CN115668440A - 一系列连续样品中第一个样品的识别 - Google Patents

Abstract

ADE设备使用一个或多个ADE参数的不同值或值模式识别来自至少一个样品的可识别的一次或多次喷射的序列。执行可识别的一次或多次喷射以产生一个或多个质量峰，该一个或多个质量峰具有一个或多个峰特征的与所产生的其他质量峰不同的特征值或特征值模式。喷射时间被存储。具有不同特征值或特征值模式的一个或多个检测的峰被识别为由可识别的一次或多次喷射产生。根据可识别喷射的时间和所识别的检测的峰的时间计算延迟时间，并使用延迟时间、存储的时间和样品顺序将峰与样品对齐。

Description

一系列连续样品中第一个样品的识别

相关美国申请

本申请要求于2020年5月22日提交的美国临时申请No.63/029,237的优先权的权益，其全部内容在此通过引用并入本文。

技术领域

本文的教导涉及操作通过开放端口接口(OPI)耦合到质谱仪的声学液滴喷射(ADE)设备(被称为声学喷射质谱(AEMS)系统)，以及涉及如何将喷射的样品与检测的质量峰对齐。更具体地，提供了用于识别一个或多个样品的序列中第一个样品的系统和方法。

背景技术

采样时间问题

如下所述，ADE设备可以用于将样品快速地传递至开放端口接口(OPI)，该OPI继而将分析物通过传输管传输至质谱仪，在该质谱仪处分析物被分析。这种样品分析的方法被称为AEMS。在AEMS中，存在从发生声学喷射时至检测来自分析物的信号时之间的延迟(若干秒)。分析物从声学喷射行进至质谱仪的入口所花费的时间长度也存在变化。

当在AEMS中在高速喷射率(每秒1个样品)下使用OPI时，可能有多个稀释的样品柱同时在传输管内行进。在识别哪个检测的信号属于哪个样品时，识别进样序列中的第一个样品是非常重要的。如果第一个样品的信号丢失或被错误识别，则存在来自后续样品的信号被识别为来自第一个样品的信号的风险，并且那么之后样品的所有分析都是不正确的。

为什么第一个样品可能未被检测到的原因可以包括但不限于用户未将分析物添加到孔(well)中，ADE设备喷射不出或喷射了但液滴未进入OPI，例如由于静电荷、不对称的样品表面弯月面或未对齐、或样品孔包含阻止液滴正确喷射的空气泡的原因。尽管从样品中丢失信号的发生可能是少见的，但其发生的后果是严重的(不正确的数据)。

目前，在AEMS系统中，ADE设备产生时间文件，该时间文件指定了喷射每个孔的每个样品的时间。在质谱(MS)分析之后，将随时间检测的峰与时间文件的时间对齐以识别样品。然而，如果缺少某些峰，尤其是第一个或前多个峰，则这种对齐可能被混淆。

作为结果，需要额外的AEMS系统和方法来使ADE设备的喷射时间与由质谱仪随时间检测的峰对齐，以便确保丢失的峰不会在收集的数据中产生错误。

ADE和OPI背景

样品中分析物的存在、识别、浓度和/或数量的准确确定在许多领域中是至关重要的。这种分析中使用的许多技术涉及流体样品中的物质在引入到所采用的分析装备内之前的电离。电离方法的选择将依赖于样品的性质和所使用的分析技术，并且许多电离方法是可用的。质谱是一种完善的分析技术，其中样品分子被电离，并且然后通过质荷比来对所得的离子进行分类。

将质谱分析(尤其是电喷雾质谱分析)耦合到分离技术(诸如包括高性能液相色谱(HPLC)的液相色谱(LC)、毛细管电泳或毛细管电色谱)的能力意味着复杂的混合物可以在单个过程中被分离和表征。HPLC系统设计中的诸如死体积的减少和泵压力的增加之类的改进使得包含更小颗粒的更小的柱、改进的分离和更快的运行时间的益处能够实现。尽管有这些改进，但样品分离所需的时间仍为约一分钟。即使不需要真正的分离，使用具有在进样之间进行一定程度清洁的传统的自动进样器将样品装载到质谱仪中的机制仍然将样品装载时间限制在每个样品大约十秒。

在改进通量性能上已有一些成功。通过使用固相萃取而不是传统色谱以去除盐分的简化样品处理可以将每个样品的预进样时间从HPLC所需的每个样品数分钟减少至十秒以下。然而，采样速度的增加是以灵敏度为代价的。此外，通过采样速度上的增加所节省的时间被在样品之间进行清洁的需要所抵消。

当前质谱仪装载过程的另一限制是样品之间残留的问题，这需要在装载每个样品之后进行清洁步骤以避免后续样品被先前样品中的余留量的分析物污染。这需要时间并向过程中添加了步骤，从而复杂化而不是简化了具有传统自动进样器系统的分析。

在用于处理复杂样品(诸如生物流体)时，当前质谱仪的其他限制是不想要的“基质效应”现象，该“基质效应”现象是由于基质成分(例如，诸如细胞基质成分之类的天然基质成分，或诸如塑料之类的某些材料中固有的污染物)的存在而产生的，并不利地影响了对感兴趣分析物的检测能力、精度和/或准确度。

开发了一种用于高通量质谱的将ADE与开放端口接口(OPI)相组合的系统。在美国专利申请No.16/198,667(下文称为“'667申请”)中描述了这个系统，该申请被整体并入本文。

图1A是组合了ADE与OPI的示例性系统，如'667申请中所描述的。在图1A中，ADE设备总体被显示在11处，将液滴49朝向总体在51处显示的连续流OPI喷射并进入其采样末端53。

ADE设备11包括至少一个储液器：其中在13处显示了第一储液器和可选的第二储液器31。在一些实施例中，可以提供另外的多个储液器。每个储液器被配置为容纳具有流体表面的流体样品，例如，具有分别在17和19处指示的流体表面的第一流体样品14和第二流体样品16。流体样品14和16可以是相同或不同的，但通常是不同的，在这个程度上它们将通常包含两种不同的分析物，旨在被运输到分析仪器(未示出)并在分析仪器中被检测。分析物可以是生物分子或除生物分子之外的大分子，或者它可以是小有机分子、无机化合物、电离原子或任何尺寸、形状或分子结构的任何部分，如本节中更早所解释的。此外，分析物可以被溶解、悬浮或分散在流体样品的液体成分中。

当使用多于一个储液器时，如图1A中所示，储液器优选地基本上相同且基本上在声学上不可区分，尽管相同的构造不是必需的。如本节中更早所解释的，储液器可以是托盘、架子或其他这种结构中的单独的可移除部件，但它们也可以被固定在板内，例如孔板或另一基板。如所示，每个储液器优选地基本上是轴对称的，具有从圆形储液器基部25和27向上延伸并分别终止于开口29和31的垂直壁21和23，尽管也可以使用其他储液器形状和储液器基部形状。每个储液器基部的材料和厚度应该使得声学辐射可以通过其传输并进入被包含在每个储液器内的流体样品中。

ADE设备11包括声学喷射器33，该声学喷射器33包括声学辐射发生器35和用于将产生的声学辐射聚焦在流体样品内的流体表面附近的焦点47处的聚焦装置37。如图1A中所示，聚焦装置37可以包括具有用于聚焦声学辐射的凹面39的单个实体件，但是聚焦装置也可以以如下面讨论的其他方式被构造。因此，声学喷射器33适于产生和聚焦声学辐射，以便在声学上耦合到储液器13和15并因此分别耦合到流体14和16时喷射来自流体表面17和19中的每个流体表面的流体液滴。声学辐射发生器35和聚焦装置37可以用作由单个控制器控制的单个单元，或者它们可以被独立地控制，这依赖于设备的期望性能。

优化地，通过间接接触实现在喷射器和储液器中的每个储液器之间的声学耦合，如图1A中所示。在该图中，声学耦合介质41被放置在喷射器33和储液器13的基部25之间，其中喷射器和储液器位于距离彼此预定距离处。声学耦合介质可以是声学耦合流体，优选地是既与声学聚焦装置37也与储液器的下侧共形接触的声学均匀材料。此外，重要的是确保流体介质基本上没有带有与流体介质本身不同的声学特性的材料。如所示，第一储液器13声学地耦合到声学聚焦装置37，使得由声学辐射发生器产生的声波被聚焦装置37引导到声学耦合介质41中，然后该声学耦合介质41将声学辐射传输到储液器13中。该系统可以包含单个声学喷射器，如图1A中所示，或者，如前面所提到的，它可以包含多个喷射器。

