CN115502845A - 高光模具抛光去料纹和麻点工艺 - Google Patents

高光模具抛光去料纹和麻点工艺 Download PDF

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Abstract

本发明属于注塑模具制造加工的技术领域，具体涉及高光模具抛光去料纹和麻点工艺，首先采用砂纸进行粗抛工序，清洗后以细化高光模具表面的料纹和麻点，实现初步的抛光打底；然后将抛光液涂于羊毛布上，再将羊毛布作为工具去除上述步骤中砂纸造成的打磨纹，对高光模具表面进行应力抛散，以进一步去除料纹和麻点；接下来将钻石膏涂于去料纹羊毛布上，而后将去料纹羊毛布作为工具去除上述步骤造成的抛光纹，从而对高光模具进行上光；其中，抛光液按重量份包括氧化铝粉5‑10份、分散剂0.5‑1.5份、悬浮剂0.5‑1.0份、润滑剂2‑5份和乳化剂0.5‑1.5份。本发明可以快速、高效地去除模具表面的料纹和麻点，整体方法简单，可复制性强，有利于标准化应用和推广。

Description

高光模具抛光去料纹和麻点工艺
技术领域
本发明属于模具加工的技术领域，具体涉及高光模具抛光去料纹和麻点工艺。
背景技术
高光模具的表面光泽度可达到镜面效果，能够提供表面无熔痕、无流痕、无流线、无缩痕的注塑产品，这不但提高了产品的强度和硬度，还有利于脱模，且可以使薄壁成型提高注塑流动性，进而缩短注塑周期，提高了注塑产品的制造效率；因此，高光模具因其具备诸多的优点而深受人们的欢迎。随着时代的进步和经济发展，人们对产品外观的要求也越来越高，高光无痕模具近年来得到了迅速的发展。
然而，高光模具在现实的机械加工过程中，表层会因热量、内应力或其他因素而损坏，产生材料应力纹和在材料表面形成麻点，影响注塑产品光学和高光质量，造成高光模具产品品质的下降，此时需要对高光模具进行报废处理，这样容易造成资源的浪费，还会提高生产的成本。目前去除料纹、麻点的方式一般是通过采用昂贵的原材料或降面加工技术，而降面加工会增加生产步骤，降低生产效率，与采用昂贵的原材料技术方案一样会增加生产成本，从而限制了该工艺的应用和发展，因而高光模具的抛光去料纹和麻点工艺有待进一步改进和优化。
本发明的目的也是基于现状，创造性地采用粒径较小的氧化铝抛光液作为抛光液，对高光模具表面进行应力抛散，达到去除料纹和麻点的目的，搭配砂纸抛光打底、抛光液应力抛散以及钻石膏上光处理的多种抛光、上光步骤，设计一种去料纹和麻点效果好，且经济实用的高光模具抛光去料纹和麻点工艺。
发明内容
针对上述现有领域存在的问题，本发明的目的是提供一种步骤简单、成本低廉且去料纹和麻点效率高、效果好的高光模具抛光去料纹和麻点工艺。为实现本发明的目的，采用如下技术方案：
一种高光模具抛光去料纹和麻点工艺，包括以下步骤：
(1)采用砂纸进行粗抛工序，清洗后以细化高光模具表面的料纹和麻点，实现初步的抛光打底；
(2)将抛光液涂于羊毛布上，再将羊毛布作为工具去除步骤(1)中砂纸造成的打磨纹，对高光模具表面进行应力抛散，以进一步去除料纹和麻点；
(3)将钻石膏涂于去料纹羊毛布上，而后将去料纹羊毛布作为工具去除步骤(2)造成的抛光纹，从而对高光模具进行上光；
其中，所述抛光液按重量份包括氧化铝粉5-10份、分散剂0.5-1.5份、悬浮剂0.5-1.0份、润滑剂2-5份和乳化剂0.5-1.5份。
优选的，步骤(1)包括以下步骤：
101)采用抛光机，先用600目砂纸对模具表面进行初步砂光；
102)依次采用800目、1000目和1200目砂纸逐级砂光；
103)再用1500目砂纸收光，完成初步的抛光打底。
优选的，步骤(1)所述初步的抛光打底的深度为0.01-0.05mm。
优选的，步骤(2)包括采用不同粒径的抛光液分别进行中抛、精抛和镜面抛光的步骤，且所述中抛抛光液中氧化铝粉的粒径为4-20μm，所述精抛抛光液中氧化铝粉的粒径为1-4μm，所述镜面抛光抛光液中氧化铝粉的粒径为1μm以下。
优选的，步骤(2)所述应力抛散的深度为0.005-0.010mm。
优选的，步骤(3)包括采用不同粒度的钻石膏进行表面抛光上光，具体包括以下步骤：
301)将含有W3.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，而后进行清洗；
302)再将含有W1.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，而后进行清洗；
