CN115466930A - 镀膜设备及其靶材承载装置 - Google Patents

镀膜设备及其靶材承载装置 Download PDF

Info

Publication number
CN115466930A
CN115466930A CN202211114382.1A CN202211114382A CN115466930A CN 115466930 A CN115466930 A CN 115466930A CN 202211114382 A CN202211114382 A CN 202211114382A CN 115466930 A CN115466930 A CN 115466930A
Authority
CN
China
Prior art keywords
target
power transmission
transmission member
coolant
sealing structure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202211114382.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN115466930B (zh
Inventor
王怀民
姜友松
杨运
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anhui Qimang Photoelectric Technology Co ltd
Original Assignee
Anhui Qimang Photoelectric Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anhui Qimang Photoelectric Technology Co ltd filed Critical Anhui Qimang Photoelectric Technology Co ltd
Priority to CN202211114382.1A priority Critical patent/CN115466930B/zh
Publication of CN115466930A publication Critical patent/CN115466930A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN115466930B publication Critical patent/CN115466930B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J25/00Transit-time tubes, e.g. klystrons, travelling-wave tubes, magnetrons
    • H01J25/50Magnetrons, i.e. tubes with a magnet system producing an H-field crossing the E-field

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

公开一种靶材承载装置,用于承载镀膜腔内围绕一旋转轴线转动的靶材;所述靶材承载装置包括:用于带动所述靶材转动的动力传递件;可转动的电接触件;用于支承所述靶材转动的支承件;用于密封冷却剂的冷却剂密封结构;用于密封气体的气体密封结构;其中,所述动力传递件、所述电接触件、所述支承件、所述冷却剂密封结构和所述气体密封结构中的至少三个部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。本说明书所提供的镀膜设备及其靶材承载装置,该靶材承载装置结构简单且易于装配。

Description

镀膜设备及其靶材承载装置
技术领域
本说明书涉及溅射镀膜设备技术领域,尤其涉及一种镀膜设备及其靶材承载装置。
背景技术
旋转靶材的磁控溅射被广泛地用于在基片上制作各种不同的薄膜。在旋转靶磁控溅射中,靶材总成由靶材和磁控管组成。
待溅射的材料以圆柱形的形状形成或被粘附到由刚性材料制成的圆柱形支撑管的外表面,一般把这部分统称为靶材。磁铁按照一定的规则布置在导磁板上,再通过刚性材料制成的外壳对其进行包裹,一般把这部分统称为磁控管。磁控管被安置在靶材的圆柱形支撑管内,从而组成靶材总成。磁控管为靶材总成提供磁通量,磁通量穿过靶材,使得在靶材的外表面存在磁通量。该磁通量对靶材表面附件的电子进行约束,从而实现溅射的持续进行。
