CN115991961A - 一种双面粘性不同的有机硅光学胶 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种双面粘性不同的有机硅光学胶，所述有机硅光学胶依次设置了低粘性层、基膜层、高粘性层和离型层，所述低粘性层中包括有机硅压敏胶层和处理剂层，所述双面粘性不同的有机硅光学胶中含有两个有机硅压敏胶层，通过在其中一个有机硅压敏胶表面涂布处理剂进而控制该有机硅压敏胶层的粘结性能，从而达到使两个有机硅压敏胶层的粘结性能不同。

Description

一种双面粘性不同的有机硅光学胶

技术领域

本发明涉及有机硅光学胶领域，尤其涉及一种双面粘性不同的有机硅光学胶。

背景技术

单面胶带的应用具有具有一定的局限性，而双面胶带填补了该空缺。市场上，能够实现双面胶带的产品分为两种，其一是不含有基膜的胶带，该类型在应用于某些场景中时，由于胶体收到外力牵拉，有没有支撑体，所述胶体容易发生形变而失去粘结性能；其二是含有基膜的胶带，该类胶带的一般有基材、胶粘剂、隔离纸或隔膜三个部分组成，在基膜同时涂覆胶体，在胶体之间加入支撑物基膜，能够很大程度改善胶体容易形变的技术问题。出于便于生产的要求，该类双面胶带在基膜两侧涂覆的胶体是相同的，在某些引用场景下，需要两面粘性不同的光学胶带。

发明内容

为了克服现有技术的缺陷，本发明提供一种双面粘性不同的有机硅光学胶，所述有机硅光学胶依次设置了低粘性层、基膜层、高粘性层和离型层；所述低粘性层中包括有机硅压敏胶层和处理剂层；所述高粘性层为有机硅压敏胶层，

优选地，所述低粘性层的涂布厚度为0.05-0.5mm，所述高粘性的厚度为0.05-0.5mm；

优选地，所述低粘性层中有机压敏胶的厚度为0.01-0.5mm，所述处理剂层的厚度为0.02-0.05mm；

优选地，所述有机硅压敏胶层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：硅橡胶50％-70％、有机硅树脂25％-45％、催化剂0.7％-1.5％、抑制剂0.1％-0.5％、交联剂1.0％-5.0％；

优选地，所述硅橡胶为乙烯基封端的聚硅氧烷；

优选地，所述有机硅树脂为甲基硅烷、甲基乙烯基硅烷、甲基苯基硅烷；

优选地，所述催化剂为铂基催化剂；

优选地，所述抑制剂为3-甲基-1-丁炔-3-醇、1-炔基环己醇、3,5-二甲基-乙炔-3-醇、3-甲基-1戊烯-3醇；

优选地，所述交联剂具体为含氢硅油，优选为含氢硅油为甲基硅油、氨基硅油、环氧基硅油和醇羟基硅油中的至少一种，优选为甲基硅油

优选地，所述处理剂层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：主剂60％-80％、催化剂1％-5％、反应抑制剂0.5％-2％、MQ硅树脂20％-40％；