303)最后将含有W0.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，清洗后用绒布收光，即完成上光处理。
优选的，步骤(3)中所述上光的深度为0.001-0.005mm。
优选的，所述清洗是采用天那水进行清洗。
优选的，所述抛光液按重量份包括氧化铝粉6份、分散剂0.5份、悬浮剂0.5份、润滑剂2份和乳化剂1份。
优选的，所述分散剂为聚丙烯酸钠、聚乙二醇或聚乙烯醇中的一种；所述悬浮剂为BYK-420、工业黄原胶或丙烯酸共聚物的一种；所述润滑剂为聚乙二醇、聚丙二醇、甘油或多甘醇中的一种或多种；所述乳化剂为烷基磷酸酯。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明采用氧化铝的混合物作为抛光液，充分发挥了氧化铝粉晶相稳定、硬度高、分散性和吸附性强、抛光和出光效率高、镜面效果好等优点，有助于释放材料内应力，对模具的表面进行应力抛散，从而改变材料表面金相组织，达到去除料纹和麻点的目的；结合了砂纸粗抛、抛光液应力抛散以及钻石膏上光等步骤，多层次、深程度地进行料纹和麻点的去除，既提高了料纹和麻点去除的效率，又提高了其去除效果，实用性强；整体方法简单，抛光效率高，可复制性强，可标准流程化，有利于推广和应用。
附图说明
图1为本发明一种高光模具抛光去料纹和麻点工艺的流程示意图；
图2为本发明中初步的抛光打底的流程示意图；
图3为本发明中上光处理的流程示意图；
图4为本发明工艺处理前后的表面粗糙度对比图(基恩士检测设备1000倍率)：(a)未处理前；(b)工艺处理后。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
具体实施例1
图1为本发明一种高光模具抛光去料纹和麻点工艺的流程示意图，并且结合图2和图3，从中可以看出，本发明的一种高光模具抛光去料纹和麻点工艺，包括以下步骤：
步骤S1：采用砂纸(油性的双鹰砂纸)进行粗抛工序，天那水清洗后以细化高光模具表面的料纹和麻点，实现初步的抛光打底。在本步骤中，采用抛光机，先用600目砂纸对模具表面进行初步砂光；再依次采用800目、1000目和1200目砂纸逐级砂光；最后用1500目砂纸收光，完成初步的抛光打底(如图2所示)。且该步骤中初步的抛光的深度为0.01mm。
步骤S2：将抛光液涂于羊毛布上，再将羊毛布作为工具去除步骤S1中砂纸造成的打磨纹，对高光模具表面进行应力抛散，以进一步去除料纹和麻点。在本步骤中，抛光处理包括采用不同粒径的抛光液分别进行中抛、精抛和镜面抛光的步骤，抛光液按重量份包括氧化铝粉(α-Al2O3)5份、分散剂0.5份、悬浮剂0.5份、润滑剂2份和乳化剂0.5份，其中，分散剂为聚丙烯酸钠，悬浮剂为BYK-420，润滑剂为聚乙二醇和聚丙二醇的混合物，乳化剂为烷基磷酸酯；具体的，中抛抛光液中氧化铝粉的粒径为4μm，精抛抛光液中氧化铝粉的粒径为1μm，镜面抛光抛光液中氧化铝粉的粒径为0.8μm；且该步骤中应力抛散的深度为0.005mm。
步骤S3：将钻石膏涂于去料纹羊毛布上(采用PH值较低的水性钻石膏作为研磨膏，其不会与前述处理工序的留存物产生中和，有利于抛光、上光步骤的进行，即去除麻点、料纹后，以便于达到高光/超光水平)，而后将去料纹羊毛布作为工具去除步骤S2造成的抛光纹，从而对高光模具进行上光，该步骤上光处理的深度为0.001mm，该步骤采用不同粒度的钻石膏进行表面抛光上光，具体包括以下步骤(如图3所示)：
步骤S301：将含有W3.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，而后进行天那水清洗；
步骤S302：再将含有W1.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，而后进行天那水清洗；
步骤S303：最后将含有W0.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，天那水清洗后用绒布收光，即完成上光处理。
具体实施例2
图1为本发明一种高光模具抛光去料纹和麻点工艺的流程示意图，并且结合图2和图3，从中可以看出，本发明的一种高光模具抛光去料纹和麻点工艺，包括以下步骤：
