CN116022898A - 用于电路板生产的废液处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及电路板废液回收技术领域，公开了一种用于电路板生产的废液处理装置。反应过程中，铜离子的密度逐渐降低，所需反应的时间增加，氧化铜会携带有碱性废液，无法直接进行下一步的操作。一种用于电路板生产的废液处理装置，包括有搅拌组件，搅拌组件包括有第一转动杆，第一转动杆固接有第一转动盘，壳体固接有第二固定架，第二固定架转动连接有与第一转动盘转动配合的锥轮，锥轮固接有连接杆，连接杆固接有固定套。在上下两个腔体内分别注入氢氧化钠溶液和废液，通过搅拌组件控制氢氧化钠溶液的加入速度，控制废液中铜离子浓度的与氢氧化钠溶液的加入量成反比，通过将浓度高的废液运至上层与氢氧化钠溶液反应，加快反应速率。

Description

用于电路板生产的废液处理装置

技术领域

本发明涉及含铜废液处理的技术领域，尤其涉及一种用于电路板生产的废液处理装置。

背景技术

电路板别名印刷线路板或印刷电路板，通过电路板对电路的迷你化、直观化，对固定电路的批量生产和优化用电器布局起到了重要作用。

在制作电路板时，需要通过裁切、预处理、转印、蚀刻、钻孔等步骤对覆铜板进行处理，在蚀刻过程中会用到蚀刻液，蚀刻液分为酸式蚀刻液和碱式蚀刻液，通过蚀刻液对覆铜板进行腐蚀，使覆铜板达成使用条件，但完成蚀刻的废液中含有大量的铜，直接将其进行排放会对环境造成污染并造成大量的浪费，所以需要将废液进行处理，对废液中的铜进行回收。

在对碱性废液（主要成分为氯化四氨合铜）中的铜进行回收时，需要向其内部逐渐加入氢氧化钠溶液，使废液中的铜离子转化为氧化铜沉淀，方便进行回收，但在反应过程中，随着碱性废液中铜离子的逐渐减少，且反应过程中会产生水，铜离子的密度逐渐降低，反应速率会逐渐降低，所需反应的时间会增加，初始状态下氢氧化钠溶液的加入量过高会导致反应的温度较高，抑制反应的进行，在反应过程中会产生有毒、有刺激性气味的氨气，在对氧化铜过滤的过程中，氧化铜会携带有碱性废液，无法直接进行下一步的操作，需要额外进行处理，效率较低。

发明内容

为了克服反应过程中铜离子密度逐渐降低，反应速率较低，反应温度过高，影响反应的进行，反应过程中产生有毒的氨气，过滤的氧化铜会携带碱性废液，需额外进行处理，效率较低的缺点，本发明提供了一种具有反应速率自调节功能的电路板生产的废液处理装置。

本发明的技术方案为：用于电路板生产的废液处理装置，包括有壳体，壳体的内部分为上腔体和下腔体，壳体固接有控制面板，壳体的下侧设置有视镜，壳体的下侧固接有电磁三通阀，电磁三通阀与控制面板电连接，壳体固接有第一注入口，壳体固接有对称分布的第二注入口，壳体设置有用于加快反应速率的搅拌组件，搅拌组件包括有固定连接于壳体的第一固定架，第一固定架固接有第一驱动件，第一驱动件与控制面板电连接，第一驱动件的输出端固接有滑动套，滑动套设置有第一转动杆，第一转动杆固接有第一转动盘，壳体固接有第二固定架，第二固定架转动连接有与第一转动盘转动配合的锥轮，锥轮固接有连接杆，连接杆远离锥轮的一端固接有固定套，固定套固接有等距分布的搅拌板，搅拌板位于下腔体的内部，壳体固接有引流杆，引流杆于固定套的内侧，电磁三通阀设置有提升反应均匀程度的循环组件，电磁三通阀设置有用于对反应中的沉淀进行水洗和收集的过滤组件，壳体设置有用于对内部温度进行控制的调温组件，壳体设置有连通外界和下腔体的排气管。

