CN115519450A - 一种精密施压抛光装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种精密施压抛光装置，包括工作台、立柱、直线导轨、回转台以及抛光装置，所述工作台的顶端一侧固定连接有立柱，所述工作台的顶端中间位置处连接有用于回转台移动的直线导轨，所述直线导轨上滑动连接有回转台，所述立柱的一侧设置有用于对加工件进行抛光的抛光装置，所述立柱的顶端上连接有用于平衡的平衡组件；本发明结构简单，操作便捷；本发明通过向储液箱输送或者抽出配重液，动态调节储液箱的重力，进而通过平衡装置调节抛光装置施加在工件表面上抛光压力，进而实现抛光压力的实时调节，提高抛光的精确度；在电磁铁通电时，电磁铁与永磁铁相互间的吸力将气浮滑块的位置固定，便于抛光装置的检修与更换配件。

Description

一种精密施压抛光装置

技术领域

本发明属于技抛光术领域，尤其涉及一种精密施压抛光装置。

背景技术

抛光加工是各种固体材料表面实现尺寸超精密、形状超准确、表面粗糙度极低的唯一手段，也是消除表层以下材料加工缺陷、损伤的最佳方法。抛光加工的适用范围广泛，能够胜任各种复杂型面的超精密加工。尤其对于光学、电子信息领域中使用的各种难加工材料复杂型面零件的加工，抛光加工工艺发挥着不可替代的作用。

现有技术中，抛光加工技术多采用散粒磨料低速加工方式，存在精度保持性较低、加工速度低等缺点，极大地影响了精密零件的生产率；对于采用的气囊抛光设备，其结构较复杂，球头形抛光头上磨粒回转半径较小，研磨抛光速度较低，使得加工效率提高不明显，虽适合于加工复杂型面零件，但在加工大中型超精密零件时效率较低，并且使用时加工成本很高；因此提出一种抛光精度高、效率高、成本低的精密施压抛光装置。

发明内容

本发明提供的一种精密施压抛光装置，在于解决现有技术中的抛光效率低、成本高、精度低的问题。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种精密施压抛光装置，包括工作台、立柱、直线导轨、回转台以及抛光装置，所述工作台的顶端一侧固定连接有立柱，所述工作台的顶端中间位置处连接有用于回转台移动的直线导轨，所述直线导轨上滑动连接有回转台，所述立柱的一侧设置有用于对加工件进行抛光的抛光装置，所述立柱的顶端上连接有用于平衡的平衡组件，

所述平衡组件的一端连接有可以调节重量的配重装置；所述平衡组件的另一端上连接有气浮组件，所述气浮组件上连接有用于抛光的抛光装置。

本发明所述配重装置包括用于储存配重液的储液箱，所述储液箱的一端上连接有连接管，所述连接管的一端上连接有双向输送配重液的水泵，所述水泵的一端连接有马达。

本发明所述气浮组件包括气浮导轨，所述气浮导轨的侧壁上滑动连接有气浮滑块，所述气浮滑块的侧壁上连接有安装板，所述安装板上连接有用于抛光的抛光装置，所述气浮导轨通过连接块与立柱固定连接。

本发明所述平衡组件包括两个滑轮，一个所述滑轮固定在立柱的顶端一侧，另一所述滑轮固定在气浮导轨的顶端，两个所述滑轮上连接有拉绳，所述拉绳的一端与储液箱连接，所述拉绳的另一端与气浮滑块连接。

本发明所述拉绳与储液箱间连接有拉力传感器。

本发明所述立柱与气浮滑块间连接有用于抛光装置定位的定位组件。

本发明所述定位组件包括固定于立柱侧壁上的定位板，所述定位板朝向气浮滑块的一端侧壁上连接有永磁铁，所述气浮滑块的侧壁上连接有固定架，所述固定架上连接有电磁铁，所述永磁铁的一端与朝向电磁铁；所述永磁铁与电磁铁贴合时，所述电磁铁设置为通电时能够对永磁铁产生吸力。

