CN115462717B - 基站和清洁设备系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种基站和清洁设备系统，其中，基站被配置为能够对清洁设备进行清洁，清洁设备包括机壳和待清洁件，待清洁件可相对机壳运动；基站包括本体和清洁结构；本体具有污水槽；清洁结构活动设于污水槽内；清洁结构能够在待清洁件运动时被待清洁件带动，以使清洁结构执行基站清洁动作。本发明的技术方案改善了现有技术中基站需要人工定时对基站中的污水收集处进行清洗，而造成劳动强度高，用户体验差的技术问题。

Description

基站和清洁设备系统

技术领域

本发明涉及清洗设备技术领域，特别涉及一种基站和清洁设备系统。

背景技术

在清洁设备对待清洁的表面进行清洁完成后，清洁设备需要回到基站中对待清洁件进行清洗。

现有技术中，基站中的清洁结构对清洁设备的待清洁件清洗完成后，一些毛发、淤泥等诸多不能随污水及时回收的脏污物会附着在污水收集处(污水槽)的表面，从而需要人工定时对基站中的污水收集处进行清洗，造成劳动强度高，用户体验差。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种基站和清洁设备系统，旨在改善现有技术中基站需要人工定时对基站中的污水收集处进行清洗，而造成劳动强度高，用户体验差的技术问题。

为实现上述目的，本发明提出的一种基站，被配置为能够对清洁设备进行清洁，所述清洁设备包括机壳和待清洁件，所述待清洁件可相对所述机壳运动，所述基站包括：

本体，所述本体具有污水槽；

清洁结构，所述清洁结构活动设于所述污水槽内；所述清洁结构能够在所述待清洁件运动时被所述待清洁件带动，以使所述清洁结构执行基站自清洁动作。

在本发明的一实施例中，所述清洁结构执行的基站自清洁动作包括：所述清洁结构与所述污水槽的槽壁接触并相对运动，以清除所述槽壁的脏污物。

在本发明的一实施例中，所述清洁结构包括第一清洁部件，所述第一清洁部件被配置为用于与所述待清洁件接触并能够相对运动，以清除所述待清洁件上的脏污物；

所述清洁结构执行的基站自清洁动作包括：所述第一清洁部件运动以将所述第一清洁部件上的脏污物从所述第一清洁部件上甩离。

在本发明的一实施例中，所述待清洁件与所述清洁结构摩擦接触，当所述待清洁件相对所述机壳运动时，所述待清洁件通过摩擦力带动所述清洁结构运动；

或者，所述待清洁件具有第一卡合部，所述清洁结构具有第二卡合部，所述第一卡合部与所述第二卡合部相互卡合，当所述待清洁件相对所述机壳运动时，所述待清洁件通过所述第一卡合部和所述第二卡合部的配合带动所述清洁结构运动。

在本发明的一实施例中，所述待清洁件可相对所述机壳以第一方向旋转；当所述待清洁件以所述第一方向转动时，所述待清洁件能够带动所述清洁结构转动。

在本发明的一实施例中，所述待清洁件可相对于所述机壳以第二方向旋转；当所述待清洁件以所述第二方向转动时，所述清洁结构与所述待清洁件之间具有速度差；其中第一方向与第二方向相反。

在本发明的一实施例中，所述清洁结构还包括第二清洁部件，所述第二清洁部件与所述污水槽的槽壁接触，所述待清洁件带动所述清洁结构转动，以使所述第二清洁部件清除所述污水槽槽壁上的脏污物。

在本发明的一实施例中，所述清洁结构包括第一清洁部件，所述第一清洁部件被配置为用于与所述待清洁件接触并能够相对运动，以清除所述待清洁件上的脏污物；

所述第一清洁部件与所述污水槽相对固定，所述第二清洁部件一端与污水槽的槽壁接触，所述第二清洁部件的另一端穿过所述第一清洁部件而用于与所述待清洁件驱动连接；

及/或，所述第一清洁部件活动连接于所述污水槽，所述第二清洁部件固定连接于所述第一清洁部件的下方。

在本发明的一实施例中，所述第二清洁部件的转动轴线与所述待清洁件的转动轴线重合；所述第二清洁部件的旋转直径大于或等于所述待清洁件的旋转直径。

在本发明的一实施例中，所述第一清洁部件为转盘或滚筒；

当所述第一清洁部件为转盘时，在所述清洁设备对接于所述基站的状态下，所述第一清洁部件位于所述待清洁件的下方，并与所述待清洁件相对设置；

当所述第一清洁部件为滚筒时，在所述清洁设备对接于所述基站的状态下，所述第一清洁部件位于所述待清洁件的一侧，并与所述待清洁件相切。

在本发明的一实施例中，当所述第一清洁部件为转盘时，所述第二清洁部件设于所述第一清洁部件与所述污水槽的槽底之间，并与所述污水槽的槽壁接触；

当所述第一清洁部件为滚筒时，所述第二清洁部件设于所述第一清洁部件的外周壁。

在本发明的一实施例中，当所述第一清洁部件为转盘或滚筒时，所述第一清洁部件具有转轴；

所述转轴套设有单向轴承，所述单向轴承固定于所述污水槽，以使所述第一清洁部件能够在所述待清洁件以第一方向运动时被所述待清洁件带动，并使所述第一清洁部件能在所述待清洁件以第二方向运动时被所述单向轴承限制运动；

或者，所述转轴套设有棘轮，所述污水槽内设有止动爪，所述棘轮与所述止动爪配合，以使所述第一清洁部件能够在所述待清洁件以第一方向运动时被所述待清洁件带动，并使所述第一清洁部件能在所述待清洁件以第二方向运动时被所述止动爪限制运动。

在本发明的一实施例中，所述污水槽具有排污口，所述清洁结构运动以将所述污水槽内的脏污物排向所述排污口；

及/或，所述基站还设有第二喷水口，所述第二喷水口朝向所述污水槽设置，以将所述污水槽内的脏污物喷出至所述排污口。

在本发明的一实施例中，沿远离所述排污口至靠近所述排污口的方向，所述污水槽的槽底逐渐倾斜向下设置。

本发明还提出一种清洁设备系统，包括清洁设备和如上所述的基站，其中，所述基站用于对所述清洁设备进行护理。

本发明提供的基站中，基站中的清洁结构可以对清洁设备的待清洁件进行清洁，并且，清洁结构可以执行基站自清洁动作，以自动清除污水收集处(污水槽)的脏污物，无需人工对基站中的污水收集处进行清洗，从而改善了劳动强度高，用户体验差的技术问题，并且，无需额外设置其他的动力机构带动基站的清洁结构运动，有利于节约成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本发明基站一实施例的结构示意图；

图2为本发明基站另一实施例的结构示意图；

图3为本发明清洁设备系统一实施例的结构示意图；

图4为本发明清洁设备系统另一实施例的结构示意图；

图5为本发明清洁设备系统又一实施例的结构示意图；

图6为本发明清洁设备系统再一实施例的结构示意图；

图7为本发明清洁设备系统还一实施例的结构示意图；

图8为图7中局部结构的分解图。

附图标号说明：

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

需要说明，若本发明实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本发明实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。

