CN115572070A - 一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉，包括以下质量份的原料组成：釉石英25‑34份、白矸子4‑5份、煅烧氧化锌3‑4份、工业氧化钛2‑5份、烧滑石5‑7份、骨瓷粉1‑5份、石灰石20‑25份、锂瓷石1‑5份、钠长石12‑25份、钾长石10‑15份、方解石5‑10份、高岭土5‑7份、碳酸钡0.5‑2份、氧化锌0.5‑2份、硅微粉20‑30份、钠盐10‑20份、色料3‑8份、氯化钠10‑20份、无水乙醇20‑30份、硅氧烷材料50‑70份。通过本发明制备的自洁釉，在喷涂后，进行烧制，从而可以使得在绝缘子的表面具有自洁、镜面的效果，同时可以通过该配方，可以产生憎水的效果。

Description

一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉及其制备方法
技术领域
本发明涉及绝缘子釉料制备技术领域，具体为一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉及其制备方法。
背景技术
现代文明社会中，卫生洁具是人们日常生活中不可或缺的器具。但目前卫生洁具所使用的陶瓷洁具普遍釉面质量不够致密，光亮度差，在使用过程易污损，需要经常清洁，而且长期使用后污垢在釉面中会有残留，难以清理干净。尤其是厕所冲便器洁具还需要消耗大量的优质水资源进行冲洗，给消费者造成了很大的烦恼。
中国专利CN101417893公开了一种陶瓷卫生洁具纳米级分相自洁釉，制得的釉面具有自洁性能，但该自洁釉不够致密，憎水效果不理想，达不到镜面效果，长期使用后自洁性能会下降，无法应用于免冲水小便器使用，需要进一步的改进。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足，本发明提供了一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉及其制备方法。
(二)技术方案
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉，包括以下质量份的原料组成：釉石英25-34份、白矸子4-5份、煅烧氧化锌3-4份、工业氧化钛2-5份、烧滑石5-7份、骨瓷粉1-5份、石灰石20-25份、锂瓷石1-5份、钠长石12-25份、钾长石10-15份、方解石5-10份、高岭土5-7份、碳酸钡0.5-2份、氧化锌0.5-2份、硅微粉20-30份、钠盐10-20份、色料3-8份、氯化钠10-20份、无水乙醇20-30份、硅氧烷材料50-70份。
一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，包括以下步骤：
S1：将原料中的釉石英、白矸子、煅烧氧化锌、工业氧化钛、烧滑石、骨瓷粉、石灰石、锂瓷石、钠长石、钾长石、方解石一起放入到球磨机中进行球磨，球磨时长为2-4小时；
S2：然后将S1中球磨得到的原料进行除铁处理，并且进行两次除铁操作，然后将除铁后得到的原料加入助剂和蒸馏水溶液中进行混合静置；
S3：将S2中静置后的原料放置在常温下，进行超声分散，使得其充分溶解后，将原料全部倒入纳米级球磨机中，并加入无水乙醇然后以80-120rmp的转速，再进行球磨2-3小时，得到混合料；
S4：然后再将高岭土、碳酸钡、氧化锌、硅微粉、钠盐、色料、氯化钠、硅氧烷材料全部加入到搅拌机中，并将S3制备得到的混合料加入到搅拌机中，进行搅拌；
S5：将S4搅拌混合的原料倒入到熔炉内，在惰性气体的保护下，进行熔炼1-2小时，熔炼的温度为900-1000℃，然后再在1200-1500℃的温度下进行熔炼2-3小时，然后将熔炼后原料进行萃水，得到块状釉料；
S6：然后将S5得到的块状釉料放置在纳米级球磨机中，进行湿法球磨，并将球磨后的釉料进行过筛除杂得到釉浆，然后再将得到的釉浆进行存储；
S7：将绝缘子胚体放置在S6制备的釉浆中，然后将绝缘子胚体进行干燥存储，并将其进行自然干燥，然后进行对绝缘子进行烧制。
优选的，所述S3中，研磨的原料粒径≤100nm。
优选的，所述助剂为稳定剂、抗氧化剂、分散剂中的一种或多种。
优选的，所述稳定剂为KBr，NaBr，黄血盐，赤血盐，硫酸氢钠中的一种。
优选的，所述抗氧剂是对苯二胺，二甲基对苯二胺，对苯二酚中的一种。
优选的，所述分散剂为硅烷偶联剂。
优选的，所述S2中，静置时间为2-5小时。
(三)有益效果
与现有技术相比，本发明提供了一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉及其制备方法，具备以下有益效果：