本发明所述固定架上螺纹连接有转动柱，所述转动柱为绝缘材料制成，所述转动柱内部连接有电磁铁。

本发明所述电磁铁包括铁芯以及缠绕在铁芯上的导线，且导线与电源连接。

本发明的有益效果是：本发明结构简单，操作便捷；本发明通过向储液箱输送或者抽出配重液，动态调节储液箱的重力，进而通过平衡装置调节抛光装置施加在工件表面上抛光压力，进而实现抛光压力的实时调节，提高抛光的精确度；在电磁铁通电时，电磁铁与永磁铁相互间的吸力将气浮滑块的位置固定，便于抛光装置的检修与更换配件；在准备抛光时，外接的空压机往气浮间隙内充入气体使导轨和滑块之间不接触来降低摩擦，进而提高抛光的精度，在抛光过程中，当需要改变抛光压力，通过向储液箱中输入或输出配重液，随着配重液输入或输出，对抛光装置与工件之间的压力进行调节，从而实现动态调节。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图2为本发明中气浮组件结构示意图；

图3为本发明中固定架剖视图；

图中：1-工作台、2-立柱、3-直线导轨、4-回转台、5-抛光装置、61-滑轮、62-拉绳、71-储液箱、72-连接管、73-水泵、74-马达、75-拉力传感器、81-气浮导轨、82-气浮滑块、83-安装板、91-定位板、92-永磁铁、93-转动柱、94-铁芯、95-导线、96-固定架。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-3，本发明提供一种精密施压抛光装置技术方案：一种精密施压抛光装置，包括工作台1、立柱2、直线导轨3、回转台4以及抛光装置5，工作台1的顶端一侧固定连接有立柱2，工作台1的顶端中间位置处连接有用于回转台4移动的直线导轨3，回转台4通可以在直线导轨3上做直线运动，立柱2的一端侧壁上通过气浮组件连接有用于对加工件进行抛光的抛光装置5，立柱2的顶端上连接有用于平衡配重装置和抛光装置5的平衡组件，平衡组件的一端连接有可以调节重量的配重装置；平衡组件的另一端上连接有气浮组件，气浮组件上连接有用于抛光的抛光装置5，通过平衡组件平衡配重装置和抛光装置5，通过配重装置可以动态调节其自身的重力进而可以动态调节，从而调整抛光装置5施加到抛光工件表面上的压力。

平衡组件包括两个滑轮61，一个滑轮61固定在立柱2的顶端一侧，另一滑轮61固定在气浮导轨81的顶端，两个滑轮61上连接有拉绳62，拉绳62的一端与储液箱71连接，拉绳62的另一端与气浮滑块82连接，通过滑轮61与拉绳62平衡气浮导轨81和储液箱71。

在本实施方式中，配重装置包括用于储存配重液的储液箱71，连接管72的一端与储液箱71连接，另一端与可以双向输送配重液的水泵73，水泵73与马达74连接，储液箱71的顶端连接有拉力传感器75，拉绳62的一端固定在拉力传感器75的顶端上，抛光装置5抛光时产生的压力作用在气浮滑块82上，作用在气浮滑块82上的压力通过拉绳62作用在拉力传感器75上，拉力传感器75测量的拉力数据实时传送至控制器(控制器为单片机)，控制器将信号传送至水泵73和马达74，此时马达74开始工作，驱动水泵73向储液箱71中输入或抽出配重液；当需要较小抛光压力时，启动马达74正传，驱动水泵73向储液箱71中输入配重液，并通过拉力传感器75拉力数据，当抛光的压力减小到目标值时，停止马达74转动，进而停止向储液箱71内输送配重液；当需要增大抛光压力时，启动马达74反传，驱动水泵73从储液箱71中抽出配重液，并通过拉力传感器75拉力数据，当抛光的压力增大到目标值时，停止马达74转动，进而停止从储液箱71内抽出配重液拉力传感器75；在抛光开始前，储液箱71处于空置状态，在工件放入。

储液箱71的侧壁上开设有泄压孔，通过泄压孔进行泄压。

在本实施方式中，气浮组件包括气浮导轨81，气浮导轨81的侧壁上滑动连接有气浮滑块82，气浮滑块82的侧壁上固定连接有安装板83，抛光装置5的连接座固定在安装板83上，气浮导轨81通过连接块与立柱2固定连接，气浮导轨81和气浮滑块82间存在气浮间隙；气浮导轨81和气浮滑块82工作时，外接的空压机往气浮间隙内充入气体使导轨和滑块之间不接触来降低摩擦，进而提高抛光的精度，气浮导轨只是来限定气浮滑块的移动方向；在抛光过程中，当需要改变抛光压力，通过向储液箱中输入或输出配重液，随着配重液输入或输出，对抛光装置5与工件之间的压力进行调节，从而实现动态调节。

立柱2与气浮滑块82间连接有用于抛光装置5定位的定位组件；定位组件包括固定于立柱2侧壁上的定位板91，定位板91朝向气浮滑块81的一端侧壁上连接有永磁铁92，气浮滑块81的侧壁上连接有固定架96，转动柱93内部连接有电磁铁，转动柱93为绝缘材料制成，转动柱93贯穿固定架96，且与固定架96螺纹连接，转动转动柱93，进而带动电磁铁相对固定架96移动，在电磁铁相对固定架96移动时，电磁铁的一端可以与永磁铁92贴合；电磁铁包括铁芯94以及缠绕在铁芯94上的导线95，且铁芯94的一端侧壁上连接有电源连接口，电源连接口与导线95连接，当铁芯94需要通电时通过电源连接口连接外部电源；铁芯94的另一端延伸至转动柱93的外部，且可以与永磁铁92贴合；当抛光装置需要更换配件时，此时需要气浮滑块保持稳定，从而方便更换配件；此时转动转动柱93，转动柱93向永磁铁92的方向移动，当铁芯94与永磁铁92贴合时，停止转动转动柱93，通过电源连接口连接外部电源，电磁铁通电后与永磁铁92间产生相互吸引力，进而气浮滑块82在竖直方向上保持固定，进而方便配件的更换，在更换完配件后，断开外部电源并将转动柱93复位。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (9)

1.一种精密施压抛光装置，包括工作台(1)、立柱(2)、直线导轨(3)、回转台(4)以及抛光装置(5)，所述工作台(1)的顶端一侧固定连接有立柱(2)，所述工作台(1)的顶端中间位置处连接有用于回转台(4)移动的直线导轨(3)，所述直线导轨(3)上滑动连接有回转台(4)，所述立柱(2)的一侧设置有用于对加工件进行抛光的抛光装置(5)，其特征在于：所述立柱(2)的顶端上连接有用于平衡的平衡组件，

所述平衡组件的一端连接有可以调节重量的配重装置；所述平衡组件的另一端上连接有气浮组件，所述气浮组件上连接有用于抛光的抛光装置(5)。

2.根据权利要求1所述的一种精密施压抛光装置，其特征在于：所述配重装置包括用于储存配重液的储液箱(71)，所述储液箱(71)的一端上连接有连接管(72)，所述连接管(72)的一端上连接有双向输送配重液的水泵(73)，所述水泵(73)的一端连接有马达(74)。

3.根据权利要求2所述的一种精密施压抛光装置，其特征在于：所述气浮组件包括气浮导轨(81)，所述气浮导轨(81)的侧壁上滑动连接有气浮滑块(82)，所述气浮滑块(82)的侧壁上连接有安装板(83)，所述安装板(83)上连接有用于抛光的抛光装置(5)，所述气浮导轨(81)通过连接块与立柱(2)固定连接。

4.根据权利要求3所述的一种精密施压抛光装置，其特征在于：所述平衡组件包括两个滑轮(61)，一个所述滑轮(61)固定在立柱(2)的顶端一侧，另一所述滑轮(61)固定在气浮导轨(81)的顶端，两个所述滑轮(61)上连接有拉绳(62)，所述拉绳(62)的一端与储液箱(71)连接，所述拉绳(62)的另一端与气浮滑块(82)连接。

5.根据权利要求4所述的一种精密施压抛光装置，其特征在于：所述拉绳(62)与储液箱(71)间连接有拉力传感器(75)。

6.根据权利要求5所述的一种精密施压抛光装置，其特征在于：所述立柱(2)与气浮滑块(82)间连接有用于抛光装置(5)定位的定位组件。

7.根据权利要求6所述的一种精密施压抛光装置，其特征在于：所述定位组件包括固定于立柱(2)侧壁上的定位板(91)，所述定位板(91)朝向气浮滑块(81)的一端侧壁上连接有永磁铁(92)，所述气浮滑块(81)的侧壁上连接有固定架(96)，所述固定架(96)上连接有电磁铁，所述永磁铁(92)的一端与朝向电磁铁；所述永磁铁(92)与电磁铁贴合时，所述电磁铁设置为通电时能够对永磁铁(92)产生吸力。

8.根据权利要求7所述的一种精密施压抛光装置，其特征在于：所述固定架(92)上螺纹连接有转动柱(93)，所述转动柱(93)为绝缘材料制成，所述转动柱(93)内部连接有电磁铁。

9.根据权利要求8所述的一种精密施压抛光装置，其特征在于：所述电磁铁包括铁芯(94)以及缠绕在铁芯(94)上的导线(95)，且导线(95)与电源连接。

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