进一步的，滑动套与第一转动杆花键连接，第一转动杆转动连接有第一固定杆，第一固定杆与壳体花键连接，第一固定杆远离第一转动杆的一端固接有浮板。

进一步的，固定套滑动连接有周向等距分布的第一滑块，第一滑块与固定套之间连接有弹簧，第一滑块与引流杆贴合，引流杆设置有引流槽。

进一步的，固定套的上端设置有周向等距分布的连通孔，连通孔呈倾斜状态且位于上腔体内。

进一步的，循环组件包括有与电磁三通阀连通的第一连通管，第一连通管远离电磁三通阀的一端与壳体的下腔体连通，壳体固接有第三固定架，第三固定架固接有与第一连通管连通的输送泵，输送泵与控制面板电连接。

进一步的，固定套固定连接有第一流通筒，第一流通筒与引流杆转动连接，第一流通筒位于壳体的下腔体，第一流通筒设置有周向分布的通孔，壳体下腔体的内部固接有第二流通筒，第二流通筒与第一连通管相连通，第二流通筒设置有周向分布的通孔。

进一步的，过滤组件包括有连通架，连通架与第一连通管连通，连通架固接有第二驱动件，第二驱动件与控制面板电连接，连通架设置有U形连通槽，连通架固接有第二连通管，第二连通管与U形连通槽的两端相连通，连通架转动连接有等距分布的第二转动杆，第二转动杆之间通过带轮皮带传动连接，第二驱动件的输出端与第二转动杆固定连接，第二转动杆固定连接有第二转动盘，第二转动盘与连通架密封转动配合，第二转动盘花键连接有对称分布的过滤架，过滤架固接有过滤网，过滤架滑动连接有周向分布的第二滑块，第二滑块与过滤架之间设置有弹簧，过滤架固接有第二固定杆，连通架固接有循环泵，循环泵与控制面板电连接，循环泵的输出端固接有循环管，循环管与连通架相连通，连通架的一侧设置有过滤筒，过滤筒与循环管相连通。

进一步的，过滤架远离第二固定杆的一侧固接有环形挡块，环形挡块通孔两侧的圆心为偏心设置。

进一步的，调温组件包括有环形调温装置，环形调温装置设置有注入管和输出管，输出管与排气管相连通。

进一步的，输出管与排气管连通处的直径小于输出管其它位置的直径，固定套固定连接有转动叶扇。

有益效果为：本发明上腔体内为氢氧化钠溶液，下腔体内为废液，将氢氧化钠溶液加入废液中进行反应，通过设置第一流通筒和第二流通筒，氢氧化钠溶液通过第一流通筒处的通孔流出，浓度较高的废液通过第二流通筒处的通孔流出，两种液体相向喷出，使两种液体初步反应，提升反应的速率和均匀程度，通过氢氧化钠溶液的量控制第一转动盘与锥轮的配合位置，随着氢氧化钠溶液的量逐渐减少，即废液中铜离子浓度的减少，锥轮转动速度逐渐提升，使第一滑块因离心作用逐渐向远离引流杆的一侧滑动，增大氢氧化钠溶液流通口的面积，控制氢氧化钠溶液的流通速度，使反应速率保持稳定，进而控制壳体内的温度保持稳定，通过固定套于上腔体部分的连通孔，且将连通孔设置为向与固定套转动方向相同的方向倾斜，随着固定套转动速度的提升，增加连通孔对氢氧化钠的导流速度，通过多级的过滤网，对氧化铜进行过滤和冲洗，将氧化铜携带的碱性废液进行处理收集，方便接下来对氧化铜的使用，通过向注入管通入冷气，利用环形调温装置将冷气环绕于壳体，对壳体的内部进行降温，通过将输出管与排气管连通处的直径设置为小于输出管其它位置的直径，使输出管与壳体的下腔体连通处为负压状态，配合转动叶扇，加速氨气的排出。

附图说明

图1为本发明的立体结构示意图。

图2为本发明的搅拌组件和循环组件的位置关系示意图。

图3为本发明的搅拌组件局部立体结构示意图。

图4为本发明的A处放大立体结构示意图。

图5为本发明的过滤组件立体结构示意图。

图6为本发明的过滤架剖视连接关系示意图。

图7为本发明的调温组件位置关系示意图。

图8为本发明的B处放大立体结构示意图。

在图中：1-壳体，101-控制面板，102-视镜，103-电磁三通阀，2-第一注入口，3-第二注入口，4-搅拌组件，401-第一固定架，402-第一驱动件，403-滑动套，404-第一转动杆，405-第一转动盘，406-第二固定架，407-锥轮，408-连接杆，409-固定套，410-引流杆，411-第一固定杆，412-浮板，413-第一滑块，414-第一流通筒，415-转动叶扇，5-循环组件，501-第一连通管，502-第三固定架，503-输送泵，504-第二流通筒，6-过滤组件，601-连通架，602-第二驱动件，603-第二连通管，604-第二转动杆，605-第二转动盘，606-过滤架，607-过滤网，608-第二滑块，609-第二固定杆，610-循环泵，611-循环管，612-过滤筒，613-环形挡块，7-调温组件，701-环形调温装置，702-注入管，703-输出管，8-排气管。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1

用于电路板生产的废液处理装置，如图1-图4和图7所示，包括有壳体1，壳体1的内部分为上腔体和下腔体，上腔体用于盛放氢氧化钠溶液，下腔体用于盛放废液，壳体1的前侧固接有控制面板101，壳体1的下侧设置有用于观察下腔体内部反应情况的视镜102，壳体1的下侧固接有与控制面板101电连接的电磁三通阀103，壳体1的上侧固接有用于向上腔体内注入氢氧化钠溶液的第一注入口2，壳体1固接有对称分布的第二注入口3，第二注入口3用于向下腔体的内部注入废液，壳体1设置有搅拌组件4，搅拌组件4用于加快化学反应速率，减少反应完成所需的时间，搅拌组件4包括有第一固定架401，第一固定架401固定连接于壳体1的上侧，第一固定架401固接有与控制面板101电连接的第一驱动件402，第一驱动件402的输出端固接有滑动套403，滑动套403花键连接有第一转动杆404，第一转动杆404的下侧固接有第一转动盘405，第一转动杆404转动连接有与壳体1花键连接的第一固定杆411，第一固定杆411的下端固接有浮板412，浮板412位于上腔体内，浮板412浮于氢氧化钠溶液的液面处，壳体1的上侧固接有第二固定架406，第二固定架406转动连接有锥轮407，锥轮407与第一转动盘405转动配合，调节锥轮407的转动速度，锥轮407固接有连接杆408，连接杆408的下端固接有固定套409，固定套409的上端设置有周向等距分布的连通口，连通孔呈倾斜状态，且倾斜方向与固定套409转动方向相同，连通孔位于上腔体内，固定套409的下侧固接有等距分布的搅拌板，壳体1固接有引流杆410，引流杆410设置有螺旋形引流槽，引流杆410位于固定套409的内侧，固定套409滑动连接有周向等距分布的第一滑块413，第一滑块413与固定套409之间通过弹簧连接，第一滑块413与引流杆410贴合，对氢氧化钠溶液向下腔体流动的流通口进行限制，固定套409固定连接有第一流通筒414，第一流通筒414与引流杆410转动连接，第一流通筒414位于壳体1的下腔体，第一流通筒414设置有周向分布的通孔，电磁三通阀103设置有循环组件5，循环组件5用于提升反应均匀程度，循环组件5与第一流通筒414配合提升反应速率的同时使两种溶液充分混合，电磁三通阀103设置有过滤组件6，过滤组件6用于对反应中的沉淀进行水洗和收集，方便对氧化铜的后续利用，壳体1设置有调温组件7，调温组件7用于对内部温度进行控制，提升反应速率，壳体1设置有排气管8，排气管8将下腔体与外界相连通。

如图2所示，循环组件5包括有第一连通管501，第一连通管501与电磁三通阀103的左侧相连通，第一连通管501的上端与壳体1的下腔体连通，壳体1的左侧固接有第三固定架502，第三固定架502固接有与第一连通管501连通的输送泵503，输送泵503与控制面板101电连接，通过输送泵503将废液于下腔体内进行循环，壳体1下腔体的内部固接有第二流通筒504，第二流通筒504与第一连通管501相连通，第二流通筒504设置有周向分布的通孔，第二流通筒504处的通孔与第一流通筒414处的通孔相对，废液和氢氧化钠溶液相向喷出，使两种液体均匀接触并充分反应。

如图5和图6所示，过滤组件6包括有连通架601，连通架601与第一连通管501连通，连通架601的右侧螺栓连接有与控制面板101电连接的第二驱动件602，连通架601设置有三个U形连通槽，连通架601固接有五个第二连通管603，第二连通管603分别与U形连通槽自后向前的五个端口相连通，其中与后侧U形连通槽的后侧对应的第二连通管603与净水管相连通，与前侧U形连通槽对应的第二连通管603与污水管连通，连通架601转动连接有等距分布的三个第二转动杆604，第二转动杆604之间通过带轮皮带传动连接，第二驱动件602的输出端与中部的第二转动杆604固定连接，第二转动杆604固定连接有第二转动盘605，第二转动盘605与连通架601密封转动配合，第二转动盘605花键连接有前后对称分布的过滤架606，过滤架606分别与U形连通槽的前后两侧相连通，过滤架606固接有过滤网607，过滤架606滑动连接有周向分布的第二滑块608，第二滑块608与过滤架606之间设置有弹簧，第二滑块608与过滤架606楔形配合，过滤架606固接有第二固定杆609，过滤架606的右侧固接有环形挡块613，环形挡块613通孔两侧的圆心为偏心设置，图6所示为环形挡块613在收料时的状态，环形挡块613下侧向右下倾斜，在对废液进行过滤时，对氧化铜进行阻挡，防止氧化铜脱离过滤架606，在对氧化铜进行水洗时，环形挡块613随第二转动盘605旋转180°后，环形挡块613下侧向右上倾斜，方便氧化铜与过滤架606分离后出料，连通架601的下侧固接有循环泵610，循环泵610与控制面板101电连接，循环泵610的输出端固接有循环管611，循环管611与连通架601相连通，连通架601的右侧设置有过滤筒612，过滤筒612与循环管611相连通，过滤筒612的内部设置有过滤网，对氧化铜进行收集。

在使用本装置对碱性蚀刻废液中的铜进行回收时，工作人员通过第二注入口3将废液注入至壳体1的下腔体内，通过第一注入口2将氢氧化钠溶液注入至壳体1的上腔体内，氢氧化钠溶液沿固定套409处的连通孔流至引流杆410处，通过引流杆410处的滑槽将氢氧化钠溶液引导至第一流通筒414处，通过控制面板101使电磁三通阀103连通壳体1的下腔体和第一连通管501连通，随着氢氧化钠溶液的增加，浮板412带动第一固定杆411向上移动，第一固定杆411带动第一转动杆404沿滑动套403进行滑动，第一转动杆404带动第一转动盘405同步移动，使第一转动盘405与锥轮407之间的传动比减小。

当电磁三通阀103调节完成后，工作人员通过控制面板101启动第一驱动件402和输送泵503，第一驱动件402带动滑动套403转动，滑动套403带动第一转动杆404转动，第一转动盘405与第一转动杆404同步转动，通过第一转动盘405使锥轮407发生转动，锥轮407带动连接杆408转动，连接杆408带动固定套409转动，通过固定套409下侧的搅拌板对废液和氢氧化钠溶液进行混和，由于氢氧化钠溶液先与上侧的废液发生反应，此时下腔体底部的废液中铜离子的浓度较高，输送泵503将下腔体底部铜离子浓度较高的废液沿第一连通管501泵送至第二流通筒504处，并通过第二流通筒504处的通孔流出，通过第一流通筒414处向外甩出的氢氧化钠溶液和第二流通筒504处的废液直接接触，使两种溶液初步反应，提升反应的速率和均匀程度。