本发明提出一种基站100和清洁设备系统1000，旨在改善现有技术中基站100需要人工对基站100中的污水收集处进行清洗，而造成劳动强度高，用户体验差的技术问题。

以下将就本发明所提供的基站100和清洁机器人的具体结构进行说明：

结合参阅图1至图5、图7，在本发明基站100的一实施例中，该基站100被配置为能够对清洁设备200进行清洁，清洁设备200包括机壳210和待清洁件220，待清洁件220可相对机壳210运动。示例性的，在本申请的实施例中，待清洁件220可以包括以下至少一种：拖擦件、驱动轮、万向轮。如此，便可以通过基站100对拖擦件、驱动轮、万向轮中的至少一个进行清洗，具体可以同时清洗，也可以分别清洗。在一个具体实施例中，清洁设备200通过驱动轮、万向轮等带动行走，拖擦件用于与待清洁表面接触，以反复擦拭待清洁表面，对待清洁表面进行清洁。基站100可以配备有清洗系统，通过清洗系统对清洁设备200的拖擦件进行清洗。具体的，清洁设备200在完成一次清洁工作后可以回到基站100，清洁设备200与基站100对接的状态下，拖擦件可以相对清洁设备200的机壳210运动，以使基站100对拖擦件的清洁效果更好。

本申请实施例所提供的基站100包括本体10和清洁结构20；本体10具有污水槽11；污水槽11可以设于本体10的底部，以用于承接基站100对清洁设备200清洁后的污水。

清洁结构20活动设于污水槽11内，并能够相对于本体10运动；清洁结构20能够在待清洁件220运动时被待清洁件220带动，以使清洁结构20执行基站100自清洁动作。

需要说明的是，清洁结构20能够在待清洁件220运动时待清洁件220带动，是指待清洁件220在某些运动状态下能够带动清洁机构20运动，而并非严格限定待清洁件220只要运动即带动清洁结构20运动。

本发明提供的基站100中，基站100中的清洁结构20能够对清洁设备200的待清洁件220进行清洁，并且，清洁结构20能够在待清洁件220运动时被待清洁件220带动，以使清洁结构20可以执行基站100自清洁动作，以自动清除污水收集处的脏污物，无需人工对基站100中的污水收集处进行清洗，从而改善了劳动强度高，用户体验差的技术问题，并且，无需额外设置其他的动力机构带动基站100的清洁结构20运动，有利于节约成本。

在实际应用过程中，待清洁件220可以带动清洁结构20转动，也可以带动清洁结构20摆动，还可以带动清洁结构20沿直线运动，本申请实施例不做限定。

在一些实施例中，结合参阅图1、图3、图5和图7，清洁结构20执行基站100自清洁动作可以包括清洁结构20直接与污水槽11的槽壁接触并相对运动，以清除槽壁的脏污物。如此设置，可将附着在污水槽11槽壁上的脏污物充分清除下来，以达到自清洁的效果。

需要说明的是，污水槽11的槽壁可以包括槽底壁和槽侧壁，如此，清洁结构20可以直接与污水槽11的槽底壁和/或槽侧壁接触并相对运动，以清除槽底壁和/或槽侧壁上的脏污物。

在其他一些实施例中，结合参阅图1至图5，清洁结构20可以包括第一清洁部件22，第一清洁部件22被配置为用于与待清洁件220接触并能够相对运动，以清除待清洁件220上的脏污物；清洁结构20执行的基站100自清洁动作包括：第一清洁部件22运动以将第一清洁部件22上的脏污物从第一清洁部件22上甩离。

如此设置，在清洁设备200对待清洁的表面进行清洁完成后，清洁设备200需要回到基站100中对待清洁件220进行清洗，具体地，可以使待清洁件220与清洁结构20上的第一清洁部件22接触，并可以相对第一清洁部件22运动，在此过程中，便可以通过第一清洁部件22清除待清洁件220上的脏污物；如此，会使得第一清洁部件22上附着有脏污物(包括污水、污渍等)，而第一清洁部件22上的脏污物也需要清理。特别的，当第一清洁部件22对待清洁件220清洁后，第一清洁部件22上的污渍大多呈污水状，容易被甩离，清洁结构20可以在对待清洁件220清洁后，执行基站100自清洁动作，具体为第一清洁部件22可以在待清洁件220运动时被待清洁件220带动，即可将第一清洁部件22上的脏污物从第一清洁部件22上甩离，从而实现对第一清洁部件22的自清洁动作。

