CN115430674A - 一种化学气相分解试样瓶的清洗治具及清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提出了一种化学气相分解试样瓶的清洗治具及清洗装置，属于半导体制造技术领域，所述清洗治具至少包括：清洗舱；底板，固定设置在所述清洗舱内，且所述底板上设置多个限位槽；多个试样瓶，多个所述试样瓶倒扣放置在多个所述限位槽内；盖板，设置在所述试样瓶上，且与所述试样瓶接触设置，所述盖板与所述清洗舱可拆卸连接；多个进液孔，设置在所述盖板和所述底板上；以及多个出液口，设置在所述清洗舱的侧壁上，所述出液口至所述底板的距离大于所述盖板至所述底板的距离。本发明提供的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具及清洗装置，能有效提高试样瓶的清洗效果。
Description
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种化学气相分解试样瓶的清洗治具及清洗装置。
背景技术
在对晶圆表面金属污染进行分析时，采用化学气相分解(Vapor PhaseDecomposition，VPD)和电感耦合等离子体质谱仪(Inductively Coupled Plasma MassSpectrometry，ICPMS)联用进行测试，VPD室采集的样品通过每一个小试样瓶(vial)收集，再需工作人员手动将ICPMS进样管线放置于vial内进行样品分析。其中，vial是非一次性用品，测试完样品后，测试人员需将多个vial进行分别清洗，vial因直接接触样品需进行多次清洗，在清洗过程中耗费大量人力和时间。若vial清洗不干净，会导致vial内残留有金属污染物，影响晶圆表面金属污染物的测试结果准确性，进一步影响晶圆的质量。
发明内容
本发明提出了一种化学气相分解试样瓶的清洗治具及清洗装置，可批次清洗试样瓶，提高试样瓶的清洗质量和清洗效率，节约人力成本，同时降低试样瓶清洗不干净对晶圆造成的不良影响。
为解决上述技术问题，本发明是通过如下的技术方案实现的：
本发明提出一种化学气相分解试样瓶的清洗治具，所述清洗治具至少包括：
清洗舱；
底板，固定设置在所述清洗舱内，且所述底板上设置多个限位槽；
多个试样瓶，多个所述试样瓶倒扣放置在多个所述限位槽内；
盖板，设置在所述试样瓶上，且与所述试样瓶接触设置，所述盖板与所述清洗舱可拆卸连接；
多个进液孔，设置在所述盖板和所述底板上；以及
多个出液口，设置在所述清洗舱的侧壁上，所述出液口至所述底板的距离大于所述盖板至所述底板的距离。
在本发明一实施例中，所述清洗舱侧壁上设置多个通孔，多个所述通孔设置在所述盖板与所述出液口之间。
在本发明一实施例中，所述清洗舱外侧壁上还设置有凸出部，所述凸出部至所述底板的距离小于所述通孔至所述底板的距离。
在本发明一实施例中，所述盖板上设置多个卡扣，多个所述卡扣通过所述通孔与所述凸出部可拆卸连接。
在本发明一实施例中，所述盖板的尺寸为所述清洗舱尺寸的3/4-5/6。
在本发明一实施例中，所述清洗治具还包括进液管道，所述进液管道依次通过所述盖板上的所述进液孔和所述底板上的所述进液孔，并延伸至所述清洗舱的底部。
在本发明一实施例中，所述限位槽上设有开口，所述开口的内径大于或等于所述试样瓶的内径。
在本发明一实施例中，所述底板和所述盖板上设置多个渗液孔，所述渗液孔的尺寸小于所述试样瓶的尺寸。
本发明还提出一种化学气相分解试样瓶的清洗装置，所述清洗装置至少包括：
蓄水池，所述蓄水池内设有支架；
超声单元，设置在所述蓄水池的内侧壁上；以及
清洗治具，设置在所述支架上，且所述清洗治具包括：
底板，固定设置在所述清洗舱内，且所述底板上设置多个限位槽；
试样瓶，所述试样瓶倒扣放置在所述限位槽内；
盖板，设置在所述试样瓶上，且与所述试样瓶接触设置，所述盖板与所述清洗舱可拆卸连接；
多个进液孔，设置在所述盖板和所述底板上；以及
多个出液口，设置在所述清洗舱的侧壁上，所述出液口至所述底板的距离大于所述盖板至所述底板的距离。
在本发明一实施例中，所述清洗治具还包括凸出部，所述清洗治具通过所述凸出部悬空设置在所述支架上。