由于靶材总成自身没有支撑结构,故而需要另外提供靶材承载装置。且靶材总成自身仅能提供磁场,故而靶材总成还需要外界提供动力源和冷却剂,这些都由靶材的承载装置来完成。
中国发明CN200580035605.3公开了一种靶材的承载装置,该发明对于组成靶材承载装置的子构件的布置方式进行了限定,即所有构成靶材承载装置的子构件的至少两个装置彼此沿径向布置,所述两个装置的至少两个区域在旋转轴线上彼此重叠。该发明的益处是显而易见的,即该发明提供的靶材承载装置轴向“扁平”,但该发明的缺点也是非常明显,参照其两个实施例,该发明提供的靶材承载装置结构复杂,密封点多,装配困难且要求高。
发明内容
鉴于现有技术的不足,本说明书的一个目的是提供一种镀膜设备及其靶材承载装置,该靶材承载装置结构简单且易于装配。
为达到上述目的,本说明书实施方式提供一种靶材承载装置,用于承载镀膜腔内围绕一旋转轴线转动的靶材;所述靶材承载装置包括:
用于带动所述靶材转动的动力传递件;
可转动的电接触件;
用于支承所述靶材转动的支承件;
用于密封冷却剂的冷却剂密封结构;
用于密封气体的气体密封结构;
其中,所述动力传递件、所述电接触件、所述支承件、所述冷却剂密封结构和所述气体密封结构中的至少三个部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
作为一种优选的实施方式,所述动力传递件、所述电接触件和所述支承件中的任意两个部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
作为一种优选的实施方式,所述冷却剂密封结构与所述动力传递件、所述电接触件、所述支承件中的任意一个部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
作为一种优选的实施方式,所述气体密封结构与所述冷却剂密封结构、所述动力传递件、所述电接触件、所述支承件中的任意一个部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
作为一种优选的实施方式,所述电接触件、所述动力传递件、所述支承件、所述冷却剂密封结构、所述气体密封结构沿轴向顺次排布。
作为一种优选的实施方式,所述支承件包括至少一个轴承;其中,所有所述轴承与其他部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
作为一种优选的实施方式,所述冷却剂密封结构包括至少一个密封件;其中,所有所述密封件与其他部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
作为一种优选的实施方式,所述靶材承载装置还包括:
用于与腔壁固定相连的第一安装座;
固定设于所述第一安装座内的第二安装座,所述第二安装座包括沿轴向延伸的延伸管体,所述延伸管体与所述第一安装座之间具有容纳腔;所述电接触件、所述动力传递件和所述支承件在所述容纳腔内沿所述轴向顺次排布,所述电接触件位于所述动力传递件远离所述靶材的一侧,所述支承件位于所述动力传递件靠近所述靶材的一侧。
作为一种优选的实施方式,所述动力传递件可转动地套设于所述延伸管体外,所述动力传递件背离所述电接触件的一侧连接有导电传动件,所述导电传动件背离所述动力传递件的一侧连接有用于安装靶材的安装法兰;
所述安装法兰和所述第一安装座之间设有所述气体密封结构;所述支承件固定套设于所述导电传动件外;所述导电传动件和所述支承件之间设有绝缘部。
作为一种优选的实施方式,所述第二安装座包括与所述延伸管体远离所述靶材的一端相连的底座,所述延伸管体背离所述底座的一端不低于所述导电传动件背离所述动力传递件的一端。
作为一种优选的实施方式,所述延伸管体的内部限定有冷却剂流动空间;所述冷却剂密封结构包括设于所述导电传动件和所述延伸管体之间的第一密封件、以及设于所述导电传动件和所述安装法兰之间的第二密封件,所述第二密封件环套于所述导电传动件外,所述第二密封件和所述第一密封件在所述旋转轴线上的垂直投影存在重叠部分。
作为一种优选的实施方式,所述第一安装座包括沿轴向排列可拆卸连接的第一主体和第二主体;所述第二安装座包括与所述延伸管体的一端相连的底座,所述底座设置于所述第二主体面对所述第一主体的一侧;所述第一安装座和所述第二安装座由导电材料制成,所述底座和所述第二主体之间具有绝缘间隙。
本说明书实施方式还提供一种镀膜设备,包括如上任一种实施方式所述的靶材承载装置。
有益效果:
