CN115627449A - 曲面玻璃镀膜工艺 - Google Patents
曲面玻璃镀膜工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115627449A CN115627449A CN202211366630.1A CN202211366630A CN115627449A CN 115627449 A CN115627449 A CN 115627449A CN 202211366630 A CN202211366630 A CN 202211366630A CN 115627449 A CN115627449 A CN 115627449A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pumping chamber
- curved glass
- coating
- chamber
- fine pumping
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 70
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims abstract description 135
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 58
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 29
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 27
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 20
- 239000007888 film coating Substances 0.000 claims description 9
- 238000009501 film coating Methods 0.000 claims description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 6
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 6
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 6
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3492—Variation of parameters during sputtering
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F17/00—Digital computing or data processing equipment or methods, specially adapted for specific functions
- G06F17/10—Complex mathematical operations
- G06F17/18—Complex mathematical operations for evaluating statistical data, e.g. average values, frequency distributions, probability functions, regression analysis
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Data Mining & Analysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Computational Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Mathematical Analysis (AREA)
- Mathematical Optimization (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Pure & Applied Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Probability & Statistics with Applications (AREA)
- Software Systems (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Databases & Information Systems (AREA)
- Algebra (AREA)
- Operations Research (AREA)
- Evolutionary Biology (AREA)
- Bioinformatics & Computational Biology (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明提供了一种曲面玻璃镀膜工艺,执行本发明曲面玻璃镀膜工艺的组件为镀膜机总装,镀膜机总装由依次连接的上片架、前粗抽室、前精抽室、前缓冲精抽室、镀膜室、后缓冲精抽室、后精抽室、后粗抽室、纠偏架、下片架,其中在前粗抽室、前精抽室、前缓冲精抽室、后缓冲精抽室、后精抽室、后粗抽室底部均设置一个真空泵,在镀膜室底部设置有两个真空泵;具体步骤如下:S1:曲面玻璃扫描;S2:后台系统计算;S3:曲面玻璃镀膜;S4:曲面玻璃下片。
Description
技术领域
本发明属于玻璃加工领域,具体涉及一种曲面玻璃镀膜工艺。
背景技术
真空镀膜是指在真空环境下,采用低电压、大电流的电弧放电技术轰击靶材,利用气体放电,使靶材蒸发,蒸发物质与气体都发生电离子作用,利用电场加速,使被蒸发的物质及其反应产生的物质沉积在工件上面,真空镀膜常用于玻璃深加工领域,由于玻璃产品形状繁多,因此对镀膜的工艺要求逐渐提高,现有技术中针对平面玻璃镀膜的工艺较为成熟,对于曲面玻璃,由于部分区域不能与溅射靶材形成垂直状态而导致曲面镀膜层的不均匀。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供了一种曲面玻璃镀膜工艺,具体步骤如下:
S1:曲面玻璃扫描:将待加工的曲面玻璃放置于满载送料盘13,满载送料盘13运行至上片架1,机器人抓取待加工的曲面玻璃放置于上片架1,CCD扫描装置12对待加工的曲面玻璃进行扫描,获取该曲面玻璃的拱高H以及拱长L数据,并将所述数据传输至后台系统;
S2:后台系统计算:后台系统获取预设的镀膜厚度Q,并结合已获取的曲面玻璃的拱高以及拱长数据,计算四组靶材的溅射功率以及镀膜传动速度,并基于计算的溅射功率以及镀膜传动速度预先调试镀膜室5的参数以及传送速度。
S3:曲面玻璃镀膜:打开前粗抽室隔板,将曲面玻璃送入前粗抽室,关闭前粗抽室,通过真空泵对前粗抽室抽真空,达到粗抽真空精度,保持预定时间;打开前精抽室隔板,将曲面玻璃送入前精抽室,关闭前精抽室,通过真空泵对前精抽室抽真空,达到精抽真空精度,保持预定时间;打开前缓冲精抽室隔板,将曲面玻璃送入前缓冲精抽室,通过真空泵对后缓冲精抽室抽真空,进行气体隔离后,保持预定时间,将曲面玻璃送入镀膜室,按照预设的参数依次控制四组靶材的溅射功率以及镀膜传动速度,对曲面玻璃进行镀膜;
打开后缓冲精抽室隔板将完成镀膜的曲面玻璃送入后缓冲精抽室,关闭后缓冲精抽室,通过真空泵对后缓冲精抽室抽真空,进行气体隔离后,保持预定时间;打开后精抽室隔板,将曲面玻璃送入后精抽室,关闭后精抽室,通过真空泵对后精抽室抽真空,达到精抽真空精度,保持预定时间;打开后粗抽室隔板,将曲面玻璃送入后粗抽室,关闭后粗抽室,通过真空泵对后粗抽室抽真空,达到粗抽真空精度,保持预定时间;
S4:曲面玻璃下片:将完成镀膜的曲面玻璃,由后粗抽室输送至纠偏架进行纠偏,完成纠偏后的玻璃进入下片架,空载送料盘14运行至下片架,机器人抓取完成镀膜的曲面玻璃放置于空载送料盘14。
执行本发明曲面玻璃镀膜工艺的组件为镀膜机总装,镀膜机总装由依次连接的上片架、前粗抽室、前精抽室、前缓冲精抽室、镀膜室、后缓冲精抽室、后精抽室、后粗抽室、纠偏架、下片架,其中在前粗抽室、前精抽室、前缓冲精抽室、后缓冲精抽室、后精抽室、后粗抽室底部均设置一个真空泵,在镀膜室底部设置有两个真空泵;上述每个室与其相邻的室之间均设有独立的真空阀以及隔板,用于隔绝腔室之间的真空度。
上片架上设置有CCD扫描装置12,用于扫描待镀膜的曲面玻璃的拱高以及拱长。
该磁射部件共四组设于镀膜室,具体包括镀膜靶材、靶材阴极连接铜板、靶材阳极连接铜板、电机。
优选地,S2步骤中具体计算公式如下:
获取预设镀膜厚度为Q的平板玻璃的所需的四组靶材的溅射功率w以及镀膜传动速度v,对于平板玻璃,四组靶材的溅射功率相同,
将曲面拱长L四等分,获取拱长L/4处的拱高H1以及3L/4处的拱高H2,则位于第一位置的靶材溅射功率W1以及镀膜传动速度V1公式如下:
其中,第一位置为位于侧部最先接触曲面玻璃靶材的位置。
位于第二位置的靶材溅射功率W2以及镀膜传动速度V2公式如下:
其中,第二位置为位于中间部第二接触曲面玻璃靶材的位置。
位于第三位置的靶材溅射功率W3以及镀膜传动速度V3公式如下:
其中,第三位置为位于中间部第三接触曲面玻璃靶材的位置。
位于第四位置的靶材溅射功率W4以及镀膜传动速度V4公式如下:
本发明带来的有益效果:1、曲面产品的镀膜品质更加稳定;2、自调整的镀膜工艺更趋自动化。
附图说明
为了更清楚的说明本发明的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图做简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他附图。
图1为本发明镀膜机总装主视图;
图2为本发明镀膜机总装俯视图;
图3为本发明磁射部件主视图;
图4为本发明磁射部件俯视图。
附图标记说明:上片架1,前粗抽室2,前精抽室3,前缓冲精抽室4,镀膜室5,后缓冲精抽室6,后精抽室7,后粗抽室8,纠偏架9,下片架10,真空泵11,CCD扫描装置12。
具体实施方式
下面结合附图1至附图4对本发明做进一步的详细说明,以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
参见说明书附图1-2,执行本发明曲面玻璃镀膜工艺的组件为镀膜机总装,镀膜机总装由依次连接的上片架1、前粗抽室2、前精抽室3、前缓冲精抽室4、镀膜室5、后缓冲精抽室6、后精抽室7、后粗抽室8、纠偏架9、下片架10,其中在前粗抽室2、前精抽室3、前缓冲精抽室4、后缓冲精抽室6、后精抽室7、后粗抽室8底部均设置一个真空泵11,在镀膜室5底部设置有两个真空泵11;上述每个室与其相邻的室之间均设有独立的真空阀以及隔板,用于隔绝腔室之间的真空度。
上片架1上设置有CCD扫描装置12,用于扫描待镀膜的曲面玻璃的拱高以及拱长。
参见说明书附图3-4为本发明磁射部件,该磁射部件共四组设于镀膜室5,具体包括镀膜靶材5-1、靶材阴极连接铜板5-2、靶材阳极连接铜板5-3、电机5-4。
本发明曲面玻璃镀膜工艺具体步骤如下:
S1:曲面玻璃扫描:将待加工的曲面玻璃放置于满载送料盘13,满载送料盘13运行至上片架1,机器人抓取待加工的曲面玻璃放置于上片架1,CCD扫描装置12对待加工的曲面玻璃进行扫描,获取该曲面玻璃的拱高H以及拱长L数据,并将所述数据传输至后台系统;
S2:后台系统计算:后台系统获取预设的镀膜厚度Q,并结合已获取的曲面玻璃的拱高以及拱长数据,计算四组靶材的溅射功率以及镀膜传动速度,并基于计算的溅射功率以及镀膜传动速度预先调试镀膜室5的参数以及传送速度。
具体计算方式如下:
获取预设镀膜厚度为Q的平板玻璃的所需的四组靶材的溅射功率w以及镀膜传动速度v,对于平板玻璃,四组靶材的溅射功率相同,
将曲面拱长L四等分,获取拱长L/4处的拱高H1以及3L/4处的拱高H2,则位于第一位置的靶材溅射功率W1以及镀膜传动速度V1公式如下:
其中,第一位置为位于侧部最先接触曲面玻璃靶材的位置。
位于第二位置的靶材溅射功率W2以及镀膜传动速度V2公式如下:
其中,第二位置为位于中间部第二接触曲面玻璃靶材的位置。
位于第三位置的靶材溅射功率W3以及镀膜传动速度V3公式如下:
其中,第三位置为位于中间部第三接触曲面玻璃靶材的位置。
位于第四位置的靶材溅射功率W4以及镀膜传动速度V4公式如下:
S3:曲面玻璃镀膜:打开前粗抽室隔板,将曲面玻璃送入前粗抽室,关闭前粗抽室,通过真空泵对前粗抽室抽真空,达到粗抽真空精度,保持预定时间;打开前精抽室隔板,将曲面玻璃送入前精抽室,关闭前精抽室,通过真空泵对前精抽室抽真空,达到精抽真空精度,保持预定时间;打开前缓冲精抽室隔板,将曲面玻璃送入前缓冲精抽室,通过真空泵对后缓冲精抽室抽真空,进行气体隔离后,保持预定时间,将曲面玻璃送入镀膜室,按照预设的参数依次控制四组靶材的溅射功率以及镀膜传动速度,对曲面玻璃进行镀膜;
打开后缓冲精抽室隔板将完成镀膜的曲面玻璃送入后缓冲精抽室,关闭后缓冲精抽室,通过真空泵对后缓冲精抽室抽真空,进行气体隔离后,保持预定时间;打开后精抽室隔板,将曲面玻璃送入后精抽室,关闭后精抽室,通过真空泵对后精抽室抽真空,达到精抽真空精度,保持预定时间;打开后粗抽室隔板,将曲面玻璃送入后粗抽室,关闭后粗抽室,通过真空泵对后粗抽室抽真空,达到粗抽真空精度,保持预定时间;
S4:曲面玻璃下片:将完成镀膜的曲面玻璃,由后粗抽室输送至纠偏架进行纠偏,完成纠偏后的玻璃进入下片架,空载送料盘14运行至下片架,机器人抓取完成镀膜的曲面玻璃放置于空载送料盘14。
最后应说明的是:以上所述实施例,仅为本发明的具体实施方式,用以说明本发明的技术方案,而非对其限制,本发明的保护范围并不局限于此,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改或可轻易想到变化,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改、变化或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明实施例技术方案的精神和范围,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
Claims (4)
1.一种曲面玻璃镀膜工艺,其特征在于该工艺采用镀膜机总装完成,镀膜机总装分上下两层,上层由依次连接的上片架(1)、前粗抽室(2)、前精抽室(3)、前缓冲精抽室(4)、镀膜室(5)、后缓冲精抽室(6)、后精抽室(7)、后粗抽室(8)、纠偏架(9)、下片架(10)组成,下层为倒序的传送滚轮,安装与上层的各个腔室下方,用以把下片后的空载托板回板到上片架(1)其中上片架(1)、下片架(10)通过一个气缸连杆机构可上下升降,另外在前粗抽室(2)、前精抽室(3)、前缓冲精抽室(4)、后缓冲精抽室(6)、后精抽室(7)、后粗抽室(8)侧面均设置一个真空泵(11),在镀膜室(5)侧面设置有两个真空泵(11);上片架(1)上设置有CCD扫描装置(12),用于扫描待镀膜的曲面玻璃的拱高以及拱长;
S1:曲面玻璃扫描:空载托盘通过镀膜机下层回板运行至上片架(1),然后通过气缸连杆机构上升至上层,机器人抓取待加工的曲面玻璃放置于上片架(1)的空载托盘上,CCD扫描装置(12)对待加工的曲面玻璃进行扫描,获取该曲面玻璃的拱高H以及拱长L数据,并将所述数据传输至后台系统;
S2:后台系统计算:后台系统获取预设的镀膜厚度Q,并结合已获取的曲面玻璃的拱高以及拱长数据,计算四组靶材的溅射功率以及镀膜传动速度,并基于计算的溅射功率以及镀膜传动速度预先调试镀膜室5的参数以及传送速度;
S3:曲面玻璃镀膜:打开前粗抽室隔板,将曲面玻璃送入前粗抽室,关闭前粗抽室,通过真空泵对前粗抽室抽真空,达到粗抽真空精度,保持预定时间;打开前精抽室隔板,将曲面玻璃送入前精抽室,关闭前精抽室,通过真空泵对前精抽室抽真空,达到精抽真空精度,保持预定时间;打开前缓冲精抽室隔板,将曲面玻璃送入前缓冲精抽室,通过真空泵对后缓冲精抽室抽真空,进行气体隔离后,保持预定时间,将曲面玻璃送入镀膜室,按照预设的参数依次控制四组靶材的溅射功率以及镀膜传动速度,对曲面玻璃进行镀膜;
打开后缓冲精抽室隔板将完成镀膜的曲面玻璃送入后缓冲精抽室,关闭后缓冲精抽室,通过真空泵对后缓冲精抽室抽真空,进行气体隔离后,保持预定时间;打开后精抽室隔板,将曲面玻璃送入后精抽室,关闭后精抽室,通过真空泵对后精抽室抽真空,达到精抽真空精度,保持预定时间;打开后粗抽室隔板,将曲面玻璃送入后粗抽室,关闭后粗抽室,通过真空泵对后粗抽室抽真空,达到粗抽真空精度,保持预定时间;
S4:曲面玻璃下片:将完成镀膜的曲面玻璃,由后粗抽室输送至纠偏架进行纠偏,完成纠偏后的玻璃进入下片架,满载送料盘(13)运行至下片架,机器人抓取完成镀膜的曲面玻璃放置于下工序的淋漆输入输送带上进行淋漆;
S5:托盘的循环:机器人抓取完毕之后,下片架(10)连同空载托盘(14)通过气缸连杆机构下降至下层,往上片架(1)的方向传送,待上片架(1)在上层把满载的托盘(13)送进前粗抽室(2)之后通过气缸连杆机构下降至下层接收回板过来的空载托盘(14),然后再次通过气缸连杆机构升至上层,如此实现循环;
2.如权利要求1所述的一种曲面玻璃镀膜工艺,其特征在于每个室与其相邻的室之间均设有独立的真空阀以及隔板,用于隔绝腔室之间的真空度。
3.如权利要求1所述的一种曲面玻璃镀膜工艺,其特征在于还包括磁射部件,该磁射部件共四组设于镀膜室(5),具体包括镀膜靶材(5-1)、靶材阴极连接铜板(5-2)、靶材阳极连接铜板(5-3)、电机(5-4)。
4.如权利要求1或2所述的一种曲面玻璃镀膜工艺,S2步骤中具体计算公式如下:
获取预设镀膜厚度为Q的平板玻璃的所需的四组靶材的溅射功率w以及镀膜传动速度v,对于平板玻璃,四组靶材的溅射功率相同,将曲面拱长L四等分,获取拱长L/4处的拱高H1以及3L/4处的拱高H2,则位于第一位置的靶材溅射功率W1以及镀膜传动速度V1公式如下:
其中,第一位置为位于侧部最先接触曲面玻璃靶材的位置;
位于第二位置的靶材溅射功率W2以及镀膜传动速度V2公式如下:
其中,第二位置为位于中间部第二接触曲面玻璃靶材的位置;位于第三位置的靶材溅射功率W3以及镀膜传动速度V3公式如下:
其中,第三位置为位于中间部第三接触曲面玻璃靶材的位置;位于第四位置的靶材溅射功率W4以及镀膜传动速度V4公式如下:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202211366630.1A CN115627449B (zh) | 2022-11-02 | 2022-11-02 | 曲面玻璃镀膜工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202211366630.1A CN115627449B (zh) | 2022-11-02 | 2022-11-02 | 曲面玻璃镀膜工艺 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN115627449A true CN115627449A (zh) | 2023-01-20 |
CN115627449B CN115627449B (zh) | 2024-06-28 |
Family
ID=84907707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202211366630.1A Active CN115627449B (zh) | 2022-11-02 | 2022-11-02 | 曲面玻璃镀膜工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN115627449B (zh) |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004197207A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜形成装置 |
CN106756850A (zh) * | 2016-12-26 | 2017-05-31 | 肇庆市科润真空设备有限公司 | 一种高效紧凑型磁控镀膜装置及方法 |
CN107541712A (zh) * | 2017-10-11 | 2018-01-05 | 广东腾胜真空技术工程有限公司 | 一种双端进出的玻璃镀膜设备 |
WO2018099023A1 (zh) * | 2016-11-30 | 2018-06-07 | 江苏奥蓝工程玻璃有限公司 | 一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃及其制备方法 |
CN108570651A (zh) * | 2018-06-13 | 2018-09-25 | 广东振华科技股份有限公司 | 一种多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线及其镀膜方法 |
CN208455053U (zh) * | 2018-07-17 | 2019-02-01 | 合肥威驰科技有限公司 | 汽车曲面玻璃镀膜设备 |
CN208733225U (zh) * | 2018-07-17 | 2019-04-12 | 合肥威驰科技有限公司 | 汽车电致变色玻璃镀膜装置 |
CN110735123A (zh) * | 2019-11-07 | 2020-01-31 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 镀膜生产线控制方法 |
CN112194380A (zh) * | 2020-10-22 | 2021-01-08 | 凯盛信息显示材料(黄山)有限公司 | 镀膜玻璃及其制造方法 |
CN113968678A (zh) * | 2021-11-25 | 2022-01-25 | 芜湖长信新型显示器件有限公司 | 曲面盖板玻璃镀膜设备及镀膜方法 |
WO2022027994A1 (zh) * | 2020-08-03 | 2022-02-10 | 苏州迈正科技有限公司 | 镀膜设备、方法、系统及太阳能电池、组件、发电系统 |
-
2022
- 2022-11-02 CN CN202211366630.1A patent/CN115627449B/zh active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004197207A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜形成装置 |
WO2018099023A1 (zh) * | 2016-11-30 | 2018-06-07 | 江苏奥蓝工程玻璃有限公司 | 一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃及其制备方法 |
CN106756850A (zh) * | 2016-12-26 | 2017-05-31 | 肇庆市科润真空设备有限公司 | 一种高效紧凑型磁控镀膜装置及方法 |
CN107541712A (zh) * | 2017-10-11 | 2018-01-05 | 广东腾胜真空技术工程有限公司 | 一种双端进出的玻璃镀膜设备 |
CN108570651A (zh) * | 2018-06-13 | 2018-09-25 | 广东振华科技股份有限公司 | 一种多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线及其镀膜方法 |
CN208455053U (zh) * | 2018-07-17 | 2019-02-01 | 合肥威驰科技有限公司 | 汽车曲面玻璃镀膜设备 |
CN208733225U (zh) * | 2018-07-17 | 2019-04-12 | 合肥威驰科技有限公司 | 汽车电致变色玻璃镀膜装置 |
CN110735123A (zh) * | 2019-11-07 | 2020-01-31 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 镀膜生产线控制方法 |
WO2022027994A1 (zh) * | 2020-08-03 | 2022-02-10 | 苏州迈正科技有限公司 | 镀膜设备、方法、系统及太阳能电池、组件、发电系统 |
CN112194380A (zh) * | 2020-10-22 | 2021-01-08 | 凯盛信息显示材料(黄山)有限公司 | 镀膜玻璃及其制造方法 |
CN113968678A (zh) * | 2021-11-25 | 2022-01-25 | 芜湖长信新型显示器件有限公司 | 曲面盖板玻璃镀膜设备及镀膜方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN115627449B (zh) | 2024-06-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101343149B1 (ko) | 처리 챔버 내 대상물을 템퍼링하는 장치 및 방법 | |
US20050281950A1 (en) | Deposition apparatus and method | |
JP2001135704A (ja) | 基板処理装置及び基板搬送用トレイの搬送制御方法 | |
KR102010168B1 (ko) | 박막 형성 방법 및 질화 알루미늄 박막 형성 방법 | |
US4436602A (en) | Blocking shield and method for contouring the thickness of sputter coated layers | |
CN115627449A (zh) | 曲面玻璃镀膜工艺 | |
JP4768001B2 (ja) | 有機elデバイス製造装置及び同製造方法並びに成膜装置及び成膜方法 | |
CN110527948A (zh) | 成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法 | |
KR101213849B1 (ko) | 스퍼터링 장치 | |
JPH10140351A (ja) | インライン式真空成膜装置 | |
CN117187772A (zh) | 抽真空方法及溅射镀膜方法 | |
CN111041424B (zh) | 成膜装置、制造系统、有机el面板的制造系统、成膜方法及有机el元件的制造方法 | |
CN111527236B (zh) | 溅射方法及溅射装置 | |
JP2004176126A (ja) | 真空成膜装置及び真空成膜方法 | |
US20220064783A1 (en) | Sputtering system and deposition method | |
KR20120037744A (ko) | 기판처리시스템 | |
KR20140140462A (ko) | 원자층 증착 장치 | |
US6500264B2 (en) | Continuous thermal evaporation system | |
JP5358697B2 (ja) | 成膜装置 | |
CN107893215A (zh) | 一种emi真空磁控溅射镀膜设备及其镀膜方法 | |
US20120315724A1 (en) | Method and apparatus for deposition of selenium thin-film and plasma head thereof | |
US20050241585A1 (en) | System for vaporizing materials onto a substrate surface | |
TWI660061B (zh) | 連續式鍍膜系統的鍍膜方法及其方法所得的鍍膜 | |
JP4951712B2 (ja) | 有機elデバイス製造装置及び同製造方法並びに成膜装置及び成膜方法 | |
JP6932873B1 (ja) | 成膜装置、成膜装置の制御装置及び成膜方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |