CN115386114A - 光学聚酯膜及其制备方法和应用 - Google Patents
光学聚酯膜及其制备方法和应用 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115386114A CN115386114A CN202211010249.1A CN202211010249A CN115386114A CN 115386114 A CN115386114 A CN 115386114A CN 202211010249 A CN202211010249 A CN 202211010249A CN 115386114 A CN115386114 A CN 115386114A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- optical
- polyester film
- film
- stretching
- optical polyester
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 title claims abstract description 86
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 75
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims abstract description 39
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 48
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims description 39
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 34
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 25
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 25
- 229920005644 polyethylene terephthalate glycol copolymer Polymers 0.000 claims description 22
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 claims description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 18
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 15
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 13
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 claims description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 10
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 claims description 8
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 claims description 8
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 8
- NXDJCCBHUGWQPG-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol;terephthalic acid Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1.OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NXDJCCBHUGWQPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 claims description 7
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 6
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 6
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 5
- UOBYKYZJUGYBDK-UHFFFAOYSA-N 2-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 UOBYKYZJUGYBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 14
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 7
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 10
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000012792 core layer Substances 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013043 chemical agent Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
- C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2467/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
- C08J2467/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/24—Acids; Salts thereof
- C08K3/26—Carbonates; Bicarbonates
- C08K2003/265—Calcium, strontium or barium carbonate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/30—Sulfur-, selenium- or tellurium-containing compounds
- C08K2003/3045—Sulfates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/24—Acids; Salts thereof
- C08K3/26—Carbonates; Bicarbonates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
Abstract
本发明提供了一种光学聚酯膜及其制备方法和应用。所述光学聚酯膜的横向拉伸比例(TD)为3~9倍,纵向拉伸比例(MD)为1.5~2.5倍,TD/MD=2.5~6,通过更极端化的调整横向/纵向的拉伸分配比例,所述光学聚酯膜在整个幅宽上的配向角低于6°,以达到偏光片cross检查工序中,内部点缺不良的更佳检出效果。所述光学聚酯膜的透光率高于87%,雾度低于7%。本发明通过控制树脂材料的成分组成,分子链取向,可以解决普通聚酯材料在偏光片cross直交检查时的画面发白现象,同时控制膜表面小分子低聚物的形成或进行膜表面的清洁。
Description
技术领域
本发明涉及光学薄膜技术领域,尤其涉及一种光学聚酯膜及其制备方法和应用。
背景技术
目前,光学用聚酯膜广泛地用于LCD部件的光扩散片、棱镜片、触摸面板等的基膜。聚酯(如聚对苯二甲酸乙二酯、聚2,6-萘二甲酸乙二酯等)在成型性、机械特性、热特性、电气特性及耐化学药品性等方面都有不错的表现,可作不同用途,例如光学膜、电气绝缘膜、阻隔膜、离型膜、保护膜、农用地膜、包装材料及隔热膜。然而,当聚酯膜作为装置的一部分使用于高温环境下,或于高温环境下进行加工时,除了容易发生白化碎裂,以及发生明显的热收缩导致膜的尺寸不稳定。
光学用双轴取向聚酯膜通常是通过熔融挤压成片状,并进行急冷固化得到的无定性的片进行纵向拉伸,然后,通过涂布的方式进行表面处理,其作用是提高与硬化层的附着力,最后,对聚酯膜进行横向拉伸而得到的。偏光片离型膜基材一般都使用PET材料,由于PET材料经双向拉伸后存在较大的双折射效应,会对偏光片cross检查造成影响。目前行业的普遍做法是通过双向拉伸工艺减小PET的配向角(<12°),来降低PET材料对偏光片cross检查的影响。
现有技术通过调整PET横向/纵向的拉伸分配比例,将PET在横向上的配向角调整至12度以内,来满足行业应用。但是随着显示技术逐渐往高清晰,超清晰方向发展,偏光片点缺规格越来越严格,12度的配向角已不能满足行业要求。为了降低膜的配向角,通常选择接近单轴拉伸或单轴拉伸的拉伸方法,但是生产率降低。
发明内容
本发明为了解决偏光片直交检查时离型膜基材聚酯的分子链取向导致的画面发白问题的不足,提供一种光学聚酯膜及其制备方法和应用。
