CN115708017A - 控制装置、光刻装置和物品制造方法 - Google Patents

控制装置、光刻装置和物品制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供控制装置、光刻装置和物品制造方法。提供了一种用于对移动体进行位置控制的控制装置。该装置包括前馈控制器，其被构造为通过将前馈操纵变量提供给移动体来进行前馈控制。在前馈控制的持续时间超过预定时间的情况下，前馈控制器使用基于在包括预定时间结束的预定区间中使用的前馈操纵变量而获得的前馈操纵变量来继续前馈控制。

Description

控制装置、光刻装置和物品制造方法
技术领域
本发明涉及控制装置、光刻装置和物品制造方法。
背景技术
在诸如用于制造半导体器件等的曝光装置的光刻装置中，为了高精度地定位保持基板(或原版)的载物台，通常配置反馈控制系统。一些反馈控制系统向驱动信号提供前馈操纵变量以提高定位速度。通过提供前馈操纵变量，可以快速减少控制误差并提高产量。
日本特开第2013-218496号公报描述了在向作为控制目标的基板台提供诸如脉冲信号的预定操纵变量时测量基板台的响应，并且基于测量结果生成前馈操纵变量。
例如，在曝光装置中，可能会存在基板台的移动完成后的处理时间较长(例如200毫秒以上)的情况。根据曝光装置的操作方法确定处理时间，长处理时间和短处理时间可以混用。例如，曝光量设置、对准设置等与此相对应。
可以针对基板上的各个拍摄区域和针对各个时间序列来预先确定前馈操纵变量。此外，对于长处理时间，希望通过进行控制来持续误差抑制控制状态。因此，需要在存储器中存储与拍摄区域的数量×曝光处理的处理时间相对应的前馈操纵变量，以及与对准拍摄的数量×对准测量处理的处理时间相对应的前馈操纵变量。通常，在一个基板上形成100个以上的拍摄区域。因此，需要存储至少100种前馈操纵变量，并且可能出现操纵变量的存储容量不足的问题。
曝光装置的计算机结构被划分为多个层。如果不考虑层数，则在假设处理时间长的情况下，不难确保用于存储前馈操纵变量的大容量存储器。然而，如果考虑层数，则很难确保如此大容量的存储器。
在处理时间短时，基板台的坐标间的移动时间(包括移动后的处理时间)极短(100毫秒以下)，并且难以在处理时间内将前馈操纵变量从上层转移到下一个目标位置。因此，基板台的控制所需的数据被存储在下层的计算机(存储器)中。然而，由于下层的存储器容量有限，目前难以针对长处理时间存储100种以上的前馈操纵变量。另一方面，如果用于存储前馈操纵变量的层根据处理时间的长度而改变，则处理变得复杂。
此外，如果前馈控制的持续时间超过预期时间(预设时间)而使得前馈控制终止，则在短时间内(例如，5到10毫秒)会产生控制误差。这种情况下的控制误差可能是比继续前馈的情况下的控制更大的控制误差(例如，5至100nm)。如上所述，在对准测量或曝光期间控制误差的产生会导致精度降低和产量降低。因此，必须避免这种情况。
发明内容
本发明提供在前馈控制持续超过预设时间的情况下可以抑制控制误差的技术。
本发明在其第一方面提供了一种用于进行移动体的位置控制的控制装置，该装置包括前馈控制器，其被构造为通过向移动体提供前馈操纵变量来进行前馈控制，其中，在前馈控制的持续时间超过预定时间的情况下，前馈控制器使用基于在包括预定时间结束的预定区间中使用的前馈操纵变量而获得的前馈操纵变量来继续前馈控制。
本发明在其第二方面提供了一种用于进行将原版的图案转印到基板上的处理的光刻装置，其中根据上述第一方面的控制装置用于进行对作为移动体的台的位置控制，该台在保持基板的同时移动。
本发明在其第三方面提供了一种物品制造方法，该方法包括使用根据上述第二方面的光刻装置将原版的图案转印到基板上，并处理经过转印的基板，其中由经过处理的基板获得物品。
本发明的其他特征将从示例性实施例的以下描述(参考附图)中变得显而易见。
附图说明
图1是示出曝光装置的布置的图；
图2A和图2B分别是示出基板台的时序位置和时序控制误差的曲线图；
图3是示出基板台的位置控制的框图；
图4是示出确定前馈操纵变量的方法的流程图；
图5A和图5B分别是示出第一操纵变量的示例和基板台的输出响应的示例的曲线图；
图6是示出获得要外推(extrapolated)的前馈操纵变量的过程的流程图；
图7是示出确定要外推的FF操纵变量的过程的流程图；
图8是示出参数设置画面的示例的图；
图9是示出通过函数近似获得的要外推的FF操纵变量的示例的曲线图；
图10是示出将指定区间的平均值用作要外推的FF操纵变量的示例的曲线图；
图11是用于说明外推法的自动确定的曲线图；
图12是用于说明外推法的自动确定的曲线图；
图13是用于说明外推法的自动确定的曲线图；
图14A和图14B分别是示出根据相关技术在FF控制终止的情况下控制误差的示例和FF操纵变量的示例的曲线图；和
图15A和图15B分别是示出了根据实施例的在使用外推的FF操纵变量继续FF控制的情况下，控制误差的示例和FF操纵变量的示例的曲线图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图详细描述实施例。注意，以下实施例并非旨在限制要求保护的发明的范围。在实施例中描述了多个特征，但不限于需要所有这些特征的发明，并且可以适当地组合多个这样的特征。此外，在附图中，相同的附图标记被赋予给相同或相似的构造，并且省略其赘述。
在以下实施例中，以将掩模(原版)的图案转印到基板上的曝光装置为例对本发明进行描述，但本发明不限于该曝光装置。例如，本发明还可以应用于其他光刻装置，例如使用模具在基板上形成压印材料的图案的压印装置，或者通过用带电粒子束照射基板来在基板上形成图案的绘制装置。此外，本发明不限于光刻装置，并且可以应用于任何装置，只要其定位控制目标即可。另外，在以下实施例中，将在保持基板的同时可移动的基板台作为控制目标进行描述，但甚至当将在保持掩模(原版)等的同时可移动的掩模台假设为控制目标时，也可以应用本发明。
图1是示出实施例的曝光装置的布置的图。例如，曝光装置可以是静态曝光装置等，其通过分步重复法将掩模(原版)的图案转印到基板上。或者，可以将步进扫描方法或其他曝光方法应用于曝光装置。
曝光装置包括用来自光源102的光照射掩模106的照明光学系统104、保持掩模106的掩模台108、以及将掩模106的图案投影到基板上的投影光学系统110。曝光装置还包括在保持基板112的同时可移动的基板台114、移动镜116、激光干涉仪118和控制装置120。
作为光源102，可以使用诸如波长为约365nm的i线光源、波长为约248nm的KrF准分子激光器或波长为193nm的ArF准分子激光器的光源。然而，光源的类型和光源的数量没有特别限制，例如，可以使用波长为约157nm的F2激光器作为光源102。
照明光学系统104是用来自光源102的光照射掩模106的光学系统。照明光学系统104可以包括用于对来自光源102的光的形状进行整形的光束整形光学系统、用于形成多个二次光源以便以均匀的照度分布对掩模106进行照明的光学积分器等。
掩模106具有要转印到基板112上的图案，并且由掩模台108保持和驱动。被掩模106(的图案)衍射的光经由投影光学系统110投影到基板112上。掩模106和基板112以光学共轭关系布置。在本实施例中，由于曝光装置为分步重复曝光装置，因此基板台114停止于各转印位置，并将掩模106的图案转印至基板112上。
掩模台108包括用于保持(夹持)掩模106的掩模卡盘，并且被构造为可在X轴方向、Y轴方向、Z轴方向和各轴的旋转方向上移动。
投影光学系统110是将掩模106的图案投影到基板112上的光学系统。可以使用折射系统、反射折射系统或反射系统，作为投影光学系统110。
基板112是掩模106的图案被投影(转印)到其上的基板。将抗蚀剂(感光剂)施加到基板112。基板112可以包括晶片、玻璃板或任何其他基板。
基板台114包括用于保持(夹持)基板112的基板卡盘，并且可以包括用于在X轴方向、Y轴方向、Z轴方向以及各轴的旋转方向上移动基板台114的基板台驱动单元(未示出)。移动镜116固定在基板台114上，并且由激光干涉仪118使用移动镜116来检测基板台114的位置和速度。即，激光干涉仪118可以充当测量基板台114的位置和速度的测量单元。测量单元可以包括多个激光干涉仪118，使得可以测量基板台114在X轴方向、Y轴方向、Z轴方向以及各轴的旋转方向上的位置和速度。
控制装置120由例如包括CPU和存储器126的计算机(信息处理设备)形成，并且基于存储在存储器126中的计算机程序来控制(整个)曝光装置1的操作。例如，控制装置120对作为移动体的基板台114进行位置控制。控制装置120的存储器126是存储与基板台114的控制有关的数据的存储单元。在本实施例中，存储器126可以存储由前馈控制器124提供给基板台114的前馈操纵变量等，如稍后所述。
在曝光装置中，通常可以对基板台114进行反馈(FB)控制，以减少基板台114的当前位置与目标位置之间的误差。图2A是示出仅在进行反馈控制时获得的基板台114的时序位置的曲线图，图2B是示出此时的时序控制误差(即，基板台114的当前位置与目标位置之间的误差)的曲线图。在图2A中，纵坐标表示基板台114的位置，横坐标表示时间。在图2B中，纵坐标表示基板台114的位置误差，横坐标表示时间。在以下描述中，基板台114的位置误差可称为“控制误差”。
参照图2A，可以看出，基板台114在时间0开始移动并且在时间300左右几乎到达目标位置。然而，实际上，如图2B所示，在时间300左右，基板台114的控制误差仍然存在，不能说基板台114已经完全到达目标位置。用于制造半导体器件的曝光装置需要具有纳米量级的精度以定位基板台。因此，在图2A和图2B所示的示例中，可以开始曝光处理的时间是在解决基板台114的控制误差的时间450之后，这在产量方面可能是不利的。
因此，本实施例的控制装置120对基板台114(其基板台驱动单元(未示出))进行前馈(FF)控制。图3是示出由控制装置120对基板台114进行的位置控制的框图。在图3中，控制装置120包括用于对基板台114进行FF控制的前馈控制器124。前馈控制器124通过将前馈操纵变量提供给作为控制目标的基板台114来对基板台114进行前馈控制。此外，在图3所示的示例中，控制装置120包括：反馈控制器122，其用于对基板台114(其基板台驱动单元(未示出))进行反馈(FB)控制。反馈控制器122对基板台114进行反馈控制，以减小基板台114的当前位置(输出响应)与目标位置(目标值)之间的误差。通过组合前馈控制和反馈控制，基板台114的定位速度有望提高。这里，在控制装置120中，反馈控制器122不是必要组件。控制装置120还可以包括控制器，该控制器进行诸如顺序控制的另一控制。
减法器202计算由包括激光干涉仪118的测量单元204测量的基板台114的当前位置与目标位置r之间的误差e，并将误差e输出到反馈控制器122。反馈控制器122可以包括例如PID(比例积分微分)补偿器。PID补偿器获得用于驱动基板台114的反馈操纵变量以减小减法器202计算的误差(例如为零)，并将获得的反馈操纵变量提供给基板台114。另一方面，前馈控制器124通过加法器206将用于减小基板台114的控制误差的前馈操纵变量i与反馈操纵变量相加，并将其提供给基板台114。
接下来，将参照图4描述确定将由前馈控制器124提供给基板台114的前馈操纵变量的方法。图4是示出确定前馈操纵变量的方法的流程图。图4中所示的各步骤可以由控制装置120基于存储在存储器126中的计算机程序来进行。在下文中，前馈操纵变量可以被称为“FF操纵变量”，并且反馈操纵变量可以被称为作为“FB操纵变量”。
在步骤S101中，控制装置120测量在将预定的第一操纵变量作为FF操纵变量提供时获得的基板台114的输出响应。例如，第一操纵变量可以是如图5A所示的脉冲信号。图5B示出了对脉冲信号的输出响应(即脉冲响应)的示例。在步骤S102中，控制装置120确定是否已经针对多个目标位置中的各目标位置获得了基板台114的输出响应的测量结果。例如，可以将目标位置设置为在将掩模106的图案转印到基板上的拍摄区域时要布置基板台114的位置。在这种情况下，可以将多个目标位置设置为包括用于在基板上的多个拍摄区域上进行图案形成的基板台114的所有位置。或者，可以将多个目标位置设置为仅包括用于在基板上的多个拍摄区域中的几个拍摄区域(样本拍摄区域)上进行图案形成的基板台114的位置。在步骤S102中，如果确定已经针对多个目标位置中的各目标位置获得了输出响应的测量结果，则处理进入步骤S103。另一方面，如果存在尚未获得输出响应的测量结果的任何目标位置，则处理返回到步骤S101，并且将基板台114布置在目标位置以测量输出响应。
在步骤S103中，控制装置120基于在多个目标位置中的各目标位置处获得的输出响应的测量结果来确定当将第一操纵变量提供给基板台114时获得的输出响应的代表值。在后述的步骤S104至步骤S106中，控制装置120可以设置在多个目标位置共用的FF操纵变量，或者可以针对多个目标位置中的各目标位置单独设置FF操纵变量。当设置在多个目标位置共用的FF操纵变量时，控制装置120可以将在多个目标位置获得的输出响应的测量结果的平均值(表示每次平均值的数据)确定为代表值。
代替输出响应的测量结果的平均值，控制装置120可以将诸如测量结果的最大值、最小值、中值等的统计值确定为代表值。在针对各目标位置单独设置FF操纵变量时，控制装置120可以将在多个目标位置获得的输出响应的测量结果的平均值等确定为代表值，但也可以为各目标位置单独确定代表值。例如，控制装置120可以将从在多个目标位置处获得的输出响应的测量结果当中的、在要确定FF操纵变量的目标位置处获得的输出响应的测量结果确定(选择)为代表值。
在步骤S104中，控制装置120基于第一操纵变量与在步骤S103中确定的输出响应的代表值之间的关系来确定第二操纵变量。第二操纵变量是通过组合(耦合)第一操纵变量和系数(增益)获得的操纵变量，该系数可以通过将第一操纵变量乘以系数而在多次中的各次不同。基于第一操纵变量和输出响应的代表值以线性关系变化的假设，控制装置120预测在将第二操纵变量提供给基板台114时可以获得的基板台114的输出响应。然后，进行每次调整系数的近似计算，使得基板台114的预测输出响应与目标响应之间的差落入允许范围内(优选地，差为零)，从而确定第二操纵变量。
目标响应例如是仅进行反馈控制时获得的基板台114相对于各时间的控制误差(如图2B所示的曲线图)。目标响应可以包括在从基板台114到达目标位置的时间(图2B中的时间300)到基板台114的稳定时间(图2B中的时间450)的时段内，基板台114的输出响应。然而，目标响应不限于从到达时间到稳定时间的时段，而是可以包括基板台114在其他时段的输出响应。
存在这样的情况，由于在提供第一操纵变量时获得的基板台114的输出响应(例如，图5B中所示的脉冲响应)中包括的高频分量，在确定第二操纵变量的近似计算中，误差不收敛，因此无法正确获得第二操纵变量。在这种情况下，控制装置120可以对基板台114的输出响应应用诸如低通滤波器或窗口函数的滤波处理。
在步骤S105中，控制装置120基于在步骤S104中确定的第二操纵变量来确定FF操纵变量。例如，控制装置120将使在步骤S104中确定的第二操纵变量的操作方向(即，要驱动基板台114的方向)反转而获得的操纵变量确定为FF操纵变量。通过将如此确定的FF操纵变量与反馈操纵变量一起提供给基板台114，可以减小(抵消)基板台114的控制误差。因此，可以缩短基板台114的稳定时间。所确定的FF操纵变量的数据存储在存储器126中。
下面将详细描述在步骤S104中确定第二操纵变量和在步骤S105中设置FF操纵变量的具体方法。
首先，在未向基板台114提供FF操纵变量的状态下，控制装置120获取通过测量基板台114的控制误差e(t)而获得的结果(实际测量值)。然后，控制装置120确定进行曝光处理的时间区间(例如，时间331～时间420)，并从控制误差e(t)中提取曝光处理的时间区间内的控制误差数据。此时，当采样时间为1时，要提取的控制误差数据e0包括90个样本，其被表达为：
e0＝[e1 e2…e90]T …(1)
接下来，如图5A和图5B所示，控制装置120在给定时间将FF操纵变量Δf(t)提供给基板台114，并获取通过测量基板台114的响应Δy(t)而获得的结果(实际测量值)。控制装置120从基板台114的响应Δy(t)中提取曝光处理的时间区间内的响应数据。以这种方式提取的响应数据y0被表达为：
y0＝[y1，0 y2，0 … y90，0]T…(2)
到目前为止，数据是实际测量值，但从此处生成虚拟数据。假设当将FF操纵变量Δf(t)提供给基板台114并且在一个样本之后将类似的操纵变量提供给基板台114时，可以获得类似的响应。设y1为此时的响应。类似地，设y2、y3、.......yn分别为两个样本后的响应，三个样本后的响应，.......，n个样本后的响应。这些响应被表达为：
Figure BDA0003790931110000101
如果提供给基板台114的操纵变量与基板台114的响应之间存在线性关系，则对FF操纵变量gΔf(t)的响应是响应gΔy(t)。因此，设gn为FF操纵变量在n个样本后的增益，下式成立：
Figure BDA0003790931110000102
接下来，控制装置120估计当n个样本之后的所有FF操纵变量被提供给基板台114时获得的基板台114的响应。设Y为从响应中提取的曝光处理的时间区间内的响应数据，Y是n个响应的总和。因此，下式成立：
Figure BDA0003790931110000103
为了通过将FF操纵变量提供给基板台114来消除用于曝光处理的时间区间中的控制误差(控制误差数据e0)，只要响应数据Y等于控制误差数据e0就足够了。因此，使用如下伪逆矩阵获得FF操纵变量的增益gn：
Figure BDA0003790931110000111
根据如上所述获得的增益而确定的FF操纵变量(即，通过将FF操纵变量Δf(t+tn)乘以确定的增益gn而获得的FF操纵变量gnΔf(t+tn))被提供给基板台114。该FF操纵变量gnΔf(t+tn)对应于第二操纵变量。然后，基于第二操纵变量，控制装置120确定FF操纵变量，以抵消关于基板台114的误差(步骤S105)。
上面已经详细描述了步骤S104和步骤S105的内容。接下来，将描述步骤S106。上述n个响应对应于曝光处理的时间区间的长度。曝光处理的时间包括基板台移动完成后的处理时间。处理时间根据曝光装置的操作方法确定。如果以使处理时间比最初预期长的设置来操作曝光装置，则要应用的FF操纵变量数据可能会用完。因此，在本实施例中，在步骤S106中，如果前馈控制的持续时间超过预定时间(预设时间)，则控制装置120基于在步骤S105中获得的FF操纵变量外推(extrapolate)FF操纵变量。参照图6，将详细描述步骤S106中的处理。
在步骤S201中，控制装置120获取FF控制的持续目标时间。可以基于曝光量、对准设置等中的至少一个来确定持续目标时间。在步骤S202中，控制装置120获取FF控制的持续时间的上限时间(结束)。上限时间是根据存储FF操纵变量数据的存储器126(存储单元)的存储容量确定的预设时间(预定时间)。
在步骤S203中，控制装置120确定在步骤S201中获取的持续目标时间是否超过在步骤S202中获取的上限时间。如果持续目标时间未超过上限时间，则终止该处理。另一方面，如果持续目标时间超过上限时间，则在步骤S204中，控制装置120确定结束后的FF操纵变量，该FF操纵变量要相对于FF操纵变量进行外推。
参照图7，将详细描述步骤S204中的处理。在步骤S301中，控制装置120获取FF操纵变量。更具体地，控制装置120读出存储在存储器126中的FF操纵变量数据。在步骤S302中，控制装置120确定外推法。在示例中，可以通过用户操作来选择外推法。图8示出了参数设置画面的示例。用户可以使用第一指定部分401指定(选择)外推法。外推法的候选示例可以包括“函数近似”、“继续结束值，并在结束值附近继续平均值”和“自动确定”。因此，第一指定部分401充当根据用户操作选择多个外推法中的一个的选择部分。根据所确定的外推法，在步骤S303中，控制装置120计算要外推的FF操纵变量。此后，在步骤S304中，控制装置120将计算出的FF操纵变量存储在存储器126中。此时，FF操纵变量和外推法可以相互关联并存储在存储器126中。
注意，图8所示的参数设置画面可以包括除外推法之外的指定项目。例如，在第二指定部分402中，可以指定用于进行FF操纵变量的函数近似的区间的起点。在第三指定部分403中，可以指定用于进行FF操纵变量的函数近似的区间的终点。在第四指定部分404中，可以指定用于计算FF操纵变量的平均值的区间的起点。在第五指定部分405中，可以指定用于计算FF操纵变量的平均值的区间的终点。在第六指定部分406中，可以指定在进行FF操纵变量的外推法的自动确定时的确定起点。在第七指定部分407中，可以指定在进行FF操纵变量的外推法的自动确定时的确定终点。在第八指定部分408中，可以指定在进行FF操纵变量的外推法的自动确定时的阈值。
将描述当在第一指定部分401中将“函数近似”(第一方法)指定为外推法时确定要外推的FF操纵变量的处理的示例。对于在预定区间中使用的FF操纵变量的时序转变，控制装置120，例如，通过最小二乘法进行函数近似，该预定区间包括为FF控制的持续时间预先设置的时间(预定时间)的结束。然后，基于函数近似，控制装置120预测经过预定时间之后(结束之后)的FF操纵变量。图9示出了要外推的FF操纵变量的示例，该变量是通过函数近似获得的。在图9中，使用函数近似(三次)预测并外推200毫秒后(经过预定时间后)的区间中的FF操纵变量。函数近似可以是使用FF操纵变量的所有样本的近似，或者可以仅在使用图8所示的第二指定部分402和第三指定部分403指定的区间中进行近似。
接下来，将描述当在第一指定部分401中指定“继续结束值，并在结束值附近继续平均值”时确定要外推的FF操纵变量的处理的示例。控制装置120获得在包含针对FF控制的持续时间预先设置的时间(预定时间)的结束的预定区间中的、在步骤S301中获取的FF操纵变量的平均值。预定区间可由用户经由图8所示的第四指定部分404和第五指定部分405指定。控制装置120获得指定的预定区间中的平均值，并获得该平均值作为要外推的FF操纵变量(经过预定时间后的FF操纵变量)(第二方法)。图10示出了这样的示例，其中，当在第四指定部分404中指定175，并且在第五指定部分405中指定200时，从175到200的指定区间中的平均值用作要外推的FF操纵变量。这里，如果在第四指定部分404和第五指定部分405中的各部分中指定了200，则最后的FF操纵变量被用作要外推的FF操纵变量(经过预定时间之后的FF操纵变量)(继续结束值(第三方法))。
接下来，将描述当在第一指定部分401中指定“自动确定”时确定要外推的FF操纵变量的处理的示例。控制装置120对在步骤S301中获取的FF操纵变量当中的利用图8所示的第六指定部分406和第七指定部分407指定的区间的FF操纵变量进行一阶近似。控制装置120确定通过一阶近似获得的直线的斜率是否等于或小于在第八指定部分408中指定的阈值。如果斜率等于或小于阈值，则控制装置120将最后的FF操纵变量确定为要外推的FF操纵变量(继续结束值)。如果斜率不等于或小于阈值，则通过函数近似确定要外推的FF操纵变量。图11示出了在图8所示的第六指定部分406和第七指定部分407中分别指定了175和200的情况下的两种FF操纵变量的示例。图12示出了在图11中所示的从175到200的指定部分中的一阶近似结果的示例。将图12中所示的一次分量的斜率与在第八指定部分408中指定的阈值进行比较。作为比较的结果，图13示出了通过对FF操纵变量1进行函数近似而获得的FF操纵变量外推的结果，以及通过对FF操纵变量2继续结束值而获得的结果。
通过上述处理，确定要外推的FF操纵变量并将其存储在存储器126中。因此，当控制基板台114时，前馈控制器124通过使用预先获得并存储在存储器126中的针对各时间序列的多个FF操纵变量来进行FF控制。如果FF控制的持续时间超过预设时间(预定时间)，则前馈控制器124通过使用基于在包括预定时间结束的预定区间中使用的FF操纵变量而获得的FF操纵变量，来继续FF控制。如上所述，经过预定时间后使用的FF操纵变量是基于在预定区间中使用的前馈操纵变量进行外推而获得的前馈操纵变量。
图14A示出了在如下情况下的控制误差的示例，在该情况下根据相关技术使用FF操纵变量对基板台进行FF控制并且由于FF控制的持续目标时间超过上限而导致FF控制终止。图14B示出了这种情况下FF操纵变量的示例。可以看出，如上所述，如果由于FF控制的持续目标时间超过上限而导致FF控制终止，则在由虚线包围的区域中产生大的控制误差。
图15A示出了根据本实施例，在FF控制的持续目标时间超过上限之后，通过继续结束值来进行FF操纵变量的外推的情况下，控制误差的示例。图15B示出了这种情况下的FF操纵变量的示例。可以看出，即使FF控制的持续目标时间超过上限，也使用外推的FF操纵变量来继续FF控制，使得即使在由虚线包围的区域中也能维持小的误差。
<物品制造方法的实施例>
下面将描述使用上述光刻装置制造物品(例如，半导体IC元件、液晶显示元件或MEMS)的物品制造方法。物品制造方法可以是这样的方法，其包括使用光刻装置将原版的图案转印到基板上的转印步骤和处理经过转印步骤的基板的处理步骤，从而由经过处理步骤的基板获得物品。
当光刻装置是曝光装置时，物品制造方法可以包括对涂有感光剂的基板(基板、玻璃基板等)进行曝光的步骤、对基板(感光剂)进行显影的步骤，以及在其他已知步骤中处理显影后的基板的步骤。其他已知步骤包括蚀刻、抗蚀剂去除、切割、接合和封装。根据该物品制造方法，可以制造比常规方法更高品质的物品。当光刻装置是压印装置时，物品制造方法可以包括通过使用模具在基板上模制压印材料来形成由压印材料的固化产物制成的图案的步骤，以及使用该图案处理基板的步骤。
尽管已经参考示例性实施例描述了本发明，但是应当理解，本发明不限于所公开的示例性实施例。以下权利要求的范围应给予最广泛的解释，以涵盖所有此类修改以及等效结构和功能。

Claims (12)

1.一种用于对移动体进行位置控制的控制装置，所述控制装置包括：
前馈控制器，其被构造为通过向移动体提供前馈操纵变量来进行前馈控制，
其中，在前馈控制的持续时间超过预定时间的情况下，前馈控制器使用基于在包括预定时间结束的预定区间中使用的前馈操纵变量而获得的前馈操纵变量，来继续前馈控制。
2.根据权利要求1所述的控制装置，其中，
前馈控制器使用预先获得的针对各个时间序列的多个前馈操纵变量直到预定时间为止，并且在经过预定时间之后，前馈控制器使用基于在预定区间中使用的前馈操纵变量通过外推获得的前馈操纵变量。
3.根据权利要求2所述的控制装置，所述控制装置还包括：
存储单元，其被构造为存储预先获得的针对各个时间序列的多个前馈操纵变量，以及通过外推获得的前馈操纵变量，
其中，预定时间是根据存储单元的存储容量确定的时间。
4.根据权利要求2所述的控制装置，其中，
通过对预定区间中的前馈操纵变量的时序转变进行函数近似，并且通过函数近似来预测经过预定时间之后的前馈操纵变量来进行外推。
5.根据权利要求2所述的控制装置，其中，
通过获得在预定区间中使用的前馈操纵变量的平均值作为经过预定时间之后的前馈操纵变量来进行外推。
6.根据权利要求2所述的控制装置，其中，
通过获得在预定时间结束时使用的前馈操纵变量作为经过预定时间之后的前馈操纵变量来进行外推。
7.根据权利要求2所述的控制装置，其中，
根据选自以下方法中的方法进行外推：
第一方法，对预定区间中的前馈操纵变量的时序转变进行函数近似，并通过函数近似来预测经过预定时间之后的前馈操纵变量，
第二方法，获得在预定区间中使用的前馈操纵变量的平均值作为经过预定时间之后的前馈操纵变量，以及
第三方法，获得在预定时间结束时使用的前馈操纵变量作为经过预定时间之后的前馈操纵变量。
8.根据权利要求7所述的控制装置，所述控制装置还包括：
选择单元，其被构造为根据用户操作选择第一方法、第二方法和第三方法中的一种方法。
9.根据权利要求2所述的控制装置，其中，
对预定区间中的前馈操纵变量的时序转变进行一阶近似，并确定通过一阶近似获得的直线的斜率是否不大于阈值，
在斜率不大于阈值的情况下，通过获取在预定时间结束时使用的前馈操纵变量作为经过预定时间之后的前馈操纵变量来进行外推，并且
在斜率大于阈值的情况下，通过对预定区间中的前馈操纵变量的时序转变进行函数近似，并通过函数近似预测经过预定时间之后的前馈操纵变量来进行外推。
10.根据权利要求1所述的控制装置，所述控制装置还包括：
反馈控制器，其被构造为对移动体进行反馈控制，以减少与目标位置的位置误差，
其中，前馈控制器对由反馈控制器进行反馈控制的移动体进行前馈控制。
11.一种用于进行将原版的图案转印到基板上的处理的光刻装置，其中，
使用权利要求1至10中任一项中所限定的控制装置来对作为移动体的载物台进行位置控制，该载物台在保持基板的同时移动。
12.一种物品制造方法，所述物品制造方法包括：
使用权利要求11中所限定的光刻装置将原版的图案转印到基板上；以及
处理经过转印的基板，
其中，由经过处理的基板获得物品。
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