本发明提出一种化学气相分解试样瓶的清洗治具及清洗装置，可一次性清洗大批量的试样瓶，无需操作人员手动清洗，提高试样瓶的清洗效率，且避免人为因素对试样瓶造成二次污染。同时，此清洗过程中进行超声和加热处理，能够有效提高试样瓶的清洗质量，减少污染物在试样瓶内残留，降低对晶圆表面污染物的测试结果的影响，从而及时去除晶圆表面污染物，降低金属污染物在晶圆制造过程中对晶圆造成的不良影响，提高芯片的良率。
附图说明
图1为本发明一实施例中清洗治具的结构示意图。
图2为本发明一实施例中清洗治具的局部剖视图。
图3为图1中底板的结构俯视图。
图4为图1中盖板的结构俯视图。
图5为本发明一实施例中清洗装置的结构俯视图。
图6为本发明一实施例中清洗装置的局部结构示意图。
附图说明：
100、试样瓶；101、试样瓶颈部；102、试样瓶尾部；200、清洗治具；210、底板；211、限位槽；212、开口；213、第一进液孔；214、第一渗液孔；220、盖板；221、卡扣；222、第二进液孔；223、第二渗液孔；230、进液管道；240、凸出部；250、出液口；260、通孔；270、清洗舱；300、蓄水池；301、进水部；302、第一阀门；303、排水部；304、第二阀门；305、支架；306、限位孔；400、超声单元；401、换能器片；500、加热单元；600、回收装置。
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。
需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想，遂图式中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
下面结合若干实施例及附图对本发明的技术方案做进一步详细说明，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
化学气相分解是收集晶圆表面金属污染物的一种重要手段，化学气相分解设备是晶圆测试金属污染的前处理装置，化学气相分解设备产生的样品通过多个小试样瓶进行收集，收集后的污染物采用电感耦合等离子体质谱仪进行检测分析。即通过VPD和ICPMS联用可测试晶圆表面金属污染。本发明提出一种化学气相分解试样瓶的清洗治具和清洗装置，可有效提高试样瓶的清洗效率和清洗质量，可应用于收集晶圆表面污染物的试样瓶的清洗。
请参阅图1所示，在本发明一实施例中，提供一种化学气相分解试样瓶的清洗治具，清洗治具200包括清洗舱270、底板210、盖板220、进液管道230和出液口250，底板210固定连接在清洗舱270的侧壁上，试样瓶100倒扣放置在底板210上，盖板220盖在试样瓶100上，将试样瓶100固定。进液管道230贯穿底板210和盖板220，向清洗舱270内输入清洗液，出液口250设置在清洗舱270的侧壁上，出液口250与底板210之间的距离大于盖板220与底板210之间的距离，将清洗舱270内的清洗液排出。
请参阅图1至图2所示，在本发明一实施例中，试样瓶100由耐高温、耐腐蚀、易加工和高机械强度等优异性能的材料制成。在本实施例中，试样瓶100由耐氢氟酸(HF)腐蚀的铁氟龙(PFA)材料制成。
请参阅图1至图2所示，在本发明一实施例中，试样瓶100包括试样瓶颈部101和试样瓶尾部102。在本发明一实施例中，试样瓶尾部102例如可以设置为圆柱形，试样瓶尾部102表面平滑连接无拐角，减少污染物在瓶壁上残留，利于试样瓶100的清理。在本发明一实施例中，试样瓶尾部102的内径例如可以设置为9mm-10mm，试样瓶尾部102的壁厚例如可以设置为2mm-3mm。进一步的，试样瓶尾部102的内径例如可以设置为9.5mm，试样瓶尾部102的壁厚例如可以设置为2.4mm。在本发明一实施例中，试样瓶尾部102的高度例如可以设置为25mm-30mm，进一步的，试样瓶尾部102的高度例如可以设置为26.5mm。
请参阅图1至图2所示，在本发明一实施例中，试样瓶颈部101与试样瓶尾部102例如可以一体化设置，且试样瓶颈部101设置在试样瓶尾部102开口的一端。本发明对试样瓶颈部101的形状不加以限制，在本实施例中，试样瓶颈部101的形状例为圆环形。在本发明一实施例中，试样瓶颈部101的内径例如可以设置为9mm-10mm，试样瓶颈部101的外径例如可以设置为18mm-20mm，试样瓶颈部101的高度例如可以设置为4mm-8mm。
请参阅图1至图2所示，在本发明一实施例中，在清洗过程中，试样瓶100倒扣放置在清洗治具200内，且清洗治具200例如可以同时容纳10-20个试样瓶100。
请参阅图1至图2所示，在本发明一实施例中，清洗舱270例如可以设置为圆柱状，且清洗舱270一端封闭，一端敞开。在本发明一实施例中，清洗舱270的内径例如可以设置为100mm-150mm，清洗舱270的高度例如可以设置为100mm-150mm。在其他实施例中，清洗舱270的形状可根据实际生产需要进行选择，例如清洗舱270也可以设置为棱柱状等。清洗舱270由耐高温、耐腐蚀、易加工和高机械强度等优异性能的材料制成，在本实施例中，清洗舱270由耐氢氟酸(HF)腐蚀的铁氟龙(PFA)材料制成，且清洗舱270例如可以为双层结构。
请参阅图1至图3所示，在本发明一实施例中，底板210与清洗舱270固定设置，底板210与清洗舱270的侧壁例如为一体化设置，且底板210位于清洗舱270的中间位置。在本发明一实施例中，底板210与清洗舱270封闭的一端之间的距离例如可以为50mm-70mm。其中，底板210例如为圆形、棱形或矩形等，底板210的形状与清洗舱270的水平截面的形状相匹配。在本发明一实施例中，底板210例如为圆形，且底板210的直径与清洗舱270的内径相等。在本发明一实施例中，底板210的厚度例如为8mm-12mm。
请参阅图1至图3所示，在本发明一实施例中，底板210包括限位槽211、开口212、第一进液孔213和第一渗液孔214。在本发明一实施例中，限位槽211的数量例如可以设置为10-20个，多个限位槽211均匀分布在底板210上。在本发明一实施例中，试样瓶100倒扣放置在限位槽211内，限位槽211例如可以设置为圆形凹槽，且限位槽211的直径略大于试样瓶颈部101的外径。在本发明一实施例中，限位槽211的直径例如可以设置为22mm-25mm，限位槽211的深度例如可以设置为4mm-8mm。
请参阅图1至图3所示，在本发明一实施例中，开口212设置在限位槽211的中心位置，且开口212贯穿底板210，开口212的形状例如可设置为圆形。在本发明一实施例中，开口212的直径小于试样瓶颈部101的外径，开口212的直径大于或等于试样瓶尾部102的内径，开口212的直径例如可以为10mm-16mm。当试样瓶100倒扣在限位槽211内，清洗液可以通过开口212进入试样瓶100内，对试样瓶100内的残留物污染物进行清洗，因开口212的直径大于或等于试样瓶尾部102的内径，清洗无死角。
请参阅图1至图3所示，在本发明一实施例中，底板210上还设置有第一进液孔213，进液管道230通过第一进液孔213贯穿底板210。在本发明一实施例中，第一进液孔213的数量例如为2个，2个第一进液孔213对称分布在底板210的边缘处。在本发明一实施例中，第一进液孔213的直径例如可以设置为6mm-10mm。在本发明一实施例中，底板210上还设置有若干第一渗液孔214，第一渗液孔214的尺寸小于试样瓶100的内径，清洗液从第一渗液孔214进入或排出底板210。
请参阅图1和图4所示，在本发明一实施例中，盖板220与清洗舱270可拆卸连接，且盖板220设置在试样瓶100上，并与试样瓶100接触，将试样瓶100固定。在本发明一实施例中，盖板220例如可以设置为圆形，且盖板220的直径小于清洗舱270的内径，便于盖板220的取放。在本发明一实施例中，盖板220的直径例如可以设置为清洗舱270内径的3/4-5/6。在本发明一实施例中，盖板220的厚度例如可以设置为8mm-12mm。
请参阅图1和图4所示，在本发明一实施例中，盖板220包括卡扣221、第二进液孔222和第二渗液孔223。在本发明一实施例中，卡扣221的数量例如可以设置为2-6个，且多个卡扣221对称分布在盖板220上。在本发明一实施例中，卡扣221例如可以设置为锥形，在其他实施例中，卡扣221例如还可以设置为圆形、矩形等。试样瓶100清洗过程中，盖板220通过卡扣221将试样瓶100固定。试样瓶100清洗结束，打开卡扣221，可将盖板220和试样瓶100取出清洗舱270内。
请参阅图1和图4所示，在本发明一实施例中，盖板220上还设有第二进液孔222，进液管道230通过第二进液孔222贯穿盖板220。在本发明一实施例中，第二进液孔222的数量例如为2个，2个第二进液孔222对称分布在盖板220的边缘处。在本发明一实施例中，第二进液孔222的直径例如可以设置为6mm-10mm。在本发明一实施例中，盖板220上还设置有若干第二渗液孔223，第二渗液孔223的尺寸小于试样瓶100的内径，清洗液从第二渗液孔223进入或排出盖板220。
请参阅图1所示，在本发明一实施例中，第二进液孔222与第一进液孔213位于同一条中轴线，进液管道230穿过第二进液孔222和第一进液孔213，贯穿盖板220和底板210，进液管道230延伸至清洗舱270的底部，向清洗舱270内传输清洗液。在本发明一实施例中，进液管道230的数量例如为2个，且进液管道230的一端可连接水龙头，向清洗舱270内输入纯净水。当试样瓶100内的污染残留物浓度较高时，将试样瓶100放置于清洗治具200内进行清洗时，可通过其中一进液管道230向清洗舱270内输入酸溶液，加快污染残留物的溶解。本发明对酸溶液的种类不加以限制，酸溶液可为硫酸、盐酸或硝酸等。在本实施例中，酸溶液为硝酸，且硝酸的浓度例如为0.2％。
请参阅图1所示，进液管道230由耐腐蚀、耐高温、自润滑、易加工和高机械强度等优异性能的材料制成，在本实施例中，进液管道230由耐氢氟酸(HF)腐蚀的铁氟龙(PFA)材料制成。在本发明一实施例中，进液管道230形状例如设置为圆管状，在其他实施例中，进液管道230的形状也可以设置为例如方管状。在本发明一实施例中，进液管道230壁厚例如设置为1-3mm，内径例如设置为5-10mm。进一步，可选的，进液管道230壁厚例如设置为1mm，内径例如设置为9mm。
请参阅图1所示，在本发明一实施例中，清洗舱270侧壁设置有多个凸出部240，多个凸出部240对称设置在清洗舱270的侧壁上，且凸出部240的数量例如设置为2-6个。在本发明一实施例中，凸出部240位于相对底板210的一侧，且凸出部240设置在清洗舱270的外侧壁，凸出部240相对清洗舱270向外突出的宽度例如为2mm-4mm。在本发明一实施例中，凸出部240与盖板220位于同一水平面，且凸出部240的厚度为8mm-12mm。
请参阅图1所示，在本发明一实施例中，清洗舱270侧壁还设置有多个通孔260，且多个通孔260对称设置在清洗舱270的侧壁上。在本发明一实施例中，通孔260设置在出液口250和盖板220之间，且通孔260的底部与盖板220的顶部位于同一水平面。在本发明一实施例中，盖板220上的卡扣221穿过通孔260与凸出部240卡合，将盖板220固定在清洗舱270上，从而将试样瓶100固定在清洗治具200内。当试样瓶100清洗完成后，可将卡扣221打开，将盖板220取出清洗舱270，再将试样瓶100取出，并进行干燥处理。在本发明一实施例中，通孔260四周设置有柔性密封件(图中未显示)，以填充通孔260与卡扣221之间的缝隙，以避免清洗舱270内的清洗液从通孔260中溢出。
请参阅图1所示，在本发明一实施例中，清洗舱270侧壁还设置有多个出液口250，多个出液口250位于同一平面内，出液口250与底板210之间的距离大于盖板220与底板210之间的距离。当清洗舱270内的清洗液漫过盖板220，从出液口250中排出，达到对试样瓶100进行浸泡、清洗又循环清洗液的目的。在本发明一实施例中，多个出液口250位于同一水平面，且多个出液口250对称设置在清洗舱270侧壁上。在本发明一实施例中，出液口250的个数例如可以设置为4-8个。
请参阅图5所示，本发明还提出一种化学气相分解试样瓶的清洗装置，此清洗装置包括清洗治具200、蓄水池300、超声单元400和回收装置600，蓄水池300内设置有支架305，清洗治具200位于支架305上，超声单元400设置在蓄水池300的内侧壁上，回收装置600与蓄水池300的一端连通，回收清洗液。在本发明一实施例中，此清洗装置还可以包括加热单元500，以提高清洗效果，且加热单元500设置在蓄水池300的内侧壁上。
请参阅图5和图6所示，蓄水池300由耐高温、耐腐蚀、易加工和高机械强度等优异性能的材料制成，在本实施例中，蓄水池300由耐氢氟酸(HF)腐蚀的铁氟龙(PFA)材料制成。本发明对蓄水池300的尺寸不加以限制，在本实施例中，蓄水池300可容纳6-10个清洗治具200。在本发明一实施例中，蓄水池300的深度大于清洗治具200的高度，蓄水池300的深度例如可以设置为200mm-300mm。
请参阅图5和图6所示，在本发明一实施例中，蓄水池300包括进水部301、第一阀门302、排水部303、第二阀门304和支架305。在本发明一实施例中，支架305例如可以与蓄水池300一体化设置，支架305例如也可以与蓄水池300可拆卸连接，便于蓄水池300的清洗。在本发明一实施例中，支架305设置在蓄水池300的中心位置，支架305的高度为蓄水池300高度的一半。在本发明一实施例中，支架305上开设有多个限位孔306，且限位孔306的孔径比清洗治具200的外径大1mm，清洗治具200穿过限位孔306，清洗治具200通过凸出部240悬空卡在支架305上。
请参阅图5和图6所示，在本发明一实施例中，蓄水池300一端设置进水部301，蓄水池300另一端设置排水部303。在本发明一实施例中，蓄水池300通过进水部301可与纯净水源连通，进水部301与蓄水池300之间设置有第一阀门302，以控制纯净水的输入流量。在本发明一实施例中，蓄水池300通过排水部303与回收装置600连通，将蓄水池300内的清洗废液回收收集。在本发明一实施例中，排水部303与蓄水池300之间设置有第二阀门304，以控制清洗废液的输出流量。本发明对回收装置600的具体形状不加以限制，在一实施例中，回收装置600的容量例如为3-6L。回收装置600收集的清洗废液进行特殊处理或循环到其他机台，对其他装置进行预清洗处理。
请参阅图5和图6所示，在本发明一实施例中，蓄水池300内可设置超声单元400，超声单元400例如可设置在蓄水池300内侧壁上，对蓄水池300内的试样瓶100进行超声清洗处理。在本发明一实施例中，超声单元400包括多个换能器片401，且换能器片401的数量例如可以设置为4-8个。通过多个换能器片401，可将功率超声频源的声能转换成机械振动，通过蓄水池300池壁将超声波辐射到蓄水池300中的纯净水中，并进一步辐射到清洗治具200内的清洗液中。由于受到超声波的辐射，清洗治具200内清洗液液体中的微气泡能够在声波的作用下保持振动，破坏残留污染物与试样瓶100瓶壁表面的吸附，引起污染物层的疲劳破坏而被剥离，气体型气泡的振动对试样瓶100瓶壁表面进行擦洗。
请参阅图5和图6所示，在本发明一实施例中，蓄水池300内还可以设置加热单元500，加热单元500例如可设置在蓄水池300的内侧壁上，对蓄水池300内的纯净水进行加热，从而达到对清洗治具200进行水浴加热的目的，加速试样瓶100瓶壁污染残留物的溶解和剥离。本发明对加热单元500的种类不加以限制，在一实施例中，加热单元500例如可以为陶瓷加热器，在另一实施例中，加热单元500例如也可以为电磁加热器，在其他实施例中，加热单元500例如还可以为加热电阻丝、微波加热器等。
请参阅图5和图6所示，在本发明一实施例中，在试样瓶100清洗过程中，蓄水池300内的水位低于清洗治具200中出液口250的高度，蓄水池300内的水作为对试样瓶100进行超声处理和加热处理的介质。当试样瓶100清洗完毕，将试样瓶100从清洗治具200中取出后，可将清洗治具200倒扣在支架305上，清洗治具200内的残留清洗液可流出，蓄水池300内的纯净水通过清洗舱270敞开的一端及底板210上的第一渗液孔214流入，并同时打开第一阀门302和第二阀门304，蓄水池300内的纯净水进行流动，实现对清洗治具200进行清洗。
综上所述，本发明提出一种化学气相分解试样瓶的清洗治具和清洗装置，此清洗治具内设有多个限位槽，试样瓶倒扣放置在限位槽内，实现同时清洗多个试样瓶，提高试样瓶的清洗效率，且降低人为因素对试样瓶造成二次污染。清洗过程中，清洗治具放置在清洗装置内，清洗装置内还有超声单元和加热单元，能够有效提高试样瓶的清洗质量，减少污染物在试样瓶内残留，提高对晶圆表面污染物的测试结果的精确度，从而及时去除晶圆表面污染物进行以提高晶圆的最终质量。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明，本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案，例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
除说明书所述的技术特征外，其余技术特征为本领域技术人员的已知技术，为突出本发明的创新特点，其余技术特征在此不再赘述。
Claims (10)
1.一种化学气相分解试样瓶的清洗治具，其特征在于，至少包括：
清洗舱；
底板，固定设置在所述清洗舱内，且所述底板上设置多个限位槽；
多个试样瓶，多个所述试样瓶倒扣放置在多个所述限位槽内；
盖板，设置在所述试样瓶上，且与所述试样瓶接触设置，所述盖板与所述清洗舱可拆卸连接；
多个进液孔，设置在所述盖板和所述底板上；以及
多个出液口，设置在所述清洗舱的侧壁上，所述出液口至所述底板的距离大于所述盖板至所述底板的距离。
2.根据权利要求1所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具，其特征在于，所述清洗舱侧壁上设置多个通孔，多个所述通孔设置在所述盖板与所述出液口之间。
3.根据权利要求2所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具，其特征在于，所述清洗舱外侧壁上还设置凸出部，所述凸出部至所述底板的距离小于所述通孔至所述底板的距离。
4.根据权利要求3所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具，其特征在于，所述盖板上设置多个卡扣，多个所述卡扣通过所述通孔与所述凸出部可拆卸连接。
5.根据权利要求1所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具，其特征在于，所述盖板的尺寸为所述清洗舱尺寸的3/4-5/6。
6.根据权利要求1所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具，其特征在于，所述清洗治具还包括进液管道，所述进液管道依次通过所述盖板上的所述进液孔和所述底板上的所述进液孔，并延伸至所述清洗舱的底部。
7.根据权利要求1所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具，其特征在于，所述限位槽上设有开口，所述开口的内径大于或等于所述试样瓶的内径。
8.根据权利要求1所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具，其特征在于，所述底板和所述盖板上设置多个渗液孔，所述渗液孔的尺寸小于所述试样瓶的尺寸。
9.一种化学气相分解试样瓶的清洗装置，其特征在于，至少包括：
蓄水池，所述蓄水池内设有支架；
超声单元，设置在所述蓄水池的内侧壁上；以及
清洗治具，设置在所述支架上，且所述清洗治具包括：
底板，固定设置在所述清洗舱内，且所述底板上设置多个限位槽；
试样瓶，所述试样瓶倒扣放置在所述限位槽内；
盖板，设置在所述试样瓶上，且与所述试样瓶接触设置，所述盖板与所述清洗舱可拆卸连接；
多个进液孔，设置在所述盖板和所述底板上；以及
多个出液口，设置在所述清洗舱的侧壁上，所述出液口至所述底板的距离大于所述盖板至所述底板的距离。
10.根据权利要求9所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗装置，其特征在于，所述清洗治具还包括凸出部，所述清洗治具通过所述凸出部悬空设置在所述支架上。
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