为了达到上述的目的,本发明采取以下技术方案:
第一方面,本发明提供一种光学聚酯膜,所述光学聚酯膜的横向拉伸比例(TD)为3~9倍,纵向拉伸比例(MD)为1.5~2.5倍,TD/MD=2.5~6。
进一步地,所述光学聚酯膜在整个幅宽上的配向角低于6°。
进一步地,所述光学聚酯膜每平方米上尺寸大小在0.1~0.5mm的点缺数少于0.01个。
进一步地,所述聚酯选自聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚-2,6-萘二甲酸乙二醇酯(PEN);优选地,所述PET和所述PEN的特性粘度为0.30~0.9,优选为0.5~0.7。
进一步地,所述聚酯还包括聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG),优选地,所述PETG的特性粘度为高于0.7;优选地,PETG相比总树脂的质量比例为10%~50%。
进一步地,所述光学聚酯膜的透光率高于87%,雾度低于7%。
第二方面,本发明提供一种第一方面所述的光学聚酯膜的制备方法,所述的制备方法包括如下步骤:(S1)将聚酯母粒干燥并进行预结晶;(S2)所述聚酯母粒和助剂经加热熔融单层挤出或多层共挤出,经冷却棍冷却,经双轴拉伸后,再经热定型制得;(S3)收卷。
进一步地,所述步骤(S1)中所述聚酯母粒的干燥温度为60~180℃,优选130~160℃,干燥时间为2~6小时;优选地,所述聚酯母粒干燥后粒子含水率低于100ppm,优选粒子含水率低于50ppm。
进一步地,所述步骤(S2)的所述助剂包括高分子光学膜开口剂;所述高分子光学膜开口剂选自氧化硅、碳酸钙、硫酸钡中的至少一种;优选地,所述高分子光学膜开口剂的粒径低于5μm,优选1~3.5μm;优选地,所述助剂还包括抗静电剂、热稳定剂、耐候剂中的一种或多种。
进一步地,所述光学聚酯膜为多层结构,所述光学聚酯膜的至少一层包括所述高分子光学膜开口剂;优选所述光学聚酯膜的表层包括所述高分子光学膜开口剂。
进一步地,所述步骤(S2)的加热挤出温度为260~290℃;所述冷却辊冷却温度至50℃以下。
进一步地,所述步骤(S2)的双轴拉伸具体为先进行纵向拉伸,纵向拉伸比例(MD)为1.5~2.5倍,拉伸温度为75~135℃;然后再进行横向拉伸,拉伸温度为90~140℃,横向拉伸比例(TD)为3~9倍,优选3.5~5.5倍。
进一步地,所述步骤(S2)的热定型温度为170~250℃。
进一步地,所述步骤(S3)在收卷之前进行膜面异物清洁,所述清洁方式选自在膜的两面安装在线粘尘棍,超声波除尘装置水洗干燥或者碱洗除污后再水洗干燥。
第三方面,本发明提供一种偏光片离型膜,所述偏光片离型膜包括第一方面所述的光学聚酯膜或第二方面的制备方法得到的光学聚酯膜。
应用本发明的技术方案,相对于现有技术,本发明具有以下有益效果:
(1)本发明通过控制树脂材料的成分组成,分子链取向,可以解决普通聚酯材料在偏光片cross直交检查时的画面发白现象,同时控制膜表面小分子低聚物的形成或进行膜表面的清洁。
(2)本发明通过更极端化的调整横向/纵向的拉伸分配比例,所述光学聚酯膜的横向拉伸比例(TD)为3~9倍,纵向拉伸比例(MD)为1.5~2.5倍,TD/MD=2.5~6。所述光学聚酯膜在整个幅宽上的配向角低于6°,以达到偏光片cross检查工序中,内部点缺不良的更佳检出效果。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将结合实施例来详细说明本发明。
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明的技术方案,下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本发明保护的范围。
应当可以理解的是,除非另作定义,本公开所使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内有一般技能的人士所理解的通常意义。另外,本文中所使用的术语“或”,应视实际情况可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。
目前偏光片离型膜基材一般都使用PET材料,由于PET材料经双向拉伸后存在较大的双折射效应,会对偏光片cross检查造成影响。目前行业的普遍做法是通过双向拉伸工艺减小PET的配向角(<12°),来降低PET材料对偏光片cross检查的影响。为了解决该问题,本申请提供了一种光学聚酯膜及其制备方法。
在本申请一种典型的实施方式中,本发明提供一种光学聚酯膜,通过更极端化的调整横向/纵向的拉伸分配比例,即通过减少纵向拉伸比例,增加横向拉伸比例来降低光学聚酯膜的横向配向角,所述光学聚酯膜的横向拉伸比例(TD)为3~9倍,纵向拉伸比例(MD)为1.5~2.5倍,横向拉伸比例(TD)与纵向拉伸比例(MD)的比值TD/MD=2.5~6。拉伸比例显著影响分子取向,因此影响玻璃化转变温度和硬质无定形结构含量。如果TD/MD低于2.5,所得光学聚酯膜的配向角较高,会对偏光片cross检查造成影响;如果TD/MD高于6,所得光学聚酯膜在拉伸过程中容易出现破膜等现象。
所述光学聚酯膜在整个幅宽上的配向角低于6°,将配向角调整至6°以内,以达到偏光片cross检查工序中,内部点缺不良的更佳检出效果。
在本申请一种典型的实施方式中,所述光学聚酯膜每平方米上尺寸大小在0.1~0.5mm的点缺数少于0.01个。所述点缺数的检测方法使用强光灯检测:收卷卷首卷末取全幅宽光学薄膜3~10m悬挂于暗室摆放的样品架上,用强光灯照在薄膜上,肉眼观察薄膜上的缺陷,统计缺陷数量及大小。同时产线上会设置CCD缺陷检查机,通过设置检查机参数,该系统会记录整卷薄膜的缺陷数量和大小分布。
聚酯树脂可为一种以上的二元酸与一种以上的二元醇所形成。二元酸可为芳香族二元酸、脂环族二元酸或其组合;二元醇可为芳香族二元醇、脂肪族二元醇、脂环族二元醇或其组合。本发明中的聚酯薄膜可以由任意的聚酯树脂得到,对于聚酯树脂的种类没有特别的限制,例如,可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚-2,6-萘二甲酸乙二醇酯以及其它共聚成分。这些聚酯树脂具有高透光率,热性能、机械性能优异,具有综合的光、热、力学性能,容易控制结晶并且成本较低,易实现产业化。在本申请的具体实施方式中,所述聚酯树脂选自聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚-2,6-萘二甲酸乙二醇酯(PEN);优选的聚酯树脂为PET。优选地,所述PET和所述PEN的特性粘度为0.30~0.9,优选为0.5~0.7。特性粘度在此范围内,能减少聚酯树脂于成型时受到的负荷(如环境负荷、外力负荷等),并且能减少剪切加工所产生的热量,而避免树脂发生热分解。
但是随着横向/纵向上的拉伸比例极端化,导致拉伸过程中容易出现斑纹或者破膜等现象,在本申请优选的实施方式中,所述聚酯还包括聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG),具有较好的粘性、透明度、颜色、耐化学药剂、和抗应力白化能力,抗冲击性能优异,其加工成型性能极佳。PETG板材提供了优秀的耐候性。它可以保持产品的坚韧性,防止变黄。优选地,所述PETG的特性粘度为高于0.7,优选所述PETG的特性粘度为0.7~0.8。特性粘度太低,分子量小,强度小,不具备可加工性,粘度太高,加工拉伸时拉伸应力过大,大分子不好取向,不易拉伸成型。所述PETG本身的特性黏度对拉伸成型有很大的影响。特性粘度试验方法按照GB/T14190-2017进行测试。
在本申请优选地实施方式中,PETG相比总树脂的质量比例为10%~50%。如果PETG的质量比例低于10%,所得光学聚酯膜起不到改善拉伸斑和破膜现象;如果PETG的质量比例高于50%,会影响所得光学聚酯膜整体的耐热性能,导致收缩率恶化。
在本申请的具体实施方式中,所述光学聚酯膜的透光率高于87%,雾度低于7%。所述光学聚酯膜的透光率和雾度的测试参照测试标准ASTM D1003。
第二方面,本发明提供一种第一方面所述的光学聚酯膜的制备方法,所述的制备方法包括如下步骤:(S1)将聚酯母粒干燥并进行预结晶;(S2)所述聚酯母粒和助剂可通过单层挤出或多层共挤出的方式形成具有流动性的熔融物,此步骤可用双螺杆压出机实现,熔融物再于流延辊之间流延为膜状并冷却固化。经双轴拉伸后,再经热定型制得;(S3)收卷。
在本申请的具体实施方式中,所述步骤(S1)中所述聚酯母粒的干燥温度为60~180℃,优选130~160℃,干燥时间为2~6小时;优选地,所述聚酯母粒干燥后粒子含水率低于100ppm,优选粒子含水率低于50ppm。如果聚酯母粒的含水率高于100ppm,则聚酯树酯在熔融过程中会发生降解,产生气泡或点状缺陷。
在本申请的具体实施方式中,所述步骤(S2)的所述助剂包括高分子光学膜开口剂;所述高分子光学膜开口剂选自氧化硅、碳酸钙、硫酸钡中的至少一种。所述高分子光学膜开口剂相比总树脂的质量比例为100~500ppm。所述高分子光学膜开口剂颗粒的含量少时,抗粘效果差,聚酯膜层易粘黏,不易于聚酯膜收卷。另外,在开口剂含量过高时,会降低聚酯光学膜的透过度。优选地,所述高分子光学膜开口剂的粒径低于5μm,优选1~3.5μm。如果高分子光学膜开口剂的粒径高于5μm,则粒子很容易被人眼识别,本身看起来像一个点状不良。
在本申请具体的实施方式中,所述光学聚酯膜为采用单层A、两层A/B、三层A/B/A或A/B/C共挤的双向拉伸聚酯薄膜。所述光学聚酯膜为单层结构时,其中高分子光学膜开口剂进行整体添加。
在本申请的具体实施方式中,所述光学聚酯膜为多层结构,采用芯层和两层表层结构,两层表层可以是相同的厚度,也可以是不同的厚度。所述光学聚酯膜的至少一层包括所述高分子光学膜开口剂;为了提高膜的透明性和降低原料成本,优选所述光学聚酯膜的表层包括所述高分子光学膜开口剂。所述多层膜可以包括:芯层和表层,在该表层中至少一层或更多层层压在所述芯层的两个表面上。例如,聚酯多层膜可以由表层/芯层/表层顺序地层压的三层膜构成。
在本申请的具体实施方式中,所述高分子光学膜开口剂的添加方法,可以在树脂聚合过程中添加,也可将高分子光学膜开口剂与树脂进行共混造粒,然后采用三层共挤的方法,经双轴拉伸后热定型成膜。
在本申请优选地实施方式中,所述助剂还包括抗静电剂、热稳定剂、耐候剂中的一种或多种。为了提高薄膜材料的抗静电效果,可以在聚酯中加入抗静电剂,为了提高薄膜材料的热稳定性和耐候性,可以添加热稳定剂和耐候剂。
在本发明的实施例中,所述抗静电剂可以为表面活性剂类抗静电剂。在本发明的实施例中,所述抗静电剂可以为阳离子抗静电剂,如长链的烷基季铵、磷或磷盐;也可以为阴离子抗静电剂,如烷基磺酸、磷酸或二硫代氨基甲酸的碱金属盐;还可以为非离子抗静电剂,如乙氧基化脂肪族烷基胺。本发明对所述抗静电剂的来源没有特殊的限制,可由市场购买获得。优选地,所述热稳定剂为磷酸类化合物;所述磷酸类化合物包括磷酸、亚磷酸、多磷酸、磷酸三甲酯、磷酸三苯酯、磷酸三乙酯中的任一种。
在本申请的具体实施方式中,所述步骤(S2)的加热挤出温度为260~290℃;所述冷却辊冷却温度至50℃以下。
在本申请的具体实施方式中,对未拉伸的聚酯厚片进行预热及拉伸后,再进行横向及/或纵向的热收缩;拉伸加工方式可为逐次双轴拉伸加工或同步双轴拉伸加工。在特定的拉伸加工条件下,可完成聚酯膜的结晶配向,且聚酯膜在高温环境下可具有非常低的纵向热收缩率和横向热收缩率。优选的实施方式,所述步骤(S2)的双轴拉伸具体为先进行纵向拉伸,纵向拉伸比例(MD)为1.5~2.5倍,拉伸温度为75~135℃;然后再进行横向拉伸,拉伸温度为90~140℃,横向拉伸比例(TD)为3~9倍,优选3.5~5.5倍。拉伸温度和拉伸比显著影响分子取向,因此影响玻璃化转变温度和硬质无定形结构含量。因此,这些条件优选经优化后以制备本发明的双轴取向聚酯膜。纵向拉伸比例是指拉伸之后的长度与拉伸之前的长度的比例,即,拉伸之后的长度/拉伸之前的长度。然而,当在实际的连续工艺中计算时,在卷对卷纵向拉伸(在纵向方向上拉伸)的情况下,可以将拉伸之后的辊速与拉伸之前的辊速的比例用作拉伸比。在使用拉幅机的横向拉伸(横向方向上的拉伸)的情况下,可以将拉幅机的出口的宽度(拉幅机最宽处)与入口的宽度的比例定义为拉伸比。
在本申请的具体实施方式中,所述步骤(S2)的热定型温度为170~250℃,提高聚酯薄膜的耐热性能。
在本申请优选的实施方式中,为提高下游离型涂布时的离型附着力,可以对该光学聚酯膜进行单面电晕处理,但是在电晕处理时,通过高压放电对膜表面进行粗糙处理的同时,会形成很多细小的粉尘造成车间环境和膜表面污染,优选电晕处理机进行安装排风系统,将电晕产生的粉尘及时排出。
聚酯材料在拉伸和定型等高温处理工艺过程中,会有低聚物形成,附着在薄膜表面,从而造成膜本身的缺陷不良。为保证光学聚酯膜自身的品质,在本申请优选的实施方式中,所述步骤(S3)在收卷之前进行膜面异物清洁,所述清洁方式选自在膜的两面安装在线粘尘棍,超声波除尘装置水洗干燥或者碱洗除污后再水洗干燥。
第三方面,本发明提供一种偏光片离型膜,所述偏光片离型膜包括第一方面所述的光学聚酯膜或第二方面的制备方法得到的光学聚酯膜。
以下结合具体实施例对本申请作进一步详细描述,这些实施例不能理解为限制本申请所要求保护的范围。
实施例1
一种光学聚酯膜,所述光学聚酯膜包括聚酯树脂、高分子光学膜开口剂氧化硅;所述聚酯树脂为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET);所述PET的特性粘度为0.60。所述高分子光学膜开口剂相比总树脂的质量比例为300ppm,所述高分子光学膜开口剂的粒径为3μm。将聚酯母粒在140℃干燥4h,所述聚酯母粒干燥后粒子含水率低于50ppm,并进行预结晶,所述聚酯母粒和高分子光学膜开口剂氧化硅在270℃加热熔融单层挤出,经冷却棍冷却至50℃以下。然后先进行纵向拉伸,纵向拉伸比例(MD)为2倍,拉伸温度为100℃;然后再进行横向拉伸,拉伸温度为120℃,横向拉伸比例(TD)为5倍;TD/MD=2.5,再经200℃热定型,并进行横向轨道5%~15%的松弛进行应力释放后制得;收卷,所述聚酯薄膜的厚度为38um。
实施例2
与实施例1不同的是,实施例2所述光学聚酯膜的横向拉伸比例(TD)为9倍,纵向拉伸比例(MD)为1.5倍,TD/MD=6。其他与实施例1相同。
实施例3