本实施方式所提供的靶材承载装置,设置动力传递件用于带动靶材转动,设置可转动的电接触件用于导电,设置支承件用于支承靶材转动,设置冷却剂密封结构用于密封冷却剂,设置气体密封结构用于密封气体,从而靶材承载装置能使靶材正常工作;并且,动力传递件、电接触件、支承件、冷却剂密封结构和气体密封结构中的至少三个部件在靶材旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分,也即至少三个部件在旋转轴线延伸方向上没有重合部分,从而可以简化靶材承载装置的结构,使靶材承载装置结构简单且易于装配。
参照后文的说明和附图,详细公开了本发明的特定实施方式,指明了本发明的原理可以被采用的方式。应该理解,本发明的实施方式在范围上并不因而受到限制。
针对一种实施方式描述和/或示出的特征可以以相同或类似的方式在一个或更多个其它实施方式中使用,与其它实施方式中的特征相组合,或替代其它实施方式中的特征。
应该强调,术语“包括/包含”在本文使用时指特征、整件、步骤或组件的存在,但并不排除一个或更多个其它特征、整件、步骤或组件的存在或附加。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实施方式中所提供的一种靶材承载装置的剖面结构示意图;
图2为本实施方式中所提供的一种靶材承载装置的冷却液的流动方向示意图;
图3为本实施方式中所提供的一种靶材承载装置的电流流动方向示意图。
附图标记说明:
1、动力传递件;2、电接触件;3、支承件;4、冷却剂密封结构;41、第一密封件;42、第二密封件;5、气体密封结构;6、导电传动件;7、安装法兰;8、绝缘部;9、旋转轴线;10、第一安装座;101、第一主体;102、第二主体;11、绝缘间隙;12、第二安装座;121、延伸管体;122、底座;13、冷却剂输送管;14、腔壁;15、滑动轴套;16、固定座;17、连接环;18、电流接入端口;19、开口;20、冷却剂流动空间;21、导流孔;22、紧固件。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明中的技术方案,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本发明保护的范围。
需要说明的是,当元件被称为“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的另一个元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中另一个元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
请参阅图1。本申请实施方式提供一种靶材承载装置,用于承载镀膜腔内围绕一旋转轴线9转动的靶材。靶材承载装置包括动力传递件1、电接触件2、支承件3、冷却剂密封结构4和气体密封结构5。
其中,动力传递件1用于带动靶材转动。电接触件2可转动用于导电。支承件3用于支承靶材转动。冷却剂密封结构4用于密封冷却剂。设置气体密封结构5用于密封气体。从而靶材承载装置能使靶材正常工作。
动力传递件1、电接触件2、支承件3、冷却剂密封结构4和气体密封结构5中的至少三个部件在旋转轴线9上的垂直投影不存在重叠部分,也即至少三个部件在轴向上没有重合部分,从而可以简化靶材承载装置的结构,使靶材承载装置结构简单且易于装配。本实施方式中的轴向即为旋转轴线9的延伸方向。
具体的,动力传递件1、电接触件2和支承件3中的任意两个部件在旋转轴线9上的垂直投影不存在重叠部分,也即动力传递件1、电接触件2和支承件3在轴向上没有重合部分,垂直于旋转轴线9延伸方向的平面至多经过动力传递件1、电接触件2和支承件3的其中之一,动力传递件1、电接触件2和支承件3沿轴向分布,使结构简单,易于装配。
进一步地,冷却剂密封结构4与动力传递件1、电接触件2、支承件3中的任意一个部件在旋转轴线9上的垂直投影不存在重叠部分,即冷却剂密封结构4、动力传递件1、电接触件2和支承件3在轴向上没有重合部分,垂直于旋转轴线9延伸方向的平面至多经过冷却剂密封结构4、动力传递件1、电接触件2和支承件3的其中之一,冷却剂密封结构4、动力传递件1、电接触件2和支承件3沿轴向分布,使结构简单,易于装配。
