓝色光。

[图4和图5的描述]

图4是示出根据实施方案的电子设备的示意性横截面视图。

图4的电子设备包括衬底100、薄膜晶体管(TFT)、发光装置和密封发光装置的封装部300。

衬底100可以是柔性衬底、玻璃衬底或金属衬底。缓冲层210可以位于衬底100上。缓冲层210可以防止杂质渗透穿过衬底100，并且可以在衬底100上提供平坦表面。

TFT可以位于缓冲层210上。TFT可以包括有源层220、栅电极240、源电极260和漏电极270。

有源层220可以包含无机半导体(例如硅或多晶硅)、有机半导体或氧化物半导体，并且可以包括源区、漏区和沟道区。

用于使有源层220与栅电极240绝缘的栅绝缘膜230可以位于有源层220上，并且栅电极240可以位于栅绝缘膜230上。

层间绝缘膜250可以位于栅电极240上。层间绝缘膜250可以位于栅电极240与源电极260之间和栅电极240与漏电极270之间，以使栅电极240、源电极260和漏电极270彼此绝缘。

源电极260和漏电极270可以位于层间绝缘膜250上。可以形成层间绝缘膜250和栅绝缘膜230以暴露有源层220的源区和漏区，并且源电极260和漏电极270可以分别接触有源层220的源区和漏区的暴露部分。

TFT电连接至发光装置以驱动发光装置，并且被钝化层280覆盖和保护。钝化层280可以包括无机绝缘膜、有机绝缘膜或其任意组合。在钝化层280上提供发光装置。发光装置可以包括第一电极110、中间层130和第二电极150。

第一电极110可以位于钝化层280上。钝化层280可以不完全覆盖漏电极270并且可以暴露漏电极270的一部分，并且第一电极110可以电连接至漏电极270的暴露部分。

包含绝缘材料的像素限定层290可以位于第一电极110上。像素限定层290可以暴露第一电极110的一区域，并且可以在第一电极110的暴露区中形成中间层130。像素限定层290可以是聚酰亚胺或聚丙烯酸有机膜。尽管在图4中未示出，但中间层130的至少一些层可以延伸超过像素限定层290的上部以提供成公共层的形式。

第二电极150可以位于中间层130上，并且可以在第二电极150上额外地形成覆盖层170。可以形成覆盖层170以覆盖第二电极150。

封装部300可以位于覆盖层170上。封装部300可以位于发光装置上以保护发光装置免受湿气和/或氧气影响。封装部300可以包括：无机膜，所述无机膜包含硅氮化物(SiN_x)、硅氧化物(SiO_x)、氧化铟锡、氧化铟锌或其任意组合；有机膜，所述有机膜包含聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚乙烯磺酸酯、聚甲醛、聚芳酯、六甲基二硅氧烷、基于丙烯酸的树脂(例如，聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸等)、基于环氧的树脂(例如，脂肪族缩水甘油醚(AGE)等)或其任意组合；或者无机膜和有机膜的任意组合。

图5是根据另一实施方案的电子设备的示意性横截面视图。

图5的电子设备可以与图4的电子设备不同至少在于，遮光图案500和功能区400进一步包括在封装部300上。功能区400可以是滤色器区域、颜色转换区域、或者滤色器区域和颜色转换区域的组合。

在实施方案中，包括在图5的电子设备中的发光装置可以是串联发光装置。

[制造方法]

可以通过使用诸如真空沉积、旋涂、流延、兰格缪尔-布罗杰特(Langmuir-Blodgett，LB)沉积、喷墨印刷、激光印刷、激光诱导热成像等的各种方法在特定区中形成包括在空穴传输区中的层、发射层和包括在电子传输区中的层。

当通过真空沉积形成包括在空穴传输区中的各层、发射层和包括在电子传输区中的各层时，取决于待包含在待形成的层中的材料以及待形成的层的结构，可以以约100℃至约500℃的沉积温度、约10^-8托至约10^-3托的真空度和约

至约/>

的沉积速度进行沉积。

[术语的定义]

如本文使用的术语“C₃-C₆₀碳环基团”可以是由碳作为唯一的成环原子组成并且具有三个至六十个碳原子(例如，3至30、3至20、3至15或3至10个碳原子)的环状基团，并且如本文使用的术语“C₁-C₆₀杂环基团”可以是具有一个至六十个碳原子(例如，1至30、1至20、1至15或1至10个碳原子)并且进一步具有除了碳之外的至少一个(例如，1至5个或1至3个，如1、2、3、4或5个)杂原子作为成环原子的环状基团。C₃-C₆₀碳环基团和C₁-C₆₀杂环基团可以各自是由一个环组成的单环基团或者其中两个或多于两个的环彼此稠合的多环基团。在实施方案中，C₁-C₆₀杂环基团可以具有3个至61个成环原子(例如，3至30、3至20、3至15或3至10个成环原子)。

如本文使用的术语“环状基团”可以包括C₃-C₆₀碳环基团或C₁-C₆₀杂环基团。

如本文使用的术语“富π电子的C₃-C₆₀环状基团”可以是具有三个至六十个碳原子(例如，3至30、3至20、3至15或3至10个碳原子)并且可以不包含*-N＝*'作为成环部分的环状基团，并且如本文使用的术语“缺π电子的含氮C₁-C₆₀环状基团”可以是具有一个至六十个碳原子(例如，1至30、1至20、1至15或1至10个碳原子)并且可以包含*-N＝*'作为成环部分的杂环基团。

在实施方案中，

C₃-C₆₀碳环基团可以是T1基团或者其中两个或多于两个的T1基团彼此稠合的环状基团(例如，环戊二烯基团、金刚烷基团、降冰片烷基团、苯基团、戊搭烯基团、萘基团、甘菊环基团、引达省基团、苊烯基团、非那烯基团、菲基团、蒽基团、荧蒽基团、苯并菲基团、芘基团、

基团、苝基团、五苯基团、庚搭烯基团、并四苯基团、苉基团、并六苯基团、并五苯基团、玉红省基团、蔻基团、卵苯基团、茚基团、芴基团、螺-二芴基团、苯并芴基团、茚并菲基团或茚并蒽基团)，

C₁-C₆₀杂环基团可以是T2基团、其中两个或多于两个的T2基团彼此稠合的环状基团、或者其中至少一个T2基团和至少一个T1基团彼此稠合的环状基团(例如，吡咯基团、噻吩基团、呋喃基团、吲哚基团、苯并吲哚基团、萘并吲哚基团、异吲哚基团、苯并异吲哚基团、萘并异吲哚基团、苯并噻咯基团、苯并噻吩基团、苯并呋喃基团、咔唑基团、二苯并噻咯基团、二苯并噻吩基团、二苯并呋喃基团、茚并咔唑基团、吲哚并咔唑基团、苯并呋喃并咔唑基团、苯并噻吩并咔唑基团、苯并噻咯并咔唑基团、苯并吲哚并咔唑基团、苯并咔唑基团、苯并萘并呋喃基团、苯并萘并噻吩基团、苯并萘并噻咯基团、苯并呋喃并二苯并呋喃基团、苯并呋喃并二苯并噻吩基团、苯并噻吩并二苯并噻吩基团、吡唑基团、咪唑基团、三唑基团、噁唑基团、异噁唑基团、噁二唑基团、噻唑基团、异噻唑基团、噻二唑基团、苯并吡唑基团、苯并咪唑基团、苯并噁唑基团、苯并异噁唑基团、苯并噻唑基团、苯并异噻唑基团、吡啶基团、嘧啶基团、吡嗪基团、哒嗪基团、三嗪基团、喹啉基团、异喹啉基团、苯并喹啉基团、苯并异喹啉基团、喹喔啉基团、苯并喹喔啉基团、喹唑啉基团、苯并喹唑啉基团、菲咯啉基团、噌啉基团、酞嗪基团、萘啶基团、咪唑并吡啶基团、咪唑并嘧啶基团、咪唑并三嗪基团、咪唑并吡嗪基团、咪唑并哒嗪基团、氮杂咔唑基团、氮杂芴基团、氮杂二苯并噻咯基团、氮杂二苯并噻吩基团、氮杂二苯并呋喃基团等)，

富π电子的C₃-C₆₀环状基团可以是T1基团、其中两个或多于两个的T1基团彼此稠合的环状基团、T3基团、其中两个或多于两个的T3基团彼此稠合的环状基团、或者其中至少一个T3基团和至少一个T1基团彼此稠合的环状基团(例如，C₃-C₆₀碳环基团、1H-吡咯基团、噻咯基团、硼杂环戊二烯基团、2H-吡咯基团、3H-吡咯基团、噻吩基团、呋喃基团、吲哚基团、苯并吲哚基团、萘并吲哚基团、异吲哚基团、苯并异吲哚基团、萘并异吲哚基团、苯并噻咯基团、苯并噻吩基团、苯并呋喃基团、咔唑基团、二苯并噻咯基团、二苯并噻吩基团、二苯并呋喃基团、茚并咔唑基团、吲哚并咔唑基团、苯并呋喃并咔唑基团、苯并噻吩并咔唑基团、苯并噻咯并咔唑基团、苯并吲哚并咔唑基团、苯并咔唑基团、苯并萘并呋喃基团、苯并萘并噻吩基团、苯并萘并噻咯基团、苯并呋喃并二苯并呋喃基团、苯并呋喃并二苯并噻吩基团、苯并噻吩并二苯并噻吩基团等)，

缺π电子的含氮C₁-C₆₀环状基团可以是T4基团，其中两个或多于两个的T4基团彼此稠合的环状基团，其中至少一个T4基团和至少一个T1基团彼此稠合的环状基团，其中至少一个T4基团和至少一个T3基团彼此稠合的环状基团，或者其中至少一个T4基团、至少一个T1基团和至少一个T3基团彼此稠合的环状基团(例如，吡唑基团、咪唑基团、三唑基团、噁唑基团、异噁唑基团、噁二唑基团、噻唑基团、异噻唑基团、噻二唑基团、苯并吡唑基团、苯并咪唑基团、苯并噁唑基团、苯并异噁唑基团、苯并噻唑基团、苯并异噻唑基团、吡啶基团、嘧啶基团、吡嗪基团、哒嗪基团、三嗪基团、喹啉基团、异喹啉基团、苯并喹啉基团、苯并异喹啉基团、喹喔啉基团、苯并喹喔啉基团、喹唑啉基团、苯并喹唑啉基团、菲咯啉基团、噌啉基团、酞嗪基团、萘啶基团、咪唑并吡啶基团、咪唑并嘧啶基团、咪唑并三嗪基团、咪唑并吡嗪基团、咪唑并哒嗪基团、氮杂咔唑基团、氮杂芴基团、氮杂二苯并噻咯基团、氮杂二苯并噻吩基团、氮杂二苯并呋喃基团等)，

其中T1基团可以是环丙烷基团、环丁烷基团、环戊烷基团、环己烷基团、环庚烷基团、环辛烷基团、环丁烯基团、环戊烯基团、环戊二烯基团、环己烯基团、环己二烯基团、环庚烯基团、金刚烷基团、降冰片烷(或双环[2.2.1]庚烷)基团、降冰片烯基团、双环[1.1.1]戊烷基团、双环[2.1.1]己烷基团、双环[2.2.2]辛烷基团或苯基团，

T2基团可以是呋喃基团、噻吩基团、1H-吡咯基团、噻咯基团、硼杂环戊二烯基团、2H-吡咯基团、3H-吡咯基团、咪唑基团、吡唑基团、三唑基团、四唑基团、噁唑基团、异噁唑基团、噁二唑基团、噻唑基团、异噻唑基团、噻二唑基团、氮杂噻咯基团、氮杂硼杂环戊二烯基团、吡啶基团、嘧啶基团、吡嗪基团、哒嗪基团、三嗪基团、四嗪基团、吡咯烷基团、咪唑烷基团、二氢吡咯基团、哌啶基团、四氢吡啶基团、二氢吡啶基团、六氢嘧啶基团、四氢嘧啶基团、二氢嘧啶基团、哌嗪基团、四氢吡嗪基团、二氢吡嗪基团、四氢哒嗪基团或二氢哒嗪基团，

T3基团可以是呋喃基团、噻吩基团、1H-吡咯基团、噻咯基团或硼杂环戊二烯基团，以及

T4基团可以是2H-吡咯基团、3H-吡咯基团、咪唑基团、吡唑基团、三唑基团、四唑基团、噁唑基团、异噁唑基团、噁二唑基团、噻唑基团、异噻唑基团、噻二唑基团、氮杂噻咯基团、氮杂硼杂环戊二烯基团、吡啶基团、嘧啶基团、吡嗪基团、哒嗪基团、三嗪基团或四嗪基团。

如本文使用的术语“环状基团”、“C₃-C₆₀碳环基团”、“C₁-C₆₀杂环基团”、“富π电子的C₃-C₆₀环状基团”或“缺π电子的含氮的C₁-C₆₀环状基团”可以各自是根据使用相应术语的式的结构，与任何环状基团稠合的基团、单价基团或多价基团(例如，二价基团、三价基团、四价基团等)。例如，“苯基团”可以是苯并基团、苯基基团、亚苯基基团等，其可以是本领域普通技术人员根据包括“苯基团”的式的结构容易理解的。

单价C₃-C₆₀碳环基团和单价C₁-C₆₀杂环基团的实例可以包括C₃-C₁₀环烷基基团、C₁-C₁₀杂环烷基基团、C₃-C₁₀环烯基基团、C₁-C₁₀杂环烯基基团、C₆-C₆₀芳基基团、C₁-C₆₀杂芳基基团、单价非芳香族稠合多环基团和单价非芳香族稠合杂多环基团。二价C₃-C₆₀碳环基团和二价C₁-C₆₀杂环基团的实例可以包括C₃-C₁₀亚环烷基基团、C₁-C₁₀亚杂环烷基基团、C₃-C₁₀亚环烯基基团、C₁-C₁₀亚杂环烯基基团、C₆-C₆₀亚芳基基团、C₁-C₆₀亚杂芳基基团、二价非芳香族稠合多环基团和二价非芳香族稠合杂多环基团。

如本文使用的术语“C₁-C₆₀烷基基团”可以是具有一个至六十个碳原子(例如，1至30、1至20、1至15或1至10个碳原子)的直链或支链脂肪族烃单价基团，并且其实例可以包括甲基基团、乙基基团、正丙基基团、异丙基基团、正丁基基团、仲丁基基团、异丁基基团、叔丁基基团、正戊基基团、叔戊基基团、新戊基基团、异戊基基团、仲戊基基团、3-戊基基团、仲异戊基基团、正己基基团、异己基基团、仲己基基团、叔己基基团、正庚基基团、异庚基基团、仲庚基基团、叔庚基基团、正辛基基团、异辛基基团、仲辛基基团、叔辛基基团、正壬基基团、异壬基基团、仲壬基基团、叔壬基基团、正癸基基团、异癸基基团、仲癸基基团和叔癸基基团。如本文使用的术语“C₁-C₆₀亚烷基基团”可以是具有与C₁-C₆₀烷基基团相同的结构的二价基团。

如本文使用的术语“C₂-C₆₀烯基基团”可以是在C₂-C₆₀烷基基团的中间或末端处具有至少一个碳-碳双键的单价烃基团，并且其实例可以包括乙烯基基团、丙烯基基团和丁烯基基团。如本文使用的术语“C₂-C₆₀亚烯基基团”可以是具有与C₂-C₆₀烯基基团相同的结构的二价基团。

如本文使用的术语“C₂-C₆₀炔基基团”可以是在C₂-C₆₀烷基基团的中间或末端处具有至少一个碳-碳叁键的单价烃基团，并且其实例可以包括乙炔基基团、丙炔基基团等。如本文使用的术语“C₂-C₆₀亚炔基基团”可以是具有与C₂-C₆₀炔基基团相同的结构的二价基团。

如本文使用的术语“C₁-C₆₀烷氧基基团”可以是由-O(A₁₀₁)(其中A₁₀₁可以是C₁-C₆₀烷基基团)表示的单价基团，并且其实例可以包括甲氧基基团、乙氧基基团和异丙氧基基团。

如本文使用的术语“C₃-C₁₀环烷基基团”可以是具有3个至10个碳原子的单价饱和烃环状基团，并且其实例可以包括环丙基基团、环丁基基团、环戊基基团、环己基基团、环庚基基团、环辛基基团、金刚烷基基团、降冰片烷基基团(或双环[2.2.1]庚基基团)、双环[1.1.1]戊基基团、双环[2.1.1]己基基团和双环[2.2.2]辛基基团。如本文使用的术语“C₃-C₁₀亚环烷基基团”可以是具有与C₃-C₁₀环烷基基团相同的结构的二价基团。

如本文使用的术语“C₁-C₁₀杂环烷基基团”可以是进一步包含除了碳原子之外的至少一个(例如，1至5个或1至3个，如1、2、3、4或5个)杂原子作为成环原子的具有1个至10个碳原子的单价环状基团，并且具体实例可以包括1,2,3,4-噁三唑烷基基团、四氢呋喃基基团和四氢噻吩基基团。如本文使用的术语“C₁-C₁₀亚杂环烷基基团”可以是具有与C₁-C₁₀杂环烷基基团相同的结构的二价基团。

如本文使用的术语“C₃-C₁₀环烯基基团”可以是在其环中具有三个至十个碳原子和至少一个碳-碳双键且没有芳香性的单价环状基团，并且其实例可以包括环戊烯基基团、环己烯基基团和环庚烯基基团。如本文使用的术语“C₃-C₁₀亚环烯基基团”可以是具有与C₃-C₁₀环烯基基团相同的结构的二价基团。

如本文使用的术语“C₁-C₁₀杂环烯基基团”可以是进一步包含除了碳原子之外的至少一个(例如，1至5个或1至3个，如1、2、3、4或5个)杂原子作为成环原子和在其环状结构中具有至少一个碳-碳双键的具有1个至10个碳原子的单价环状基团。C₁-C₁₀杂环烯基基团的实例可以包括4,5-二氢-1,2,3,4-噁三唑基基团、2,3-二氢呋喃基基团和2,3-二氢噻吩基基团。如本文使用的术语“C₁-C₁₀亚杂环烯基基团”可以是具有与C₁-C₁₀杂环烯基基团相同的结构的二价基团。

如本文使用的术语“C₆-C₆₀芳基基团”可以是具有含6个至60个碳原子(例如，6至30、6至20、6至15或6至10个碳原子)的碳环芳香族体系的单价基团，并且如本文使用的术语“C₆-C₆₀亚芳基基团”可以是具有含6个至60个碳原子(例如，6至30、6至20、6至15或6至10个碳原子)的碳环芳香族体系的二价基团。C₆-C₆₀芳基基团的实例可以包括苯基基团、戊搭烯基基团、萘基基团、甘菊环基基团、引达省基基团、苊基基团、非那烯基基团、菲基基团、蒽基基团、荧蒽基基团、苯并菲基基团、芘基基团、

基基团、苝基基团、五苯基基团、庚搭烯基基团、并四苯基基团、苉基基团、并六苯基基团、并五苯基基团、玉红省基基团、蔻基基团和卵苯基基团。当C₆-C₆₀芳基基团和C₆-C₆₀亚芳基基团各自包含两个或多于两个的环时，各个环可以彼此稠合。

如本文使用的术语“C₁-C₆₀杂芳基基团”可以是进一步包含除了碳原子之外的至少一个杂原子作为成环原子的具有1个至60个碳原子(例如，1至30、1至20、1至15或1至10个碳原子)的杂环芳香族体系的单价基团。如本文使用的术语“C₁-C₆₀亚杂芳基基团”可以是进一步包含除了碳原子之外的至少一个(例如，1至5个或1至3个，如1、2、3、4或5个)杂原子作为成环原子的具有1个至60个碳原子(例如，1至30、1至20、1至15或1至10个碳原子)的杂环芳香族体系的二价基团。C₁-C₆₀杂芳基基团的实例可以包括吡啶基基团、嘧啶基基团、吡嗪基基团、哒嗪基基团、三嗪基基团、喹啉基基团、苯并喹啉基基团、异喹啉基基团、苯并异喹啉基基团、喹喔啉基基团、苯并喹喔啉基基团、喹唑啉基基团、苯并喹唑啉基基团、噌啉基基团、菲咯啉基基团、酞嗪基基团和萘啶基基团。当C₁-C₆₀杂芳基基团和C₁-C₆₀亚杂芳基基团各自包含两个或多于两个的环时，各个环可以彼此稠合。

如本文使用的术语“单价非芳香族稠合多环基团”可以是具有彼此稠合的两个或多于两个的环、仅碳原子作为成环原子并且在其整个分子结构中无芳香性的单价基团(例如，具有8个至60个碳原子，例如8至30、8至20、8至15或8至10个碳原子)。单价非芳香族稠合多环基团的实例可以包括茚基基团、芴基基团、螺-二芴基基团、苯并芴基基团、茚并菲基基团和茚并蒽基基团。如本文使用的术语“二价非芳香族稠合多环基团”可以是具有与单价非芳香族稠合多环基团相同的结构的二价基团。

如本文使用的术语“单价非芳香族稠合杂多环基团”可以是具有彼此稠合的两个或多于两个的环，进一步包含除了碳原子之外的至少一个(例如，1至5个或1至3个，如1、2、3、4或5个)杂原子作为成环原子，并且在其整个分子结构中无芳香性的单价基团(例如，具有1个至60个碳原子，例如1至30、1至20、1至15或1至10个碳原子)。单价非芳香族稠合杂多环基团的实例可以包括吡咯基基团、噻吩基基团、呋喃基基团、吲哚基基团、苯并吲哚基基团、萘并吲哚基基团、异吲哚基基团、苯并异吲哚基基团、萘并异吲哚基基团、苯并噻咯基基团、苯并噻吩基基团、苯并呋喃基基团、咔唑基基团、二苯并噻咯基基团、二苯并噻吩基基团、二苯并呋喃基基团、氮杂咔唑基基团、氮杂芴基基团、氮杂二苯并噻咯基基团、氮杂二苯并噻吩基基团、氮杂二苯并呋喃基基团、吡唑基基团、咪唑基基团、三唑基基团、四唑基基团、噁唑基基团、异噁唑基基团、噻唑基基团、异噻唑基基团、噁二唑基基团、噻二唑基基团、苯并吡唑基基团、苯并咪唑基基团、苯并噁唑基基团、苯并噻唑基基团、苯并噁二唑基基团、苯并噻二唑基基团、咪唑并吡啶基基团、咪唑并嘧啶基基团、咪唑并三嗪基基团、咪唑并吡嗪基基团、咪唑并哒嗪基基团、茚并咔唑基基团、吲哚并咔唑基基团、苯并呋喃并咔唑基基团、苯并噻吩并咔唑基基团、苯并噻咯并咔唑基基团、苯并吲哚并咔唑基基团、苯并咔唑基基团、苯并萘并呋喃基基团、苯并萘并噻吩基基团、苯并萘并噻咯基基团、苯并呋喃并二苯并呋喃基基团、苯并呋喃并二苯并噻吩基基团和苯并噻吩并二苯并噻吩基基团。如本文使用的术语“二价非芳香族稠合杂多环基团”可以是具有与单价非芳香族稠合杂多环基团相同的结构的二价基团。

如本文使用的术语“C₆-C₆₀芳氧基基团”可以由-O(A₁₀₂)(其中A₁₀₂可以是C₆-C₆₀芳基基团)表示，并且如本文使用的术语“C₆-C₆₀芳硫基基团”可以由-S(A₁₀₃)(其中A₁₀₃可以是C₆-C₆₀芳基基团)表示。

如本文使用的术语“C₇-C₆₀芳基烷基基团”可以由-(A₁₀₄)(A₁₀₅)(其中A₁₀₄可以是C₁-C₅₄亚烷基基团，并且A₁₀₅可以是C₆-C₅₉芳基基团)表示，并且如本文使用的术语“C₂-C₆₀杂芳基烷基基团”可以由-(A₁₀₆)(A₁₀₇)(其中A₁₀₆可以是C₁-C₅₉亚烷基基团，并且A₁₀₇可以是C₁-C₅₉杂芳基基团)表示。

如本文使用的术语“R_10a”可以是：

氘(-D)、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团或硝基基团；

各自未取代的或者被氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团、硝基基团、C₃-C₆₀碳环基团、C₁-C₆₀杂环基团、C₆-C₆₀芳氧基基团、C₆-C₆₀芳硫基基团、C₇-C₆₀芳基烷基基团、C₂-C₆₀杂芳基烷基基团、-Si(Q₁₁)(Q₁₂)(Q₁₃)、-N(Q₁₁)(Q₁₂)、-B(Q₁₁)(Q₁₂)、-C(＝O)(Q₁₁)、-S(＝O)₂(Q₁₁)、-P(＝O)(Q₁₁)(Q₁₂)或其任意组合取代的C₁-C₆₀烷基基团、C₂-C₆₀烯基基团、C₂-C₆₀炔基基团或C₁-C₆₀烷氧基基团；

各自未取代的或者被氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基基团、氰基基团、硝基基团、C₁-C₆₀烷基基团、C₂-C₆₀烯基基团、C₂-C₆₀炔基基团、C₁-C₆₀烷氧基基团、C₃-C₆₀碳环基团、C₁-C₆₀杂环基团、C₆-C₆₀芳氧基基团、C₆-C₆₀芳硫基基团、C₇-C₆₀芳基烷基基团、C₂-C₆₀杂芳基烷基基团、-Si(Q₂₁)(Q₂₂)(Q₂₃)、-N(Q₂₁)(Q₂₂)、-B(Q₂₁)(Q₂₂)、-C(＝O)(Q₂₁)、-S(＝O)₂(Q₂₁)、-P(＝O)(Q₂₁)(Q₂₂)或其任意组合取代的C₃-C₆₀碳环基团、C₁-C₆₀杂环基团、C₆-C₆₀芳氧基基团、C₆-C₆₀芳硫基基团、C₇-C₆₀芳基烷基基团或C₂-C₆₀杂芳基烷基基团；或者

-Si(Q₃₁)(Q₃₂)(Q₃₃)、-N(Q₃₁)(Q₃₂)、-B(Q₃₁)(Q₃₂)、-C(＝O)(Q₃₁)、-S(＝O)₂(Q₃₁)或-P(＝O)(Q₃₁)(Q₃₂)。

如本文使用的基团Q₁至Q₃、Q₁₁至Q₁₃、Q₂₁至Q₂₃和Q₃₁至Q₃₃可以各自独立地是：氢；氘；-F；-Cl；-Br；-I；羟基基团；氰基基团；硝基基团；C₁-C₆₀烷基基团；C₂-C₆₀烯基基团；C₂-C₆₀炔基基团；C₁-C₆₀烷氧基基团；各自未取代的或者被氘、-F、氰基基团、C₁-C₆₀烷基基团、C₁-C₆₀烷氧基基团、苯基基团、联苯基基团或其任意组合取代的C₃-C₆₀碳环基团或C₁-C₆₀杂环基团；C₇-C₆₀芳基烷基基团；或者C₂-C₆₀杂芳基烷基基团。

如本文使用的术语“杂原子”可以是除了碳原子或氢原子之外的任何原子。杂原子的实例可以包括O、S、N、P、Si、B、Ge、Se及其任意组合。

如本文使用的术语“第三行过渡金属”的实例可以包括铪(Hf)、钽(Ta)、钨(W)、铼(Re)、锇(Os)、铱(Ir)、铂(Pt)、金(Au)等。

如本文使用的术语“Ph”是指苯基基团，如本文使用的术语“Me”是指甲基基团，如本文使用的术语“Et”是指乙基基团，如本文使用的术语“tert-Bu”或“Bu^t”是指叔丁基基团，并且如本文使用的术语“OMe”是指甲氧基基团。

如本文使用的术语“联苯基基团”可以是被苯基基团取代的苯基基团。例如，“联苯基基团”可以是具有C₆-C₆₀芳基基团(例如，苯基基团)作为取代基的取代的苯基基团。

如本文使用的术语“三联苯基基团”可以是被联苯基基团取代的苯基基团。例如，“三联苯基基团”可以是具有被C₆-C₆₀芳基基团取代的C₆-C₆₀芳基基团(例如，联苯基基团)作为取代基的取代的苯基基团。

除非另外定义，如本文使用的符号*和*'各自是指在相应的式中与相邻原子的结合位点。

在下文，将参考实施例详细地描述根据实施方案的化合物和根据实施方案的发光装置。用于描述实施例的措辞“使用B代替A”意指使用等摩尔当量的B代替A。

[实施例]

实施例1

将其上形成了15Ω/cm²

ITO/Ag/ITO阳极的玻璃衬底(康宁公司(CorningInc.)的产品)切割成50mm×50mm×0.7mm的尺寸，用异丙醇和纯水各自超声5分钟，并且通过暴露于紫外线和臭氧15分钟来清洁。将得到的玻璃衬底装载到真空沉积设备上。

在玻璃衬底的ITO/Ag/ITO阳极上沉积HAT-CN以形成具有

的厚度的空穴注入层，在空穴注入层上沉积NPB以形成具有/>

的厚度的空穴传输层，在空穴传输层上沉积TCTA以形成具有/>

的厚度的电子阻挡层，在电子阻挡层上共沉积H125和FD37至100:3的重量比以形成具有/>

的厚度的第一发射层，在第一发射层上沉积T2T以形成具有/>

的厚度的空穴阻挡层，并且在空穴阻挡层上共沉积TPM-TAZ和Liq至50:50的重量比以形成具有/>

的厚度的电子传输层，从而形成第一发射单元。

在第一发射单元上共沉积BCP和Li至99:1的重量比以形成具有

的厚度的n-型电荷产生层，并且在n-型电荷产生层上沉积HAT-CN以形成具有/>

的厚度的p-型电荷产生层，从而形成第一电荷产生单元。

在第一电荷产生单元上沉积NPB以形成具有

的厚度的空穴传输层，在空穴传输层上沉积TCTA以形成具有/>

的厚度的电子阻挡层，在电子阻挡层上共沉积H125和FD37至100:3的重量比以形成具有/>

的厚度的第二发射层，在第二发射层上沉积T2T以形成具有/>

的厚度的空穴阻挡层，并且在空穴阻挡层上共沉积TPM-TAZ和Liq至50:50的重量比以形成具有/>

的厚度的电子传输层，从而形成第二发射单元。

在第二发射单元上共沉积BCP和Li至99:1的重量比以形成具有

的厚度的n-型电荷产生层，并且在n-型电荷产生层上沉积HAT-CN以形成具有/>

的厚度的p-型电荷产生层，从而形成第二电荷产生单元。

在第二电荷产生单元上沉积NPB以形成具有

的厚度的空穴传输层，在空穴传输层上沉积TCTA以形成具有/>

的厚度的电子阻挡层，在电子阻挡层上共沉积H125和FD37至100:3的重量比以形成具有/>

的厚度的第三发射层，在第三发射层上沉积T2T以形成具有/>

的厚度的空穴阻挡层，并且在空穴阻挡层上共沉积TPM-TAZ和Liq至50:50的重量比以形成具有/>

的厚度的电子传输层，从而形成第三发射单元。

在第三发射单元上共沉积BCP和Li至99:1的重量比以形成具有

的厚度的n-型电荷产生层，并且在n-型电荷产生层上沉积HAT-CN以形成具有/>

的厚度的p-型电荷产生层，从而形成第三电荷产生单元。

在第三电荷产生单元上沉积NPB以形成具有

的厚度的空穴传输层，在空穴传输层上沉积TCTA以形成具有/>

的厚度的电子阻挡层，在电子阻挡层上共沉积作为主体的H127和H128以及作为掺杂剂的PD40至60:40:5的重量比，以形成具有/>

的厚度的第四发射层。在第四发射层上沉积化合物3-4以形成具有/>

的厚度的第三层，在第三层上共沉积化合物3-4和ET-D1至50:50的重量比以形成具有/>

的厚度的第二层，并且在第二层上共沉积化合物1-1和Li至90:10的重量比以形成具有/>

的厚度的第一层，由此形成第四发射单元。

在第四发射单元上共沉积Ag和Mg至90:10的重量比以形成具有

的厚度的阴极，并且在阴极上沉积HT28以形成具有/>

的厚度的覆盖层，从而形成发光装置。/>

比较例1至比较例7

以与实施例1中相同的方式制造比较例1至比较例7的发光装置，但当形成实施例1的第四发射单元的第一层至第三层中的每一层时，使用表1的化合物。(X表示不存在相应的层)

[表1]

评估例1：实施例1和比较例1至比较例7的发光装置的评估

使用吉时利(Keithley)SMU 236和亮度计PR650测量根据实施例1和比较例1至比较例7制造的发光装置的驱动电压、发光效率和使用寿命(T₉₅)，并且相对于比较例1的测量值的100％转换的值示于表2中。

[表2]

根据表2，可以看出，与比较例1至比较例7的发光装置的那些相比，实施例1的发光装置具有低驱动电压以及优异的发光效率和使用寿命。

实施例2至实施例17

以与实施例1中相同的方式制造实施例2至实施例17的发光装置，但根据表3中的厚度沉积实施例1的第四发射单元的第一层至第三层中的每一个。

评估例2：实施例1至实施例17的发光装置的评估

使用吉时利(Keithley)SMU 236和亮度计PR650测量根据实施例1至实施例17制造的发光装置的驱动电压、发光效率和使用寿命(T₉₅)，并且相对于表2的比较例1的测量值的100％转换的值示于表3中。

[表3]

根据表3，可以看出，与比较例1至比较例7的发光装置的那些相比，实施例1至实施例17的发光装置具有低驱动电压以及优异的发光效率和使用寿命。

实施例18至实施例25

以与实施例1中相同的方式制造实施例18至实施例25的发光装置，但当形成实施例1的第四发射单元的第二层时，将化合物3-4和ET-D1共沉积至表4中所示的重量比，以形成具有

的厚度的第二层。

评估例3：实施例1和实施例18至实施例25的发光装置的评估使用吉时利(Keithley)SMU 236和亮度计PR650测量根据实施例1和实施例18至实施例25制造的发光装置的驱动电压、发光效率和使用寿命(T₉₅)，并且相对于表2的比较例1的测量值的100％转换的值示于表4中。

[表4]

根据表4，可以看出，与比较例1的发光装置的那些相比，实施例1和实施例18至实施例25的发光装置具有相当或更优的驱动电压、发光效率和使用寿命。

尽管已经参考实施例描述了本公开内容，但这些仅提供用于说明性目的，并且本领域普通技术人员可以理解，这些实施例可以具有各种修改和与其等同的其它实施例。

根据实施方案，通过在电子传输区中包括包含第一不含金属的材料和第一含金属的材料的第一层、包含第二不含金属的材料和第二含金属的材料的第二层和包含第三不含金属的材料的第三层，稳定电子注入特性的发光装置具有优异的电子迁移率并且防止激子淬灭，从而可以实现低驱动电压、高发光效率和长使用寿命。

本文已经公开了实施方案，并且尽管使用了术语，但它们仅以一般性和描述性的意义进行使用和解释，而不是出于限制的目的。在一些情况下，如对于本领域普通技术人员将显而易见的，关于实施方案描述的特征、特性和/或要素可以单独使用或与关于其它实施方案描述的特征、特性和/或要素组合使用，除非另外具体指出。因此，本领域普通技术人员将理解，在不背离如权利要求中阐述的本公开内容的主旨和范围的情况下，可以进行形式和细节的各种改变。

Claims (20)

1.发光装置，包括：

第一电极；

第二电极；以及

在所述第一电极与所述第二电极之间的中间层，其中

所述中间层包括：

发射层；

在所述发射层与所述第二电极之间的第三层；

在所述第三层与所述第二电极之间的第一层；以及

在所述第一层与所述第三层之间的第二层，

所述第一层包含第一不含金属的材料和第一含金属的材料，

所述第二层包含第二不含金属的材料和第二含金属的材料，

所述第一不含金属的材料和所述第二不含金属的材料彼此不同，所述第一含金属的材料和所述第二含金属的材料彼此不同，以及所述第三层由第三不含金属的材料组成。

2.如权利要求1所述的发光装置，其中

所述中间层包括：

m个发射单元；以及

在所述m个发射单元中的相邻发射单元之间的m-1个电荷产生单元，

m是2或大于2的整数，以及

所述m个发射单元中的一个包括所述发射层、所述第一层、所述第二层和所述第三层。

3.如权利要求2所述的发光装置，其中从所述m个发射单元中的至少一个发射的光的最大发射波长不同于从所述m个发射单元的余者中的至少一个发射的光的最大发射波长。

4.如权利要求2所述的发光装置，其中在所述m个发射单元中与所述第二电极相邻的发射单元包括所述发射层、所述第一层、所述第二层和所述第三层。

5.如权利要求2所述的发光装置，其中m是4。

6.如权利要求5所述的发光装置，其中

所述m个发射单元包括第一发射单元、第二发射单元、第三发射单元和第四发射单元，

所述m-1个电荷产生单元包括第一电荷产生单元、第二电荷产生单元和第三电荷产生单元，

所述第一电荷产生单元在所述第一发射单元与所述第二发射单元之间，

所述第二电荷产生单元在所述第二发射单元与所述第三发射单元之间，

所述第三电荷产生单元在所述第三发射单元与所述第四发射单元之间，

所述第一发射单元在所述第一电极与所述第一电荷产生单元之间，

所述第二发射单元在所述第一电荷产生单元与所述第二电荷产生单元之间，

所述第三发射单元在所述第二电荷产生单元与所述第三电荷产生单元之间，

所述第四发射单元在所述第三电荷产生单元与所述第二电极之间，以及

所述第一发射单元、所述第二发射单元、所述第三发射单元和所述第四发射单元中的一个包括所述发射层、所述第一层、所述第二层和所述第三层。

7.如权利要求6所述的发光装置，其中所述第四发射单元包括所述发射层、所述第一层、所述第二层和所述第三层。

8.如权利要求6所述的发光装置，其中所述第四发射单元发射绿色光。

9.如权利要求1所述的发光装置，其中所述第一不含金属的材料包括基于氧化膦的化合物、基于菲咯啉的化合物或其组合。

10.如权利要求1所述的发光装置，其中所述第一含金属的材料包括碱金属、碱土金属、镧系金属或其组合。

11.如权利要求1所述的发光装置，其中所述第一含金属的材料是Yb、Li、Cu、Ag、Au、Al、Mg或其组合。

12.如权利要求1所述的发光装置，其中所述第二不含金属的材料包括包含以下中的至少一种的化合物：

组2A的基团；

其中组2A的两个或多于两个的基团彼此稠合的稠合环状基团；或者

其中组2A的至少一个基团和至少一个组2B彼此稠合的稠合环状基团：

[组2A]

吡啶基团、二嗪基团、三嗪基团、四嗪基团，

[组2B]

苯基团。

13.如权利要求1所述的发光装置，其中所述第二含金属的材料包括碱金属络合物。

14.如权利要求1所述的发光装置，其中所述第三不含金属的材料包括包含以下中的至少一种的化合物：

组3A的基团；

其中组3A的两个或多于两个的基团彼此稠合的稠合环状基团；或者

其中组3A的至少一个基团和至少一个组3B彼此稠合的稠合环状基团：

[组3A]

吡啶基团、二嗪基团、三嗪基团、四嗪基团，

[组3B]

苯基团。

15.如权利要求1所述的发光装置，其中所述第二不含金属的材料和所述第三不含金属的材料彼此相同。

16.如权利要求1所述的发光装置，其中基于100重量份的所述第二不含金属的材料和所述第二含金属的材料，所述第二不含金属的材料的量为10重量份至90重量份。

17.如权利要求1所述的发光装置，其中所述第一层直接接触所述第二层。

18.如权利要求1所述的发光装置，其中所述第一层的厚度等于或小于所述第二层的厚度。

19.电子设备，包括：

权利要求1至18中任一项所述的发光装置；以及

薄膜晶体管，其中

所述薄膜晶体管包括源电极和漏电极，以及

所述发光装置的所述第一电极电连接至所述源电极或所述漏电极。

20.如权利要求19所述的电子设备，进一步包括滤色器、颜色转换层、触摸屏层、偏振层或其组合。

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