步骤S1：采用砂纸(油性的双鹰砂纸)进行粗抛工序，天那水清洗后以细化高光模具表面的料纹和麻点，实现初步的抛光打底。在本步骤中，采用抛光机，先用600目砂纸对模具表面进行初步砂光；再依次采用800目、1000目和1200目砂纸逐级砂光；最后用1500目砂纸收光，完成初步的抛光打底(如图2所示)。且该步骤中初步的抛光的深度为0.05mm。
步骤S2：将抛光液涂于羊毛布上，再将羊毛布作为工具去除步骤S1中砂纸造成的打磨纹，对高光模具表面进行应力抛散，以进一步去除料纹和麻点。在本步骤中，抛光处理包括采用不同粒径的抛光液分别进行中抛、精抛和镜面抛光的步骤，抛光液按重量份包括氧化铝粉(α-Al2O3)8份、分散剂1.5份、悬浮剂1.0份、润滑剂5份和乳化剂1.5份，其中，分散剂为聚乙二醇，悬浮剂为工业黄原胶，润滑剂为甘油和多甘醇的混合物，乳化剂为烷基磷酸酯；具体的，中抛抛光液中氧化铝粉的粒径为20μm，精抛抛光液中氧化铝粉的粒径为4μm，镜面抛光抛光液中氧化铝粉的粒径为0.6μm；且该步骤中应力抛散的深度为0.010mm。
步骤S3：将钻石膏涂于去料纹羊毛布上(采用PH值较低的水性钻石膏作为研磨膏，其不会与前述处理工序的留存物产生中和，有利于抛光、上光步骤的进行，即去除麻点、料纹后，以便于达到高光/超光水平)，而后将去料纹羊毛布作为工具去除步骤S2造成的抛光纹，从而对高光模具进行上光，该步骤上光处理的深度为0.005mm，该步骤采用不同粒度的钻石膏进行表面抛光上光，具体包括以下步骤(如图3所示)：
步骤S301：将含有W3.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，而后进行天那水清洗；
步骤S302：再将含有W1.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，而后进行天那水清洗；
步骤S303：最后将含有W0.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，天那水清洗后用绒布收光，即完成上光处理。
具体实施例3
图1为本发明一种高光模具抛光去料纹和麻点工艺的流程示意图，并且结合图2和图3，从中可以看出，本发明的一种高光模具抛光去料纹和麻点工艺，包括以下步骤：
步骤S1：采用砂纸(油性的双鹰砂纸)进行粗抛工序，天那水清洗后以细化高光模具表面的料纹和麻点，实现初步的抛光打底。在本步骤中，采用抛光机，先用600目砂纸对模具表面进行初步砂光；再依次采用800目、1000目和1200目砂纸逐级砂光；最后用1500目砂纸收光，完成初步的抛光打底(如图2所示)。且该步骤中初步的抛光的深度为0.03mm。
步骤S2：将抛光液涂于羊毛布上，再将羊毛布作为工具去除步骤S1中砂纸造成的打磨纹，对高光模具表面进行应力抛散，以进一步去除料纹和麻点。在本步骤中，抛光处理包括采用不同粒径的抛光液分别进行中抛、精抛和镜面抛光的步骤，抛光液按重量份包括氧化铝粉(α-Al2O3)6份、分散剂0.5份、悬浮剂0.5份、润滑剂2份和乳化剂1份，其中，分散剂为聚乙烯醇，悬浮剂为丙烯酸共聚物，润滑剂为聚乙二醇，乳化剂为烷基磷酸酯；具体的，中抛抛光液中氧化铝粉的粒径为10μm，精抛抛光液中氧化铝粉的粒径为2μm，镜面抛光抛光液中氧化铝粉的粒径为0.8μm；且该步骤中应力抛散的深度为0.008mm。
步骤S3：将钻石膏涂于去料纹羊毛布上(采用PH值较低的水性钻石膏作为研磨膏，其不会与前述处理工序的留存物产生中和，有利于抛光、上光步骤的进行，即去除麻点、料纹后，以便于达到高光/超光水平)，而后将去料纹羊毛布作为工具去除步骤S2造成的抛光纹，从而对高光模具进行上光，该步骤上光处理的深度为0.002mm，该步骤采用不同粒度的钻石膏进行表面抛光上光，具体包括以下步骤(如图3所示)：
步骤S301：将含有W3.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，而后进行天那水清洗；
步骤S302：再将含有W1.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，而后进行天那水清洗；
步骤S303：最后将含有W0.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，天那水清洗后用绒布收光，即完成上光处理。