为使得待清洁件220能够带动清洁结构20运动，本申请实施例提供以下具体示例性的实施方式，具体如下：

在一些实施例中，结合参阅图3至图5，待清洁件220与清洁结构20摩擦接触，当待清洁件220相对机壳210运动时，待清洁件220通过摩擦力带动清洁结构20运动；如此设置，在待清洁件220相对于机壳210运动的过程中，待清洁件220便可以在摩擦力的作用下带动清洁结构20运动，以使清洁结构20执行基站100自清洁动作。具体地，可以使待清洁件220上用于与清洁结构20接触的表面为粗糙面，和/或，使清洁结构20上用于与待清洁件220接触的表面为粗糙面，以使待清洁件220与清洁结构20之间具有足够的摩擦力，使得待清洁件220可以在摩擦力的作用下顺利带动清洁结构20运动。

或者，在本申请的另一实施例中，待清洁件220可以具有第一卡合部，清洁结构20具有第二卡合部，第一卡合部与第二卡合部相互卡合，当待清洁件220相对机壳210运动时，待清洁件220通过第一卡合部和第二卡合部的配合带动清洁结构20运动；如此设置，在待清洁件220相对于机壳210运动的过程中，待清洁件220便可以在第一卡合部和第二卡合部的配合下带动清洁结构20运动，以使清洁结构20执行基站100自清洁动作。示例性的，可以使第一卡合部和第二卡合部中的其中之一为卡扣，另一为卡槽，以在卡扣与卡槽的配合下使得待清洁件220可以顺利带动清洁结构20运动。

实现待清洁件220带动清洁结构20运动的具体实施方式还可以为其他，本申请并不限制，本领域技术人员可以具体设计。

进一步地，在本申请的一些实施例中，结合参阅图3至图6，待清洁件220可相对机壳210以第一方向旋转；当待清洁件220以第一方向转动时，待清洁件220能够带动清洁结构20转动。

如此设置，当待清洁件220在相对于机壳210以第一方向(例如为顺时针转动)转动时，便可以带动清洁结构20以第一方向转动，进而使清洁结构20在转动下执行基站100自清洁动作。

在一些实施例中，所述待清洁件220可相对于所述机壳210以第二方向旋转；当所述待清洁件220以所述第二方向转动时，所述清洁结构20与所述待清洁件220之间具有速度差；其中第一方向与第二方向相反。示例性的，在待清洁件220以第二方向(例如为逆时针转动)转动时，清洁结构20可以处于静止状态，也可以以第一方向或第二方向转动，当清洁结构20以第二方向转动时，清洁结构20与待清洁件220之间有转动速度差，以使待清洁件220与清洁结构20之间发生相对转动，而使得清洁结构20能够清除待清洁件220上的脏污物。

在一些实施例中，结合参阅图1、图3、图5和图7，清洁结构20还可以包括第二清洁部件21，第二清洁部件21与污水槽11的槽壁接触，待清洁件220带动清洁结构20转动，以使第二清洁部件21清除污水槽11槽壁上的脏污物。

如此设置，当待清洁件220在相对于机壳210以第一方向转动时，便可以带动清洁结构20的第二清洁部件21以第一方向转动，进而使第二清洁部件21在转动下清除附着在污水槽11槽底上的脏污物。

示例性的，第二清洁部件21可以包括但不限于以下部件：刮板、刮条、毛刷。并且，为了避免第二清洁部件21在转动过程中刮伤污水槽11的槽壁，第二清洁部件21可以为软性件，例如，可以为硅胶件、橡胶件等等。

需要说明的是，第二清洁部件21清除污水槽11槽壁上的脏污物，指的不一定是完全清除干净，但污水槽11的洁净程度至少比清洁结构20未执行自清洁动作时要好。例如可以是清除污水槽11槽壁上的部分脏污物，也可以是清除污水槽11槽壁上的全部脏污物。