1、该一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉及其制备方法，通过本发明制备的自洁釉，在喷涂后，进行烧制，从而可以使得在绝缘子的表面具有自洁、镜面的效果，同时可以通过该配方，可以产生憎水的效果。
2、该一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉及其制备方法，通过本发明制备的陶瓷釉，具有良好的稳定性，同时可以通过添加的碳酸钡、氧化锌、硅微粉可以提高该釉料的强度，提高绝缘子的整体强度，提高实用寿命。
具体实施方式
下面将结合本发明的实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一：
一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，包括以下步骤：
S1：将以下质量份的原料釉石英25份、白矸子4-份、煅烧氧化锌3份、工业氧化钛2份、烧滑石5份、骨瓷粉1份、石灰石20份、锂瓷石1份、钠长石12份、钾长石10份、方解石5份一起放入到球磨机中进行球磨，球磨时长为2-4小时；
S2：然后将S1中球磨得到的原料进行除铁处理，并且进行两次除铁操作，然后将除铁后得到的原料加入稳定剂、抗氧化剂、分散剂中的一种或多种的助剂和蒸馏水溶液中进行混合静置，静置时间为2-5小时；该助剂为KBr，NaBr，黄血盐，赤血盐，硫酸氢钠中的一种，抗氧剂是对苯二胺，二甲基对苯二胺，对苯二酚中的一种，分散剂为硅烷偶联剂。
S3：将S2中静置后的原料放置在常温下，进行超声分散，使得其充分溶解后，将原料全部倒入纳米级球磨机中，研磨的原料粒径≤100nm，并加入质量份为20-30的无水乙醇份然后以80-120rmp的转速，再进行球磨2-3小时，得到混合料；
S4：然后再将以下质量份的原料高岭土5-7份、碳酸钡0.5份、氧化锌0.5份、硅微粉20份、钠盐10份、色料3份、氯化钠10份、硅氧烷材料50份，全部加入到搅拌机中，并将S3制备得到的混合料加入到搅拌机中，进行搅拌；
S5：将S4搅拌混合的原料倒入到熔炉内，在惰性气体的保护下，进行熔炼1-2小时，熔炼的温度为900-1000℃，然后再在1200-1500℃的温度下进行熔炼2-3小时，然后将熔炼后原料进行萃水，得到块状釉料；
S6：然后将S5得到的块状釉料放置在纳米级球磨机中，进行湿法球磨，并将球磨后的釉料进行过筛除杂得到釉浆，然后再将得到的釉浆进行存储；
S7：将绝缘子胚体放置在S6制备的釉浆中，然后将绝缘子胚体进行干燥存储，并将其进行自然干燥，然后进行对绝缘子进行烧制。
实施例二：
一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，包括以下步骤：
S1：将以下质量份的原料釉石英27份、白矸子4.2份、煅烧氧化锌3.2份、工业氧化钛2.5份、烧滑石5.5份、骨瓷粉2份、石灰石21份、锂瓷石2份、钠长石13份、钾长石11份、方解石6份一起放入到球磨机中进行球磨，球磨时长为2-4小时；
S2：然后将S1中球磨得到的原料进行除铁处理，并且进行两次除铁操作，然后将除铁后得到的原料加入稳定剂、抗氧化剂、分散剂中的一种或多种的助剂和蒸馏水溶液中进行混合静置，静置时间为2-5小时；该助剂为KBr，NaBr，黄血盐，赤血盐，硫酸氢钠中的一种，抗氧剂是对苯二胺，二甲基对苯二胺，对苯二酚中的一种，分散剂为硅烷偶联剂。
S3：将S2中静置后的原料放置在常温下，进行超声分散，使得其充分溶解后，将原料全部倒入纳米级球磨机中，研磨的原料粒径≤100nm，并加入质量份为20-30的无水乙醇份然后以80-120rmp的转速，再进行球磨2-3小时，得到混合料；
S4：然后再将以下质量份的原料高岭土5.5份、碳酸钡1份、氧化锌1份、硅微粉22份、钠盐12份、色料4份、氯化钠12份、硅氧烷材料54份，全部加入到搅拌机中，并将S3制备得到的混合料加入到搅拌机中，进行搅拌；
S5：将S4搅拌混合的原料倒入到熔炉内，在惰性气体的保护下，进行熔炼1-2小时，熔炼的温度为900-1000℃，然后再在1200-1500℃的温度下进行熔炼2-3小时，然后将熔炼后原料进行萃水，得到块状釉料；
S6：然后将S5得到的块状釉料放置在纳米级球磨机中，进行湿法球磨，并将球磨后的釉料进行过筛除杂得到釉浆，然后再将得到的釉浆进行存储；
S7：将绝缘子胚体放置在S6制备的釉浆中，然后将绝缘子胚体进行干燥存储，并将其进行自然干燥，然后进行对绝缘子进行烧制。
实施例三：
一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，包括以下步骤：
S1：将以下质量份的原料釉石英29份、白矸子4.5份、煅烧氧化锌3.4份、工业氧化钛3份、烧滑石5.8份、骨瓷粉2.5份、石灰石22份、锂瓷石3份、钠长石15份、钾长石12份、方解石7份一起放入到球磨机中进行球磨，球磨时长为2-4小时；
S2：然后将S1中球磨得到的原料进行除铁处理，并且进行两次除铁操作，然后将除铁后得到的原料加入稳定剂、抗氧化剂、分散剂中的一种或多种的助剂和蒸馏水溶液中进行混合静置，静置时间为2-5小时；该助剂为KBr，NaBr，黄血盐，赤血盐，硫酸氢钠中的一种，抗氧剂是对苯二胺，二甲基对苯二胺，对苯二酚中的一种，分散剂为硅烷偶联剂。
S3：将S2中静置后的原料放置在常温下，进行超声分散，使得其充分溶解后，将原料全部倒入纳米级球磨机中，研磨的原料粒径≤100nm，并加入质量份为20-30的无水乙醇份然后以80-120rmp的转速，再进行球磨2-3小时，得到混合料；
S4：然后再将以下质量份的原料高岭土5.8份、碳酸钡1.3份、氧化锌1.3份、硅微粉24份、钠盐14份、色料5份、氯化钠14份、硅氧烷材料57份，全部加入到搅拌机中，并将S3制备得到的混合料加入到搅拌机中，进行搅拌；
S5：将S4搅拌混合的原料倒入到熔炉内，在惰性气体的保护下，进行熔炼1-2小时，熔炼的温度为900-1000℃，然后再在1200-1500℃的温度下进行熔炼2-3小时，然后将熔炼后原料进行萃水，得到块状釉料；
S6：然后将S5得到的块状釉料放置在纳米级球磨机中，进行湿法球磨，并将球磨后的釉料进行过筛除杂得到釉浆，然后再将得到的釉浆进行存储；
S7：将绝缘子胚体放置在S6制备的釉浆中，然后将绝缘子胚体进行干燥存储，并将其进行自然干燥，然后进行对绝缘子进行烧制。
实施例四：
一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，包括以下步骤：
S1：将以下质量份的原料釉石英31份、白矸子4.7份、煅烧氧化锌3.7份、工业氧化钛4份、烧滑石6.2份、骨瓷粉3.5份、石灰石23份、锂瓷石4份、钠长石20份、钾长石13份、方解石8份一起放入到球磨机中进行球磨，球磨时长为2-4小时；
S2：然后将S1中球磨得到的原料进行除铁处理，并且进行两次除铁操作，然后将除铁后得到的原料加入稳定剂、抗氧化剂、分散剂中的一种或多种的助剂和蒸馏水溶液中进行混合静置，静置时间为2-5小时；该助剂为KBr，NaBr，黄血盐，赤血盐，硫酸氢钠中的一种，抗氧剂是对苯二胺，二甲基对苯二胺，对苯二酚中的一种，分散剂为硅烷偶联剂。
S3：将S2中静置后的原料放置在常温下，进行超声分散，使得其充分溶解后，将原料全部倒入纳米级球磨机中，研磨的原料粒径≤100nm，并加入质量份为20-30的无水乙醇份然后以80-120rmp的转速，再进行球磨2-3小时，得到混合料；
S4：然后再将以下质量份的原料高岭土6.2份、碳酸钡1.7份、氧化锌1.7份、硅微粉27份、钠盐16份、色料6份、氯化钠16份、硅氧烷材料64份，全部加入到搅拌机中，并将S3制备得到的混合料加入到搅拌机中，进行搅拌；
S5：将S4搅拌混合的原料倒入到熔炉内，在惰性气体的保护下，进行熔炼1-2小时，熔炼的温度为900-1000℃，然后再在1200-1500℃的温度下进行熔炼2-3小时，然后将熔炼后原料进行萃水，得到块状釉料；
S6：然后将S5得到的块状釉料放置在纳米级球磨机中，进行湿法球磨，并将球磨后的釉料进行过筛除杂得到釉浆，然后再将得到的釉浆进行存储；
S7：将绝缘子胚体放置在S6制备的釉浆中，然后将绝缘子胚体进行干燥存储，并将其进行自然干燥，然后进行对绝缘子进行烧制。
实施例五：
一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，包括以下步骤：
S1：将以下质量份的原料釉石英34份、白矸子5份、煅烧氧化锌4份、工业氧化钛5份、烧滑石7份、骨瓷粉5份、石灰石25份、锂瓷石5份、钠长石25份、钾长石15份、方解石10份一起放入到球磨机中进行球磨，球磨时长为2-4小时；
S2：然后将S1中球磨得到的原料进行除铁处理，并且进行两次除铁操作，然后将除铁后得到的原料加入稳定剂、抗氧化剂、分散剂中的一种或多种的助剂和蒸馏水溶液中进行混合静置，静置时间为2-5小时；该助剂为KBr，NaBr，黄血盐，赤血盐，硫酸氢钠中的一种，抗氧剂是对苯二胺，二甲基对苯二胺，对苯二酚中的一种，分散剂为硅烷偶联剂。
S3：将S2中静置后的原料放置在常温下，进行超声分散，使得其充分溶解后，将原料全部倒入纳米级球磨机中，研磨的原料粒径≤100nm，并加入质量份为20-30的无水乙醇份然后以80-120rmp的转速，再进行球磨2-3小时，得到混合料；
S4：然后再将以下质量份的原料高岭土7份、碳酸钡2份、氧化锌2份、硅微粉30份、钠盐20份、色料8份、氯化钠20份、硅氧烷材料70份，全部加入到搅拌机中，并将S3制备得到的混合料加入到搅拌机中，进行搅拌；
S5：将S4搅拌混合的原料倒入到熔炉内，在惰性气体的保护下，进行熔炼1-2小时，熔炼的温度为900-1000℃，然后再在1200-1500℃的温度下进行熔炼2-3小时，然后将熔炼后原料进行萃水，得到块状釉料；
S6：然后将S5得到的块状釉料放置在纳米级球磨机中，进行湿法球磨，并将球磨后的釉料进行过筛除杂得到釉浆，然后再将得到的釉浆进行存储；
S7：将绝缘子胚体放置在S6制备的釉浆中，然后将绝缘子胚体进行干燥存储，并将其进行自然干燥，然后进行对绝缘子进行烧制。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (8)

1.一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉，其特征在于：包括以下质量份的原料组成：釉石英25-34份、白矸子4-5份、煅烧氧化锌3-4份、工业氧化钛2-5份、烧滑石5-7份、骨瓷粉1-5份、石灰石20-25份、锂瓷石1-5份、钠长石12-25份、钾长石10-15份、方解石5-10份、高岭土5-7份、碳酸钡0.5-2份、氧化锌0.5-2份、硅微粉20-30份、钠盐10-20份、色料3-8份、氯化钠10-20份、无水乙醇20-30份、硅氧烷材料50-70份。
2.根据权利要求1所述的一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，包括以下步骤：
S1：将原料中的釉石英、白矸子、煅烧氧化锌、工业氧化钛、烧滑石、骨瓷粉、石灰石、锂瓷石、钠长石、钾长石、方解石一起放入到球磨机中进行球磨，球磨时长为2-4小时；
S2：然后将S1中球磨得到的原料进行除铁处理，并且进行两次除铁操作，然后将除铁后得到的原料加入助剂和蒸馏水溶液中进行混合静置；
S3：将S2中静置后的原料放置在常温下，进行超声分散，使得其充分溶解后，将原料全部倒入纳米级球磨机中，并加入无水乙醇然后以80-120rmp的转速，再进行球磨2-3小时，得到混合料；
S4：然后再将高岭土、碳酸钡、氧化锌、硅微粉、钠盐、色料、氯化钠、硅氧烷材料全部加入到搅拌机中，并将S3制备得到的混合料加入到搅拌机中，进行搅拌；
S5：将S4搅拌混合的原料倒入到熔炉内，在惰性气体的保护下，进行熔炼1-2小时，熔炼的温度为900-1000℃，然后再在1200-1500℃的温度下进行熔炼2-3小时，然后将熔炼后原料进行萃水，得到块状釉料；
S6：然后将S5得到的块状釉料放置在纳米级球磨机中，进行湿法球磨，并将球磨后的釉料进行过筛除杂得到釉浆，然后再将得到的釉浆进行存储；
S7：将绝缘子胚体放置在S6制备的釉浆中，然后将绝缘子胚体进行干燥存储，并将其进行自然干燥，然后进行对绝缘子进行烧制。
3.根据权利要求2所述的一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，其特征在于，所述S3中，研磨的原料粒径≤100nm。
4.根据权利要求2所述的一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，其特征在于，所述助剂为稳定剂、抗氧化剂、分散剂中的一种或多种。
5.根据权利要求4所述的一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，其特征在于，所述稳定剂为KBr，NaBr，黄血盐，赤血盐，硫酸氢钠中的一种。
6.根据权利要求4所述的一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，其特征在于，所述抗氧剂是对苯二胺，二甲基对苯二胺，对苯二酚中的一种。
7.根据权利要求4所述的一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，其特征在于，所述分散剂为硅烷偶联剂。
8.根据权利要求2所述的一种瓷绝缘子高硬度憎水自洁釉的制备方法，其特征在于，所述S2中，静置时间为2-5小时。
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CN105218166A (zh) * 2015-10-23 2016-01-06 张昭 憎水自洁镜面陶瓷釉及其制备方法
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