在操作中，在其中提供多个储液器的实施例中，设备的储液器13和可选的储液器15分别被填充有第一流体样品14和第二流体样品16，如图1A中所示。声学喷射器33位于储液器13的正下方，其中通过声学耦合介质41的方式来提供喷射器和储液器之间的声学耦合。最初，声学喷射器位于OPI 51的采样末端53的正下方，使得采样末端面对储液器13中的流体样品14的表面17。一旦喷射器33和储液器13正确对齐在采样末端53下方，就启动声学辐射发生器35以产生声学辐射，该声学辐射被聚焦装置37引导到靠近第一储液器的流体表面17的焦点47。作为结果，液滴49被从流体表面17喷射向并进入在OPI 51的采样末端53处的液体边界50，并在此处与流探头53中的溶剂组合。

在采样末端53处的液体边界50的轮廓可以从延伸超出采样末端53至向内突出到OPI 51中变化。在多储液器系统中，例如，多孔板或管架的储液器单元(未示出)然后可以相对于声学喷射器被重新定位，使得另一储液器被带到与喷射器对齐，并且可以喷射下一流体样品的液滴。流探头中的溶剂连续循环通过探头，从而最小化或甚至消除液滴喷射事件之间的“残留”。多孔板可以包括但不限于24孔、384孔或1536孔板。

流体样品14和16是期望被传送到分析仪器的任何流体的样品。因此，流体样品可以包含最小、部分或完全溶解、分散或悬浮在液体中的固体，该液体可以是水性液体或非水性液体。OPI 51的一实施例的结构也在图1A中示出。可以按原样或以修改形式使用连续流OPI的其他配置，所有这些都是本领域中清楚的，并且根据基本上相同的原理来操作。如图1A中可见，OPI 51的采样末端53与储液器13中的流体表面17间隔开，其间具有间隙55。间隙55可以是空气隙，或者是惰性气体的间隙，或者它可以包括一些其他气态材料；不存在将采样末端53连接到储液器13中的流体14的液体桥。

OPI 51包括用于接收来自溶剂源的溶剂的溶剂入口57和用于将溶剂流从溶剂入口57传输到采样末端53的溶剂传输毛细管59，其中含分析物的流体样品14的喷射液滴49与溶剂组合以形成分析物-溶剂稀释液。溶剂泵(未示出)可操作地连接到溶剂入口57并与溶剂入口57流体连通，以便控制从溶剂供应部通过溶剂传输毛细管到采样末端53的溶剂流的速率，并且因此也控制在溶剂传输毛细管59内的溶剂流的速率。

OPI 51内的流体流携带分析物-溶剂稀释液通过由内毛细管73提供的样品传输毛细管61朝向样品出口63，用于随后传送到分析仪器。可以提供采样泵(未示出)，该采样泵可操作地连接到样品传输毛细管61并与样品传输毛细管61流体连通，以控制从出口63的输出速率以及在采样末端53处的溶剂的抽吸。

在一个实施例中，使用正排量泵作为溶剂泵，例如蠕动泵，以及代替采样泵，使用抽吸式雾化系统使得分析物-溶剂稀释液通过文丘里效应被抽出样品出口63，该文丘里效应是由经由气体入口67(在图1A中以简化形式显示，在这个程度上抽吸式雾化器的特征在本领域中是清楚的)从雾化气体源65引入的雾化气体流在它流过样品出口63的外部时引起的。然后，通过在雾化气体经过样品出口63并与离开样品传输毛细管61的流体组合时产生的压力下降使分析物-溶剂稀释液流被抽至向上通过样品传输毛细管61。气体压力调节器用于控制经由气体入口67进入系统的气体流的速率。

在优选的方式中，雾化气体在样品出口63处或附近以鞘流型方式流过样品传输毛细管61的外部，其中当分析物-溶剂稀释液流动穿过样品出口63时将分析物-溶剂稀释液抽至通过样品传输毛细管61，其引起与雾化器气体混合时在样品出口处的抽吸。在各种实施例中，样品出口63是突出于气体喷嘴的直管。

在所示实施例中，溶剂传输毛细管59和样品传输毛细管61由外毛细管71和基本上同轴设置在该外毛细管71中的内毛细管73提供，其中内毛细管73限定样品传输毛细管，而内毛细管73和外毛细管71之间的环形空间限定溶剂传输毛细管59。内毛细管73的尺寸可以是从1微米至1mm，例如200微米。内毛细管73的外直径的典型尺寸可以是从100微米至3或4厘米，例如360微米。外毛细管71的内直径的典型尺寸可以是从100微米至3或4厘米，例如450微米。外毛细管71的外直径的典型尺寸可以是从150微米至3或4厘米，例如950微米。

在其他实施例中，可以提供溶剂传输毛细管和样品传输毛细管的不同几何形状和配置。例如，毛细管不必是同轴的，并且可以具有与所图示的不同的截面，只要它们适合于将溶剂供应到暴露的采样区域和从采样区域抽吸所供应的溶剂和捕获的样品，以供样品分析器进行分析。内毛细管73和/或外毛细管71的截面区域可以是圆形、椭圆形、超椭圆形(即，形状像超椭圆)，或者甚至是多边形。虽然图1A中所示的系统指示溶剂流的方向如从溶剂入口57向下朝向溶剂传输毛细管59中的采样末端53，而分析物-溶剂稀释液流的方向如从采样末端53向上通过样品传输毛细管61朝向出口63，但方向可以颠倒，且OPI 51不必精确地垂直定位。对图1A中所示结构的各种修改对于本领域普通技术人员来说将是清楚的，或者可以由本领域普通技术人员在使用系统期间推导出。

该系统还可以包括耦合到外毛细管71和内毛细管73的调节器75。调节器75可以适于使外毛细管末端77和内毛细管末端79相对于彼此纵向地移动。调节器75可以是能够使外毛细管71相对于内毛细管73移动的任何设备。示例性调节器75可以是马达，包括但不限于电马达(例如，AC马达、DC马达、静电马达、伺服马达等)、液压马达、气动马达、平移台及其组合。如本文所用，“纵向”指的是沿OPI 51的长度延伸的轴，且内毛细管73、外毛细管71可以围绕OPI 51的纵向轴同轴布置，如图1中所示。

可选地，在使用之前，调节器75用于纵向向内拉动内毛细管73，使得外毛细管71突出超过内毛细管73的端部，以便有利于溶剂传输毛细管59中的溶剂流和样品传输毛细管61中作为分析物-溶剂稀释液流61传输的样品之间的优化流体连通。此外，如图1A中所示，为了稳定性和易于处理，OPI 51通常固定在大致圆柱形的保持器81内。

图1B是用于电离在采样OPI的开口端内接收的分析物并对分析物进行质量分析的系统110的示例性实施例，如'667申请中所述。系统110包括声学液滴注入设备11，该声学液滴注入设备11被配置为将液滴49从储液器注入到采样OPI 51的开口端中。如图1B中所示，示例性系统110通常包括采样OPI 51和质量分析器170，该采样OPI51与雾化器辅助离子源160流体连通，用于将含有一种或多种样品分析物的液体(例如，经由电喷雾电极164)排放到电离室112中，该质量分析器170与电离室112流体连通，用于对由离子源160产生的离子进行下游处理和/或检测。流体处理系统140(例如，包括一个或多个泵143和一个或多个导管)提供从溶剂储液器150至采样OPI 51和从采样OPI 51至离子源160的液体流。例如，如图1B中所示，溶剂储液器150(例如，包含液体、解吸溶剂)可以经由供应导管流体地耦合到采样OPI 51，液体可以通过该供应导管由泵43(例如，往复泵，诸如旋转泵、齿轮泵、柱塞泵、活塞泵、蠕动泵、隔膜泵之类的正排量泵，或诸如重力泵、脉冲泵、气动泵、电动泵和离心泵之类的其他泵)以选定的体积速率被输送，所有都是非限制性方式的示例。如下面详细讨论的，液体流入和流出采样OPI 51发生在开口端处的可接近的样品空间内，使得一个或多个液滴49可以被引入到采样末端处的液体边界50中并随后被输送到离子源160。

如所示，系统110包括声学液滴注入设备11，该声学液滴注入设备11被配置为产生声学能量，该声学能量被施加到包含在储液器(如图1A中所描绘的)内的液体，引起一个或多个液滴49从储液器喷射到采样OPI 51的开口端内。控制器180可以可操作地耦合到声学液滴注入设备11并且可以被配置为操作声学液滴注入设备11的任何方面(例如，聚焦装置、声学辐射发生器、用于将一个或多个储液器定位成与声学辐射发生器对齐的自动化装置等)，以便将液滴注入采样OPI51中，或以本文讨论的其他方式基本上连续地注入液滴，或针对由非限制性示例的方式给出的实验方案的选定部分注入液滴。控制器180可以是但不限于微控制器、计算机、微处理器、图1的计算机系统或能够发送和接收控制信号和数据的任何设备。