进一步地，在本申请的实施例中，结合参阅图7和图8，清洁结构20包括第一清洁部件22，第一清洁部件22被配置为用于与待清洁件220接触并能够相对运动，以清除待清洁件220上的脏污物；

在一实施例中，第一清洁部件22与污水槽11相对固定，第二清洁部件21一端与污水槽11的槽壁接触，第二清洁部件21的另一端穿过第一清洁部件22而用于与待清洁件220驱动连接。

如此设置，可以在污水槽11中固定安装有第一清洁部件22，以使待清洁件220可以与第一清洁部件22接触并能够相对第一清洁部件22转动，以清除待清洁件220上的脏污物；另外，通过使第二清洁部件21的一端与污水槽11的槽壁接触，并使第二清洁部件21的另一端穿过第一清洁部件22而用于与待清洁件220驱动连接，也即，待清洁件220在相对机壳210运动时，可以带动第二清洁部件21转动，便可以通过第二清洁部件21清除污水槽11槽壁上的脏污物。

需要说明的是，驱动连接指的是待清洁件220能够带动第二清洁部件21转动的一切方式，具体可以为卡接、磁吸等带动的方式，其也包括摩擦带动的方式。

在另一实施例中，第一清洁部件22可以活动连接于污水槽11，第二清洁部件21固定连接于第一清洁部件22的下方。如此，通过在污水槽11中活动连接有第一清洁部件22，以使待清洁件220可以与第一清洁部件22接触并能够相对第一清洁部件22转动，以清除待清洁件220上的脏污物；另外，在第一清洁部件22相对于污水槽11活动的过程中，可以带动第二清洁部件21活动，便可以通过第二清洁部件21清除污水槽11槽壁上的脏污物。

示例性的，结合参阅图3、图4和图7，第二清洁部件21的转动轴线与待清洁件220的转动轴线重合。如此设置，当待清洁件220相对于机壳210以第一方向转动时，便可以顺利带动第二清洁部件21以第一方向转动。

进一步地，在本申请的实施例中，结合参阅图3、图4和图7，第二清洁部件21的旋转直径大于或等于待清洁件220的旋转直径。

如此设置，由于第二清洁部件21的转动轴线与待清洁件220的转动轴线重合，也即，待清洁件220可以运动至第二清洁部件21的上方，并且，污水槽11中的脏污物大多是从待清洁件220上掉下来的，因此污水槽11槽底对应待清洁件220的位置更容易附着有脏污物，如此，通过使第二清洁部件21的直径大于或等于待清洁部件的旋转直径，便可以通过第二清洁部件21充分清除污水槽11槽底上的脏污物，以保证对污水槽11的自清洁效果。

需要说明的是，第二清洁部件21的直径大于或等于待清洁件220的旋转直径，也可以指待清洁件220在污水槽11槽底上的投影落入到第二清洁部件21在污水槽11槽底上的投影内。

进一步地，在本申请的实施例中，结合参阅图1和图2，第一清洁部件22设有若干间隔设置的筛孔，筛孔用于供清洗待清洁件220的污水流向污水槽11。

如此设置，第一清洁部件22将待清洁件220上的脏污物清除下来后，大部分脏污物便可以通过第一清洁部件22上的筛孔流向污水槽11中。

并且，由于污水槽11的槽底对应筛孔的位置更加容易附着有脏污物，如此，可以使第二清洁部件21运动时所覆盖的面积大于或等于筛孔的最大布局面积，便可以通过第二清洁部件21在运动过程中充分接触到污水槽11槽底对应筛孔的位置，以充分清除污水槽11槽底上的脏污物。

进一步地，在本申请的实施例中，结合参阅图1和图2，第一清洁部件22还设有第一喷水口222，第一喷水口222喷出清洁液以对待清洁件220进行清洗。

如此设置，在通过第一清洁部件22对待清洁件220上的脏污物进行清除的过程中，可以通过第一喷水口222向待清洁件220喷出清洁液，以将待清洁件220上的脏污物冲刷下来。其中，清洁液具体可以通过基站100提供也可以通过清洁设备200提供。

示例性地，第一清洁部件22可以包括基体和设置在基体上的清洗肋221，当待清洁件220与第一清洁部件22接触并相对第一清洁部件22运动时，待清洁件220可以与第一清洁部件22上的清洗肋221发生摩擦，以通过清洗肋221清除待清洁件220上的脏污物；其中，第一喷水口222可以开设在基体上，也可以开设在清洗肋221上，只要满足可以通过第一喷水口222向待清洁件220喷出清洁液以对待清洁件220进行清洗即可，在此不作限定。

当然，在本申请的另一实施例中，结合参阅图5和图6，第一清洁部件22也可以包括基体和设置在基体上的凸起部223，当待清洁件220与第一清洁部件22接触并相对第一清洁部件22运动时，待清洁件220可以与第一清洁部件22上的凸起部223发生摩擦，以通过凸起部223清除待清洁件220上的脏污物。

进一步地，在本申请的实施例中，结合参阅图3至图6，第一清洁部件22为转盘或滚筒；当第一清洁部件22为转盘时，在清洁设备200对接于基站100的状态下，第一清洁部件22位于待清洁件220的下方，并与待清洁件220相对设置；当第一清洁部件22为滚筒时，在清洁设备200对接于基站100的状态下，第一清洁部件22位于待清洁件220的一侧，并与待清洁件220相切。

在一些实施例中，第一清洁部件22为转盘，第一清洁部件22可以位于待清洁件220的下方，并与待清洁件220相对设置，并且，在本实施例中的待清洁件220也可以为盘状结构，如此，第一清洁部件22相对待清洁件220运动(可转动、摆动、滑动等等)时，便可以清除待清洁件220底部上的脏污物；当第一清洁部件22为滚筒时，第一清洁部件22可以位于待清洁件220的一侧，并与待清洁件220相切，并且，在本实施例中的待清洁件220也可以为滚筒状结构，如此，第一清洁部件22相对待清洁件220运动(可转动、摆动、滑动等等)时，便可以清除待清洁件220筒壁上的脏污物。

在其他一些实施例中，结合参阅图1和图3，当第一清洁部件22为转盘时，第二清洁部件21设于第一清洁部件22与污水槽11的槽底之间，并与污水槽11的槽底接触；结合参阅图5，当第一清洁部件22为滚筒时，第二清洁部件21设于第一清洁部件22的外周壁。

如此设置，当第一清洁部件22为转盘时，通过使第二清洁部件21设置在第一清洁部件22与污水槽11的槽底之间，并与污水槽11的槽底接触，如此，在清洁结构20执行基站100自清洁动作时，第二清洁部件21便能够在待清洁件220运动时被待清洁件220带动，以清除污水槽11槽底上的脏污物；当第一清洁部件22为滚筒时，通过使第二清洁部件21设置在第一清洁部件22的外周壁，如此，在清洁结构20执行基站100自清洁动作时，第二清洁部件21便能够在待清洁件220运动时被待清洁件220带动，以使第二清洁部件21在运动过程中可以与污水槽11的槽底接触，进而清除污水槽11槽底上的脏污物。

为实现清洁结构20能够清洁待清洁件220，且待清洁件200能够带动清洁结构20转动，下面提供一些具体实现方式。

结合参阅图1至图6，当第一清洁部件22为转盘或滚筒时，第一清洁部件22具有转轴；转轴套设有单向轴承，单向轴承固定于污水槽11，以使第一清洁部件22能够在待清洁件220以第一方向运动时被待清洁件220带动，并使第一清洁部件22能在待清洁件220以第二方向运动时被单向轴承限制运动。