更进一步地,气体密封结构5与冷却剂密封结构4、动力传递件1、电接触件2、支承件3中的任意一个部件在旋转轴线9上的垂直投影不存在重叠部分,即气体密封结构5、冷却剂密封结构4、动力传递件1、电接触件2和支承件3在轴向上没有重合部分,垂直于旋转轴线9延伸方向的平面至多经过气体密封结构5、冷却剂密封结构4、动力传递件1、电接触件2和支承件3的其中之一,气体密封结构5、冷却剂密封结构4、动力传递件1、电接触件2和支承件3沿轴向分布,使结构简单,易于装配。
如图1所示,优选的,电接触件2、动力传递件1、支承件3、冷却剂密封结构4、气体密封结构5沿轴向顺次排布。各部件可以沿轴向依次组装,结构简单、层次清晰,加工方便,加工成本低。
具体的,靶材承载装置可以包括第一安装座10和第二安装座12。其中,第一安装座10用于与腔壁14固定相连。第二安装座12固定设于第一安装座10内。第二安装座12包括沿轴向延伸的延伸管体121。延伸管体121与第一安装座10之间具有容纳腔。电接触件2、动力传递件1和支承件3在容纳腔内沿轴向顺次排布,电接触件2位于动力传递件1远离靶材的一侧,支承件3位于动力传递件1靠近靶材的一侧。第一安装座10和第二安装座12为电接触件2、动力传递件1和支承件3提供了安装位置,使结构更简洁。
具体的,动力传递件1可转动地套设于延伸管体121外,动力传递件1背离电接触件2的一侧连接有导电传动件6,导电传动件6背离动力传递件1的一侧连接有用于安装靶材的安装法兰7。外部提供的动力由动力传递件1传递给导电传动件6,再继续传递给安装法兰7,最终通过安装法兰7传递给靶材,使靶材能绕旋转轴线9转动。
优选的,如图1所示,第一安装座10和第二安装座12之间在面对腔壁14的一侧设有至少露出部分动力传递件1的开口19。动力传递件1通过开口19与腔壁14外的动力件相连。该动力件用于驱动动力传递件1旋转从而带动靶材旋转。动力件可以是马达,其为整个装置提供动力。动力传递件1可以是齿轮或同步皮带等,可以将外部的动力件提供的动力传导至装置内,使得靶材能绕旋转轴线9转动。在本实施例中,动力传递件1为齿轮。
如图1所示,气体密封结构5设于安装法兰7和第一安装座10之间,将安装法兰7和第一安装座10之间的缝隙进行密封,以保证靶材承载装置的密封性。支承件3固定套设于导电传动件6外。在本实施方式中,支承件3包括至少一个轴承,所有轴承与其他部件在旋转轴线9上的垂直投影不存在重叠部分,从而简化该靶材承载装置的结构。优选的,支承件3包括一个轴承,轴承内圈为动圈,固定套设于导电传动件6的外壁面,轴承内圈与导电传动件6的外壁面紧密连接。轴承外圈为静圈,固定设置于第一安装座10内,从而导电传动件6可以相对于第一安装座10旋转。为了保证支承件3和导电传动件6之间的绝缘,在导电传动件6和支承件3之间设有绝缘部8。该绝缘部8可以是喷涂于导电传动件6和轴承内圈的配合面上的绝缘隔层。绝缘部8的作用是将支承件3与带电的导电传动件6绝缘,使得导电传动件6中的电流不会流入第一安装座10中。
在轴向上,导电传动件6的上表面与安装法兰7可以采用螺钉或销钉紧密连接,导电传动件6的下表面与动力传递件1可以采用螺钉紧密连接。这样安装法兰7和动力传递件1通过导电传动件6连接起来了,能旋转的各个部件的着力点都通过支承件3落在第一安装座10上,且动力传递件1、导电传动件6和安装法兰7可以在轴承内圈作用下绕着旋转轴线9旋转。如图1所示,沿轴向自上而下安装有安装法兰7、导电传动件6/支承件3、动力传递件1、电接触件2,且各部件以旋转轴线9为中心,组装结构层次清晰。
在本实施方式中,第二安装座12包括与延伸管体121远离靶材的一端相连的底座122。延伸管体121为空心圆柱状。延伸管体121背离底座122的一端为敞口,延伸管体121的中心轴线和旋转轴线9共线。延伸管体121背离底座122的一端不低于导电传动件6背离动力传递件1的一端,使得从动力传递件1及其下方的位置不需要密封部件,从而减少密封部位,可以提高本装置的可靠性。优选的,延伸管体121背离底座122的一端与导电传动件6背离动力传递件1的一端齐平,即延伸管体121的顶端与导电传动件6的顶端在径向上对齐,延伸管体121的顶端与导电传动件6的顶端在轴向上为同一高度。
如图2所示,延伸管体121内设有用于向靶材提供冷却剂的冷却剂输送管13,安装法兰7上设有使冷却剂从靶材总成流入靶材承载装置的导流孔21。延伸管体121的内部限定有冷却剂流动空间20,供冷却剂流动。冷却液输送管的出口位于底部,与延伸管体121远离靶材的一端相邻。延伸管体121的顶端最高可以位于导流孔21下方。靶材在工作时,冷却剂输送管13中通入冷却液,冷却液可以吸收靶材承载装置和靶材工作时产生的热量,以防止靶材和靶材承载装置工作时的温度过高。