优选地，所述主剂为聚硅氧烷，其中含有烯基基团，所述烯基基团包括乙烯基基团、烯丙基基团、丁烯基基团，优选为乙烯基和丁烯基；

优选地，所述催化剂为铂基催化剂、锡剂催化剂；

优选地，所述基膜层为PET膜、PVC膜、PP膜和PBT膜中的一种；

优选地，所述离型层为双面离型膜，具体为PET离型膜、PVC离型膜和PE离型膜中的一种；

本申请还提供一种双面粘性不同的有机硅光学胶的制备方法：

S1、有机硅压敏胶的制备：在反应釜中加入甲苯、硅橡胶以及MQ硅树脂，搅拌均匀后加入交联剂和催化剂，混匀后静置，加入抑制剂，去除溶剂以及过量的反应物；

S2、处理剂的制备：将所述主剂、催化剂和MQ硅树脂在甲苯中混匀，将反应抑制剂加入反应体系中，静置一段时间后去除多余溶剂；

S3、电晕处理基膜：打开电晕机，将功率设定为0.4V，基膜的运行速度设定为10m/min，是基膜经过电晕机后收卷，被电晕处理过的一侧即为电晕面；

S4、将有机硅压敏胶加入涂布机，启动涂布机，将双面离型膜送入涂布机，在双面离型膜的一侧面涂布上有机硅压敏胶，固化后形成高粘性层；

S5、将所制得的有机硅压敏胶均匀的涂布于基膜的电晕面，进行干燥，形成有机硅压敏胶层；

S6、在S5所述有机硅压敏胶层上涂布一层处理剂，进行干燥后得到低粘性层；

S7、将S4所述的高粘性层与基膜电晕面相对的一面进行贴合，即制得所述双面粘性不同的有机硅光学胶具体包括如下重量份的原料：

有益效果：

本申请所述有机硅压敏胶层表面涂布一层处理剂，所述处理剂层能够降低压敏胶层的粘接性能，而处理剂层的粘结性能和机械性能较差，因此不能单独使用处理剂层作为低粘性层，处理剂能与粘结剂中成分相近，能够在一定程度上进行连接或者键和，产生氢键等分子间作用力。该产品能够应用于多种场景中，低粘性层能够反复粘贴，高粘性层能够提供较强的粘结性能，确保有机硅光学胶的持久性和稳定性。

附图说明

图1为本发明所述有机硅光学胶的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1

本发明涉及一种双面粘性不同的有机硅光学胶，所述有机硅光学胶依次设置了低粘性层、基膜层、高粘性层和离型层；所述低粘性层中包括有机硅压敏胶层和处理剂层；所述高粘性层为有机硅压敏胶层；

所述有机硅压敏胶层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：乙烯基封端二甲基聚硅氧烷60％、甲基苯基硅烷35％、氯铂酸(H2PtCl6·6H2O)1.5％、3-甲基-1-丁炔-3-醇、0.5％、甲基硅油3％；

所述处理剂层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：甲基乙烯基聚硅氧烷65％、氯铂酸(H2PtCl6·6H2O)2.5％、3-甲基-1-丁炔-3-醇0.5％、甲基MQ树脂32％；

所述基膜层为PET膜；所述离型层为双面离型膜，具体为PET离型膜；

本发明还涉及一种双面粘性不同的有机硅光学胶的制备方法：

S1、有机硅压敏胶的制备：在反应釜中加入甲苯，将上述乙烯基封端二甲基聚硅氧、甲基苯基硅烷、氯铂酸(H2PtCl6·6H2O)、甲基硅油按质量百分比加入，混匀后静置2h，加入3-甲基-1-丁炔-3-醇，去除溶剂以及过量的反应物；

S2、处理剂的制备：将所述甲基乙烯基聚硅氧烷、氯铂酸(H2PtCl6·6H2O和甲基MQ硅树脂在甲苯中混匀，将反应3-甲基-1-丁炔-3-醇加入反应体系中，静置0.5h后去除多余溶剂；

S3、电晕处理基膜：打开电晕机，将功率设定为0.4V，基膜的运行速度设定为10m/min，是基膜经过电晕机后收卷，被电晕处理过的一侧即为电晕面；

S4、将有机硅压敏胶加入涂布机，启动涂布机，将双面离型膜送入涂布机，在双面离型膜的一侧面涂布上有机硅压敏胶，固化后形成高粘性层；所述高粘性层的涂布厚度为0.1mm；

S5、将所制得的有机硅压敏胶均匀的涂布于基膜的电晕面，进行干燥，形成有机硅压敏胶层；所述有机硅压敏胶层的涂布厚度为0.05mm；

S6、在S5所述有机硅压敏胶层上涂布一层处理剂，进行干燥后得到低粘性层；所述处理剂层的涂布厚度为0.05mm；

S7、将S4所述的高粘性层与基膜电晕面相对的一面进行贴合，即制得所述双面粘性不同的有机硅光学胶具体包括如下重量份的原料。

实施例2

本发明涉及一种双面粘性不同的有机硅光学胶，所述有机硅光学胶依次设置了低粘性层、基膜层、高粘性层和离型层；所述低粘性层中包括有机硅压敏胶层和处理剂层；所述高粘性层为有机硅压敏胶层；

所述有机硅压敏胶层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：乙烯基封端二甲基聚硅氧烷70％、甲基苯基硅烷25％、氯铂酸0.7％、3-甲基-1-丁炔-3-醇0.3％、环氧硅油4％；

所述处理剂层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：甲基乙烯基聚硅氧烷70％、二丁基锡二月桂酸酯3.0％、3,5-二甲基-乙炔-3-醇1.0％、甲基苯基MQ树脂26％；

所述基膜层为PVC膜；所述离型层为双面离型膜，具体为PVC离型膜；

本发明还涉及一种双面粘性不同的有机硅光学胶的制备方法：

S1、有机硅压敏胶的制备：在反应釜中加入甲苯，将上述乙烯基封端二甲基聚硅氧、甲基苯基硅烷、氯铂酸、环氧硅油按质量百分比加入，混匀后静置2h，加入3-甲基-1-丁炔-3-醇，去除溶剂以及过量的反应物；

S2、处理剂的制备：将所述甲基乙烯基聚硅氧烷、二丁基锡二月桂酸酯和甲基蹦极MQ硅树脂在甲苯中混匀，将反应3,5-二甲基-乙炔-3-醇加入反应体系中，静置0.5h后去除多余溶剂；

S3、电晕处理基膜：打开电晕机，将功率设定为0.4V，基膜的运行速度设定为10m/min，是基膜经过电晕机后收卷，被电晕处理过的一侧即为电晕面；

S4、将有机硅压敏胶加入涂布机，启动涂布机，将双面离型膜送入涂布机，在双面离型膜的一侧面涂布上有机硅压敏胶，固化后形成高粘性层；所述高粘性层的涂布厚度为0.2mm；

S5、将所制得的有机硅压敏胶均匀的涂布于基膜的电晕面，进行干燥，形成有机硅压敏胶层；所述有机硅压敏胶层的涂布厚度为0.1mm；

S6、在S5所述有机硅压敏胶层上涂布一层处理剂，进行干燥后得到低粘性层；所述处理剂层的涂布厚度为0.1mm；

S7、将S4所述的高粘性层与基膜电晕面相对的一面进行贴合，即制得所述双面粘性不同的有机硅光学胶具体包括如下重量份的原料。

实施例3

本发明涉及一种双面粘性不同的有机硅光学胶，所述有机硅光学胶依次设置了低粘性层、基膜层、高粘性层和离型层；所述低粘性层中包括有机硅压敏胶层和处理剂层；所述高粘性层为有机硅压敏胶层；

所述有机硅压敏胶层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：甲基乙烯基硅橡胶50％、甲基乙烯基硅烷45％、卡斯特催化剂1.0％、3-甲基-1-丁炔-3-醇、0.5％、二甲基硅油3.5％；

所述处理剂层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：甲基乙烯基聚硅氧烷75％、卡斯特催化剂3％、3-甲基-1戊烯-3-醇0.5％、甲基乙烯基MQ树脂20％；

所述基膜层为PP膜；所述离型层为双面离型膜，具体为PE离型膜；

本发明还涉及一种双面粘性不同的有机硅光学胶的制备方法：

S1、有机硅压敏胶的制备：在反应釜中加入甲苯，将上述甲基乙烯基硅橡胶、甲基乙烯基硅烷、卡斯特催化剂、二甲基硅油按质量百分比加入，混匀后静置2h，加入3-甲基-1-丁炔-3-醇，去除溶剂以及过量的反应物；

S2、处理剂的制备：将所述甲基乙烯基聚硅氧烷、卡斯特催化剂和甲基乙烯基MQ硅树脂在甲苯中混匀，将反应3-甲基-1-丁炔-3-醇加入反应体系中，静置0.5h后去除多余溶剂；

S3、电晕处理基膜：打开电晕机，将功率设定为0.4V，基膜的运行速度设定为10m/min，是基膜经过电晕机后收卷，被电晕处理过的一侧即为电晕面；

S4、将有机硅压敏胶加入涂布机，启动涂布机，将双面离型膜送入涂布机，在双面离型膜的一侧面涂布上有机硅压敏胶，固化后形成高粘性层；所述高粘性层的涂布厚度为0.25mm；

S5、将所制得的有机硅压敏胶均匀的涂布于基膜的电晕面，进行干燥，形成有机硅压敏胶层；所述有机硅压敏胶层的涂布厚度为0.15mm；

S6、在S5所述有机硅压敏胶层上涂布一层处理剂，进行干燥后得到低粘性层；所述处理剂层的涂布厚度为0.1mm；

S7、将S4所述的高粘性层与基膜电晕面相对的一面进行贴合，即制得所述双面粘性不同的有机硅光学胶。

实施例4

本发明涉及一种双面粘性不同的有机硅光学胶，所述有机硅光学胶依次设置了低粘性层、基膜层、高粘性层和离型层；所述低粘性层中包括有机硅压敏胶层和处理剂层；所述高粘性层为有机硅压敏胶层；

所述有机硅压敏胶层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：甲基乙烯基硅橡胶55％、甲基苯基硅烷40％、卡斯特催化剂0.9％、1-炔基环己醇0.1％、环氧硅油4％；

所述处理剂层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：甲基乙烯基聚硅氧烷60％、二丁基锡二月桂酸酯3％、3-甲基-1-丁炔-3-醇2％、甲基含氢MQ树脂35％；

