CN115453667A - 具有反射有害蓝光的抗反射涂层的光学镜片 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种光学镜片,该光学镜片包括具有前主面和后主面的基材,主面中的至少一个包括多层抗反射涂层,该多层抗反射涂层具有至少一个高折射率层和至少一个低折射率层的堆叠体,其中,存在于主面上的多层抗反射涂层为光学镜片提供在420nm至450nm的波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B1,该平均蓝光反射因数针对范围从0°至15°的入射角大于或等于17%,并且多层抗反射涂层为所述至少一个主面提供在380nm与780nm之间的平均光反射因数Rv,该平均光反射因数针对范围从0°至15°的入射角小于或等于0.5%。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学制品、特别是眼科镜片,包括涂覆有高度透明的多层抗反射涂层(典型地为选择性过滤涂层)的基材,该多层抗反射涂层可以用于减少对眼镜配戴者的视网膜的蓝光诱导光毒性影响,以及涉及一种制造这种光学制品的方法。
背景技术
人类可见的光近似地在范围从380纳米(nm)的波长至780nm的波长的光谱上延伸。此光谱的范围从大约380nm至大约500nm的部分对应于高能量蓝光(基本上)。
许多研究(参见例如Kitchel E.,The effects of blue light on ocularhealth[蓝光对眼睛健康的影响],Journal of Visual Impairment and Blindness[视力受损与失明期刊],第94卷,第6期,2000年;或Glazer-Hockstein等人,Retina[视网膜],第26卷,第1期,第1-4页,2006年)显示一部分蓝光对人眼健康、并且尤其是对视网膜具有光毒性影响。眼睛光生物学研究表明,过度延长或强烈暴露于蓝光可能导致严重的眼科疾病,比如年龄相关性黄斑变性(ARMD)或白内障。
ISO 8980-3标准(2003)在表B.1中定义了蓝光危害函数B(λ),其与人眼对低波长光谱发射的敏感性有关。鉴于图2所示的此函数,推荐限制眼睛在潜在有害蓝光下的暴露,特别是关于具有增加的危险性的波长带(420-455nm)。
然而,此蓝光的波长范围近似地从465nm至495nm的部分对健康有益,因为其参与用于调节被称为“昼夜节律周期”的生物节律的机制。
眼镜片特别适合于提供针对潜在有害蓝光透射到视网膜的防护。此外,尽可能多地消除紫外光(UV光)对镜片配戴者的眼睛的有害影响是必要的。
如今,随着比如计算机和智能手机的数字屏幕等数字装置的使用越来越多,视觉疲劳和不适已变得频繁得多。除了对视觉健康的累积影响以外,几种研究表明蓝光暴露会增加眩光和视觉不适。过滤蓝光可以显著改善在高眩光情况下的视觉功能。
事实上,反复暴露在人造光下,尤其是使用发射蓝光的数字装置,已被确定为眼睛疲劳和视力模糊的原因,并导致视觉疲劳、不适和朦胧症状,因为蓝光会在环境中散射并且比任何其他类型的可见光更多地进入眼睛,从而增加了保持视觉焦点所需的努力。
这是因为以下事实:蓝色光波长是较短的波长并且比较长的波长更高效地被小颗粒吸收和散射。根据瑞利散射理论,散射量与波长的四次方成反比。其他症状包括眼痛、眼睛发红、发干或发炎、头痛、眼睛沉重和疲倦、短暂或持续的不适,这取决于蓝光暴露的持续时间。
对蓝紫光(主要来自日光)的防护与对来自数字装置的眼睛要求的LED蓝光发射的防护所带来的视觉舒适性相结合的需求日益增长。图1示出了来自数字装置(平板电脑)的标准冷LED的典型发射光谱,其中尖锐的发射峰在450nm附近。
为了适应过去10年的行为变化和越来越多的数字使用,需要新的过滤光学镜片,这将能够最小化视网膜接收到的有害蓝光量,以便长期保护视网膜,并且也为了更好的舒适性。
例如在专利申请WO 2008/024414中已经建议通过抑制合适波长范围内的光的滤光片,通过吸收或通过反射来至少部分地截断蓝光光谱的从400nm至460nm的麻烦部分。这还可以通过将黄色吸收性染料掺入到光学元件中完成。
WO 2013/171434披露了一种具有前主面和后主面的眼科镜片,这两个主面中的至少一个包括滤光片,该滤光片为包括所述滤光片的主面提供:由参数Δ(θ,θ')定义的良好角度选择性;在420nm至450nm的波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B1,其针对范围从0°至15°的入射角大于或等于5%;以及针对范围从0°至15°的入射角的光谱反射率曲线,此反射率曲线在小于435nm的波长处具有最大反射率,并且半峰全宽(FWHM)大于或等于80nm。本申请中披露的涂层被优化为通过反射来提供保护以防最高达450nm的蓝紫光,但它们无法提供针对来自数字装置的LED蓝光发射的充分防护,并且它们在可见光范围的其他波长中的透射率不是最优的。
US 2016/154254披露了一种眼科镜片,该眼科镜片包括具有前主面和后主面的透明基材,至少一个主面涂覆有多层抗反射涂层,该多层抗反射涂层包括折射率大于或等于1.5的至少一个层和折射率小于1.5的至少一个层的堆叠体,并且可见光区域中的平均光反射因数Rv针对小于35°的至少一个入射角小于或等于0.5%。本申请中披露的涂层在可见光范围内具有高抗反射性能,因此具有高清晰度,但是没有蓝光反射功能,其中Rm B1值小于3%。
WO 2012/076714披露了一种眼科镜片,该眼科镜片包括具有前主面和后主面的基材,所述后主面涂覆有多层抗反射涂层,该多层抗反射涂层包括折射率大于1.6的至少一个层和折射率小于1.5的至少一个层的堆叠体,一般为3至7个层,其中,所述后面上在可见光区域中的平均光反射因数Rv小于或等于1%。对于US 2016/154254,本申请中披露的抗反射涂层不具有蓝光截断功能,其中Rm B1值小于1.6%。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种光学镜片,该光学镜片结合了在可见光范围内的高抗反射性能和针对有害蓝光的改进防护,同时保持良好的透明度(即,在可见光范围内的高透射率水平),并展现出被客户广泛接受的最终颜色。
本发明的另一个目的是提供一种光学镜片,该光学镜片能够在从465nm至495nm的波长范围内、更一般地在大于465nm的波长实现出色的透射率,以在一方面为配戴者保持良好的视觉并且在另一方面不改变昼夜节律周期。困难在于以下事实,要过滤的420nm至450nm的波长范围非常接近不应该被过滤或被过滤极少的波长范围。
本发明的另一个目的是提供一种光学镜片,在LED屏幕前方带来视觉上的好处。这种镜片将考虑到源自周围区域的整个光辐射并且包括能够减少由眼睛接收到的在从440nm至460nm的波长范围内的由LED数字装置发射的蓝光量的装置,考虑到了以下事实:大多数商用光学镜片在此波长范围内截断小于10%的光,这不足以证明视觉舒适性提高。
本发明的另一个目的是提供一种包括具有上文所述特性的反射滤光片的光学镜片,这在行业水平上实现起来将是简单和经济的。其制造工艺应该易于集成到经典制造链中。
发明人已发现:可以通过使用一种涂层来实现这些目标,该涂层在可见光范围内是抗反射的,但在蓝光范围内除外,在蓝光范围内,该涂层用作选择性反射滤光片并减少眼睛接收到的在420nm至450nm的波长范围内的蓝光量。
因此,本发明涉及一种光学镜片,该光学镜片包括具有前主面和后主面的基材,其至少一个主面包括多层抗反射涂层,该多层抗反射涂层包括折射率大于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或以下的至少一个低折射率层的堆叠体,其中,存在于(多个)主面上的(多个)多层抗反射涂层为光学镜片提供在420nm至450nm的波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B1,其针对范围从0°至15°的入射角大于或等于17%,以及
多层抗反射涂层为所述至少一个主面提供在ISO 13666:1998标准中定义的在380nm与780nm之间的平均光反射因数Rv,针对范围从0°至15°的入射角,小于或等于0.5%,优选地小于或等于0.3%。
本发明提供了新的抗反射涂层,其具有改进的抗反射效率,即具有非常低的平均光反射因数Rv,这确保了所得的涂覆的镜片的清晰度更高,结合了在420-450nm波长范围内的改进的蓝光截断效率,并且在440-460nm波长范围(LED光区域)内通常具有改进的蓝光截断效率、和/或在465-495nm波长范围内具有改进的时间生物学蓝光透射。
本发明相对于现有技术的显著优点是在可见光范围内的抗反射特性与有害蓝光的反射之间没有折中。本多层涂层同时满足这两个要求(低Rv、高Rm B1)。
附图说明
当结合附图考虑时,通过阅读下文的具体实施方式,本发明的上述和其他目的、特征和优点对于本领域技术人员将变得显而易见,其中,图1示出了来自数字装置的标准冷LED的典型发射光谱(相对强度作为波长的函数),图2表示在ISO 8980-3标准中定义的蓝光危害函数B(λ),并且图3至图13描绘了针对15°的入射角的、存在于示例和对比示例的镜片的前主面上的过滤抗反射涂层的在380与780nm之间的反射率曲线。
具体实施方式
术语“包括”(及其任何语法变化形式,如“包括(comprises)”和“包括(comprising)”)、“具有”(及其任何语法变化形式,如“具有(has)”和“具有(having)”)、“包含”(及其任何语法变化形式,如“包含(contains)”和“包含(containing)”)、以及“包括”(及其任何语法变化形式,如“包括(includes)”和“包括(including)”)都是开放式连系动词。它们用于指明其所述特征、整数、步骤或组分或群组的存在,但不排除其一种或多种其他特征、整数、步骤或组分或群组的存在或加入。因此,“包括(comprises)”、“具有(has)”、“包含(contains)”或“包括(includes)”一个或多个步骤或要素的方法或方法中的步骤具备那一个或多个步骤或要素,但不限于仅那一个或多个步骤或要素。
除非另外指明,否则本文使用的所有关于成分、范围、反应条件等的数量的数字或表述应被理解为在所有情况下均受术语“约”修饰。
当光学制品包括一个或多个表面涂层时,短语“将涂层或层沉积到光学制品上”是指将涂层或层沉积到光学制品的最外涂层(即最接近空气的涂层)上。
在本申请中,位于基材/涂层“上”或已经沉积到基材/涂层“上”的涂层被定义为这样一种涂层:所述涂层(i)安置于所述基材/涂层上方,(ii)不必与所述基材/涂层接触,也就是说,可以在所述基材/涂层与所讨论的涂层之间布置一个或多个中间涂层(然而,它优选地与所述基材/涂层接触),并且(iii)不必完全地覆盖基材/涂层。当“层1被布置在层2之下”时,旨在是指层2比层1距基材更远。
术语“涂层”理解为是指可以与基材和/或与另一个涂层(例如,溶胶-凝胶涂层或由有机树脂制成的涂层)接触的任何层、层堆叠体或膜。可以通过各种方法(包括湿法处理、气体处理和膜转移)沉积或形成涂层。
术语“片材”应理解为是指单个层(单层)或双层,即彼此直接接触的一组两层。当高折射率片材(具有大于1.55的折射率)具有两个层时,这两个层都是高折射率层。类似地,当低折射率片材(具有小于或等于1.55的折射率)具有两个层时,这两个层都是低折射率层。
在本申请中,基于材料的层被定义为包括至少80%重量的所述材料、更优选地至少90%重量的所述材料、甚至更好地由所述材料的层组成。例如,ZrO2基层包括至少80%重量的ZrO2。
根据本发明制备的光学制品是透明光学制品、优选是光学镜片或镜片毛坯、并且更优选是眼科镜片或镜片毛坯。所述眼科镜片可以是具有或没有矫正作用的偏光镜片、或有色太阳镜片。
光学制品可以在其凸主面(前侧)、凹主面(背/后侧)、或两个面上、但优选在凸(前)主面上用根据本发明的多层抗反射涂层涂覆,以避免到达镜片的光的多次反射。如本文中使用的,在眼科镜片的情况下,基材的后面旨在是指当使用制品时离配戴者的眼睛最近的面。其通常是凹面。相反,基材的前面是当使用制品时离配戴者的眼睛最远的面。其通常是凸面。光学制品还可以是平光制品。
在实施例中,根据本发明的光学镜片在两个面(前主面和后主面)上涂覆有根据本发明的抗反射涂层。涂层可以相同或不同。
在另一个实施例中,根据本发明的涂覆有滤光片的主面是镜片的前主面,并且后主面涂覆有传统的抗反射涂层或优选地在UV区域中反射率低的抗反射涂层,比如针对WO2012/076714中所描述的抗反射涂层。
本文中,术语“镜片”是指有机或无机玻璃镜片,其包括镜片基材,该镜片基材可以涂覆有一个或多个具有不同性质的涂层。
术语“眼科镜片”用于是指适配于眼镜架例如以保护眼睛和/或矫正视力的镜片。所述镜片可以选自无焦点镜片、单焦点镜片、双焦点镜片、三焦点镜片以及渐进式镜片。尽管眼科光学是本发明优选的领域,但是应理解的是本发明可以应用于其他类型的光学制品,例如像在摄影或天文学中用于光学仪器的镜片、光学瞄准镜片、眼睛护目镜、照明系统的光学器件等。
在本说明书中,除非另外指明,否则当穿过所述光学制品观察图像没有感知到显著对比度损失时,即当获得穿过所述光学制品的图像形成,而没有不利地影响图像的品质时,光学制品/材料应理解为是透明的。除非另外指明,否则术语“透明的”的这一定义可以应用于本说明书中如此定义的所有物体。
在本发明的意义上,基材应理解为是指无涂层的基材并且通常具有两个主面。基材特别地可以是具有光学制品(例如注定安装在眼镜上的眼科镜片)的形状的光学透明材料。在此上下文中,术语“基材”应理解为是指光学镜片并且更特别地眼科镜片的基础构成材料。这种材料充当用于一个或多个涂层或层的堆叠体的支撑物。
基材可以由矿物玻璃或有机玻璃、优选有机玻璃制得。有机玻璃可以是热塑性材料(比如聚碳酸酯和热塑性聚氨酯),或热固性(交联的)材料,如二乙二醇双(碳酸烯丙酯)聚合物和共聚物(具体地来自PPG工业公司(PPG Industries)的)、热固性聚氨酯、聚硫氨酯(优选折射率为1.60或1.67的聚硫氨酯树脂)、聚环氧化物、聚环硫化物(比如折射率为1.74的聚环硫化物)、聚(甲基)丙烯酸酯,以及基于共聚物的基材,比如包含衍生自双酚A、聚硫代(甲基)丙烯酸酯、以及其共聚物和共混物的(甲基)丙烯酸聚合物和共聚物的基材。用于镜片基材的优选材料是聚碳酸酯(PC)、二甘醇双(烯丙基碳酸酯)聚合物和由热固性聚硫胺甲酸酯树脂获得的基材,其由三井东压化学公司(Mitsui Toatsu Chemicalscompany)以MR系列销售,特别是和树脂。这些后者基材以及用于其制备的单体尤其描述于专利US 4,689,387、US 4,775,733、US 5,059,673、US 5,087,758和US5,191,055中。
在沉积抗反射涂层或其他功能涂层之前,通常使制品表面经受物理或化学表面活化和清洁预处理,以便改善要沉积层的粘附性,如在WO2013/013929中披露的。这种预处理通常在耐磨和/或耐划伤涂层(硬涂层)的表面上进行。
这种预处理通常在真空下进行。预处理可以是用高能物种、例如用离子束方法(“离子预清洁”或“IPC”)或用电子束方法进行的轰击、电晕处理、离子散裂处理、紫外线处理或真空下等离子体处理(典型地使用氧或氩等离子体)。预处理还可以是酸或碱表面处理和/或在有或没有超声波处理的情况下的溶剂表面处理(使用水或有机溶剂)。许多处理可以组合。由于这些清洁处理,基材表面的清洁度得以优化。
高能物种是指具有范围从1至300eV、优选地从1至150eV、、更优选地从10至150eV、最优选地从40至150eV的能量的物种。高能物种可以是化学物种,如离子、自由基,或如光子或电子等物种。
抗反射涂层实际上可以是在光学器件、特别是眼科光学器件领域中常规使用的任何抗反射涂层。这种涂层的光学特性,例如反射率,起因于由于在空气/层和基材/层界面处的多次反射引起的干涉。
抗反射涂层是沉积在制品的表面上的涂层,该涂层改善了最终制品的抗反射特性。抗反射涂层减少了制品/空气界面处在相对宽的可见光谱部分上的光的反射。
本抗反射涂层被配置为通过反射来选择性地抑制在窄波长范围内的至少部分蓝光的透射。因此,它表示“蓝色截断滤光片”,并且可用于保护目的。通过选择性反射在窄波长范围内的光,可能有害的光不会到达配戴者的眼睛。这特别是针对在420nm-450nm范围内和/或在440nm-460nm范围内、对视网膜有害的蓝光的情况。
如本文中使用的,如果手段“选择性地反射”通过反射来抑制波长范围内的至少一些透射,则该手段抑制该范围,同时对该波长范围附近的波长反射的影响极小或没有影响。
本发明的多层抗反射涂层包括折射率大于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或以下的至少一个低折射率层的堆叠体。
更优选地,多层抗反射涂层包括具有低折射率(LI)的至少两个层和具有高折射率(HI)的至少两个层。多层抗反射涂层优选包括具有高折射率(HI)的至少三个层。在抗反射涂层中层的总数优选地大于或等于3、更优选地大于或等于5或6。总数优选地小于或等于11、8或7,更优选地小于或等于6,最优选地等于6个层。在一个实施例中,总数范围是5至10。
发明人发现:当在抗反射涂层中使用更多层数时,更容易设计具有高Rm B1和Rm B3反射因数的涂层,同时保持低Rv和Rm B2因数。换言之,要达到相同水平的Rm B3,具有更多层数的抗反射涂层可以被设计为具有更低的Rv、更低的Rm B2和更高的Rm B1。下文定义了各种反射因数。
如本文中使用的,抗反射涂层的层被限定为具有大于或等于1nm的厚度。因此,当对抗反射涂层中的层数计数时,将不考虑任何厚度小于1nm的层。当对抗反射涂层的层数计数或指示其厚度时,不考虑可选的子层和阻抗层。
HI层和LI层不必在堆叠体中彼此交替,但是根据本发明的一个实施例它们也可以交替。两个HI层(或更多)可以彼此上下沉积,以及两个LI层(或更多)也可以彼此上下沉积。
在本申请中,当抗反射涂层的层的折射率大于1.55、优选地大于或等于1.6、甚至更优选地大于或等于1.8或1.9、最优选地大于或等于2时,其被称为高折射率(HI)层。所述HI层优选地具有小于或等于2.2或2.1的折射率。当抗反射涂层的层的折射率小于或等于1.55、优选地小于或等于1.52、更优选小于或等于1.48或1.47时,其被称为低折射率(LI)层。所述LI层优选地具有大于或等于1.1的折射率。
HI层通常包含一种或多种金属氧化物,比如但不限于,氧化锆(ZrO2)、比如二氧化钛(TiO2)等氧化钛、氧化铝(Al2O3)、五氧化二钽(Ta2O5)、五氧化二钕(Nd2O5)、氧化镨(Pr2O3)、钛酸镨(PrTiO3)、La2O3、Nb2O5、Y2O3。
可选地,HI层可以进一步包含具有低折射率的二氧化硅或其他材料,条件是它们具有上文所指示的大于1.55的折射率。优选的材料包括ZrO2、PrTiO3、Nb2O5、Ta2O5、Y2O3及其混合物。
最优选的材料是Ta2O5。与比如ZrO2等其他材料相比,使用Ta2O5作为高折射率材料的抗反射涂层更薄(针对具有相同层数的堆叠体)。进一步,为了达到相同水平的Rm B3,使用Ta2O5作为高折射率材料的抗反射涂层可以被设计为具有更低的Rv、更低的Rm B2和更高的Rm B1。下文定义了各种反射因数。
LI层也是众所周知的并且可以包括但不限于SiO2、MgF2、ZrF4、AIF3、Na5AI3F14、Na3[AIF6]、或二氧化硅和氧化铝的混合物(尤其是掺有氧化铝的二氧化硅),氧化铝有助于提高抗反射涂层耐热性。LI层优选地是相对于层总重量包括至少80%重量的二氧化硅、更优选地至少90%重量的二氧化硅的层,甚至更优选地由二氧化硅层组成。
可选地,LI层可以进一步包含具有高折射率的材料,条件是产生的层的折射率小于或等于1.55。
抗反射涂层外(最外)层,即其离基材最远的层,通常是折射率为1.55或以下且厚度优选大于或等于100nm的低折射率层。该层可以是基于二氧化硅的层,相对于层总重量包括至少80%重量的二氧化硅、更优选地至少90%重量的二氧化硅(例如,掺有氧化铝的二氧化硅层),甚至更优选地由二氧化硅层组成。
抗反射涂层最内层,即与子层(如果存在的话)或基材直接接触的层,优选是高折射率层。
通常,HI层和/或LI层具有范围从5nm至120nm、优选地从20nm至110nm的物理厚度。它们的厚度可以在很大程度上变化,这例如取决于层的期望特性、层材料、沉积技术和/或堆叠体中的层位置。
通常,抗反射涂层的总厚度小于或等于1μm、优选地小于或等于800nm、更优选地小于或等于700nm、甚至更优选地小于或等于600nm或500nm。抗反射涂层总厚度通常大于或等于100nm、优选地大于或等于150或200nm。
在本发明的特定实施例中,抗反射涂层包括6至9个层,并且总厚度的范围优选地从350nm至600nm。
而且,光学制品对热和温度变化具有良好的耐受性,即临界温度高。在本专利申请中,制品的临界温度被定义为是从其开始在存在于基材表面(在任一主面上)处的涂层中出现裂纹的温度,该温度导致涂层(通常是抗反射涂层)的降解。根据本发明的所涂覆的制品的临界温度优选地≥70℃、更优选地≥75℃、80℃、90℃、100℃或110℃。
还可以定义RT1比,其与在US 7692855中定义的RT比略有不同:
在本发明中,对于所述RT1比的计算,仅考虑抗反射涂层的层,即仅位于可选的子层上方的层。
在一个实施例中,RT1大于或等于0.8,优选地大于或等于1、1.3、1.5、1.6、1.75、2、2.1、2.2或2.5。在一个实施例中,RT1小于5、优选地小于以下值中的至少一个:4、3.5、3。在另一个实施例中,RT1的范围是0.8到2.5。为了使制品示出更高的临界温度,同时展现出高耐磨性,优选地是具有高RT1比。
在本发明中,可以将多层抗反射涂层沉积到厚度大于或等于140nm的单层子层上。应该注意,此子层不属于抗反射涂层。所述子层优选地与抗反射涂层直接接触。
如本文使用的,抗反射涂层子层或粘附层旨在是指为了提高抗反射涂层的机械特性(比如耐磨性和/或耐划伤性)和/或为了增强其与基材或底层涂层的粘附性而使用的相对厚的涂层。
子层的厚度通常小于或等于以下值中的任一个:600nm、500nm、450nm、400nm、375nm、300nm、250nm。子层具有大于或等于140nm、优选地大于或等于145、150、160或180nm的厚度。增加子层的厚度使得耐磨性提高,但是优选地不到可能发生光吸收的程度,这取决于子层的性质,可以显著减少视觉透射因数Tv。
子层优选地是基于SiO2的层,此层包括相对于层总重量优选地至少80%重量的二氧化硅、更优选地至少90%重量的二氧化硅、甚至更优选地由二氧化硅层组成。在另一个实施例中,这个基于SiO2的层是按如上文所定义的量掺有氧化铝的二氧化硅层,优选地由掺有氧化铝的二氧化硅层组成。
抗反射涂层的子层是本领域普通技术人员容易识别和公知的一类层,并且不能与在本申请稍后描述的耐磨和/或耐划伤涂层(硬涂层)混淆。
优选使用单层类型的子层。然而,子层可以是层压的(多层),尤其当子层和下方涂层(或基材,如果子层直接沉积到基材上)具有显著的折射率差异时。在这种情况下,除了具有通常大于或等于140nm的厚度的层(其被称为主层)以外,该子层还可以包括优选地最多两个或三个其他层(“阻抗层”),这些层被插入在可选地所涂覆的基材与主层(其通常是基于二氧化硅的层)之间。这种附加层优选地是薄层,其功能是限制在子层/底层涂层界面或在界面子层/基材界面(不管哪一个适用)处的多次反射。
除了主层以外,多层子层优选地包括具有高折射率并且厚度优选地小于或等于80nm、更优选地小于或等于50nm的层、以及可选地具有低折射率并且厚度优选地小于或等于80nm、更优选地小于或等于50nm的层。具有高折射率的层直接接触基材或下面的涂层,看哪个适用。
在本发明中,单层子层可以被沉积到三个片材(A)、(B)和(C)的系统上,以此顺序沉积到可选地所涂覆的基材上,比如WO2020/104392中所披露的。应该注意,这种片材不属于抗反射涂层。所述子层与片材(C)直接接触。此机械和粘附系统允许改善光学制品的耐磨性,而不会存在在子层与下面的涂层或基材之间的粘附问题。
子层(鉴于其相对较高的厚度)和阻抗片材(A)至(C)通常对抗反射堆叠体的整体过滤效果的影响有限。
第一高折射率片材(A),具有大于1.55的折射率,不包括任何Ta2O5层,优选地不包括任何基于Ta2O5的层。片材(A)可以包括一个单个高折射率层或两个直接接触的高折射率层。片材(A)的层通常包括一种或多种金属氧化物,金属氧化物可以选自先前针对抗反射涂层的高折射率层所描述的金属氧化物。
片材(A)优选地包括基于ZrO2的层,更优选地为基于ZrO2的层。在一个实施例中,片材(A)包括ZrO2层,更优选地为ZrO2层。
片材(A)优选地具有小于或等于65nm、更优选地小于或等于60nm、50nm、40nm、30nm、25nm、20nm或15nm的厚度。片材(A)优选地具有大于或等于4nm、更优选地大于或等于5、10或20nm的厚度。
第二低折射率片材(B),具有1.55或以下的折射率,与片材(A)直接接触。片材(B)可以包括一个单个低折射率层或两个直接接触的低折射率层。片材(B)的层通常包括一种或多种金属氧化物,金属氧化物可以选自先前针对抗反射涂层的低折射率层描述的金属氧化物。
片材(B)优选地包括基于SiO2的层,更优选地为基于SiO2的层。在一个实施例中,片材(B)包括SiO2层,更优选地是SiO2层。
片材(B)优选地具有大于或等于80nm、更优选地小于或等于75nm、60或50nm的厚度。片材(B)优选地具有大于或等于20nm、更优选地大于或等于25nm或30nm的厚度。具有足够厚的片材(B)对于获得改善的耐磨性是重要的。
第三高折射率片材(C),具有大于1.55的折射率,与片材(B)直接接触。片材(C)可以包括一个单个高折射率层或两个直接接触的高折射率层。片材(C)的层通常包含一种或多种金属氧化物,金属氧化物可以选自先前针对抗反射涂层的高折射率层描述的金属氧化物,比如Ta2O5、Nb2O5、PrTiO3、ZrO2和Y2O3。
片材(C)优选地包括基于ZrO2的层,更优选是基于ZrO2的层。在一个实施例中,片材(C)包括ZrO2层,更优选为ZrO2层。
片材(C)优选地具有小于或等于60nm、优选地小于或等于50nm、40nm、30nm、25nm、20nm或15nm的厚度。在一个实施例中,片材(A)和(C)同时满足这些厚度要求。片材(A)优选地具有大于或等于4nm、更优选地大于或等于5nm、10nm或20nm的厚度。
片材(A)、(B)和(C)的总厚度的范围优选地为40nm至200nm、更优选为75nm至160nm或者100nm至150nm。
片材(A)和(C)的折射率可以独立地选自先前针对抗反射涂层的高折射率层所描述的折射率。片材(B)的折射率可以选自先前针对抗反射涂层的低折射率层所描述的折射率。
片材(A)至(C)的系统的总层数的范围为3至6、更优选地3至4或5、理想地等于三。换句话说,片材(A)和/或(B)和/或(C)优选地为单层。此系统沿远离基材的方向优选地包括基于ZrO2的层、基于SiO2的层和基于ZrO2的层,更优选由基于ZrO2的层、基于SiO2的层和基于ZrO2的层组成。
可选地,在沉积抗反射涂层的第一层之前,可以使子层的外露表面(如果存在的话)经受物理或化学活化处理,物理或化学活化处理可以选自在沉积子层之前基材可能经历的并且上文已经提到的预处理。优选的预处理是离子轰击,例如使用离子枪产生的氩离子束。在沉积多层抗反射涂层的后续层之前,还可以对多层抗反射涂层的一个或多个层的外露表面进行这种物理或化学活化处理(优选地离子轰击处理)。
可以通过将至少一个导电层结合到存在于制品表面上、优选地抗反射涂层中的堆叠体中来使本发明的光学制品抗静电,也就是说不保留和/或不形成大量静电荷。
镜片将用一块布进行摩擦或使用任何其他产生静电荷(由电晕等施加的电荷……)的程序之后获得的静电荷排空的能力可以通过测量对于所述电荷消散所需要的时间来进行量化。因此,抗静电镜片具有约几百毫秒、优选地500ms或更少的放电时间,而对于静电镜片而言其为约几十秒。在本申请中,根据法国申请FR 2943798中披露的方法来测量放电时间。
如本文所使用的,“导电层”或“抗静电层”旨在是指由于其存在于基材表面上而降低了光学制品由于电荷积累而吸引灰尘/颗粒的能力的层。优选地,当施加到非抗静电基材(即,具有大于500ms的放电时间)上时,抗静电层在静电荷被施加到其表面上后使得镜片能够不保留和/或不形成大量静电荷而例如具有500ms或更少的放电时间,使得由于防止静电作用而防止小灰尘附着到光学制品上。
导电层可以位于堆叠体中的不同位置,通常在抗反射涂层中或与之接触,条件是其反射特性或抗反射特性不受影响。导电层优选地位于抗反射涂层的两个层之间,和/或与这种抗反射涂层的高折射率层相邻。在实施例中,导电层直接位于抗反射涂层的低折射率层下方,最优选地是抗反射涂层的倒数第二层(直接位于抗反射涂层的LI外层下方)。
在一个实施例中,导电层与具有1.55或以下的折射率的两个层直接接触,并且所述导电层沿远离基材的方向优选地位于抗反射涂层的倒数第二位置。
导电层应该足够薄以不改变抗反射涂层的透明度。导电层优选地是由导电且高度透明的材料(通常是可选地掺杂的金属氧化物)制成。在这种情况下,导电层的厚度的范围优选地为1nm至15nm、更优选地1nm至10nm、理想地2nm至8nm。优选地,导电层包含可选地掺杂的金属氧化物,该金属氧化物选自铟、锡、锌氧化物及其混合物。优选地是氧化铟锡(In2O3:掺杂锡的氧化铟)、掺杂铝的氧化锌(ZnO:Al)、氧化铟(In2O3)以及氧化锡(SnO2)。在最优选的实施例中,导电层和可选地透明层是氧化铟锡层,记为ITO层或SnO2层。
通常,导电层由于其厚度小而在堆叠体内帮助(但以有限方式)获得抗反射特性并且在所述涂层中典型地表示高折射率层。
可以根据任何合适的方法来沉积导电层,例如通过优选地离子束辅助(下述IAD)真空蒸镀沉积以提高其透明度,或者借助于阴极溅镀。
导电层还可以是非常薄的贵金属(Ag、Au、Pt等)层,典型地厚度小于1nm并且优选地厚度小于0.5nm。
根据以下方法中的任一个,抗反射涂层的不同层、子层、以及片材(A)至(C)优选地在真空下通过气相沉积进行沉积:i)通过蒸镀,可选地在离子束辅助下;ii)通过离子束喷涂;iii)阴极溅射;iv)等离子辅助化学气相沉积。在以下的参考文件“Thin FilmProcesses[薄膜工艺]”和“Thin Film Processes II[薄膜工艺II]”,Vossen&Kern编著,Academic Press[学术出版社],1978和1991中分别描述了这些不同的方法。特别推荐的方法是在真空下蒸镀。优选地,通过在真空下蒸镀来沉积上述层中的每一层。这种工艺确实有利地避免加热基材,这对于涂覆热敏基材(比如有机玻璃)特别有意义。
还可以用如先前定义的高能物种进行处理步骤,同时沉积抗反射涂层的不同层、子层或片材(A)至(C)中的一个或多个。具体地,在离子辅助下工作使得能够在所述层形成的同时压紧所述层,并增加它们的压缩和折射率。在层的沉积期间使用离子辅助产生的层与在没有离子辅助的情况下沉积的层在结构上不同。
在美国专利申请2006/017011和美国专利5268781中特别描述了离子辅助沉积方法或IAD。离子辅助下气相沉积包括优选在借助于离子枪实现的离子轰击下在材料层正在形成时通过借助于粒子束同时轰击所述层来将所述层沉积到基材上。离子轰击使得在正形成的涂层中的原子重排,这增大了其密度。IAD不仅允许改善沉积层的粘附性,而且还允许增大其折射率。IAD操作可以借助于离子枪执行,其中离子是由气体原子构成的粒子,从所述气体原子中提取一种或多种电子。其优选地包括用氧离子轰击要处理的表面。可以要么结合氧气、要么不结合氧气使用其他电离气体,例如氩气、氮气、特别是O2和氩气的混合物(根据范围从2:1至1:2的体积比)。WO 2020/104392中披露了根据本发明的用于薄层沉积的优选IAD处理。
可选地,通过在层的沉积步骤过程中向真空室中供应(补充)气体来进行这些层中的一个或多个层的沉积,比如在US 2008/206470中所披露的。具体地说,在正沉积层的同时将附加气体如稀有气体(例如,氩气、氪气、氙气、氖气),气体如氧气、氮气,或这些当中的两种或更多种气体的混合物引入真空沉积室中。在此沉积步骤期间采用的气体不是电离气体、更优选地不是活化气体。
这种气体供应使得能够调节压力,并且不同于离子轰击处理(比如离子辅助)。它通常能够限制抗反射涂层中的应力并增强层的粘附性。当使用这种被称为在气压调节下的沉积的沉积方法时,优选的是在氧气气氛(所谓的“钝态氧气”)下工作。在层的沉积期间使用附加气体供应产生的层与在没有附加气体供应情况下沉积的层在结构上不同。WO2020/104392中披露了根据本发明的用于在薄层沉积期间供气的优选实施例。
抗反射涂层/可选地子层/可选的片材(A)至(C)系统可以被直接沉积在裸露的基材上。在一些应用中,优选的是基材的主表面在沉积本发明的抗反射涂层之前用一个或多个功能涂层涂覆,以改善其光学特性和/或机械特性。传统用于光学器件中的这些功能涂层可以是但并不限于耐冲击底漆层、耐磨涂层和/或耐划伤涂层(硬涂层)、偏振涂层、抗静电涂层、光致变色涂层、着色涂层、或由这种涂层中的两个或更多个涂层制成的堆叠体。
可以在本发明中使用的耐冲击底漆涂层可以是典型地用于改善成品光学制品的耐冲击性的任何涂层。按其定义,耐冲击底漆涂层是与相同的但是没有耐冲击底漆涂层的光学制品相比改善了成品光学制品的耐冲击性的涂层。
典型的耐冲击底漆涂层是基于(甲基)丙烯酸的涂层和基于聚氨酯的涂层。具体地,根据本发明的耐冲击底漆涂层可以由胶乳组合物如聚(甲基)丙烯酸胶乳、聚氨酯胶乳或聚酯胶乳制得。
优选的底漆组合物包括:基于热塑性聚氨酯的组合物,如在专利JP 63-141001和JP 63-87223中描述的那些;聚(甲基)丙烯酸底漆组合物,如在专利US 5,015,523和US 6,503,631中描述的那些;基于热固性聚氨酯的组合物,如在专利EP 0404111中描述的那些;以及基于聚(甲基)丙烯酸胶乳或聚氨酯胶乳的组合物,如在专利US 5,316,791和EP0680492中描述的那些。优选的底漆组合物是基于聚氨酯的组合物和基于胶乳的组合物,特别是聚氨酯胶乳、聚(甲基)丙烯酸胶乳、和聚酯胶乳,以及它们的组合。在一个实施例中,耐冲击底漆包括胶体填料。
聚(甲基)丙烯酸胶乳是基于主要由(甲基)丙烯酸酯(如(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、或(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯)与典型较低的量的至少一种其他共聚单体(例如像苯乙烯)制成的共聚物的胶乳。
适用于本发明中的商业可获得的底漆组合物包括232、234、240、242组合物(由巴辛顿化学有限公司(BAXENDENCHEMICALS)销售)、R-962、R-972、R-986和R-9603(由泽尼卡树脂公司(ZENECA RESINS)销售)、以及A-639(由帝斯曼涂层树脂公司(DSMcoating resins)销售)。
在固化之后,耐冲击底漆涂层的厚度的范围典型地为从0.05至30μm、优选地0.2至20μm、更特别地从0.5至10μm、并且甚至更好地0.6至5μm或0.6至3μm、并且最优选地0.8至1.5μm。
耐冲击底漆涂层优选地与耐磨涂层和/或耐划伤涂层直接接触。在一个实施例中,耐冲击底漆涂层的折射率范围为1.45至1.55。在另一个实施例中,耐冲击底漆涂层的折射率大于或等于1.55。
耐磨涂层和/或耐划伤涂层可以是光学镜片领域中传统用作耐磨涂层和/或耐划伤涂层的任何层。
耐磨涂层和/或耐划伤涂层优选地是基于聚(甲基)丙烯酸酯或硅烷的硬涂层,这些硬涂层通常包括一种或多种矿物填料,这些矿物填料旨在增加涂层一旦固化后的硬度和/或折射率。
耐磨涂层和/或耐划伤涂层优选地是由包括至少一种烷氧基硅烷和/或其水解产物的组合物制备的,该水解产物例如通过用盐酸溶液和可选地冷凝和/或固化催化剂水解获得。
针对本发明推荐的合适的涂层包括基于环氧硅烷水解产物的涂层,比如在专利EP0614957、US 4211823和US 5015523中描述的那些。
优选的耐磨涂层和/或耐划伤涂层组合物是以本申请人的名义在专利EP 0614957中披露的组合物。其包括环氧三烷氧基硅烷和二烷基二烷氧基硅烷的水解产物、硅胶和催化量的铝基固化催化剂(如乙酰丙酮化铝),剩余部分基本上由传统用于配制这种组合物的溶剂组成。优选地,所使用的水解产物是γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷(GLYMO)和二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)的水解产物。
耐磨涂层和/或耐划伤涂层组合物可以通过已知方法沉积,然后优选地使用热或紫外辐射固化。(固化后的)耐磨涂层和/或耐划伤涂层的厚度通常从2μm至10μm、优选地从3μm至5μm变化。
根据本发明的光学制品还可以包括形成在抗反射涂层上并能够改变其表面特性的涂层,比如疏水性涂层和/或疏油性涂层(防污表涂层)。这些涂层优选地沉积到抗反射涂层的外层上。总体上,其厚度小于或等于10nm,优选地范围为从1nm至10nm、更优选地从1nm至5nm。防污表涂层通常是氟硅烷或氟硅氮烷类型的涂层,优选包括氟聚醚部分并且更优选全氟聚醚部分。WO 2012/076714中披露了关于这些涂层的更详细的信息。
代替疏水性涂层,可以使用提供防雾特性的亲水性涂层(防雾涂层),或当与表面活化剂关联时提供防雾特性的防雾前体涂层。这种防雾前体涂层的示例在专利申请WO2011/080472中进行了描述。
可以使用在本领域中已知的方法(包括旋涂、浸涂、喷涂、蒸镀、溅镀、化学气相沉积和层压)将附加涂层(比如底漆)、硬涂层和防污表涂层沉积到基材的主面上。
典型地,根据本发明的光学制品包括基材,该基材上依次涂覆有耐冲击底漆层、防磨层和/或耐划伤层、可选的片材(A)至(C)、可选的子层和根据本发明的抗反射涂层、以及疏水性和/或疏油性涂层、或者提供防雾特性的亲水性涂层、或防雾前体涂层。
在一个实施例中,抗反射涂层、可选的片材(A)至(C)和可选的子层被施加在镜片的前主面和/或镜片的后主面上,优选地施加在镜片的前主面上。
在另一个实施例中,抗反射涂层、可选的片材(A)至(C)和可选的子层被施加在镜片的前主面(或后主面),并且镜片的后主面(或前主面)涂覆有抗反射涂层,该抗反射涂层与另一面的抗反射涂层相同或不同,可选地涂覆有子层,该子层与另一面的子层相同或不同,可选地涂覆有片材(A)至(C),这些片材与另一面的片材(A)至(C)相同或不同,以及可选地涂覆有抗冲击底漆涂层和/或耐磨和/或耐划伤涂层,其与另一面的那些涂层相同或不同。显然,后面的层以与前面相似的顺序被堆叠。
本抗反射涂层是用于至少部分蓝光的滤光片,通过所述光的反射起作用。因此,本发明的设置有此反射滤光片的光学镜片通过至少部分地阻挡光毒性蓝光透射来减少到配戴这种光学镜片的使用者的视网膜的光毒性蓝光总透射。
根据本发明的抗反射涂层示出了在UV-蓝-紫光范围内的反射带,以便反射并因此抑制高能可见光和近UV光、特别是420nm-450nm(优选地420-460nm)范围内的有害蓝光的透射。这在涂层位于镜片的前面上时特别有意义。
典型地在420-450nm范围内或440-460nm范围内的蓝光的反射特性可以通过根据本发明的存在于其至少一个主面(优选地前主面)上的单个抗反射涂层、或通过根据本发明的存在于镜片的两个主面上的两个相同或不同的抗反射涂层、或通过根据本发明的存在于一个主面上的一个抗反射涂层和非根据本发明的存在于另一主面上的另一个涂层来提供给光学镜片。在后两种情况下,镜片的主面上的两种抗反射涂层都有助于反射有害蓝光并透射其他波长的可见光。优选地,如果在两个主面上使用不同的抗反射涂层,则在反射蓝光(Rm B1)方面最高效的抗反射涂层存在于前主面上。
在本发明的一个优选实施例中,本发明涉及一种光学镜片,该光学镜片包括具有前主面和后主面的基材,该光学镜片的主面中的至少一个包括多层抗反射涂层,该多层抗反射涂层具有折射率大于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或以下的至少一个低折射率层的堆叠体,这样为所述至少一个主面提供了以下特性:
-在420nm至450nm波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B1,其针对范围从0°至15°的入射角大于或等于17%,以及
-在465nm至495nm波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B2,其针对范围从0°至15°的入射角小于或等于5%,和/或
-在440nm至460nm波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B3,其针对范围从0°至15°的入射角大于或等于10%。
在本发明的此实施例中,蓝光的反射特性是针对光学镜片的在其上沉积有抗反射涂层的主面而定义的。
存在于(多个)主面上的(多个)多层抗反射涂层为光学镜片(优选地,多层抗反射涂层为其沉积在的镜片的至少一个主面)提供在420nm至450nm的波长范围内的平均(或均值)蓝光反射因数Rm B1,其针对在包括滤光片的主面上的范围从0°(垂直入射)至15°(优选为15°)的入射角大于或等于17%。它由以下公式定义:
其中,R(λ)表示在给定波长λ处的反射因数。基于在相同入射角时测量的R(λ)来定义特定入射角的Rm B1。
如上定义的平均反射因数Rm B1优选地大于或等于以下值中的任一个:18%、20%、25%、30%、35%、40%。
本滤光片尤其被设计用于最大化平均蓝光反射因数Rm B1。这使得可以通过优选地在所述前面上沉积滤光片使420nm至450nm的波长范围内的、直接到达镜片的前主面上的光毒性蓝光的抑制最大化。本文中考虑的是源自镜片配戴者前方并到达该镜片配戴者的视网膜的直接光的主要部分在前主面上具有范围从0°至15°的低入射。
除非另外指明,透射率和反射因数是在该范围内透射或反射的光的、没有根据眼睛在该范围的每个波长处的敏感性进行加权的平均值。在本说明书中,除非另外指明,透光率/透射率是在厚度范围从0.5mm至2.5mm、优选2mm的光学制品的中心处在范围从0°至15°、优选0°的入射角时测量的。
入射角被经典地定义为在入射点处表面的垂直方向与光束冲击此表面的方向之间的角。
在另一个实施例中,根据本发明的抗反射涂层具有对被称为时间生物学蓝光的部分蓝光的有限反射,该时间生物学蓝光负责生物钟的同步(在465nm至495nm的范围内),以允许足够量的此光到达配戴者的眼睛并且不会扰乱他们的昼夜节律。
在一些情况下可能特别期望的是选择性过滤蓝光光谱的相对小部分,即在380-450nm的区域内、优选地在420nm-450nm或420nm-460nm的区域内,同时保留在波长附近透射的能力。实际上,已经发现阻挡太多蓝光光谱可能干扰暗视觉和调节生物节律(被称为“昼夜节律周期”)的机制。因此,在优选的实施例中,抗反射涂层阻挡小于10%或5%的、波长范围从465nm至495nm的光。在此实施例中,抗反射涂层选择性地阻挡光毒性蓝光并且高效地透射在昼夜节律中所牵涉的蓝光。优选地,抗反射涂层透射至少80、85或90%的、波长范围从465至495nm的光(针对在主面上的范围从0°至15°的入射角)。在另一个实施例中,抗反射涂层不吸收465-495nm范围内的光。这些要求也优选地由相应的光学镜片来满足。
在优选的实施例中,存在于(多个)主面上的(多个)多层抗反射涂层为光学镜片(优选地,多层抗反射涂层为其沉积在的镜片的至少一个主面)提供在465nm至495nm的波长范围内的平均(或均值)蓝光反射因数Rm B2,其针对在包括滤光片的主面上的范围从0°至15°(优选为15°)的入射角小于或等于5%。它由以下公式定义:
其中,R(λ)表示在给定波长λ处的反射因数。基于在相同入射角时测量的R(λ)来定义特定入射角的Rm B2。
如上定义的平均反射因数Rm B2优选地小于或等于以下值中的任一个:4%、3%、2.5%、2%、1.5%、1%。
根据此实施例,本发明的抗反射涂层具有出色的选择性,其能够防护光毒性蓝光带,同时通过不干扰时间生物学蓝光带来最大程度保持昼夜节律周期。优选地,Rm B2小于Rm B1,更优选地至少是二分之一。
优选地,针对主面上的范围从0°至15°的入射角,在480nm处的光学镜片透射因数大于或等于70%、更优选地大于或等于90%、甚至更优选地大于或等于95%。
在优选的实施例中,根据本发明的抗反射涂层至少部分地反射由数字装置发射的在450nm附近的LED蓝光。
在优选的实施例中,存在于(多个)主面上的(多个)多层抗反射涂层为光学镜片(优选地,多层抗反射涂层为其沉积在的镜片的至少一个主面)提供在440nm至460nm的波长范围内的平均(或均值)蓝光反射因数Rm B3,其针对在包括滤光片的主面上的范围从0°至15°(优选为15°)的入射角大于或等于10%。它由以下公式定义:
其中,R(λ)表示在给定波长λ处的反射因数。基于在相同入射角时测量的R(λ)来定义特定入射角的Rm B3。
如上定义的平均反射因数Rm B3优选地大于或等于以下值中的任一个:12%、15%、17%、20%。理想情况下,平均反射因数Rm B3的范围是15%至25%。
在此实施例中,本滤光片尤其被设计用于最大化平均蓝光反射因数Rm B3。这使得可以通过优选地在所述前面上沉积滤光片从而使440nm至460nm的波长范围内的、直接到达镜片的前主面上的光毒性蓝光的抑制最大化,并且因此可以提高视觉舒适性并且减小因长时间使用基于LED的数字装置导致的眼睛疲劳。
在其一个方面,本发明旨在将本发明的光学镜片用于治疗目的或预防与蓝光诱导光毒性(日光和LED光)相关的疾病,以降低因与光毒性蓝光相关的退化过程而发生眼科疾病的风险,或者保护配戴者眼睛的至少一部分以防蓝光诱导光毒性,特别是以防退化过程,比如年龄相关性黄斑变性(ARMD)。如本文描述的光学镜片还有利地为配戴者提供改善的视觉对比度。
通常,针对范围从0°至15°(优选为15°)的入射角在420nm至450nm的波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B1大于针对从0°至15°(优选为15°)的入射角在440nm至460nm的波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B3。
在本申请中,针对包括滤光片的面的给定入射角,光学镜片的光谱反射率表示在此入射角时取决于波长的反射率(即,反射因数)变化。反射率曲线/光谱对应于反射率的示意图,其中,反射率被绘制为纵坐标,并且波长被绘制为横坐标。反射率可以借助于分光光度计来测量,例如,安装URA(通用反射比配件)的分光光度计Perkin Elmer Lambda 850,其提供反射光谱。
在一个实施例中,所述多层抗反射涂层针对范围从0°至15°的入射角的光谱反射率曲线具有反射峰,该反射峰以大于或等于330nm、350nm、360nm或370nm且小于或等于410nm、更优选地小于或等于400或390nm的波长为中心。优选地,所述多层抗反射涂层针对范围从0°至15°的入射角的光谱反射率曲线具有最大反射率,该最大反射率是在大于或等于330nm、350nm、360nm或370nm且小于或等于410nm、更优选地小于或等于400nm或390nm的波长处。因此,其相对于光毒性蓝光的在420nm与450nm之间的波长带的中心波长(435nm)发生移位。
如本文中使用的,在波长范围内具有反射峰意味着该峰的最大值落在此范围内。
在另一个实施例中,所述反射峰展现出小于150nm、优选地小于120nm或110nm的半峰全宽(FWHM)。所述反射峰的FWHM优选地展现出大于70nm、80nm、90nm或100nm的半峰全宽。具有更宽的反射峰高效地防止有害蓝光在更宽的光谱范围内透射。
如可以在图3至图10上看到的,本发明的镜片的光谱反射率曲线在330nm至500nm的波长范围内通常具有“钟形”,这可以通过其高度(最大折射率)及其半峰全宽(FWHM)表征。
半峰全宽是滤光片带宽的公知度量。其定义是λ高–λ低,其中λ高和λ低出现在反射峰波长的两侧,其中反射是(最大峰反射-基线反射)/2。滤光片的最大反射或透射限定了带滤光片的中心。
在本发明的此实施例中(FWHM>70nm),本抗反射滤光片是宽带滤光片或高通滤光片,优选地在380-495nm范围内。高通滤光片衰减低于截断波长的光波长的透射,从而允许更高光波长穿过滤光片。
一般而言,滤光片可以被设计为“窄”、高选择性、具有有限带通和以此带通为中心的反射率峰值。为了限制光毒性蓝光透射到视网膜,因此,合适的窄带滤光片应该具有例如在420nm与450nm之间的30nm半峰全宽、以及针对435nm中心附近的波长的最大反射率。
实际上,高选择性窄带滤光片典型地由总体厚堆叠体组成,和/或包括大量介电层。
这种滤光片需要长时间并且昂贵的行业制造工艺,尤其当真空下沉积时。增加层数和界面数也使得获得良好的机械特性变得困难。
考虑到上述约束导致限制层数,但包括有限层数和与大规模行业生产兼容的厚度的窄带反射滤光片在光谱选择性方面的性能降低,并且可能反射在生理周期支配范围内的光的大部分。
与窄带滤光片相比,本滤光片具有半峰全宽更高的反射峰,证明比具有相同蓝光截断效率的窄带滤光片更薄,并且没有那么多层,并且因此,生产起来更容易、更便宜。
在一个实施例中,根据本发明的光学制品不吸收可见光或吸收不多,这在本申请的上下文中意味着其在可见光谱内的相对光透射因数Tv大于或等于以下值中的任一个:87%、88%、89%、90%、92%、95%、96%、97%、98%。所述Tv因数的范围优选为87%至98.5%、更优选87%至97%、甚至更好地87%至96%。在另一个实施例中,Tv的范围是89%至98%、优选地90%至98%、更好地95%至97%。
Tv因数,也称为系统的“光透射率”,是比如在ISO标准13666:1998中定义的并且根据标准ISO 8980-3进行测量。其被定义为380-780nm波长范围内的平均值,该平均值根据眼睛在该范围的每个波长处的敏感性进行了加权、并且是在D65照明条件(日光)下测量的。
由于本抗反射选择性地反射窄范围的蓝光,因此其展现出在380nm与780nm之间的非常低的平均光反射因数Rv。“平均光反射因数”,又称为“光反射率”,记为Rv,是如在ISO13666:1998标准中定义的,并且根据ISO 8980-4标准测量(针对范围从0°至15°、典型地为15°的入射角),即,这是在380nm与780nm之间的整个可见光谱内的加权光谱反射平均值。可以针对所有入射角θ进行测量,因此定义函数Rv(θ)。
涂覆有根据本发明的抗反射涂层的镜片的面的平均光反射因数Rv小于或等于0.5%,优选地小于或等于以下值中的任一个:0.4%、0.3%、0.25%,针对范围从0°至15°(优选为15°)的入射角。
在一个实施例中,涂覆有根据本发明的抗反射涂层的镜片的面的针对15°的入射角的所述平均光反射因数Rv大于针对相同面的针对35°的入射角的平均光反射因数Rv。这有利于最小化后向眩光。
根据本发明的实施例,所述至少一个主面上的作为入射角的函数的平均光反射因数Rv(θ)针对包括在范围[20°-50°]中的入射角θmin具有最小值Rvmin,并且Rvmin/Rv(15°)<0.8、优选地Rvmin/Rv(15°)<0.75、0.7或0.65,Rv(15°)是在ISO 13666:1998标准中定义的、所述至少一个主面上针对15°的入射角θ的平均光反射因数。
当满足此要求时,获得美学改进和防眩光改进:本发明的光学镜片尤其适于减少来自所有方向的可见光的反射,即,在光学镜片上的宽范围的入射角。抗反射涂层在较宽角度范围内(典型地为[0°-45°],优选地为[0°-50°])具有低反射Rv(θ)是特别有意义的。在眼科镜片的情况下,配戴者和观察者都受益于此改进。
从观察者的观点来看,多角效率的好处主要是美观。前镜面效应和侧镜面效应减小,使无论观察者位于配戴者前方还是处于侧向位置都能够更好地看到配戴者的眼睛。当从配戴者的一侧移动到另一侧时,观察者也不受到反射的困扰。
从配戴者的视点来看,减少包括在[30°-45°]的入射角内的光线的反射是至关重要的,因为具有这种入射角的光会从镜片的背侧产生反射并产生不适。
将标准光源D65和观察者考虑在内(在反射中,针对入射角为15°的光),在380nm与780nm之间计算本发明的抗反射涂层在国际比色CIE L*a*b*中的比色因数C*和h。观察者是如在国际比色系统CIE L*a*b*中定义的“标准观察者”(10°)。
抗反射涂层的色相角(h)与由所述抗反射涂层显示的残余颜色(反射光的颜色)有关,优选地范围从240°至325°,优选地从300°至320°,因此产生感知到的残余反射颜色从蓝色到紫色。
本发明的镜片的比色因数具有良好的稳健性。在WO 2015/000534中定义的光学制品的稳健性σh是令人满意的,优选地小于或等于8°,更优选地小于或等于3°。
本发明进一步涉及一种制造比如上文描述的光学镜片的方法,该方法包括:
-提供光学镜片,该光学镜片包括具有前主面和后主面的基材,
-按此顺序在基材的至少一个主面上沉积:可选地折射率大于1.55、不包括任何Ta2O5层的第一高折射率片材(A);可选地折射率为1.55或以下、使得其与前面的片材(A)直接接触的第二低折射率片材(B);可选地折射率大于1.55、使得与其前面的片材(B)直接接触的第三高折射率片材(C);可选地具有外露表面且厚度大于或等于140nm、使得其与前面的片材(C)直接接触的单层子层;以及包括折射率大于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或以下的至少一个低折射率层的堆叠体的多层抗反射涂层,由此获得涂覆的光学制品,以及,
存在于基材的(多个)主面上的(多个)多层抗反射涂层为光学镜片提供在420nm至450nm的波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B1,其针对范围从0°至15°的入射角大于或等于17%,并且多层抗反射涂层为所述至少一个主面提供在ISO 13666:1998标准中定义的在380nm与780nm之间的平均光反射因数Rv,其针对范围从0°至15°的入射角小于或等于0.5%、优选地小于或等于0.3%。
在一个实施例中,通过在第一制造场所中在基材上形成底漆涂层和/或耐磨涂层和/或耐划伤涂层而在第二制造场所中形成其他涂层来制备本光学镜片。
以下示例以更详细但非限制方式说明本发明。除非另外说明,否则本申请中披露的所有厚度涉及物理厚度。表格中给出的百分比是重量百分比。除非另外指明,否则本发明中提及的折射率是在20℃-25℃、550nm波长下表示的。
每个光学参数的优选入射角是15°。一项为了分析眼科镜片配戴者在典型屏幕使用情况下的光入射范围的研究表明:从屏幕/数字装置发射的光的68%在入射角范围[10°-30°]内到达镜片,并且95%的光以低于36°的入射角入射。因此,针对屏幕装置发射的光,15°入射角是需要考虑的相关入射。
示例
1.一般过程
在示例中采用的制品包括:65mm直径的聚硫胺甲酸酯镜片基材(来自日本三井东压化学株式会社(Mitsui Toatsu Chemicals Inc.),折射率=1.59),焦度为-2.00屈光度且厚度为1.2mm,在其凸主面上涂覆有在WO 2010/109154的实验部分披露的耐冲击底漆涂层(通过添加高折射率胶体而被修改为具有1.6的折射率)和EP 0614957的示例3中披露的耐磨与耐划伤涂层(硬涂层)(通过添加高折射率胶体而被修改为具有1.6而不是1.5的折射率);比如片材(A)、(B)和(C)等可选阻抗层;可选地子层;根据本发明的多层过滤抗反射涂层;以及在专利申请WO 2010/109154的实验部分披露的防污涂层,即通过大金工业株式会社(Daikin Industries)销售的Optool化合物在真空下的蒸镀(厚度:2nm至5nm)。
在不加热基材的情况下,通过真空蒸镀、可选地在沉积期间通过氧气束和可能的氩离子辅助(IAD)(当指定时(蒸镀源:电子枪),并且可选地在通过向指定的室中供应(钝态)O2气体的压力调节下)沉积各种介电层。
使得可以沉积不同抗反射层的真空蒸镀装置是来自Physimeca的真空镀膜BAK,其具有两个用于蒸发材料的系统,即电子枪蒸镀系统、热蒸镀器(焦耳效应蒸镀系统)、以及来自Veeco的Mark 2+离子枪,用于在通过氩离子轰击(IPC)制备基材表面的预备阶段和层的离子辅助沉积(IAD)中使用。
2.光学制品的制备
将镜片放在设置有圆形开口的回转台上,这些圆形开口旨在容纳要处理的镜片,凹面是面向蒸镀源和离子枪。
用于生产光学制品的方法包括将设置有底漆和耐磨涂层的镜片基材引入真空沉积室中,进行抽气步骤直到产生高真空,然后应用与WO2020/104392中相同的处理条件以相继蒸发所需层数(子层、抗反射涂层、防污涂层等)。
3.测试方法
使用以下测试过程来评估根据本发明制备的光学制品。每个系统制备了几个样品用于测量并且报告的数据是以不同样品的平均值计算的。
将标准光源D65和标准观察者10°考虑在内,在国际比色CIE(L*,a*,b*)空间中用蔡司分光光度计对涂覆有本发明的堆叠体的面的色相角h进行比色测量。它们是在反射中针对15°的入射角提供的。
Rv、Rm B1、Rm B2和Rm B3是在反射中针对15°的入射角从相同的测量值中计算出的。
4.结果
下文中详述了在示例中获得的眼科镜片的结构特征和光学性能。子层是灰色的。提到的总厚度是包括抗反射涂层和以下附加层(如果存在的话(*))的堆叠体的厚度:子层、片材(A)、(B)和(C)。
对比示例1和2呈现根据WO 2013/171434的教导而制备的抗反射涂层。对比示例6、7和8呈现根据US 2016/154254的教导而制备的抗反射涂层。对比示例9呈现根据WO 2012/076714的教导而制备的抗反射涂层。
图3至图13示出了不同涂层的反射光谱。根据本发明的抗反射涂层在可见光范围中具有非常低的平均光反射因数Rv,其与US 2016/154254的平均光反射因数相似并且显著小于WO 2013/171434的平均光反射因数,因此展现出出色的透明特性。同时,这些涂层还具有比现有技术涂层更高的Rm B1(≥17%)和Rm B3(≥10%)反射因数,表明更有效地防护光毒性蓝光,特别是防护来自数字装置的LED蓝光发射,而不会影响可见光区域中的抗反射性能。事实上,本发明提供的抗反射涂层不会在可见光范围内的低反射特性(Rv)与对有害蓝光(Rm B1,Rm B3)的显著反射之间做出任何折中。
因此,本发明的眼科镜片能够防止由蓝光致光毒性导致的配戴者眼睛的退化过程,比如年龄相关性黄斑变性。
这些涂层的Rm B2较低,特别是通常小于WO 2013/171434的,这在时间生物学上是更理想的。
所有本发明的滤光片均是宽带滤光片,这些宽带滤光片示出了在特定波长范围内的光的选择性反射或透射,其中反射峰的FWHM大于80nm并且通常小于150nm。
可以观察到,将LED光的反射因数(Rm B3)从10%增加至15%或从15%增加至20%往往会略微增加可见光范围内的平均光反射因数Rv。
此外,本发明提供了比如示例1、2、5、6、7、9、15、16、21的具有高RT1比的涂层,因此比对比涂层具有更高的耐磨性和耐热性。
抗反射涂层展现出很强的多角效率,因为它们的参数Rvmin/Rv(15°)<0.8,Rv(15°)如上定义,并且在入射角θ的[0°-50°]范围内,作为所涂覆的主面上的入射角Rv(θ)的函数的平均光反射因数针对包括在[20°-50°]范围内的入射角θmin呈现最小值Rvmin。抗反射涂层提供了从0°至50°的稳健角度保护,其水平高于现有技术镜片所获得的水平。
所有制备的涂层的比色系数都具有与工业化兼容的稳健性(σh≤1.02°)。
Claims (15)
1.一种光学镜片,所述光学镜片包括具有前主面和后主面的基材,所述主面中的至少一个包括多层抗反射涂层,其中,存在于所述主面上的多层抗反射涂层为所述光学镜片提供在420nm至450nm的波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B1,所述平均蓝光反射因数针对范围从0°至15°的入射角大于或等于17%,
并且其中,所述多层抗反射涂层为所述至少一个主面提供在ISO13666:1998标准中定义的在380nm与780nm之间的平均光反射因数Rv,所述平均光反射因数针对范围从0°至15°的入射角小于或等于0.5%、优选地小于或等于0.3%,
其中,所述多层抗反射涂层包括折射率大于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或以下的至少一个低折射率层的堆叠体。
2.根据权利要求1所述的光学镜片,其中,存在于所述主面上的多层抗反射涂层为所述光学镜片提供在465nm至495nm波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B2,所述平均蓝光反射因数针对范围从0°至15°的入射角小于或等于5%。
3.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片,其中,存在于所述主面上的多层抗反射涂层为所述光学镜片提供在440nm至460nm波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B3,所述平均蓝光反射因数针对范围从0°至15°的入射角大于或等于10%。
4.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片,其中,所述多层抗反射涂层针对范围从0°至15°的入射角的光谱反射率曲线具有反射峰,所述反射峰以大于或等于350nm且小于或等于410nm、更优选地小于或等于400nm的波长为中心。
5.根据权利要求4所述的光学镜片,其中,所述反射峰展现出小于150nm、优选地小于120nm的半峰全宽。
6.根据权利要求4或5所述的光学镜片,其中,所述反射峰展现出大于80nm的半峰全宽。
7.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片,其中,所述多层抗反射涂层包括小于或等于11、优选地范围从5至10的层数。
8.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片,其中,所述多层抗反射涂层具有小于或等于700nm、优选地小于或等于600nm的总厚度。
9.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片,其中,所述多层抗反射涂层包括至少一个导电层、优选地基于SnO2的层。
10.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片,所述光学镜片被进一步定义为眼科镜片。
12.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片,其中,所述多层抗反射涂层的最外层是折射率为1.55或以下且厚度大于或等于100nm的低折射率层。
13.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片,其中,针对15°的入射角的在380nm与780nm之间的所述平均光反射因数Rv大于针对35°的入射角的在380nm与780nm之间的平均光反射因数Rv。
14.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片,其中,所述至少一个主面上的作为入射角的函数的平均光反射因数Rv(θ)针对包括在范围[20°-50°]中的入射角θmin具有最小值Rvmin,并且Rvmin/Rv(15°)<0.8,Rv(15°)是在ISO 13666:1998标准中定义的、所述至少一个主面上针对15°的入射角θ的平均光反射因数。
15.根据前述权利要求中任一项所述的光学镜片,其中,针对范围从0°至15°的入射角在420nm至450nm的波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B1大于针对范围从0°至15°的入射角在440nm至460nm的波长范围内的平均蓝光反射因数Rm B3。
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