具体的,如图2所示,冷却剂从冷却液输送管的出口流出,在底部中心处向上流入靶材总成,靶材总成使用过的冷却剂从导流孔21流回靶材承载装置,再从靶材承载装置排出。图2中的中心流道和周边流道在底部隔离开,以保证冷却剂输送管13流出的冷却剂从中心进入靶材。
具体的,冷却剂密封结构4包括至少一个密封件,所有密封件与其他部件在旋转轴线9上的垂直投影不存在重叠部分。在本实施例中,冷却剂密封结构4包括设于导电传动件6和延伸管体121之间的第一密封件41、以及设于导电传动件6和安装法兰7之间的第二密封件42。第二密封件42环套于导电传动件6外,第二密封件42和第一密封件41在旋转轴线9上的垂直投影存在重叠部分。
由于溅射是在低于大气压的环境中进行的,靶材承载装置必须在任何时候均保持气密性,即在靶材转动时也需确保气密性。本实施方式提供的靶材承载装置通过设置气体密封结构5和冷却剂密封结构4将靶材承载装置的内部密封。
为了保证靶材承载装置的气密性,第一密封件41将延伸管体121与导电传动件6、动力传递件1以及电接触件2之间的缝隙密封。同时,第一密封部件可以确保冷却液不会泄露至延伸管体121的外侧。具体的,第一密封件41由绝缘材料制成,第一密封件41可以是密封圈。
第二密封件42的至少部分位于支承件3的远离动力传递件1的一侧,以压紧支承件3。紧固件22穿设在第二密封件42和第一安装座10上,以将第二密封件42固定在第一安装座10上。具体的,第二密封件42由绝缘材料制成。
如图1所示,电接触件2包括电刷和固定座16。底座122上设有用于容纳固定座16的凹槽,电刷安装于固定座16和动力传递件1之间。电刷安装于固定座16的上表面,电刷底部安装有弹簧,在底部弹簧的弹力作用下,电刷的顶面与动力传递件1的底面保持一直接触的状态。固定座16上可以沿周向均匀安装有六个电刷,每个电刷均覆盖固定座16端面的一个区段。冷却剂输送管13和固定座16分别固定安装于延伸管体121的内外侧,冷却剂输送管13的轴线和固定座16的轴线均与旋转轴线9重合。
如图1所示,为了便于第二安装座12的安装,第一安装座10包括沿轴向排列可拆卸连接的第一主体101和第二主体102。需要将第二安装座12安装于第一安装座10内时,将第一主体101和第二主体102分离,将第二安装座12安装于第一安装座10内后,将第一主体101和第二主体102固定连接。
具体的,第二安装座12的底座122设置于第二主体102面对第一主体101的一侧。第一安装座10和第二安装座12由导电材料制成,底座122和第二主体102之间具有绝缘间隙11。延伸管体121与动力传递件1和导电传动件6之间均夹设有滑动轴套15,保证了动力传递件1和导电传动件6相对于延伸管体121的转动。
如图3所示,在第二安装座12的一侧可以连接有电流接入端口18。本实施方式中,靶材承载装置的电流流动方向为:电流顺次通过电流接入端口18、第二安装座12的底座122、电接触件2、动力传递件1、导电传动件6、安装法兰7,最终进入靶材表面。
基于同一构思,本发明实施例中还提供了一种镀膜设备,如下面的实施例所述。由于该镀膜设备解决问题的原理,以及能够取得的技术效果与上述靶材承载装置相似,因此该镀膜设备的实施可以参见上述靶材承载装置的实施,重复之处不再赘述。
本发明一个实施例还提供一种镀膜设备,包括:如上任意一项实施例所述的靶材承载装置。
需要说明的是,本实施例提供的镀膜设备具有的真空腔室、镀膜架以及其他部分(例如动力部分、控制部分)等可以选用任意合适的现有构造。为清楚简要地说明本实施例所提供的技术方案,在此将不再对上述部分进行赘述,说明书附图也进行了相应简化。但是应该理解,本实施例在范围上并不因此而受到限制。
实际工作时,靶材承载装置可以以直角形式固定在镀膜设备的腔壁14或者门体上,靶材总成安装于靶材承载装置上,其中磁控管部件插入冷却剂输送管13,从而磁控管部件相对于靶材静止;靶材与安装法兰7接触,可以利用连接环17将靶材与安装法兰7可拆卸地固定在一起。
需要说明的是,在本说明书的描述中,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的和区别类似的对象,两者之间并不存在先后顺序,也不能理解为指示或暗示相对重要性。此外,在本说明书的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
本文引用的任何数值都包括从下限值到上限值之间以一个单位递增的下值和上值的所有值,在任何下值和任何更高值之间存在至少两个单位的间隔即可。举例来说,如果阐述了一个部件的数量或过程变量(例如温度、压力、时间等)的值是从1到90,优选从20到80,更优选从30到70,则目的是为了说明该说明书中也明确地列举了诸如15到85、22到68、43到51、30到32等值。对于小于1的值,适当地认为一个单位是0.0001、0.001、0.01、0.1。这些仅仅是想要明确表达的示例,可以认为在最低值和最高值之间列举的数值的所有可能组合都是以类似方式在该说明书明确地阐述了的。
除非另有说明,所有范围都包括端点以及端点之间的所有数字。与范围一起使用的“大约”或“近似”适合于该范围的两个端点。因而,“大约20到30”旨在覆盖“大约20到大约30”,至少包括指明的端点。
披露的所有文章和参考资料,包括专利申请和出版物,出于各种目的通过援引结合于此。描述组合的术语“基本由…构成”应该包括所确定的元件、成分、部件或步骤以及实质上没有影响该组合的基本新颖特征的其他元件、成分、部件或步骤。使用术语“包含”或“包括”来描述这里的元件、成分、部件或步骤的组合也想到了基本由这些元件、成分、部件或步骤构成的实施方式。这里通过使用术语“可以”,旨在说明“可以”包括的所描述的任何属性都是可选的。
多个元件、成分、部件或步骤能够由单个集成元件、成分、部件或步骤来提供。另选地,单个集成元件、成分、部件或步骤可以被分成分离的多个元件、成分、部件或步骤。用来描述元件、成分、部件或步骤的公开“一”或“一个”并不说为了排除其他的元件、成分、部件或步骤。
应该理解,以上描述是为了进行图示说明而不是为了进行限制。通过阅读上述描述,在所提供的示例之外的许多实施方式和许多应用对本领域技术人员来说都将是显而易见的。因此,本教导的范围不应该参照上述描述来确定,而是应该参照所附权利要求以及这些权利要求所拥有的等价物的全部范围来确定。出于全面之目的,所有文章和参考包括专利申请和公告的公开都通过参考结合在本文中。在前述权利要求中省略这里公开的主题的任何方面并不是为了放弃该主体内容,也不应该认为发明人没有将该主题考虑为所公开的发明主题的一部分。

Claims (13)

1.一种靶材承载装置,用于承载镀膜腔内围绕一旋转轴线转动的靶材;所述靶材承载装置包括:
用于带动所述靶材转动的动力传递件;
可转动的电接触件;
用于支承所述靶材转动的支承件;
用于密封冷却剂的冷却剂密封结构;
用于密封气体的气体密封结构;
其中,所述动力传递件、所述电接触件、所述支承件、所述冷却剂密封结构和所述气体密封结构中的至少三个部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
2.根据权利要求1所述的靶材承载装置,所述动力传递件、所述电接触件和所述支承件中的任意两个部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
3.根据权利要求2所述的靶材承载装置,所述冷却剂密封结构与所述动力传递件、所述电接触件、所述支承件中的任意一个部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
4.根据权利要求3所述的靶材承载装置,所述气体密封结构与所述冷却剂密封结构、所述动力传递件、所述电接触件、所述支承件中的任意一个部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
5.根据权利要求4所述的靶材承载装置,所述电接触件、所述动力传递件、所述支承件、所述冷却剂密封结构、所述气体密封结构沿轴向顺次排布。
6.根据权利要求1所述的靶材承载装置,所述支承件包括至少一个轴承;其中,所有所述轴承与其他部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
7.根据权利要求1所述的靶材承载装置,所述冷却剂密封结构包括至少一个密封件;其中,所有所述密封件与其他部件在所述旋转轴线上的垂直投影不存在重叠部分。
8.根据权利要求1所述的靶材承载装置,所述靶材承载装置包括:
用于与腔壁固定相连的第一安装座;
固定设于所述第一安装座内的第二安装座,所述第二安装座包括沿轴向延伸的延伸管体,所述延伸管体与所述第一安装座之间具有容纳腔;所述电接触件、所述动力传递件和所述支承件在所述容纳腔内沿所述轴向顺次排布,所述电接触件位于所述动力传递件远离所述靶材的一侧,所述支承件位于所述动力传递件靠近所述靶材的一侧。
9.根据权利要求8所述的靶材承载装置,所述动力传递件可转动地套设于所述延伸管体外,所述动力传递件背离所述电接触件的一侧连接有导电传动件,所述导电传动件背离所述动力传递件的一侧连接有用于安装靶材的安装法兰;
所述安装法兰和所述第一安装座之间设有所述气体密封结构;所述支承件固定套设于所述导电传动件外;所述导电传动件和所述支承件之间设有绝缘部。
10.根据权利要求9所述的靶材承载装置,所述第二安装座包括与所述延伸管体远离所述靶材的一端相连的底座,所述延伸管体背离所述底座的一端不低于所述导电传动件背离所述动力传递件的一端。
11.根据权利要求9所述的靶材承载装置,所述延伸管体的内部限定有冷却剂流动空间;所述冷却剂密封结构包括设于所述导电传动件和所述延伸管体之间的第一密封件、以及设于所述导电传动件和所述安装法兰之间的第二密封件,所述第二密封件环套于所述导电传动件外,所述第二密封件和所述第一密封件在所述旋转轴线上的垂直投影存在重叠部分。
12.根据权利要求8所述的靶材承载装置,所述第一安装座包括沿轴向排列可拆卸连接的第一主体和第二主体;所述第二安装座包括与所述延伸管体远离所述靶材的一端相连的底座,所述底座设置于所述第二主体面对所述第一主体的一侧;所述第一安装座和所述第二安装座由导电材料制成,所述底座和所述第二主体之间具有绝缘间隙。
13.一种镀膜设备,包括如权利要求1至12中任一项所述的靶材承载装置。
CN202211114382.1A 2022-09-13 2022-09-13 镀膜设备及其靶材承载装置 Active CN115466930B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211114382.1A CN115466930B (zh) 2022-09-13 2022-09-13 镀膜设备及其靶材承载装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211114382.1A CN115466930B (zh) 2022-09-13 2022-09-13 镀膜设备及其靶材承载装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN115466930A true CN115466930A (zh) 2022-12-13
CN115466930B CN115466930B (zh) 2023-05-23

Family

ID=84332990

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202211114382.1A Active CN115466930B (zh) 2022-09-13 2022-09-13 镀膜设备及其靶材承载装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN115466930B (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101044257A (zh) * 2004-10-18 2007-09-26 贝卡尔特先进涂层公司 一种用于承载可转动的溅射靶材的扁平端块
CN101137764A (zh) * 2005-03-11 2008-03-05 贝卡尔特先进涂层公司 单一的直角端块
WO2011050306A1 (en) * 2009-10-23 2011-04-28 Kaonetics Technologies, Inc. Device, system and method for generating electromagnetic wave forms, subatomic particles, substantially charge-less particles, and/or magnetic waves with substantially no electric field
DE102010031259A1 (de) * 2010-07-12 2012-01-12 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Stützeinrichtung für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target
CN111593313A (zh) * 2020-07-17 2020-08-28 广东鼎泰机器人科技有限公司 一种涂层机的机芯构造
CN114156149A (zh) * 2021-11-25 2022-03-08 北京北方华创微电子装备有限公司 磁控管装置和半导体工艺设备

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101044257A (zh) * 2004-10-18 2007-09-26 贝卡尔特先进涂层公司 一种用于承载可转动的溅射靶材的扁平端块
CN101137764A (zh) * 2005-03-11 2008-03-05 贝卡尔特先进涂层公司 单一的直角端块
WO2011050306A1 (en) * 2009-10-23 2011-04-28 Kaonetics Technologies, Inc. Device, system and method for generating electromagnetic wave forms, subatomic particles, substantially charge-less particles, and/or magnetic waves with substantially no electric field
DE102010031259A1 (de) * 2010-07-12 2012-01-12 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Stützeinrichtung für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target
CN111593313A (zh) * 2020-07-17 2020-08-28 广东鼎泰机器人科技有限公司 一种涂层机的机芯构造
CN114156149A (zh) * 2021-11-25 2022-03-08 北京北方华创微电子装备有限公司 磁控管装置和半导体工艺设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN115466930B (zh) 2023-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6034830B2 (ja) 回転可能なスパッタリングターゲットを支持する平面エンドブロック
EP0665574B1 (en) Rotating-anode x-ray tube
JP2013524015A (ja) 円筒形の回転する磁電管スパッタリング陰極装置及び無線周波放射を使用して材料を蒸着する方法
WO2012011149A1 (ja) 電力導入装置及び電力導入装置を用いた真空処理装置
JP2009513818A (ja) 回転管状スパッタターゲット組立体
KR101625318B1 (ko) 전력 도입 장치 및 진공 처리 장치
US20060043682A1 (en) Self-cooling ferrfluid seal
CN215950468U (zh) 多端口阀门、以及具有该多端口阀门的热管理系统
US5923106A (en) Integrated fuel cell electric motor with static fuel cell and rotating magnets
US20120097526A1 (en) Rotary magnetron
CN115466930A (zh) 镀膜设备及其靶材承载装置
US4190780A (en) Liquid cooled disc machines
US6490869B1 (en) Manifold with built-in thermoelectric module
CN211956118U (zh) 用于装配在光阻涂布机上的旋转马达
CN112360986A (zh) 无框直驱电机的磁性液体密封装置和具有其的设备
JP2001193683A (ja) 流体ポンプ装置
KR102175796B1 (ko) 스테이터와 하우징의 조립 구조가 개선된 전동 워터 펌프 장치
CN214004780U (zh) 旋转装置
CN112728102B (zh) 磁性液体密封装置
CN114285222A (zh) 卫星循环供热用磁悬浮电机
JP6469432B2 (ja) ロータリーカソード、および、スパッタ装置
CN109706432B (zh) 圆形磁力电极装置及包括其的卷绕式表面改性设备
JP2020048290A (ja) 回転機
JP2004047685A (ja) 真空処理装置及び基板保持装置
CN219432066U (zh) 磁力泵

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant