CN115757394A - 基于设计版图的量测数据库构建方法、装置、设备及介质 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种基于设计版图的量测数据库构建方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质。该基于设计版图的量测数据库构建方法,包括:在设计版图上选取需要量测的实际图形;获取实际图形在硅片实际位置的扫描电子显微镜SEM图像;获取SEM图像所有的量测数据;保存量测数据,得到量测数据库。根据本申请实施例,其构建的量测数据库能够保存大量在芯片实际图形上取得的量测数据和量测数据周边的图形环境。
Description
技术领域
本申请属于芯片生产制造领域,尤其涉及一种基于设计版图的量测数据库构建方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质。
背景技术
目前在芯片生产制造过程中,对于生产过程中产生的线宽量测数据一般基于设计线宽、设计间距及设计pitch来建立数据库保存和监控数据。其中,pitch是指板面两“单元”其中心间之距离。
常见的基于设计线宽、设计间距及设计pitch的量测都是量测各种专门设计的测试图形。下面对几种常见的测试图形的量测进行说明:
(1)Hole/Island的设计线宽、设计间距及设计pitch的量测:
常见的Hole/Island量测,一般会根据Hole或Island的设计线宽(如图1所示的a1,b1),设计pitch(如图1所示的p1,p2),以及设计间距(如图1所示的s1)进行量测。其所得数据也依据这些设计值进行保存,使用和监测。
(2)Line/Space的设计线宽、设计间距及设计pitch的量测:
常见的Line/Space量测,一般会根据Line或Space的设计宽度(如图2所示的w1,w2),设计pitch(如图2所示的p1),以及设计间距(如图2所示的s1)进行量测。其所得数据也依据这些设计值进行保存,使用和监测。
目前在设计线宽或设计间距量测完成后,一般保存测量值到数据库,然后依据设计线宽或设计间距加上设计pitch来保存,使用和监控量测数据,可参见图3。
现有技术由于是在测试图形上进行量测,测试图形的设计线宽、设计间距及设计pitch都是固定值,所以依据设计线宽、设计间距及设计pitch来保存数据是可行的。
但是,现有技术无法保存硅片实际图形的量测数据。因为硅片实际图形中多种设计线宽、设计间距及设计pitch常常同时存在,仅以设计线宽、设计间距及设计pitch为依据来保存量测数据无法涵盖图形周边环境对量测所得线宽值和间距值的影响。
在硅片实际图形中,一小块设计版图图形中即包含各种线宽设计值,间距设计值,pitch设计值,并且实际的线宽值和间距值会受到周围存在的图形的影响。
如图4所示,图4中中心部分线宽w1,不仅受到近处线宽w2和间距s1影响,同时也会受到非邻近的线宽w3和间距s2影响,而另一方向的线宽w4和间距s3以及间距s4也会影响w1。
因此仅依据设计线宽、设计间距及设计pitch来保存数据对实际芯片图形的数据保存是不足够的,无法保存影响线宽的全部图形信息。
另外,依据设计线宽、设计间距及设计pitch来保存数据也很难将同一个硅片实际图形在各个芯片制造层的线宽值和间距值保存在一起。芯片生产技术的不断升级,要求更加关注各个芯片制造层间的互相影响。在同一个硅片位置,实际芯片图形在各个制造层的量测数据统一保存和管理越来越重要。
有鉴于此,提出本申请。
发明内容
本申请实施例提供一种基于设计版图的量测数据库构建方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质,其构建的量测数据库能够保存大量在芯片实际图形上取得的量测数据和量测数据周边的图形环境。
第一方面,本申请实施例提供一种基于设计版图的量测数据库构建方法,包括:
在设计版图上选取需要量测的实际图形;
获取实际图形在硅片实际位置的扫描电子显微镜(scanning electronmicroscope,SEM)图像;
获取SEM图像所有的量测数据;
保存量测数据,得到量测数据库。
可选的,获取SEM图像所有的量测数据,包括:
根据设计版图的坐标位置信息确定目标量测点;
基于设计版图和预设的量测条件,生成预设量测范围内的所有的量测框;
根据目标量测点和所有的量测框生成量测配方文件;
将SEM图像与设计版图对准,得到对准结果;
基于对准结果和量测配方文件,对SEM图像进行量测,得到量测数据。
可选的,保存量测数据,得到量测数据库,包括:
基于设计版图进行图形分组,得到分组结果;
依据分组结果保存对应的量测数据,得到量测数据库。
可选的,依据分组结果保存对应的量测数据,得到量测数据库,包括:
依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch,保存对应的量测数据,得到量测数据库;
其中,量测数据包括设计线宽、设计间距、设计pitch和设计版图信息。
可选的,依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch,保存对应的量测数据,得到量测数据库,包括:
依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
可选的,依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库,包括:
基于分组结果,确定每一组图形中的各个图层;
针对每一个图层,依据设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
可选的,基于设计版图进行图形分组,得到分组结果,包括:
基于设计版图进行图形分组,并确定每组图形对应的数据库编号。
可选的,在保存量测数据,得到量测数据库之后,方法还包括:
获取新增图形的量测数据;
判断新增图形与各个数据库编号对应的图形是否相同;
若存在一个数据库编号对应的图形与新增图形相同,则将新增图形的量测数据保存至数据库编号对应的量测数据记录中。
可选的,在判断新增图形与各个数据库编号对应的图形是否相同之后,方法还包括:
若所有数据库编号对应的图形与新增图形均不相同,则针对新增图形生成一个新的数据库编号;
将新增图形的量测数据保存至新的数据库编号对应的量测数据记录中。
可选的,在获取新增图形的量测数据之后,方法还包括:
依据新增图形的量测数据,对量测数据库中的已有图形进行检索、对比和更新。
可选的,基于设计版图进行图形分组,得到分组结果,包括:
将位于一个芯片产品内不同位置但图形相同的量测点分为同组。
可选的,基于设计版图进行图形分组,得到分组结果,包括:
将不同芯片产品间图形相同的量测点分为同组。
第二方面,本申请实施例提供了一种基于设计版图的量测数据库构建装置,包括:
图形选取模块,用于在设计版图上选取需要量测的实际图形;
SEM图像获取模块,用于获取实际图形在硅片实际位置的扫描电子显微镜SEM图像;
量测数据获取模块,用于获取SEM图像所有的量测数据;
量测数据库构建模块,用于保存量测数据,得到量测数据库。
可选的,量测数据获取模块,用于:根据设计版图的坐标位置信息确定目标量测点;基于设计版图和预设的量测条件,生成预设量测范围内的所有的量测框;根据目标量测点和所有的量测框生成量测配方文件;将SEM图像与设计版图对准,得到对准结果;基于对准结果和量测配方文件,对SEM图像进行量测,得到量测数据。
可选的,量测数据库构建模块,包括:
图形分组单元,用于基于设计版图进行图形分组,得到分组结果;
量测数据库构建单元,用于依据分组结果保存对应的量测数据,得到量测数据库。
可选的,量测数据库构建单元,用于:依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch,保存对应的量测数据,得到量测数据库;其中,量测数据包括设计线宽、设计间距、设计pitch和设计版图信息。
可选的,量测数据库构建单元,用于:依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
可选的,量测数据库构建单元,用于:基于分组结果,确定每一组图形中的各个图层;针对每一个图层,依据设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
可选的,图形分组单元,用于:基于设计版图进行图形分组,并确定每组图形对应的数据库编号。
可选的,该装置包括:
量测数据获取模块,还用于获取新增图形的量测数据;
图形判断模块,用于判断新增图形与各个数据库编号对应的图形是否相同;
量测数据库构建单元,还用于若存在一个数据库编号对应的图形与新增图形相同,则将新增图形的量测数据保存至数据库编号对应的量测数据记录中。
可选的,该装置包括:
数据库编号生成模块,用于若所有数据库编号对应的图形与新增图形均不相同,则针对新增图形生成一个新的数据库编号;
量测数据库构建单元,还用于将新增图形的量测数据保存至新的数据库编号对应的量测数据记录中。
可选的,该装置包括:
量测数据库构建单元,还用于依据新增图形的量测数据,对量测数据库中的已有图形进行检索、对比和更新。
可选的,图形分组单元,用于:将位于一个芯片产品内不同位置但图形相同的量测点分为同组。
可选的,图形分组单元,用于:将不同芯片产品间图形相同的量测点分为同组。
第三方面,本申请实施例提供了一种电子设备,电子设备包括:处理器以及存储有计算机程序指令的存储器;
处理器执行计算机程序指令时实现如第一方面所示的基于设计版图的量测数据库构建方法。
第四方面,本申请实施例提供了一种计算机可读存储介质,计算机可读存储介质上存储有计算机程序指令,计算机程序指令被处理器执行时实现如第一方面所示的基于设计版图的量测数据库构建方法。
本申请实施例的基于设计版图的量测数据库构建方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质,其构建的量测数据库能够保存大量在芯片实际图形上取得的量测数据和量测数据周边的图形环境。
该基于设计版图的量测数据库构建方法,包括:在设计版图上选取需要量测的实际图形;获取实际图形在硅片实际位置的扫描电子显微镜SEM图像;获取SEM图像所有的量测数据;保存量测数据,得到量测数据库。
可见,该方法在设计版图上选取需要量测的实际图形,并获取实际图形在硅片实际位置的SEM图像,进而可以大量在芯片实际图形上取得量测数据和量测数据周边的图形环境。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本申请的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术中Hole/Island的设计线宽、设计间距及设计pitch的量测示意图;
图2是现有技术中Line/Space的设计线宽、设计间距及设计pitch的量测示意图;
图3是现有技术中使用和监控量测数据的示意图;
图4是线宽w1受到周围存在的图形的影响的示意图;
图5是本申请一个实施例提供的基于设计版图的量测数据库构建方法的流程示意图;
图6是本申请一个实施例提供的基于设计版图的量测数据内容示意图;
图7是本申请一个实施例提供的分芯片制造层保存量测数据的数据库示意图;
图8是本申请一个实施例提供的基于设计版图的量测数据库构建装置的结构示意图;
图9是本申请一个实施例提供的电子设备的结构示意图。
具体实施方式
下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例,为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体实施例,对本申请进行进一步详细描述。应理解,此处所描述的具体实施例仅意在解释本申请,而不是限定本申请。对于本领域技术人员来说,本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
为了解决现有技术问题,本申请实施例提供了一种基于设计版图的量测数据库构建方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质。下面首先对本申请实施例所提供的基于设计版图的量测数据库构建方法进行介绍。
图5示出了本申请一个实施例提供的基于设计版图的量测数据库构建方法的流程示意图。如图5所示,该基于设计版图的量测数据库构建方法,包括:
S501、在设计版图上选取需要量测的实际图形;
其中,该实际图形不是测试图形(test pattern)。
S502、获取实际图形在硅片实际位置的扫描电子显微镜SEM图像;
S503、获取SEM图像所有的量测数据;
其中,在一些实施例中可以自动获取SEM图像所有的量测数据。
在一些实施例中,获取SEM图像所有的量测数据,包括:
根据设计版图的坐标位置信息确定目标量测点;
基于设计版图和预设的量测条件,生成预设量测范围内的所有的量测框;
根据目标量测点和所有的量测框生成量测配方文件;
将SEM图像与设计版图对准,得到对准结果;
基于对准结果和量测配方文件,对SEM图像进行量测,得到量测数据。
S504、保存量测数据,得到量测数据库。
在一些实施例中,保存量测数据,得到量测数据库,包括:
基于设计版图进行图形分组,得到分组结果;
依据分组结果保存对应的量测数据,得到量测数据库。
在一些实施例中,依据分组结果保存对应的量测数据,得到量测数据库,包括:
依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch,保存对应的量测数据,得到量测数据库;
其中,量测数据包括设计线宽、设计间距、设计pitch和设计版图信息。
在一些实施例中,依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch,保存对应的量测数据,得到量测数据库,包括:
依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
具体地,如图6所示,保存量测值可以依据“图形分组-设计线宽和设计间距-设计pitch”的顺序来保存,同时可以依据图形分组,设计线宽和设计间距,设计pitch来查询和利用数据库数据。
在一些实施例中,依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库,包括:
基于分组结果,确定每一组图形中的各个图层;
针对每一个图层,依据设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
由于基于版图的量测数据库可以包含多层版图信息,可以将不同芯片制造层的量测数据保存在同一设计图形组中,可以更好监测层间线宽数据的相互影响和良率之间的关系。
在先进芯片制造工艺中,同一层芯片制造层会被分成两次或多次曝光来实现将设计版图转移到硅片上。多次曝光的工艺中,后面曝光的图层会受到硅片上已曝光形成的图层的影响。这时将同一设计图形,两次或多次曝光工艺后的线宽测量值保存在一起,能增强监测的及时性和有效性,对曝光工艺的监控和调整都有意义。
而且,在芯片制造中,Metal层的线宽和Contact/Via的孔径也可能联合影响Metal-Via连接的性能。当Metal层的线宽和Contact/Via的孔径同时变窄时,Metal-Via连接就会有较高风险失效。而当Contact/Via的孔径变窄时,前层Metal层的线宽足够时,则可考虑失效风险较低,Contact/Via的光刻工艺不需要返工,避免过多返工造成的成本损失。所以,如图7所示,将同一图形的多层量测数据保存在一起,可以达到提高工艺监测精度和有效性,改善良率和降低成本的效果。
在一些实施例中,基于设计版图进行图形分组,得到分组结果,包括:
基于设计版图进行图形分组,并确定每组图形对应的数据库编号。
在一些实施例中,在保存量测数据,得到量测数据库之后,方法还包括:
获取新增图形的量测数据;
判断新增图形与各个数据库编号对应的图形是否相同;
若存在一个数据库编号对应的图形与新增图形相同,则将新增图形的量测数据保存至数据库编号对应的量测数据记录中。
在一些实施例中,在判断新增图形与各个数据库编号对应的图形是否相同之后,方法还包括:
若所有数据库编号对应的图形与新增图形均不相同,则针对新增图形生成一个新的数据库编号;
将新增图形的量测数据保存至新的数据库编号对应的量测数据记录中。
具体地,首先基于设计版图进行图形分组,每组图形有对应的数据库编号。如有新的量测图形数据加入,新的量测图形需要与数据库中已编号的图形进行对比。如新的量测图形与已存在的量测图形相同,则新的量测数据加入已存在的图形的数据记录中,作为已存在图形的一个新的量测数据保存。如新的量测图形与已存在的量测图形都不相同,则数据库会生成一个新的量测图形编号用于保存这个新的量测图形。而且,新的量测数据则会保存在新的量测图形的量测数据记录中。
在一些实施例中,在获取新增图形的量测数据之后,方法还包括:
依据新增图形的量测数据,对量测数据库中的已有图形进行检索、对比和更新。
在一些实施例中,基于设计版图进行图形分组,得到分组结果,包括:
将位于一个芯片产品内不同位置但图形相同的量测点分为同组。
在一些实施例中,基于设计版图进行图形分组,得到分组结果,包括:
将不同芯片产品间图形相同的量测点分为同组。
基于上述实施例所示的图形分组方法,可以更好地比较和监控芯片内线宽控制均一性和产品间线宽控制均一性。
综上所述,运用本申请所构建的量测数据库,可以保存大量在芯片实际图形上取得的量测值和量测值周边的图形环境。现有的量测数据库在保存实际图形上的量测值时,只能保存量测点的设计线宽或间距与设计pitch,无法保存量测点周边的图形环境。但是,对于芯片实际图形上的量测值,周边图形的影响是需要考虑的。
图8是本申请一个实施例提供的基于设计版图的量测数据库构建装置的结构示意图,如图8所示,该基于设计版图的量测数据库构建装置,包括:
图形选取模块801,用于在设计版图上选取需要量测的实际图形;
SEM图像获取模块802,用于获取实际图形在硅片实际位置的扫描电子显微镜SEM图像;
量测数据获取模块803,用于获取SEM图像所有的量测数据;
量测数据库构建模块804,用于保存量测数据,得到量测数据库。
在一些实施例中,量测数据获取模块803,用于:根据设计版图的坐标位置信息确定目标量测点;基于设计版图和预设的量测条件,生成预设量测范围内的所有的量测框;根据目标量测点和所有的量测框生成量测配方文件;将SEM图像与设计版图对准,得到对准结果;基于对准结果和量测配方文件,对SEM图像进行量测,得到量测数据。
在一些实施例中,量测数据库构建模块804,包括:
图形分组单元,用于基于设计版图进行图形分组,得到分组结果;
量测数据库构建单元,用于依据分组结果保存对应的量测数据,得到量测数据库。
在一些实施例中,量测数据库构建单元,用于:依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch,保存对应的量测数据,得到量测数据库;其中,量测数据包括设计线宽、设计间距、设计pitch和设计版图信息。
在一些实施例中,量测数据库构建单元,用于:依据分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
在一些实施例中,量测数据库构建单元,用于:基于分组结果,确定每一组图形中的各个图层;针对每一个图层,依据设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
在一些实施例中,图形分组单元,用于:基于设计版图进行图形分组,并确定每组图形对应的数据库编号。
在一些实施例中,该装置包括:
量测数据获取模块803,还用于获取新增图形的量测数据;
图形判断模块,用于判断新增图形与各个数据库编号对应的图形是否相同;
量测数据库构建单元,还用于若存在一个数据库编号对应的图形与新增图形相同,则将新增图形的量测数据保存至数据库编号对应的量测数据记录中。
在一些实施例中,该装置包括:
数据库编号生成模块,用于若所有数据库编号对应的图形与新增图形均不相同,则针对新增图形生成一个新的数据库编号;
量测数据库构建单元,还用于将新增图形的量测数据保存至新的数据库编号对应的量测数据记录中。
在一些实施例中,该装置包括:
量测数据库构建单元,还用于依据新增图形的量测数据,对量测数据库中的已有图形进行检索、对比和更新。
在一些实施例中,图形分组单元,用于:将位于一个芯片产品内不同位置但图形相同的量测点分为同组。
在一些实施例中,图形分组单元,用于:将不同芯片产品间图形相同的量测点分为同组。
图8所示装置中的各个模块具有实现图5中各个步骤的功能,并能达到其相应的技术效果,为简洁描述,在此不再赘述。
图9示出了本申请实施例提供的电子设备的结构示意图。
电子设备可以包括处理器901以及存储有计算机程序指令的存储器902。
具体地,上述处理器901可以包括中央处理器(CPU),或者特定集成电路(Application Specific Integrated Circuit,ASIC),或者可以被配置成实施本申请实施例的一个或多个集成电路。
存储器902可以包括用于数据或指令的大容量存储器。举例来说而非限制,存储器902可包括硬盘驱动器(Hard Disk Drive,HDD)、软盘驱动器、闪存、光盘、磁光盘、磁带或通用串行总线(Universal Serial Bus,USB)驱动器或者两个或更多个以上这些的组合。在合适的情况下,存储器902可包括可移除或不可移除(或固定)的介质。在合适的情况下,存储器902可在电子设备的内部或外部。在特定实施例中,存储器902可以是非易失性固态存储器。
在一个实施例中,存储器902可以是只读存储器(Read Only Memory,ROM)。在一个实施例中,该ROM可以是掩模编程的ROM、可编程ROM(PROM)、可擦除PROM(EPROM)、电可擦除PROM(EEPROM)、电可改写ROM(EAROM)或闪存或者两个或更多个以上这些的组合。
处理器901通过读取并执行存储器902中存储的计算机程序指令,以实现上述实施例中的任意一种基于设计版图的量测数据库构建方法。
在一个示例中,电子设备还可包括通信接口903和总线910。其中,如图9所示,处理器901、存储器902、通信接口903通过总线910连接并完成相互间的通信。
通信接口903,主要用于实现本申请实施例中各模块、装置、单元和/或设备之间的通信。
总线910包括硬件、软件或两者,将电子设备的部件彼此耦接在一起。举例来说而非限制,总线可包括加速图形端口(AGP)或其他图形总线、增强工业标准架构(EISA)总线、前端总线(FSB)、超传输(HT)互连、工业标准架构(ISA)总线、无限带宽互连、低引脚数(LPC)总线、存储器总线、微信道架构(MCA)总线、外围组件互连(PCI)总线、PCI-Express(PCI-X)总线、串行高级技术附件(SATA)总线、视频电子标准协会局部(VLB)总线或其他合适的总线或者两个或更多个以上这些的组合。在合适的情况下,总线910可包括一个或多个总线。尽管本申请实施例描述和示出了特定的总线,但本申请考虑任何合适的总线或互连。
另外,结合上述实施例中的基于设计版图的量测数据库构建方法,本申请实施例可提供一种计算机可读存储介质来实现。该计算机可读存储介质上存储有计算机程序指令;该计算机程序指令被处理器执行时实现上述实施例中的任意一种基于设计版图的量测数据库构建方法。
需要明确的是,本申请并不局限于上文所描述并在图中示出的特定配置和处理。为了简明起见,这里省略了对已知方法的详细描述。在上述实施例中,描述和示出了若干具体的步骤作为示例。但是,本申请的方法过程并不限于所描述和示出的具体步骤,本领域的技术人员可以在领会本申请的精神后,作出各种改变、修改和添加,或者改变步骤之间的顺序。
以上所述的结构框图中所示的功能模块可以实现为硬件、软件、固件或者它们的组合。当以硬件方式实现时,其可以例如是电子电路、专用集成电路(ASIC)、适当的固件、插件、功能卡等等。当以软件方式实现时,本申请的元素是被用于执行所需任务的程序或者代码段。程序或者代码段可以存储在机器可读介质中,或者通过载波中携带的数据信号在传输介质或者通信链路上传送。“机器可读介质”可以包括能够存储或传输信息的任何介质。机器可读介质的例子包括电子电路、半导体存储器设备、ROM、闪存、可擦除ROM(EROM)、软盘、CD-ROM、光盘、硬盘、光纤介质、射频(RF)链路,等等。代码段可以经由诸如因特网、内联网等的计算机网络被下载。
还需要说明的是,本申请中提及的示例性实施例,基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是,本申请不局限于上述步骤的顺序,也就是说,可以按照实施例中提及的顺序执行步骤,也可以不同于实施例中的顺序,或者若干步骤同时执行。
上面参考根据本申请的实施例的方法、装置(系统)和计算机程序产品的流程图和/或框图描述了本申请的各方面。应当理解,流程图和/或框图中的每个方框以及流程图和/或框图中各方框的组合可以由计算机程序指令实现。这些计算机程序指令可被提供给通用计算机、专用计算机、或其它可编程数据处理装置的处理器,以产生一种机器,使得经由计算机或其它可编程数据处理装置的处理器执行的这些指令使能对流程图和/或框图的一个或多个方框中指定的功能/动作的实现。这种处理器可以是但不限于是通用处理器、专用处理器、特殊应用处理器或者现场可编程逻辑电路。还可理解,框图和/或流程图中的每个方框以及框图和/或流程图中的方框的组合,也可以由执行指定的功能或动作的专用硬件来实现,或可由专用硬件和计算机指令的组合来实现。
以上所述,仅为本申请的具体实施方式,所属领域的技术人员可以清楚地了解到,为了描述的方便和简洁,上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程,可以参考前述方法实施例中的对应过程,在此不再赘述。应理解,本申请的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内,可轻易想到各种等效的修改或替换,这些修改或替换都应涵盖在本申请的保护范围之内。
Claims (26)
1.一种基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,包括:
在设计版图上选取需要量测的实际图形;
获取所述实际图形在硅片实际位置的扫描电子显微镜SEM图像;
获取所述SEM图像所有的量测数据;
保存所述量测数据,得到量测数据库。
2.根据权利要求1所述的基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,所述获取所述SEM图像所有的量测数据,包括:
根据设计版图的坐标位置信息确定目标量测点;
基于所述设计版图和预设的量测条件,生成预设量测范围内的所有的量测框;
根据所述目标量测点和所述所有的量测框生成量测配方文件;
将所述SEM图像与所述设计版图对准,得到对准结果;
基于所述对准结果和所述量测配方文件,对所述SEM图像进行量测,得到所述量测数据。
3.根据权利要求1所述的基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,所述保存所述量测数据,得到量测数据库,包括:
基于所述设计版图进行图形分组,得到分组结果;
依据所述分组结果保存对应的量测数据,得到量测数据库。
4.根据权利要求3所述的基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,所述依据所述分组结果保存对应的量测数据,得到量测数据库,包括:
依据所述分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch,保存对应的量测数据,得到量测数据库;
其中,所述量测数据包括所述设计线宽、所述设计间距、所述设计pitch和设计版图信息。
5.根据权利要求4所述的基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,所述依据所述分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch,保存对应的量测数据,得到量测数据库,包括:
依据所述分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
6.根据权利要求5所述的基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,所述依据所述分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库,包括:
基于所述分组结果,确定每一组图形中的各个图层;
针对每一个图层,依据所述设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
7.根据权利要求3所述的基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,所述基于所述设计版图进行图形分组,得到分组结果,包括:
基于所述设计版图进行图形分组,并确定每组图形对应的数据库编号。
8.根据权利要求7所述的基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,在所述保存所述量测数据,得到量测数据库之后,所述方法还包括:
获取新增图形的量测数据;
判断所述新增图形与各个所述数据库编号对应的图形是否相同;
若存在一个所述数据库编号对应的图形与所述新增图形相同,则将所述新增图形的量测数据保存至所述数据库编号对应的量测数据记录中。
9.根据权利要求8所述的基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,在所述判断所述新增图形与各个所述数据库编号对应的图形是否相同之后,所述方法还包括:
若所有所述数据库编号对应的图形与所述新增图形均不相同,则针对所述新增图形生成一个新的数据库编号;
将所述新增图形的量测数据保存至所述新的数据库编号对应的量测数据记录中。
10.根据权利要求8所述的基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,在所述获取新增图形的量测数据之后,所述方法还包括:
依据所述新增图形的量测数据,对所述量测数据库中的已有图形进行检索、对比和更新。
11.根据权利要求3所述的基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,所述基于所述设计版图进行图形分组,得到分组结果,包括:
将位于一个芯片产品内不同位置但图形相同的量测点分为同组。
12.根据权利要求3所述的基于设计版图的量测数据库构建方法,其特征在于,所述基于所述设计版图进行图形分组,得到分组结果,包括:
将不同芯片产品间图形相同的量测点分为同组。
13.一种基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,包括:
图形选取模块,用于在设计版图上选取需要量测的实际图形;
SEM图像获取模块,用于获取所述实际图形在硅片实际位置的扫描电子显微镜SEM图像;
量测数据获取模块,用于获取所述SEM图像所有的量测数据;
量测数据库构建模块,用于保存所述量测数据,得到量测数据库。
14.根据权利要求13所述的基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,所述量测数据获取模块,用于:根据设计版图的坐标位置信息确定目标量测点;基于所述设计版图和预设的量测条件,生成预设量测范围内的所有的量测框;根据所述目标量测点和所述所有的量测框生成量测配方文件;将所述SEM图像与所述设计版图对准,得到对准结果;基于所述对准结果和所述量测配方文件,对所述SEM图像进行量测,得到所述量测数据。
15.根据权利要求13所述的基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,所述量测数据库构建模块,包括:
图形分组单元,用于基于所述设计版图进行图形分组,得到分组结果;
量测数据库构建单元,用于依据所述分组结果保存对应的量测数据,得到量测数据库。
16.根据权利要求15所述的基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,所述量测数据库构建单元,用于:依据所述分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch,保存对应的量测数据,得到量测数据库;其中,所述量测数据包括所述设计线宽、所述设计间距、所述设计pitch和设计版图信息。
17.根据权利要求16所述的基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,所述量测数据库构建单元,用于:依据所述分组结果、设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
18.根据权利要求17所述的基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,所述量测数据库构建单元,用于:基于所述分组结果,确定每一组图形中的各个图层;针对每一个图层,依据所述设计线宽、设计间距和设计pitch的先后顺序,保存对应的量测数据,得到量测数据库。
19.根据权利要求15所述的基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,所述图形分组单元,用于:基于所述设计版图进行图形分组,并确定每组图形对应的数据库编号。
20.根据权利要求19所述的基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,包括:
量测数据获取模块,还用于获取新增图形的量测数据;
图形判断模块,用于判断所述新增图形与各个所述数据库编号对应的图形是否相同;
量测数据库构建单元,还用于若存在一个所述数据库编号对应的图形与所述新增图形相同,则将所述新增图形的量测数据保存至所述数据库编号对应的量测数据记录中。
21.根据权利要求20所述的基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,包括:
数据库编号生成模块,用于若所有所述数据库编号对应的图形与所述新增图形均不相同,则针对所述新增图形生成一个新的数据库编号;
量测数据库构建单元,还用于将所述新增图形的量测数据保存至所述新的数据库编号对应的量测数据记录中。
22.根据权利要求20所述的基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,包括:
量测数据库构建单元,还用于依据所述新增图形的量测数据,对所述量测数据库中的已有图形进行检索、对比和更新。
23.根据权利要求15所述的基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,所述图形分组单元,用于:将位于一个芯片产品内不同位置但图形相同的量测点分为同组。
24.根据权利要求15所述的基于设计版图的量测数据库构建装置,其特征在于,所述图形分组单元,用于:将不同芯片产品间图形相同的量测点分为同组。
25.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括:处理器以及存储有计算机程序指令的存储器;
所述处理器执行所述计算机程序指令时实现如权利要求1-12任意一项所述的基于设计版图的量测数据库构建方法。
26.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序指令,所述计算机程序指令被处理器执行时实现如权利要求1-12任意一项所述的基于设计版图的量测数据库构建方法。
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