随着反应的进行，氢氧化钠溶液逐渐减少，废液中的铜离子浓度逐渐降低，浮板412带动第一固定杆411沿壳体1逐渐向内逐渐移动，第一固定杆411带动第一转动杆404沿滑动套403进行滑动，第一转动杆404带动第一转动盘405同步移动，使第一转动盘405与锥轮407之间的传动比逐渐增加，锥轮407的转动速度逐渐提升，锥轮407通过连接杆408使固定套409的转动速度逐渐提升，随着固定套409转动速度的提升，第一滑块413因离心作用逐渐远离引流杆410，使氢氧化钠的流通口的面积逐渐变大，提升氢氧化钠溶液的加入速率，提升因铜离子浓度降低而降低的反应速率，通过固定套409上端的连通孔，且连通孔向与固定套409转动方向相同的方向倾斜，随着固定套409转动速度的提升，通过连通孔增加对氢氧化钠的导流速度，适应氢氧化钠溶液加入量的提升。

当通过输送泵503对下腔体内的废液进行循环时，通过过滤网607对废液内反应生成的氧化铜进行过滤，通过控制面板101间隔启动第二驱动件602，通过控制面板101启动循环泵610，第二驱动件602的输出端将动力传输至中部的第二转动杆604，中部的第二转动杆604通过带轮皮带使所有的第二转动杆604同步转动，第二转动杆604带动第二转动盘605沿连通架601转动180°，第二转动盘605带动两个过滤架606进行转动，使过滤网607位置进行交替，U形连通槽后侧的第二连通管603为进水管，U形连通槽前侧的第二连通管603为出水管，过滤出的氧化铜通过泵送的净水于进水管进入U形连通槽对氧化铜进行冲洗，使氧化铜从其所处的过滤架606与过滤网607处，转移至前侧与其相邻的过滤架606和过滤网607处进行再次过滤，经过两次冲洗后，通过循环泵610使过滤筒612中的净水沿循环管611流动，将氧化铜冲至过滤筒612内的过滤网上，方便将氧化铜取出并进行接下来的步骤，通过将环形挡块613通孔两侧的圆心设置为偏心分布，在对废液进行过滤时，对氧化铜进行遮挡，防止过滤过程中氧化铜流出过滤架606，使回收速率降低，第二转动盘605转动180°后，即在对氧化铜进行水洗时，方便氧化铜的流出。

当通过视镜102观察内部不再产生沉淀后，工作人员通过控制面板101关闭输送泵503、第二驱动件602和循环泵610，并使电磁三通阀103连通壳体1的下腔体和装置外部，将装置内所有的液体导出，之后通过控制面板101关闭第一驱动件402。

实施例2

在实施例1的基础之上，如图7和图8所示，调温组件7包括有环形调温装置701，环形调温装置701的后侧设置有注入管702和输出管703，输出管703与排气管8连通，输出管703与排气管8连通处的直径小于输出管703其它位置的直径，使输出管703与排气管8的连接处产生负压，固定套409固定连接有转动叶扇415。

当反应过程中，工作人员将冷气接通于注入管702，输出管703接通于废气处理装置，冷气对壳体1内混合溶液进行降温，提升反应速率，固定套409处的转动叶扇415随固定套409的转动而转动，加速反应中生成的氨气向上移动，通过对输出管703直径的设定，依据文丘里效应，输出管703与排气管8的连通处会产生负压，增大输出管703与排气管8连接处气体的流速，配合转动叶扇415，加速氨气的排出。

上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.用于电路板生产的废液处理装置，其特征在于：包括有壳体（1），壳体（1）的内部分为上腔体和下腔体，壳体（1）固接有控制面板（101），壳体（1）的下侧设置有视镜（102），壳体（1）的下侧固接有电磁三通阀（103），电磁三通阀（103）与控制面板（101）电连接，壳体（1）固接有第一注入口（2），壳体（1）固接有对称分布的第二注入口（3），其特征在于：还包括有搅拌组件（4），搅拌组件（4）设置于壳体（1），搅拌组件（4）用于加快反应速率，搅拌组件（4）包括有固定连接于壳体（1）的第一固定架（401），第一固定架（401）固接有第一驱动件（402），第一驱动件（402）与控制面板（101）电连接，第一驱动件（402）的输出端固接有滑动套（403），滑动套（403）设置有第一转动杆（404），第一转动杆（404）固接有第一转动盘（405），壳体（1）固接有第二固定架（406），第二固定架（406）转动连接有与第一转动盘（405）转动配合的锥轮（407），锥轮（407）固接有连接杆（408），连接杆（408）的一端固接有固定套（409），固定套（409）固接有等距分布的搅拌板，搅拌板位于下腔体的内部，壳体（1）固接有引流杆（410），引流杆（410）于固定套（409）的内侧，电磁三通阀（103）设置有提升反应均匀程度的循环组件（5），电磁三通阀（103）设置有用于对反应中的沉淀进行水洗和收集的过滤组件（6），壳体（1）设置有用于对内部温度进行控制的调温组件（7），壳体（1）设置有连通外界和下腔体的排气管（8）。