图4为本发明工艺处理前后的表面粗糙度对比图(基恩士检测设备1000倍率)，从中可以看出，模具未处理前，表面粗糙度检测显示出局部沙孔严重，检测显示表面粗造度峰值在1042μm；而采用本发明的工艺处理后，检测到模具表面的粗糙度得到了改善，沙孔不可见，且检测显示表面粗造度峰值在8.06μm。上述检测数剧表明，本发明的工艺可以显著、有效地去除高光模具的料纹和麻点。
从本发明的以上各实施例可看出，本发明采用氧化铝的混合物作为抛光液，充分发挥了氧化铝粉晶相稳定、硬度高、分散性和吸附性强、抛光和出光效率高、镜面效果好等优点，有助于释放材料内应力，对模具的表面进行应力抛散，从而改变材料表面金相组织，达到去除料纹和麻点的目的；结合了砂纸粗抛、抛光液应力抛散以及钻石膏上光等步骤，多层次、深程度地进行料纹和麻点的去除，既提高了料纹和麻点去除的效率，又提高了其去除效果，实用性强；整体方法简单，抛光效率高，可复制性强，可标准流程化，有利于推广和应用。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉该技术的人在本发明所揭露的技术范围内，可理解想到的变换或更替，都应涵盖在本发明的包含范围之内，因此，本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种高光模具抛光去料纹和麻点工艺，其特征在于：包括以下步骤：
(1)采用砂纸进行粗抛工序，清洗后以细化高光模具表面的料纹和麻点，实现初步的抛光打底；
(2)将抛光液涂于羊毛布上，再将羊毛布作为工具去除步骤(1)中砂纸造成的打磨纹，对高光模具表面进行应力抛散，以进一步去除料纹和麻点；
(3)将钻石膏涂于去料纹羊毛布上，而后将去料纹羊毛布作为工具去除步骤(2)造成的抛光纹，从而对高光模具进行上光；
其中，所述抛光液按重量份包括氧化铝粉5-8份、分散剂0.5-1.5份、悬浮剂0.5-1.0份、润滑剂2-5份和乳化剂0.5-1.5份。
2.根据权利要求1所述高光模具抛光去料纹和麻点工艺，其特征在于：步骤(1)包括以下步骤：
101)采用抛光机，先用600目砂纸对模具表面进行初步砂光；
102)依次采用800目、1000目和1200目砂纸逐级砂光；
103)再用1500目砂纸收光，完成初步的抛光打底。
3.根据权利要求1或2所述高光模具抛光去料纹和麻点工艺，其特征在于：步骤(1)所述初步的抛光打底的深度为0.01-0.05mm。
4.根据权利要求1所述高光模具抛光去料纹和麻点工艺，其特征在于：步骤(2)包括采用不同粒径的抛光液分别进行中抛、精抛和镜面抛光的步骤，且所述中抛抛光液中氧化铝粉的粒径为4-20μm，所述精抛抛光液中氧化铝粉的粒径为1-4μm，所述镜面抛光抛光液中氧化铝粉的粒径为1μm以下。
5.根据权利要求1或4所述高光模具抛光去料纹和麻点工艺，其特征在于：步骤(2)所述应力抛散的深度为0.005-0.010mm。
6.根据权利要求1所述高光模具抛光去料纹和麻点工艺，其特征在于：步骤(3)包括采用不同粒度的钻石膏进行表面抛光上光，具体包括以下步骤：
301)将含有W3.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，而后进行清洗；
302)再将含有W1.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，而后进行清洗；
303)最后将含有W0.5号钻石膏的研磨膏涂抹于去料纹羊毛布上，进行表面研磨，清洗后用绒布收光，即完成上光处理。
7.根据权利要求1或6所述高光模具抛光去料纹和麻点工艺，其特征在于：步骤(3)中所述上光的深度为0.001-0.005mm。
8.根据权利要求1或6所述高光模具抛光去料纹和麻点工艺，其特征在于：所述清洗是采用天那水进行清洗。
9.根据权利要求1所述高光模具抛光去料纹和麻点工艺，其特征在于：所述抛光液按重量份包括氧化铝粉6份、分散剂0.5份、悬浮剂0.5份、润滑剂2份和乳化剂1份。
10.根据权利要求1或9所述高光模具抛光去料纹和麻点工艺，其特征在于：所述分散剂为聚丙烯酸钠、聚乙二醇或聚乙烯醇中的一种；所述悬浮剂为BYK-420、工业黄原胶或丙烯酸共聚物的一种；所述润滑剂为聚乙二醇、聚丙二醇、甘油或多甘醇中的一种或多种；所述乳化剂为烷基磷酸酯。
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