如此设置，当需要对待清洁件220进行清洁时，待清洁件220将以第二方向(例如为逆时针转动)转动，此时，第一清洁部件22将被单向轴承限制转动，便使得待清洁件220能够相对第一清洁部件22以第二方向(例如为逆时针转动)转动，如此，待清洁件220便可以与第一清洁部件22发生摩擦，即可通过第一清洁部件22清除待清洁件220上的脏污物；当需要执行基站100自清洁动作时，待清洁件220将以第一方向(例如为顺时针转动)转动，此时，第一清洁部件22将在转轴与单向轴承的配合下被待清洁件220带动，如此，便可以在第一清洁部件22的转动下将第一清洁部件22上的脏污物从第一清洁部件22上甩离。

或者，在本申请的另一实施例中，当第一清洁部件22为转盘或滚筒时，第一清洁部件22具有转轴；转轴套设有棘轮，污水槽11内设有止动爪，棘轮与止动爪配合，以使第一清洁部件22能够在待清洁件220以第一方向运动时被待清洁件220带动，并使第一清洁部件22能在待清洁件220以第二方向运动时被止动爪限制运动。

如此设置，当需要对待清洁件220进行清洁时，待清洁件220将以第二方向(例如为逆时针转动)转动，此时，第一清洁部件22将被止动爪限制转动，便使得待清洁件220能够相对第一清洁部件22以第二方向(例如为逆时针转动)转动，如此，待清洁件220便可以与第一清洁部件22发生摩擦，即可通过第一清洁部件22清除待清洁件220上的脏污物；当需要执行基站100自清洁动作时，待清洁件220将以第一方向(例如为顺时针转动)转动，此时，第一清洁部件22将在棘轮与止动爪的配合下被待清洁件220带动，如此，便可以在第一清洁部件22的转动下将第一清洁部件22上的脏污物从第一清洁部件22上甩离。

进一步地，在本申请的实施例中，结合参阅图1、图2、图4至图7，污水槽11具有排污口111，清洁结构20运动以将污水槽11内的脏污物排向排污口111。

如此设置，待清洁件220相对于机壳210运动以清除污水槽11槽壁上的脏污物后，脏污物便可以通过排污口111而排出至污水槽11之外，以实现自清洁的目的。

在实际应用过程中，排污口111可以设置在污水槽11槽底的任一位置处，当然，为了使污水槽11内的脏污物可以快速通过排污口111而排出，在一实施例中，可以使排污口111设于污水槽11的中部，以使污水槽11边缘的脏污物集中向中部的排污口111流出。

示例性的，可以在污水槽11中提供清洁液，清洁液具体可以通过基站100提供也可以通过清洁设备200提供，在清洁液和待清洁件220的工作下，脏污物和清洁液会混合在一起，以一同流到排污口111处被抽走或流出，从而实现基站100内部的自清洁功能。

进一步地，在本申请的实施例中，结合参阅图2和图6，为了使污水槽11槽底上的脏污物快速通过排污口111向外排出，基站100还可以设有第二喷水口30，以使第二喷水口30朝向污水槽11设置，如此，便可以通过第二喷水口30向污水槽11喷出清洁液，以将污水槽11内的脏污物快速喷出至排污口111。

进一步地，在本申请的实施例中，结合参阅图2和图6，污水槽11具有相对设置的第一槽壁112和第二槽壁113，清洁结构20设于第一槽壁112和第二槽壁113之间，排污口111靠近第一槽壁112设置，第二喷水口30设于第二槽壁113。

如此设置，当第二喷水口30喷出清洁液时，便可以使清洁液由第二槽壁113喷向第二槽壁113，便可将污水槽11槽底上的脏污物由靠近第二槽壁113的一侧顺利排向靠近第一槽壁112的一侧，以使脏污物顺利排出至排污口111。

进一步地，在本申请的实施例中，结合参阅图1、图2、图5和图7，沿远离排污口111至靠近排污口111的方向，污水槽11的槽底逐渐倾斜向下设置。

如此设置，利用水往低处流的现象，通过沿远离排污口111至靠近排污口111的方向，污水槽11的槽底逐渐倾斜向下设置，清洁结构20在执行基站100自清洁动作后，脏污物便可以顺利地流向排污口111，以避免污水槽11存在积水的现象。

结合参阅图1至图8，本发明还提出一种清洁设备系统1000，该清洁设备系统1000包括清洁设备200和基站100，该基站100的具体结构参照上述实施例，由于本清洁设备系统1000采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。其中，基站100用于对清洁设备200进行护理。

需要说明的是，本实施例所提供的清洁设备系统1000中的基站100的结构和功能与上述实施例所提供的基站100的结构和功能相同，具体可以参照上述实施例的描述，在此，不做赘述。

在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (9)

1.一种基站，被配置为能够对清洁设备进行清洁，所述清洁设备包括机壳和待清洁件，所述待清洁件可相对所述机壳运动，其特征在于，所述基站包括：

本体，所述本体具有污水槽；

清洁结构，所述清洁结构活动设于所述污水槽内；所述清洁结构能够在所述待清洁件运动时被所述待清洁件带动，以使所述清洁结构执行基站自清洁动作；

所述清洁结构包括第一清洁部件，所述第一清洁部件被配置为用于与所述待清洁件接触并能够相对运动，以清除所述待清洁件上的脏污物；所述清洁结构包括第二清洁部件，所述第二清洁部件与所述污水槽的槽壁接触，所述待清洁件带动所述清洁结构转动，以使所述第二清洁部件清除所述污水槽槽壁上的脏污物；

所述第一清洁部件与所述污水槽相对固定，所述第二清洁部件一端与污水槽的槽壁接触，所述第二清洁部件的另一端穿过所述第一清洁部件而用于与所述待清洁件驱动连接；所述第一清洁部件设有若干间隔设置的筛孔，所述筛孔用于供清洗所述待清洁件的污水流向所述污水槽。

2.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述待清洁件与所述清洁结构摩擦接触，当所述待清洁件相对所述机壳运动时，所述待清洁件通过摩擦力带动所述清洁结构运动；

或者，所述待清洁件具有第一卡合部，所述清洁结构具有第二卡合部，所述第一卡合部与所述第二卡合部相互卡合，当所述待清洁件相对所述机壳运动时，所述待清洁件通过所述第一卡合部和所述第二卡合部的配合带动所述清洁结构运动。

3.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述待清洁件可相对所述机壳以第一方向旋转；当所述待清洁件以所述第一方向转动时，所述待清洁件能够带动所述清洁结构转动。

4.如权利要求3所述的基站，其特征在于，所述待清洁件可相对于所述机壳以第二方向旋转；当所述待清洁件以所述第二方向转动时，所述清洁结构与所述待清洁件之间具有速度差；其中第一方向与第二方向相反。

5.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述第二清洁部件的转动轴线与所述待清洁件的转动轴线重合；所述第二清洁部件的旋转直径大于或等于所述待清洁件的旋转直径。

6.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述污水槽具有排污口，所述清洁结构运动以将所述污水槽内的脏污物排向所述排污口；

及/或，所述基站还设有第二喷水口，所述第二喷水口朝向所述污水槽设置，以将所述污水槽内的脏污物喷出至所述排污口。

7.如权利要求6所述的基站，其特征在于，沿远离所述排污口至靠近所述排污口的方向，所述污水槽的槽底逐渐倾斜向下设置。

8.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述第二清洁件运动时覆盖的面积大于或等于所述第一清洁部件上筛孔的最大布局面积。

9.一种清洁设备系统，其特征在于，包括清洁设备和如权利要求1至8中任一项所述的基站，其中，所述基站用于对所述清洁设备进行护理。