如图1B中所示，示例性离子源160可以包括压缩气体(例如氮气、空气或惰性气体)的源65，其供应围绕电喷雾电极164的出口端并与从出口端排出的流体相互作用的高速雾化气流，以例如经由高速雾化流和液体样品(例如，分析物-溶剂稀释液)射流的相互作用来增强样品羽流的形成和样品羽流内的离子释放，以供114b和116b采样。可以以各种流速供应雾化器气体，例如，在从大约0.1L/min至大约20L/min的范围内，这也可以在控制器180的影响下被控制(例如，经由打开和/或关闭阀门163)。

将理解的是，可以调节雾化器气体的流速(例如，在控制器180的影响下)，使得采样OPI 51内的液体的流速可以基于例如由雾化器气体和正从电喷雾电极164排出的分析物-溶剂稀释液的相互作用(例如，由于文丘里效应)生成的吸力/抽吸力来调节。

如图1B中所示，电离室112可以被保持在大气压下，尽管在一些实施例中，电离室112可以被抽真空到低于大气压的压力。电离室112通过具有幕板孔114b的板114a与气幕室114分隔开，在该电离室112内分析物可以在分析物-溶剂稀释液从电喷雾电极164排出时被电离。如所示，容纳质量分析器170的真空室116通过具有真空室采样孔116b的板116a与幕室114分隔开。通过一个或多个真空泵端口118进行抽真空，可以将幕室114和真空室116维持在选定的(一个或多个)压力(例如，相同或不同的亚大气压，低于电离室的压力)下。

本领域技术人员也将理解并且根据本文的教导，质量分析器170可以具有各种配置。通常，质量分析器170被配置为处理(例如，过滤、分类、解离、检测等)由离子源160生成的样品离子。以非限制性示例的方式，质量分析器170可以是三重四极杆质谱仪或本领域已知并根据本文教导修改的任何其他质量分析器。可以根据本文公开的系统、设备和方法的各种方面修改的其他非限制性示例性质谱仪系统可以在例如由James W.Hager和J.C.YvesLe Blanc撰写并发表在Rapid Communications in Mass Spectrometry(质谱学快报)(2003；17：1056-1064)上的标题为“Product ion scanning using a Q-q-Q linear iontrap(Q TRAP)mass spectrometer(使用Q-q-Q线性离子阱(Q TRAP)质谱仪进行产物离子扫描)”的文章中，以及标题为“Collision Cell for Mass Spectrometer(用于质谱仪的碰撞室)”的美国专利No.7,923,681中找到，其通过引用整体并入本文。

其他配置，包括但不限于本文所述的那些以及本领域技术人员已知的其他，也可以与本文所公开的系统、设备和方法结合使用。例如，其他合适的质谱仪包括单四极杆、三重四极杆、ToF、阱和混合分析器。还将理解的是，任何数量的附加元件可以被包括在系统110中，包括例如离子迁移谱仪(例如，微分迁移谱仪)，该离子迁移谱仪被设置在电离室112和质量分析器170之间并且被配置为基于离子在高场和低场中通过漂移气体的迁移率而不是它们的质荷比来分离离子。此外，将理解的是，质量分析器170可以包括检测器，该检测器可以检测通过分析器170的离子并且可以例如提供指示每秒检测到的离子数量的信号。

质谱背景

质谱仪常常与色谱或诸如ADE设备和OPI之类的其他样品引入系统耦合，以便从样品中识别和表征感兴趣化合物或分析多个样品。在这样的耦合系统中，洗脱或注入的溶剂被电离，并以被称为保留时间的特定时间间隔从洗脱溶剂中获得一系列质谱。这些保留时间的范围从例如1秒至100分钟或更大。该一系列质谱形成色谱，或提取离子色谱(XIC)。

例如，在XIC中找到的峰用于识别或表征样品中的已知肽或化合物。更具体地，峰的保留时间和/或峰的面积用于识别或表征(量化)样品中的已知肽或化合物。在由样品引入设备随时间提供多个样品的情况下，峰的保留时间用于将峰与正确的样品对齐。

在传统的分离耦合质谱系统中，选择已知化合物的片段或产物离子用于分析。然后在每个分离的间隔处针对包括产物离子的质量范围执行串联质谱或质谱/质谱(MS/MS)扫描。在每次MS/MS扫描中找到的产物离子的强度随时间被收集，并例如作为谱集或XIC被分析。

通常，串联质谱或MS/MS是用于分析化合物的众所周知的技术。串联质谱涉及对来自样品的一种或多种化合物的电离、对一种或多种化合物的一种或多种前体离子的选择、将一种或多种前体离子破碎成片段或产物离子，以及对产物离子的质量分析。

串联质谱可以提供定性信息和定量信息两者。产物离子谱可以用于识别感兴趣分子。一种或多种产物离子的强度可以用于定量样品中存在的化合物的量。

可以使用串联质谱仪来执行大量不同类型的实验方法或工作流程。这些工作流程的三大类是靶向采集、信息依赖采集(IDA)或数据依赖采集(DDA)和数据非依赖采集(DIA)。

在靶向采集方法中，针对感兴趣化合物预定义前体离子到产物离子的一个或多个转变。当样品被引入串联质谱仪时，在多个时间段或循环的每个时间段或循环期间询问或监测该一个或多个转变。换言之，质谱仪选择并破碎每个转变的前体离子，并仅对转变的产物离子执行靶向质量分析。作为结果，产生针对每个转变的强度(产物离子强度)。靶向采集方法包括但不限于多反应监测(MRM)和选择反应监测(SRM)。

在靶向采集方法中，通常在每个循环时间期间询问转变的列表。为了减少在任何一个时间被询问的转变数量，一些靶向采集方法已被修改为包括每个转变的保留时间或保留时间范围。只有在该保留时间或该保留时间范围内，将询问该特定的转变。一种允许对转变指定保留时间的靶向采集方法被称为预排MRM。

在IDA方法中，用户可以指定用于执行产物离子的非靶向质量分析的标准，同时将样品引入串联质谱仪。例如，在IDA方法中，执行前体离子或质谱(MS)调查扫描以生成前体离子峰列表。用户可以选择标准来过滤峰列表上的前体离子子集的峰列表。然后对前体离子子集中的每种前体离子执行MS/MS。针对每种前体离子生成产物离子谱。当样品被引入串联质谱仪时，对前体离子子集中的前体离子重复执行MS/MS。

然而，在蛋白质组学和许多其他样品类型中，化合物的复杂性和动态范围非常大。这对传统的靶向和IDA方法提出了挑战，从而需要非常高速的MS/MS采集来深入地询问样品，以便既识别又量化广泛的分析物。

作为结果，开发了第三大类串联质谱的DIA方法。这些DIA方法已被用于增大从复杂样品中收集数据的可重复性和全面性。DIA方法也可以被称为非特定破碎方法。在传统的DIA方法中，串联质谱仪的作用在MS/MS扫描当中不基于先前的前体离子扫描或产物离子扫描中获得的数据而变化。而是，选择的是前体离子质量范围。然后跨前体离子质量范围步进前体离子质量选择窗口。前体离子质量选择窗口中的所有前体离子都被破碎，且前体离子质量选择窗口中的所有前体离子的所有产物离子都被质量分析。

用于扫描质量范围的前体离子质量选择窗口可以非常窄，使得窗口内有多种前体的可能性是小的。例如，这种类型的DIA方法被称为MS/MS^ALL。在MS/MS^ALL方法中，跨整个质量范围扫描或步进约1amu的前体离子质量选择窗口。针对每个1amu前体质量窗口生成产物离子谱。一次分析或扫描整个质量范围所花费的时间被称为一个扫描循环。然而，在每个循环期间跨宽的前体离子质量范围扫描窄的前体离子质量选择窗口对于某些仪器和实验来说并不实用。

作为结果，跨整个前体质量范围步进较大的前体离子质量选择窗口或具有较大宽度的选择窗口。这种类型的DIA方法被称为例如SWATH采集。在SWATH采集中，在每个循环中跨前体质量范围所步进的前体离子质量选择窗口可能具有5-25amu或甚至更大的宽度。像MS/MS^ALL方法一样，每个前体离子质量选择窗口中的所有前体离子被破碎，并且每个质量选择窗口中所有前体离子的所有产物离子被质量分析。

发明内容

公开了一种用于将样品与AEMS中检测的峰对齐的系统、方法和计算机程序产品。在一些实施例中，可以提供一种系统，该系统包括ADE设备、OPI、离子源设备、质谱仪和用于协调部件动作的控制器。

ADE设备使用与针对正被分析的一系列样品的样品喷射的分析序列不同的一个或多个ADE参数的值或值模式的组合来执行来自一系列样品中的一个或多个样品的可识别的一次或多次喷射的序列。ADE设备执行可识别的一次或多次喷射的序列以产生一个或多个质量峰，该一个或多个质量峰具有一个或多个峰特征的与针对正被分析的样品的分析序列产生的质量峰不同的特征值或特征值模式。ADE设备还存储或传送与可识别的喷射序列对应的样品喷射时间。样品喷射时间和或可识别的一次或多次喷射的序列的特征可以产生对应的一个或多个可识别的质量峰，其可以用于将质量峰的后续分析序列与对应的喷射样品对齐。

OPI在管的入口处接收可识别的一次或多次喷射的序列和其他喷射。OPI将接收的可识别喷射与管中的溶剂混合以形成一系列分析物-溶剂稀释液。OPI将该系列稀释液传送到管的出口。

离子源设备接收该系列稀释液并电离该系列稀释液，从而产生离子束。质谱仪接收离子束并随时间对离子束进行质量分析，从而产生一系列检测的强度关于时间的质量峰。

处理器接收该系列峰中的峰和存储的样品喷射时间。处理器将接收的一系列峰中的具有不同特征值或特征值模式的一个或多个检测的的峰识别为对应于可识别喷射或由可识别喷射产生。处理器根据可识别喷射的时间和所识别的一个或多个检测的峰的时间来计算延迟时间。最终，处理器使用延迟时间、存储的时间和一系列样品的顺序，将一系列检测的峰与一系列样品对齐。

本文阐述了申请人的教导的这些和其他特征。

附图说明

本领域技术人员将理解的是，下面描述的附图仅用于说明目的。附图不旨在以任何方式限制本教导的范围。

图1A是组合了声学液滴喷射(ADE)与开放端口接口(OPI)采样接口的示例性系统，如'667申请中所述。

图1B是用于电离在采样OPI的开口端内接收的分析物和对分析物进行质量分析的示例性系统，如'667申请中所述。

图2是示出计算机系统的框图，本教导的实施例可以在该计算机系统上实现。

图3是示出检测的峰与来自ADE设备时间文件的喷射时间的正确对齐的示例性绘图。

图4是显示了由质谱仪随时间检测的来自由ADE设备和OPI依次提供给质谱仪的四个不同样品的分析物的三个峰的示例性绘图。

图5是示出图4中检测的峰的数量和喷射时间的数量的不匹配如何导致四次不同的样品喷射与图4的三个峰的不同对齐的示例性绘图。

图6是示出了由于缺失峰和低强度峰而导致检测的峰与喷射时间不对齐的示例性绘图。

图7是示出根据各种实施例的可以如何通过改变ADE设备的喷射时间段来改变由质谱仪检测的峰的示例性绘图。

图8是根据各种实施例的理想化的检测的峰的示例性绘图，理想化的检测的峰包括峰和跟随有剩余样品峰的空白区的第一可识别模式。

图9是示出根据各种实施例的用于识别检测的峰的条码或可识别模式的模板的示例性绘图。

图10是示出了根据各种实施例的相对于使用图9的模板的剩余样品的检测的峰，两个样品的两个检测的峰的条码模式的位置的示例性绘图。

图11是示出了根据各种实施例的与图10中相同的数据但相对于较低强度范围绘制的示例性绘图，以便看到图10的两个条码模式。

图12是根据各种实施例的用于将样品与AEMS中检测的峰对齐的系统的示意性图。

图13是示出了根据各种实施例的用于将样品与AEMS中检测的峰对齐的方法的流程图。

图14是根据各种实施例的包括一个或多个不同软件模块的系统的示意性图，该系统执行用于将样品与AEMS中检测的峰对齐的方法。

在详细描述本教导的一个或多个实施例之前，本领域技术人员将理解的是，本教导不限于它们在以下详细描述中阐述或在附图中图示的构造的细节、部件的布置和步骤的布置中的应用。此外，要理解的是，本文使用的措辞和术语是出于描述的目的，而不应被视为限制性的。

具体实施方式

计算机实现的系统

图2是图示计算机系统200的框图，本教导的实施例可以在其上实施。计算机系统200包括用于传递信息的总线202或其他通信机制，以及与总线202耦合的用于处理信息的处理器204。计算机系统200还包括存储器206，该存储器206可以是随机存取存储器(RAM)或其他动态存储设备，耦合到总线202用于存储要由处理器204执行的指令。存储器206也可以用于存储临时变量或在执行要由处理器204执行的指令期间的其他中间信息。计算机系统200还包括耦合到总线202的只读存储器(ROM)208或其他静态存储设备，用于存储用于处理器204的指令和静态信息。提供了诸如磁盘或光盘之类的存储设备210并耦合到总线202用于存储信息和指令。

计算机系统200可以经由总线202耦合到诸如阴极射线管(CRT)或液晶显示器(LCD)之类的显示器212，用于向计算机用户显示信息。包括字母数字键和其他键的输入设备214耦合到总线202，用于将信息和命令选择传递到处理器204。另一种类型的用户输入设备是诸如鼠标、轨迹球或光标方向键之类的光标控制器216，用于将方向信息和命令选择传递给处理器204和用于控制显示器212上的光标移动。这种输入设备通常具有两个轴上的两个自由度，即第一轴(即x)和第二轴(即y)，其允许设备指定平面中的位置。

计算机系统200可以执行本教导。与本教导的某些实施方式一致，通过计算机系统200响应于处理器204执行包含在存储器206中的一个或多个指令的一个或多个序列来提供结果。这种指令可以从诸如存储设备210之类的另一计算机可读介质读入存储器206中。存储器206中包含的指令序列的执行引起处理器204执行本文描述的过程。或者，可以使用硬连线电路系统代替软件指令或与软件指令组合来实施本教导。因此，本教导的实现不限于硬件电路系统和软件的任何特定组合。

在各种实施例中，计算机系统200可以跨网络连接到像计算机系统200的一个或多个其他计算机系统，以形成联网系统。网络可以包括专用网络或诸如互联网之类的公共网络。在联网系统中，一个或多个计算机系统可以存储数据并向其他计算机系统提供数据。在云计算场景中，存储数据和提供数据的一个或多个计算机系统可以被称为服务器或云。例如，一个或多个计算机系统可以包括一个或多个网络服务器。例如，向服务器或云发送数据和从服务器或云接收数据的其他计算机系统可以被称为客户端或云设备。

如本文使用的术语“计算机可读介质”指的是参与向处理器204提供指令以供执行的任何介质。这种介质可以采取许多形式，包括但不限于非易失性介质、易失性介质和传输介质。非易失性介质包括例如光盘或磁盘，诸如存储设备210。易失性介质包括动态存储器，诸如存储器206。传输介质包括同轴线缆、铜线和光纤，包括构成总线202的线。

计算机可读介质或计算机程序产品的常见形式包括例如软磁盘、软盘、硬盘、磁带或任何其他磁性介质，CD-ROM、数字视频盘(DVD)、蓝光盘、任何其他光学介质，拇指驱动器、存储卡、RAM、PROM和EPROM、FLASH-EPROM、任何其他存储芯片或盒式磁带，或计算机可以从中读取的任何其他有形介质。

各种形式的计算机可读介质可以涉及将一个或多个指令的一个或多个序列传送到处理器204以供执行。例如，指令最初可能被携带在远程计算机的磁盘上。远程计算机可以将指令加载到其动态存储器中，并使用调制解调器通过电话线发送指令。计算机系统200本地的调制解调器可以接收电话线上的数据并使用红外发射器以将数据转换成红外信号。耦合到总线202的红外检测器可以接收红外信号中携带的数据并将数据放置在总线202上。总线202将数据携带到存储器206，处理器204从该存储器206中取回并执行指令。由存储器206接收的指令可以可选地在由处理器204执行之前或之后被存储在存储设备210上。

根据各种实施例，被配置为由处理器执行以执行方法的指令被存储在计算机可读介质上。计算机可读介质可以是存储数字信息的设备。例如，计算机可读介质包括本领域已知的用于存储软件的光盘只读存储器(CD-ROM)。计算机可读介质由适合于执行被配置为要执行的指令的处理器访问。

为了说明和描述的目的，已呈现了本教导的各种实施方式的以下描述。其不是穷举的并且不将本教导限制为所公开的精确形式。根据以上教导，修改和变化是可能的，或者可以从本教导的实践中获得。此外，所描述的实现包括软件，但是本教导可以实现为硬件和软件的组合或单独的硬件。本教导既可以用面向对象的编程系统也可以用非面向对象的编程系统来实现。

用于时间对齐的可识别声学喷射

如上所述，当前在AEMS系统中，ADE设备包括指定喷射每个孔的每个样品的时间的时间文件。在MS分析之后，将随时间检测的峰与时间文件的时间对齐。

图3是示出了将检测的峰与来自ADE设备时间文件的喷射时间正确对齐的示例性绘图300。在绘图300中，例如，强度关于时间的峰311、312、313、314和315分别与由箭头321、322、323、324和325所描绘的喷射时间正确地对齐。

然而，如果缺少一些峰，尤其是第一个或前多个峰，则这种对齐可能会被混淆。

图4是显示了由质谱仪随时间检测的来自由ADE设备和OPI依次提供给质谱仪的四个不同样品的分析物的三个峰的示例性绘图400。在绘图400中，由质谱仪检测由ADE设备喷射到OPI中的三个不同样品的强度关于时间的峰412、413和414。在时间411处，丢失了第四个样品的峰，这是ADE设备尝试喷射到OPI中的第一个样品。

箭头421、422、423和424显示了四个不同样品的相对于时间的峰412、413和414的喷射时间。换言之，箭头421、422、423和424的相对于时间的峰412、413和414的位置显示了通过ADE设备的样品喷射和通过质谱仪的样品分析之间的时间延迟。绘图400显示，由于样品喷射和分析之间的时间延迟，箭头421、422、423和424必须与峰412、413和414对齐，以便确定对应于每个峰的样品。例如，由箭头421、422、423和424描绘的喷射时间被ADE设备存储在时间文件中。

图5是示出图4中检测的峰的数量和喷射时间的数量的不匹配如何导致四次不同的样品喷射与图4的三个峰的不同对齐的示例性绘图500。在对齐510中，由箭头422、423和424描绘的喷射时间分别与峰412、413和414对齐。然而，在对齐520中，由箭头421、422和423描绘的喷射时间分别与峰412、413和414对齐。两种对齐都是可能的。

作为结果，绘图500显示了对应于峰412、413和414的样品确定被时间411处的缺失峰混淆。换言之，时间411处的缺失峰使得难以确定峰412、413和414的标识，从而可能导致四个样品和这四个样品之后的所有样品的不正确结果。

图6是示出了由于缺失峰和低强度峰而导致检测的峰与喷射时间不对齐的示例性绘图600。在绘图600中，在时间610处存在缺失峰，以及在时间620处存在相对于检测的其他峰的低强度峰。作为结果，由箭头630表示的喷射时间的对齐偏离或偏移了两个样品或孔。因此，由于未对齐，所有24个孔报告的数据都是不正确的。

图4、图5和图6显示了需要额外的AEMS系统和方法来将ADE设备的喷射时间与由质谱仪随时间检测的峰对齐，以确保缺失峰不在收集的数据中产生错误。

在各种实施例中，在具有许多样品喷射的实验期间，ADE设备被操作为针对一个或多个样品执行一次或多次可识别喷射的序列，这些喷射与对所有其他样品执行的喷射相比是可识别的。执行可识别喷射以便产生由质谱仪检测的一个或多个峰，这一个或多个峰与检测的所有其他峰相比是可识别的。一个或多个可识别喷射的序列可以基于由ADE执行的喷射的许多不同特征而与后续的分析喷射序列区分开来。

通过将ADE设备的可识别喷射的时间与质谱仪的可识别的一个或多个峰的时间对齐，所有其他喷射时间和检测的峰继而正确对齐。本领域普通技术人员可以理解的是，使用与设备或结构相关的术语“被操作”或“操作”等效于使用术语“适于”或意味着描述设备或结构的功能用途的任何其他术语。

在各种实施例中，可识别的序列包括可以用于关联分析序列的时间的时间信息。在这些实施例中，可以在样品喷射过程期间的任何时间执行可识别喷射。换言之，可以在样品喷射过程的开始、中间或结束时针对一个或多个样品执行可识别喷射。如果在数据采集之后执行对齐，那么何时执行可识别喷射并不重要。例如，如果对最后的样品执行可识别喷射，那么，如果最后的样品对齐了，则所有其他样品将正确对齐。

然而，在各种其他实施例中，针对第一个或前多个样品执行可识别喷射。针对第一个或前多个样品执行可识别喷射的优点之一是能够实时使用延迟信息。例如，如果针对第一个或前多个样品执行可识别喷射，则由OPI产生的延迟时间是立即已知的，并且可以被质谱仪用于剩余的样品。

在各种实施例中，针对第一个或前多个样品执行可识别喷射，并且质谱仪使用通过将一个或多个检测的峰与可识别喷射对齐而找到的延迟时间来实时修改所有后续样品的靶向采集方法。如上所述，在诸如预排MRM之类的一些靶向采集方法中，为每个转变提供保留时间或保留时间范围。只有在该保留时间或该保留时间范围内，才将询问该特定转变。由于OPI的延迟时间的可变性，例如在AEMS中使用的预排MRM转变的保留时间或保留时间范围可能需要实时更改。通过对第一个或前多个样品使用可识别喷射，可以找到确切的延迟时间。然后可以将该延迟时间反馈回质谱仪，以用于校正后续的预排MRM转变的保留时间或保留范围。因此，可以基于从检测的可识别序列产生的信息来调整质谱仪的一个或多个操作参数。

如上所述，与其他喷射相比，可以使用一个或多个ADE参数的不同值或值模式来创建可识别喷射。一个或多个ADE参数可以包括但不限于喷射时间段、喷射率和液滴体积中的一项或多项。

例如以及在各种实施例中，最简单的可识别喷射是通过使用比用于任何其他样品的喷射时间段更宽或更窄的单个样品的喷射时间段来产生的。在各种替代实施例中，可以通过使用喷射时间段的可识别模式喷射单个样品来产生可识别喷射。此外，喷射时间段的可识别模式也可以跨两个或更多个样品应用。喷射时间段的可识别模式还可以包括期间没有发生喷射的时间段的空白区。

图7是示出了根据各种实施例的可以如何通过改变ADE设备的喷射时间段来改变由质谱仪检测的峰的示例性绘图700。在绘图700中，峰710表示单个液滴的喷射。峰720表示在五秒的时间段内每秒10个液滴的喷射。峰730表示在30秒的时间段内每秒10个液滴的喷射。峰740表示在一分钟的时间段内每秒10个液滴的喷射。

在绘图700中，通过改变在其中执行足够高的液滴速率的时间段来创建可识别的检测峰宽度。足够高的液滴速率是比单个液滴的基线宽度更快的液滴速率，以便创建单个更宽的检测的峰。换言之，绘图700显示可以通过改变喷射时间段来改变检测的峰的宽度。

峰710和720的比较还显示可以通过改变喷射时间段来影响峰强度和峰宽度两者。例如，峰710和720的比较显示增加喷射时间段可以增加检测的峰强度。峰710、720、730和740的比较显示增加喷射时间段也可以增加检测的峰宽度。

在替代实施例中，也可以通过改变液滴体积来改变峰强度和峰宽度。然而，不幸的是，在当前系统中，可以改变的液滴的体积范围比可以喷射液滴的时间段要有限得多。

绘图700显示，针对来自单个孔的样品应用可识别喷射可以产生具有可识别的检测峰的检测峰。例如，峰730的喷射时间段可以用于一个样品，而峰720的喷射时间段可以用于所有其他峰。换言之，单个可识别的峰或峰宽度可以用于将喷射时间与检测的峰对齐。

在各种替代实施例中，两个或更多个喷射时间段的可识别模式用于产生检测的峰的可识别模式或编码。在各种实施例中，可识别模式可以从单个样品产生。在各种替代实施例中，可识别模式可以从两个或更多个样品产生。

在各种实施例中，可识别模式可以是一个或多个样品板的条码。通过将特定的条码信号施加到来自特定样品板的数据中，可以增强数据的板可追溯性。这种方法可以提供增强的数据安全性以及还有对临床结果的增强的信心。例如，这样的方案对于被高度监管的市场是重要的。

在一些实施例中，可识别模式可以包括识别该喷射序列的信息的独特模式。在一些实施例中，可识别模式可以包括能够与分析喷射序列区分开的可重复模式。在一些方面，可识别模式可以被重复，例如在样品孔板的每一行的开始处，或框定分析序列的开始和结束。在一些方面，可识别模式可以在整个分析序列中被重复一次或多次，以确保时间已被保持并且已为质量分析捕获了预期数量的分析样品。

在各种实施例中，可识别模式可以包括信息。例如，可识别模式可以是要从板中分析的样品数量的编码。

同样，可以针对所分析的全部数量的样品中的任何样品或任何样品组产生可识别模式。在一个实施例中，出于上述原因以及至少出于以下原因，针对第一个样品或前两个或更多个样品产生可识别模式。

例如，针对第一个样品引入喷射时间段的可识别模式确保了这第一个样品的检测是鲁棒的。声学样品喷射的可识别模式和第一个样品的喷射之间的区间类似于暗条和白条的条码模式。一旦从可识别模式中鲁棒地识别出第一个样品，就可以通过知道声学设备何时喷射这些样品来容易地完成对来自后续样品的检测的峰的处理。如果第一个样品的检测(使用条码模式)失败，则立即知道该板有问题，并且可以停止处理剩余的样品，从而节省资源和防止产生不准确的信息。这个条码模式可以成为是可识别的并且对于单个失效事件也是鲁棒的。

图8是根据各种实施例的理想化的检测的峰的示例性绘图800，包括峰和跟随有剩余样品峰的空白区的第一可识别模式。在绘图800中，第一个样品的可识别模式或条码包括第一个样品之前的空白区811、第一个样品的可识别的检测的峰条码812以及第一个样品和其余样品之间的空白区813。剩余样品820不包括第一个样品的可识别模式或条码。

注意，暗区或峰是通过声学地喷射样品产生的。还注意，可以使用诸如喷射率、喷射时间段和液滴体积之类的声学参数来改变峰的宽度和高度。例如，可识别的空白区是通过在声学喷射事件之间留下比正常间隙更长的间隙来创建的。

在各种实施例中，条码模式不需要干扰正常的数据处理。条码数据可以被存储在原始数据文件中，且从不向用户显示。然后，用户只看到分离的数据或处理的数据(数字表(table of numbers))。

同样，在各种实施例中，条码模式可以被放置在所读取的板内的其他位置处，以确保数据对齐。此外，在各种实施例中，可识别条码可以用在多于一个地方。例如，可以在第一个孔上使用可识别条码，以及可以在板序列中的最后的孔上使用另一可识别条码作为“书尾(bookending)”，以确保整个板内的对齐。在各种实施例中，这两个可识别条码可以是相同的条码。

在各种实施例中，条码不必须应用于所分析的第一个孔。如果用户运行标准曲线，具有高信号的孔通常在具有较低信号的孔之后运行。作为结果，条码可以应用于具有好的信号的孔。只要知道哪个孔用作条码标记孔，就可以对板的样品进行对齐，或者可以确定对齐是不成功的。

图9是示出根据各种实施例的用于识别检测的峰的可识别模式或条码的模板的示例性绘图900。如果条码模式应用于第一个样品，则其中条码模式将出现的时间范围是已知的。基于流速和传输时间的预期可变性，该时间范围或窗口例如在喷射时间之后的两到12秒之间。

在这个时间范围期间，应用模板来定位可识别的条码模式。模板包括阴影区域A、B、C和D。模板是使用与MS数据相同的循环时间生成的。注意，对于其中循环时间变化的预排MRM或飞行时间(TOF)质量分析器，将需要修改这种使用模板的技术以考虑变化的循环时间。

该方法开始于跨由质谱仪检测的每个数据点移动模板，并计算A的最小强度和区域C和D中的每个区域的最大强度。如果区域A的强度大于区域B的强度，区域A的强度大于区域C的强度，区域B的强度大于区域D的强度，以及区域C的强度大于区域D的强度，则已检测到可能的条码模式。

如果已检测到可能的条码模式，则测量峰A、B和C的宽度。A的宽度必须大于B的宽度且大于C的宽度。如果满足这个条件，则验证了条码模式。

注意，使用模板只是识别可识别模式的一种方法。其他方法包括但不限于具有宽度和高度测量的真峰检测。

在各种实施例中，可以存在多于一个条码模式。如果找到两个条码模式，则测量它们之间的距离。这个距离必须与ADE设备的时间文件中记录的条码喷射之间的时间匹配。此外，在第一个条码模式之前或最后的条码模式之后，不应找到强度高于两个条码模式中的最低强度的检测的峰。如果两个条码模式满足这些附加条件，则也验证了条码模式。

图10是示出了根据各种实施例的相对于使用图9的模板的剩余样品的检测的峰、两个样品的两个检测的峰条码模式的位置的示例性绘图1000。在绘图1000中，框1010标记了第一个条码模式的位置，以及框1020标记了第二个条码模式的位置。然而，由于条码模式的检测的峰的强度远低于其他样品的检测的峰的强度，因此在绘图1000中不能看到两个检测的条码模式。

图11是示出了根据各种实施例的与图10中相同的数据但关于较低强度范围绘制的示例性绘图1100，以便看到图10的两个条码模式。在绘图1100中，还是框1010标记第一个条码模式的位置，以及框1020标记第二个条码模式的位置。然而，现在可以看到这些条码模式的检测的峰。例如，峰1111、1112和1113提供第一个条码模式的暗区，以及峰1121、1122和1123提供最后的条码模式的暗区。注意，这些条码模式与图8和图9中所示的相同。

用于将样品与检测的峰对齐的系统

图12是根据各种实施例的用于将样品与AEMS中检测的峰对齐的系统的示意图1200。图12的系统包括ADE设备1210、OPI 1220、离子源设备1230、质谱仪1240和处理器1250。

ADE设备1210使用与针对一系列样品1211中的其他样品执行的其他喷射不同的一个或多个ADE参数的值或值模式来执行针对一系列样品1211中的一个或多个样品的可识别喷射。ADE设备1210执行可识别喷射以产生一个或多个质量峰，该一个或多个质量峰具有一个或多个峰特征的与针对其他样品产生的质量峰不同的特征值或特征值模式。ADE设备1210存储样品喷射时间1212。ADE设备1210可以是例如图1A的ADE设备11。

返回图12，OPI 1220在管1222的入口1221处接收可识别喷射和其他喷射。OPI1220将接收的喷射与管1222中的溶剂混合以形成一系列分析物-溶剂稀释液。OPI 1220将该系列稀释液传送到管1222的出口1223。OPI 1220可以是例如图1A的OPI 51。

返回图12，离子源设备1230接收该系列稀释液并电离该系列稀释液，从而产生离子束。例如，离子源设备1230可以是电喷雾离子源(ESI)设备。离子源设备1230在图12中被示为质谱仪1240的一部分，但也可以是单独的设备。

质谱仪1240接收离子束并随时间对离子束进行质量分析，从而产生一系列检测的强度关于时间的质量峰1241。质谱仪1240可以执行MS或MS/MS。质谱仪1240可以是任何类型的质谱仪。质谱仪1240被示为包括飞行时间(TOF)质量分析器，但是质谱仪1240可以包括任何类型的质量分析器。

处理器1250接收一系列峰1241中的峰和存储的样品喷射的时间1212。处理器1250将接收的一系列峰1241中的具有不同特征值或特征值模式的一个或多个检测的峰识别为对应于可识别喷射或由可识别喷射产生。处理器1250根据可识别喷射的时间和所识别的一个或多个检测的峰1251的时间来计算延迟时间1252。最后，处理器1250使用延迟时间1252、存储的时间1212和一系列样品1211的顺序将一系列检测的峰1241与一系列样品1211对齐。

在各种实施例中，处理器1250根据可识别喷射的时间与所识别的一个或多个检测的峰1251的时间之间的差来计算延迟时间1252。在各种其他实施例中，处理器1250通过将可识别喷射的时间偏移直到其与所识别的一个或多个检测的峰1251的时间匹配来计算延迟时间1252。

在各种实施例中，一个或多个ADE参数可以包括喷射时间段、喷射率和液滴体积中的一项或多项。换言之，ADE设备1210使用喷射时间段、喷射率和液滴体积中的一项或多项的不同值或值模式来针对一系列样品1211中的一个或多个样品执行可识别喷射。

在各种实施例中，一个或多个峰特征可以包括峰宽度、峰强度和到相邻峰的时间距离中的一项或多项。换言之，ADE设备1210针对一系列样品1211中的一个或多个样品执行可识别喷射，以产生一个或多个质量峰，该一个或多个质量峰具有峰宽度、峰强度以及到相邻峰的时间距离中的一项或多项的不同的特征值或特征值模式。

在各种实施例中，特征值的不同模式可以包括条码。换言之，图12中所识别的一个或多个检测的峰1251的不同特征值模式可以是像图8中的条码的条码，该条码包括在第一个样品之前的空白区811、第一个样品的可识别的检测的峰条码812、以及在第一个样品和其余样品之间的空白区813。

返回图12，在各种实施例中，条码可以包括保持一系列样品1211的板的条码。

在各种实施例中，条码可以包括编码信息。例如，编码信息可以包括一系列样品1211中的样品的数量或计数。

在各种实施例中，一个或多个样品可以包括一系列样品1211中的第一个或前多个样品。换言之，ADE设备1210针对一系列样品1211中的第一个或前多个样品执行可识别喷射。

在各种实施例中，一个或多个样品可以包括一系列样品中的除了一系列样品1211中的第一个或前多个样品之外的一个或多个样品。换言之，ADE设备1210针对一系列样品1211中的不是第一个或前多个样品的一个或多个样品执行可识别喷射。

在各种实施例中，处理器1250在由质谱仪1240获取所有峰之后接收一系列峰1241中的峰和存储的样品喷射的时间1212。作为结果，处理器1250在后处理步骤中分析一系列峰1241。

在各种实施例中，处理器1250在接收到每个峰时实时分析一系列峰1241。如果ADE设备1210针对一系列样品1211中的第一个或前多个样品执行可识别喷射，处理器可以实时计算延迟时间1252并将其作为反馈提供给质谱仪1240。质谱仪1240然后可以使用延迟时间1252来校正或改进实验参数。

例如，处理器1250进一步在由质谱仪1240检测接收的峰时实时接收一系列峰1241中的峰。处理器1250在执行样品喷射和存储喷射时间时实时接收存储的样品喷射的时间1212。处理器1250将接收的峰中的具有不同特征值或特征值模式的一个或多个检测的峰实时识别为对应于可识别喷射或由可识别喷射产生。处理器1250根据可识别喷射的时间和所识别的一个或多个检测的峰1251的时间来实时计算延迟时间1252。处理器1250指示质谱仪1240使用延迟时间1252重新计算质量分析的一个或多个实验参数的值。

在各种实施例中，一个或多个实验参数可以包括预排质量分析(预排MRM)的保留时间或碰撞能量。例如，延迟时间1252可以用于重新计算预排MRM实验的一个或多个转变的保留时间。

在各种实施例中，当ADE设备1210针对一系列样品1211中的第一个或前多个样品执行可识别喷射时，它还可以针对一系列样品1211中的最后一个或后几个样品执行附加的一组可识别喷射。这提供了标记来界定一系列样品1211的开始和结束。

例如，ADE设备1210还针对一系列样品1211中的最后一个或后几个样品执行附加的一组可识别喷射。处理器1250然后进一步将具有不同特征值或特征值模式的附加组的一个或多个检测的峰识别为对应于附加的一组可识别喷射或由附加的一组可识别喷射产生。处理器1250进一步使用附加组的一个或多个检测的峰的时间来识别一系列样品1211的结束。

在各种实施例中，处理器1250使用不同特征值模式的模板来识别接收的峰1241中的具有不同特征值模式的一个或多个检测的峰。例如，用于识别检测的峰的可识别模式或条码的模板如图9中所示。

在各种实施例中，处理器1250用于向ADE设备1210、OPI 1220、离子源设备1230和质谱仪1240发送指令、控制信号和数据以及从ADE设备1210、OPI 1220、离子源设备1230和质谱仪1240接收指令、控制信号和数据。处理器1250通过以下方式控制或提供指令，例如，控制一个或多个电压、电流或压力源(未显示)。处理器1250可以是如图12中所示的单独的设备，或者可以是ADE设备1210、OPI 1220、离子源设备1230或质谱仪1240的处理器或控制器。处理器1250可以是但不限于控制器、计算机、微处理器、图2的计算机系统，或能够发送和接收控制信号和数据并分析数据的任何设备。

用于将样品与检测的峰对齐的方法

图13是示出根据各种实施例的用于将样品与AEMS中检测的峰对齐的方法1300的流程图。

在方法1300的步骤1310中，使用ADE设备针对一系列样品中的一个或多个样品执行可识别喷射，其使用一个或多个ADE参数的与针对一系列样品中的其他样品执行的其他喷射不同的值或值模式。执行可识别喷射以产生一个或多个质量峰，该一个或多个质量峰具有一个或多个峰特征的与针对其他样品产生的质量峰不同的特征值或特征值模式。使用ADE设备来存储样品喷射时间。

在步骤1320中，使用OPI在管的入口处接收可识别喷射和其他喷射。使用OPI将接收的喷射与管中的溶剂混合以形成一系列分析物-溶剂稀释液。最终，使用OPI将该系列稀释液传送到管的出口。

在步骤1330中，使用离子源设备接收该系列稀释液并电离该系列稀释液，从而产生离子束。

在步骤1340中，使用质谱仪接收离子束并随时间对离子束进行质量分析，从而产生一系列检测的强度关于时间的质量峰。

在步骤1350中，使用处理器接收一系列峰中的峰和存储的样品喷射时间。

在步骤1360中，使用处理器将接收的峰中的具有不同特征值或特征值模式的一个或多个检测的峰识别为由可识别喷射产生。

在步骤1370中，使用处理器根据可识别喷射的时间和所识别的一个或多个检测的峰的时间来计算延迟时间。

在步骤1380中，使用处理器使用延迟时间、存储的时间和该系列样品的顺序，将该系列检测的峰与该系列样品对齐。

用于将样品与检测的峰对齐的计算机程序产品

在各种实施例中，计算机程序产品包括有形的计算机可读存储介质，其内容包括具有指令的程序，该指令在处理器上执行以便执行用于将样品与AEMS中检测的峰对齐的方法。这个方法由包括一个或多个不同软件模块的系统执行。

图14是根据各种实施例的包括一个或多个不同软件模块的系统1400的示意图，该系统1400执行用于将样品与AEMS中检测到的峰对齐的方法。系统1400包括控制模块1410和分析模块1420。

控制模块1410指示ADE设备针对一系列样品中的一个或多个样品执行可识别喷射，其使用与针对一系列样品中的其他样品执行的其他喷射不同的一个或多个ADE参数的值或值模式。执行可识别喷射以产生一个或多个质量峰，该一个或多个质量峰具有与针对其他样品产生的质量峰不同的一个或多个峰特征的特征值或特征值模式。控制模块1410还指示ADE设备存储样品喷射时间。

控制模块1410指示OPI在管的入口处接收可识别喷射和其他喷射。控制模块1410指示OPI将接收到的喷射与管中的溶剂混合以形成一系列分析物-溶剂稀释液。最终，控制模块1410指示OPI将该系列稀释液传送到管的出口。

控制模块1410指示离子源设备接收该系列稀释液并电离该系列稀释液，从而产生离子束。控制模块1410指示质谱仪接收离子束并随时间对离子束进行质量分析，从而产生一系列检测到的强度关于时间的质量峰。

分析模块1420接收一系列峰中的峰和存储的样品喷射时间。分析模块1420将接收到的峰中的具有不同特征值或特征值模式的一个或多个检测到的峰识别为对应于可识别喷射或由可识别喷射产生。分析模块1420根据可识别喷射的时间和所识别的一个或多个检测到的峰的时间来计算延迟时间。最终，分析模块1420使用延迟时间、存储的时间和该系列样品的顺序将该系列检测到的峰与该系列样品对齐。

进一步地，在描述各种实施例时，说明书可能已将方法和/或过程呈现为具体的步骤序列。然而，在该方法或过程不依赖于本文所述的具体步骤顺序的程度上，该方法或过程不应限于所描述的具体步骤顺序。如本领域普通技术人员将理解的，其他步骤序列可以是可能的。因此，说明书中阐述的步骤的具体顺序不应被解释为对权利要求的限制。此外，涉及该方法和/或过程的权利要求不应限于按所写顺序执行其步骤，并且本领域技术人员可以容易地理解，顺序可以被改变并且仍然保持在各种实施例的精神和范围内。

Claims (32)

1.一种用于识别待分析的一个或多个分析样品的分析序列中的第一个样品的系统，包括：

声学液滴喷射设备ADE，所述ADE能操作为喷射来自一个或多个样品孔中的样品；

开放端口接口，所述开放端口接口能操作为接收喷射的样品并将接收的样品传送到质量分析器；和，

质量分析器，所述质量分析器能操作为对样品执行质量分析以产生代表性质量峰；和，

控制器，所述控制器包括至少处理器，所述控制器能操作为在启动针对所述一个或多个分析样品的分析序列的喷射之前引导所述ADE喷射来自样品孔的可识别的一次或多次喷射的序列。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述开放端口接口还能操作为将接收的样品与溶剂混合并将稀释的样品传送到所述质量分析器。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中，所述可识别的一次或多次喷射的序列是通过改变所述ADE的一个或多个ADE参数产生的。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的系统，其中，可识别的序列能与后续的所述分析序列的喷射区分开。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的系统，其中，可识别的序列还包括用于指示所述分析序列的开始时间的时间信息。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的系统，其中，所述质量分析器能操作为产生一系列检测的强度关于时间的质量峰，并且其中所述控制器还能操作为：

接收与可识别的序列和所述分析序列对应的一系列峰；

将接收的峰中的一个或多个检测的峰识别为对应于所述可识别的序列；

根据所述一个或多个检测的峰生成时间信息以指示所述分析序列的开始时间；和，

使用所述开始时间将分析的峰系列与样品的所述分析序列对齐。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的系统，其中，所述一个或多个ADE参数包括喷射时间段、喷射率和液滴体积中的一项或多项。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的系统，其中，可识别的序列能基于一个或多个峰特征被识别。

9.根据权利要求8所述的系统，其中，峰特征包括峰宽度、峰强度和到相邻峰的时间距离中的一项或多项。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的系统，其中，可识别的序列能基于不同的特征值模式被识别。

11.根据权利要求10所述的系统，其中，不同的模式包括条码。

12.根据权利要求11所述的系统，其中，所述条码包括保持一系列样品的板的条码。

13.根据权利要求11或权利要求12所述的系统，其中，所述条码包括编码信息。

14.根据权利要求13所述的系统，其中，所述编码信息包括所述分析序列中的样品的计数。

15.根据权利要求1所述的系统，其中，所述控制器还进行如下操作：

当由质谱仪检测到接收的峰时，实时接收一系列峰中的峰，并在执行样品喷射时接收来自ADE的样品喷射的时间，

实时识别可识别的序列，

根据所述可识别的序列的时间和所述分析序列的时间计算延迟时间，以及

指示所述质量分析器基于计算的延迟时间对所述分析序列进行质量分析。

16.根据权利要求15所述的系统，其中指令包括基于所述延迟时间重新计算所述质量分析的一个或多个实验参数的值。

17.根据权利要求16所述的系统，其中所述一个或多个实验参数包括保留时间或碰撞能量。

18.一种用于将样品与声学喷射质谱AEMS中检测的峰对齐的系统，包括：

声学液滴喷射ADE设备，所述ADE设备使用一个或多个ADE参数的与针对一系列样品中的其他样品执行的其他喷射不同的值或值模式来针对所述一系列样品中的一个或多个样品执行可识别喷射，以产生具有一个或多个峰特征的与针对其他样品产生的质量峰不同的特征值或特征值模式的一个或多个质量峰，并存储样品喷射时间；

开放端口接口，所述开放端口接口在管的入口处接收所述可识别喷射和所述其他喷射，将接收的喷射与所述管中的溶剂混合以形成一系列分析物-溶剂稀释液，并将一系列稀释液传递到所述管的出口；

离子源设备，所述离子源设备接收所述一系列稀释液并电离所述一系列稀释液，从而产生离子束；

质谱仪，所述质谱仪接收所述离子束并随时间对所述离子束进行质量分析，从而产生一系列检测的强度关于时间的质量峰；和

处理器，所述处理器执行如下操作：

接收一系列峰中的峰和存储的样品喷射时间，

识别接收的峰中的由可识别喷射产生的具有不同特征值或特征值模式的一个或多个检测的峰，

根据所述可识别喷射的时间和识别的一个或多个检测的峰的时间计算延迟时间，和

使用延迟时间、存储的时间和所述一系列样品的顺序，将一系列检测的峰与所述一系列样品对齐。

19.根据权利要求18所述的系统，其中，所述一个或多个ADE参数包括喷射时间段、喷射率和液滴体积中的一项或多项。

20.根据权利要求18或19所述的系统，其中，所述一个或多个峰特征包括峰宽度、峰强度和到相邻峰的时间距离中的一项或多项。

21.根据权利要求18至20中任一项所述的系统，其中，不同的特征值模式包括条码。

22.根据权利要求21所述的系统，其中，所述条码包括保持所述一系列样品的板的条码。

23.根据权利要求21所述的系统，其中，所述条码包括编码信息。

24.根据权利要求23所述的系统，其中，所述编码信息包括所述一系列样品中的样品的计数。

25.根据权利要求18至24中任一项所述的系统，其中，所述一个或多个样品包括所述一系列样品中的第一个样品或前多个样品。

26.根据权利要求18至24中任一项所述的系统，其中，所述一个或多个样品包括所述一系列样品中的除了所述一系列样品中的第一个或前多个样品之外的一个或多个样品。

27.根据权利要求18至26中任一项所述的系统，其中，所述处理器还进行如下操作：

在由所述质谱仪检测接收的峰时，实时接收所述一系列峰中的峰，并在执行样品喷射和存储喷射时间时实时接收存储的样品喷射时间，

实时识别接收的峰中的由所述可识别喷射产生的具有不同特征值或特征值模式的一个或多个检测的峰，

实时根据所述可识别喷射的时间和所述一个或多个检测的峰的时间计算延迟时间，和

指示所述质谱仪使用所述延迟时间重新计算所述质量分析的一个或多个实验参数的值。

28.根据权利要求27所述的系统，其中所述一个或多个实验参数包括保留时间或碰撞能量。

29.根据权利要求18至28中任一项所述的系统，

其中，所述ADE设备还针对所述一系列样品中的最后一个或后多个样品执行额外的一组可识别喷射，

其中所述处理器还识别由所述额外的一组可识别喷射产生的具有不同特征值或特征值模式的额外的一组一个或多个检测的峰，和

其中，所述处理器还使用所述额外的一组一个或多个检测的峰的时间来识别所述一系列样品的结束。

30.根据权利要求18至29中任一项所述的系统，其中，所述处理器使用不同特征值模式的模板来识别接收的峰中的具有所述不同特征值模式的一个或多个检测的峰。

31.一种用于将样品与声学喷射质谱AEMS中检测的峰对齐的方法，包括：

使用声学液滴喷射ADE设备来使用一个或多个ADE参数的与针对一系列样品中的其他样品执行的其他喷射不同的值或值模式来针对所述一系列样品中的一个或多个样品执行可识别喷射，以产生具有一个或多个峰特征的与针对其他样品产生的质量峰不同的特征值或特征值模式的一个或多个质量峰，并存储样品喷射时间；

使用开放端口接口在管的入口处接收所述可识别喷射和所述其他喷射，将接收到的喷射与所述管中的溶剂混合以形成一系列分析物-溶剂稀释液，并将一系列稀释液传送到所述管的出口；

使用离子源设备接收所述一系列稀释液并电离所述一系列稀释液，从而产生离子束；

使用质谱仪接收所述离子束并随时间对所述离子束进行质量分析，从而产生一系列检测的强度关于时间的质量峰；

使用处理器接收一系列峰中的峰和存储的样品喷射时间；

使用所述处理器识别所接收的峰中的由所述可识别喷射产生的具有不同特征值或特征值模式的一个或多个检测的峰；

使用所述处理器根据所述可识别喷射的时间和所识别的一个或多个检测的峰的时间来计算延迟时间；和

使用所述处理器来使用所述延迟时间、存储的时间和所述一系列样品的顺序，将一系列检测的峰与所述一系列样品对齐。

32.一种计算机程序产品，包括非暂时性且有形的计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质的内容包括具有指令的程序，所述指令在处理器上被执行以便执行用于将样品与声学喷射质谱AEMS中检测的峰对齐的方法，所述方法包括：

提供系统，其中所述系统包括一个或多个不同的软件模块，并且其中不同的软件模块包括控制模块和分析模块；

使用所述控制模块指示声学液滴喷射ADE设备使用一个或多个ADE参数的与针对一系列样品中的其他样品执行其他喷射不同的值或值模式来针对所述一系列样品中的一个或多个样品执行可识别喷射，以产生具有一个或多个峰特征的与针对其他样品产生的质量峰不同的特征值或特征值模式的一个或多个质量峰，并存储样品喷射时间；

使用所述控制模块指示开放端口接口在管的入口处接收所述可识别喷射和所述其他喷射，将接收的喷射与所述管中的溶剂混合以形成一系列分析物-溶剂稀释液，并将一系列稀释液传送到所述管的出口；

使用所述控制模块指示离子源设备接收所述一系列稀释液并电离所述一系列稀释液，从而产生离子束；

使用所述控制模块指示质谱仪接收所述离子束并随时间对所述离子束进行质量分析，从而产生一系列检测的强度关于时间的质量峰；

使用所述分析模块接收一系列峰中的峰和存储的样品喷射时间；

使用所述分析模块识别所接收的峰中的由所述可识别喷射产生的具有不同特征值或特征值模式的一个或多个检测的峰；

使用所述分析模块根据所述可识别喷射的时间和所识别的一个或多个检测的峰的时间来计算延迟时间；和

使用所述分析模块来使用所述延迟时间、存储的时间和所述一系列样品的顺序，将一系列检测的峰与所述一系列样品对齐。

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