2.按照权利要求1所述的用于电路板生产的废液处理装置，其特征在于：滑动套（403）与第一转动杆（404）花键连接，第一转动杆（404）转动连接有第一固定杆（411），第一固定杆（411）与壳体（1）花键连接，第一固定杆（411）远离第一转动杆（404）的一端固接有浮板（412）。

3.按照权利要求1所述的用于电路板生产的废液处理装置，其特征在于：固定套（409）滑动连接有周向等距分布的第一滑块（413），第一滑块（413）与固定套（409）之间连接有弹簧，第一滑块（413）与引流杆（410）贴合，引流杆（410）设置有引流槽。

4.按照权利要求3所述的用于电路板生产的废液处理装置，其特征在于：固定套（409）的上端设置有周向等距分布的连通孔，连通孔呈倾斜状态且位于上腔体内。

5.按照权利要求1所述的用于电路板生产的废液处理装置，其特征在于：循环组件（5）包括有与电磁三通阀（103）连通的第一连通管（501），第一连通管（501）远离电磁三通阀（103）的一端与壳体（1）的下腔体连通，壳体（1）固接有第三固定架（502），第三固定架（502）固接有与第一连通管（501）连通的输送泵（503），输送泵（503）与控制面板（101）电连接。

6.按照权利要求5所述的用于电路板生产的废液处理装置，其特征在于：固定套（409）固定连接有第一流通筒（414），第一流通筒（414）与引流杆（410）转动连接，第一流通筒（414）位于壳体（1）的下腔体，第一流通筒（414）设置有周向分布的通孔，壳体（1）下腔体的内部固接有第二流通筒（504），第二流通筒（504）与第一连通管（501）相连通，第二流通筒（504）设置有周向分布的通孔。

7.按照权利要求1所述的用于电路板生产的废液处理装置，其特征在于：过滤组件（6）包括有连通架（601），连通架（601）与第一连通管（501）连通，连通架（601）固接有第二驱动件（602），第二驱动件（602）与控制面板（101）电连接，连通架（601）设置有U形连通槽，连通架（601）固接有第二连通管（603），第二连通管（603）与U形连通槽的两端相连通，连通架（601）转动连接有等距分布的第二转动杆（604），第二转动杆（604）之间通过带轮皮带传动连接，第二驱动件（602）的输出端与第二转动杆（604）固定连接，第二转动杆（604）固定连接有第二转动盘（605），第二转动盘（605）与连通架（601）密封转动配合，第二转动盘（605）花键连接有对称分布的过滤架（606），过滤架（606）固接有过滤网（607），过滤架（606）滑动连接有周向分布的第二滑块（608），第二滑块（608）与过滤架（606）之间设置有弹簧，过滤架（606）固接有第二固定杆（609），连通架（601）固接有循环泵（610），循环泵（610）与控制面板（101）电连接，循环泵（610）的输出端固接有循环管（611），循环管（611）与连通架（601）相连通，连通架（601）的一侧设置有过滤筒（612），过滤筒（612）与循环管（611）相连通。

8.按照权利要求7所述的用于电路板生产的废液处理装置，其特征在于：过滤架（606）远离第二固定杆（609）的一侧固接有环形挡块（613），环形挡块（613）通孔两侧的圆心为偏心设置。

9.按照权利要求1所述的用于电路板生产的废液处理装置，其特征在于：调温组件（7）包括有环形调温装置（701），环形调温装置（701）设置有注入管（702）和输出管（703），输出管（703）与排气管（8）相连通。

10.按照权利要求9所述的用于电路板生产的废液处理装置，其特征在于：输出管（703）与排气管（8）连通处的直径小于输出管（703）其它位置的直径，固定套（409）固定连接有转动叶扇（415）。

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