所述基膜层为PBT膜；所述离型层为双面离型膜，具体为PE离型膜；

本发明还涉及一种双面粘性不同的有机硅光学胶的制备方法：

S1、有机硅压敏胶的制备：在反应釜中加入甲苯，将上述甲基乙烯基硅橡胶、甲基苯基硅烷、卡斯特催化剂)、环氧硅油按质量百分比加入，混匀后静置2h，加入1-炔基环己醇，去除溶剂以及过量的反应物；

S2、处理剂的制备：将所述甲基乙烯基聚硅氧烷、二丁基锡二月桂酸酯和甲基含氢MQ硅树脂在甲苯中混匀，将反应3-甲基-1-丁炔-3-醇加入反应体系中，静置0.5h后去除多余溶剂；

S3、电晕处理基膜：打开电晕机，将功率设定为0.4V，基膜的运行速度设定为10m/min，是基膜经过电晕机后收卷，被电晕处理过的一侧即为电晕面；

S4、将有机硅压敏胶加入涂布机，启动涂布机，将双面离型膜送入涂布机，在双面离型膜的一侧面涂布上有机硅压敏胶，固化后形成高粘性层；所述高粘性层的涂布厚度为0.1mm；

S5、将所制得的有机硅压敏胶均匀的涂布于基膜的电晕面，进行干燥，形成有机硅压敏胶层；所述有机硅压敏胶层的涂布厚度为0.05mm；

S6、在S5所述有机硅压敏胶层上涂布一层处理剂，进行干燥后得到低粘性层；所述处理剂层的涂布厚度为0.03mm；

S7、将S4所述的高粘性层与基膜电晕面相对的一面进行贴合，即制得所述双面粘性不同的有机硅光学胶。

实施例5

本发明涉及一种双面粘性不同的有机硅光学胶，所述有机硅光学胶依次设置了低粘性层、基膜层、高粘性层和离型层；所述低粘性层中包括有机硅压敏胶层和处理剂层；所述高粘性层为有机硅压敏胶层；

所述有机硅压敏胶层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：乙烯基封端二甲基聚硅氧烷65％、甲基硅烷32％、氯铂酸1.5％、3-甲基-1-丁炔-3-醇0.3％、环氧硅油3％；

所述处理剂层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：甲基乙烯基聚硅氧烷75％、卡斯特催化剂3.5％、3,5-二甲基-乙炔-3-醇1.5％、甲基MQ树脂20％；

所述基膜层为PET膜；所述离型层为双面离型膜，具体为PET离型膜；

本发明还涉及一种双面粘性不同的有机硅光学胶的制备方法：

S1、有机硅压敏胶的制备：在反应釜中加入甲苯，将上述乙烯基封端二甲基聚硅氧、甲基硅烷、氯铂酸、环氧硅油按质量百分比加入，混匀后静置2h，加入3-甲基-1-丁炔-3-醇，去除溶剂以及过量的反应物；

S2、处理剂的制备：将所述甲基乙烯基聚硅氧烷、卡斯特催化剂和甲基MQ硅树脂在甲苯中混匀，将反应3,5-二甲基-乙炔-3-醇加入反应体系中，静置0.5h后去除多余溶剂；

S3、电晕处理基膜：打开电晕机，将功率设定为0.4V，基膜的运行速度设定为10m/min，是基膜经过电晕机后收卷，被电晕处理过的一侧即为电晕面；

S4、将有机硅压敏胶加入涂布机，启动涂布机，将双面离型膜送入涂布机，在双面离型膜的一侧面涂布上有机硅压敏胶，固化后形成高粘性层；所述高粘性层的涂布厚度为0.1mm；

S5、将所制得的有机硅压敏胶均匀的涂布于基膜的电晕面，进行干燥，形成有机硅压敏胶层；所述有机硅压敏胶层的涂布厚度为0.05mm；

S6、在S5所述有机硅压敏胶层上涂布一层处理剂，进行干燥后得到低粘性层；所述处理剂层的涂布厚度为0.02mm；

S7、将S4所述的高粘性层与基膜电晕面相对的一面进行贴合，即制得所述双面粘性不同的有机硅光学胶。

将实施例和对比例中所制备的有机硅光学胶进行如下的性能测试，

剥离力测试：

将上述所制备的有机硅光学胶中低粘性层和高粘性层的粘结能力进行测试，通过对剥离力进行测试，按照CB2792-1998方法测试压敏胶的180°的剥离强度。

压敏胶附着力测试：

将上述有机硅光学胶去除离型膜层去除，将其放入沸水中浸泡20min、40min后去除，用白格刀划出小格，用胶带贴紧后用力拉，观察所述低粘性层和高粘性层的脱胶情况。

表1双面粘性不同的有机硅光学胶性能测试结果

根据实施例可知，本申请所制备的有机硅光学胶的两侧的粘性不同，在有机硅压敏胶层涂布一层处理剂层，能够降低所述胶层的粘接性能，有机硅压敏胶层与基膜之间能够保持高度性能，使其不易分离，在粘结不同目标时能够发挥不同的作用；另外，本申请还对其附着力进行测定，可见，经过20min沸水浸泡一定时间，两侧均无脱胶的现象，而经过40min浸泡后，由于低粘性层上还涂布一层处理剂层，其附着性稍差，容易从有机硅压敏胶层上脱离。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内，可不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种双面粘性不同的有机硅光学胶，其特征在于，所述有机硅光学胶依次设置了低粘性层、基膜层、高粘性层和离型层。

2.根据权利要求1所述的有机硅光学胶，其特征在于，所述低粘性层的涂布厚度为0.05-0.5mm，所述高粘性的厚度为0.05-0.5mm。

3.根据权利要求1中所述的有机硅光学胶，其特征在于，所述低粘性层中包括有机硅压敏胶层和处理剂层；所述低粘性层中有机压敏胶的厚度为0.01-0.5mm，所述处理剂层的厚度为0.02-0.05mm。

4.根据权利要求1中所述有机硅光学胶，其特征在于，所述有机硅压敏胶层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：硅橡胶50％-70％、有机硅树脂25％-45％、催化剂0.7％-1.5％、抑制剂0.1％-0.5％、交联剂1.0％-5.0％。

5.根据权利要求1中所述的有机硅光学胶，其特征在于，所述硅橡胶为丙烯酸酯封端的聚硅氧烷、乙烯基封端的聚硅氧烷中的至少一种；所述有机硅树脂为甲基硅烷、甲基乙烯基硅烷、甲基苯基硅烷中的至少一种；所述催化剂为铂基催化剂；所述3-甲基-1-丁炔-3-醇、1-炔基环己醇、3,5-二甲基-乙炔-3-醇、3-甲基-1戊烯-3醇中的至少一种；所述交联剂为甲基硅油、氨基硅油、环氧基硅油和醇羟基硅油中的至少一种。

6.根据权利要求1中所述的有机硅光学胶，其特征在于，所述处理剂层的制备原料包括以下组分，按重量百分比组成：主剂60％-80％、催化剂1％-5％、反应抑制剂0.5％-2％、MQ硅树脂20％-40％。

7.根据权利要求1中所述的有机硅光学胶，其特征在于，所述主剂为聚硅氧烷，其中含有烯基基团，所述烯基基团为乙烯基和丁烯基；所述催化剂为铂基催化剂、锡剂催化剂中的至少一种。

8.根据权利要求1中所述的有机硅光学胶，其特征在于，所述基膜层为PET膜、PVC膜、PP膜和PBT膜中的一种。

9.根据权利要求1中所述的有机硅光学胶，其特征在于，所述离型层为双面离型膜，具体为PET离型膜、PVC离型膜和PE离型膜中的一种。

10.一种双面粘性不同的有机硅光学胶的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、有机硅压敏胶的制备：在反应釜中加入溶剂、硅橡胶以及MQ硅树脂，搅拌均匀后加入交联剂和催化剂，混匀后静置，加入抑制剂，去除溶剂以及过量的反应物；

S2、处理剂的制备：将所述主剂、催化剂和MQ硅树脂在有机溶剂中混匀，将反应抑制剂加入反应体系中，静置一段时间后去除多余溶剂；

S3、电晕处理基膜：打开电晕机，将功率设定为0.4V，基膜的运行速度设定为10m/min，是基膜经过电晕机后收卷，被电晕处理过的一侧即为电晕面；

S4、将有机硅压敏胶加入涂布机，启动涂布机，将双面离型膜送入涂布机，在双面离型膜的一侧面涂布上有机硅压敏胶，固化后形成高粘性层；

S5、将所制得的有机硅压敏胶均匀的涂布于基膜的电晕面，进行干燥，形成有机硅压敏胶层；

S6、在S5所述有机硅压敏胶层上涂布一层处理剂，进行干燥后得到低粘性层；

S7、将S4所述的高粘性层与基膜电晕面相对的一面进行贴合，即制得所述双面粘性不同的有机硅光学胶。

Images