与实施例1不同的是,实施例3所述光学聚酯膜的横向拉伸比例(TD)为3.75倍,纵向拉伸比例(MD)为1.5倍,TD/MD=2.5。其他与实施例1相同。
实施例4
与实施例1不同的是,实施例4所述光学聚酯膜的横向拉伸比例(TD)为7.5倍,纵向拉伸比例(MD)为2.5倍,TD/MD=3。其他与实施例1相同。
实施例5
与实施例1不同的是,实施例5所述光学聚酯膜的聚酯还包括聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG),所述PETG的特性粘度为0.8;PETG相比总树脂的质量比例为20%。其他与实施例1相同。
实施例6
与实施例5不同的是,实施例6所述聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)相比总树脂的质量比例为10%。其他与实施例1相同。
实施例7
与实施例5不同的是,实施例7所述聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)相比总树脂的质量比例为50%。其他与实施例1相同。
实施例8
与实施例1不同的是,实施例8所述高分子光学膜开口剂相比总树脂的质量比例为100ppm。其他与实施例1相同。
实施例9
与实施例1不同的是,实施例9所述高分子光学膜开口剂相比总树脂的质量比例为500ppm。其他与实施例1相同。
实施例10
与实施例1不同的是,实施例10所述高分子光学膜开口剂的粒径为1μm。其他与实施例1相同。
实施例11
与实施例1不同的是,实施例11所述高分子光学膜开口剂为硫酸钡。其他与实施例1相同。
实施例12
与实施例1不同的是,实施例12所述聚酯母粒和助剂在270℃加热熔融三层共挤出,所述表层配方同实施例1,所述芯层配方中不含有高分子光学膜开口剂。
对比例1
与实施例1不同的是,对比例1所述光学聚酯膜的横向拉伸比例(TD)为3倍,纵向拉伸比例(MD)为1.5倍,TD/MD=2。其他与实施例1相同。
对比例2
与实施例1不同的是,对比例1所述光学聚酯膜的横向拉伸比例(TD)为9倍,纵向拉伸比例(MD)为3倍,TD/MD=3。其他与实施例1相同。
对比例3
与实施例5不同的是,对比例3所述聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)相比总树脂的质量比例为8%。其他与实施例1相同。
对比例4
与实施例5不同的是,对比例4所述聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG)相比总树脂的质量比例为55%。其他与实施例1相同。
对比例5
与实施例1不同的是,对比例5所述高分子光学膜开口剂相比总树脂的质量比例为50ppm。其他与实施例1相同。
对比例6
与实施例1不同的是,对比例6所述高分子光学膜开口剂相比总树脂的质量比例为600ppm。其他与实施例1相同。
对比例7
与实施例1不同的是,对比例7所述高分子光学膜开口剂的粒径为5μm。其他与实施例1相同。
对比例8
与实施例1不同的是,对比例8所述所述聚酯母粒干燥后粒子含水率为100ppm。其他与实施例1相同。
性能测试
通过上述实施例1-12和对比例1-8得到的光学聚酯膜,经过下列测试方法进行评价。
(1)透光率:测试标准ASTM D1003。
(2)雾度:测试标准ASTM D1003。
(3)热收缩率:测试标准ASTM D1204(150℃,30min)。
(4)配向角:取全幅宽实验膜样品,使用大冢电子株式会社的RE-200P光轴测量仪每间隔50mm测量一次配向角,由于双向拉伸样品的配向角呈规则的曲线分布,记录测量数据的最大值,作为该卷薄膜的配向角即可。
(5)点缺数:检验方法,通过设置BOPET产线上的CCD参数,设置缺陷检出Size为0.1mm及以上,通过CCD系统自动统计每卷超过0.1mm的点缺不良数量,并折算成每平方米上的点缺数。
(6)膜面外观:取全幅宽聚酯膜,竖直悬挂于暗室内,用强光灯照射于膜面,人眼观察膜面有无褶皱,斑纹,破裂等条状或面状不良现象。
◎表示膜表面无任何条状或面状不良;〇表示有轻微可见的条状或面状外观不良;△表示有严重的条状或面状外观不良。
(7)收卷性:主要评价薄膜的收卷状况,◎表示收卷端面整齐,无凹凸/鼓包等不良现象;〇表示有轻微的凹凸/鼓包等现象;△表示有严重的滑膜,凹凸或鼓包,已经影响正常使用。
各实施例1~12和对比例1~8具体测试结果如表1所示:
表1
从以上的测试结果可以看出:本发明通过更极端化的调整横向/纵向的拉伸分配比例,所述光学聚酯膜的横向拉伸比例(TD)为3~8倍,纵向拉伸比例(MD)为1.5~2.5倍,TD/MD=2.5~6。所述光学聚酯膜在整个幅宽上的配向角低于6°,随着MD/TD拉伸比例的极端化,配向角有明显的下降的趋势,以达到偏光片cross检查工序中,内部点缺不良的更佳检出效果。在配方体系中加入一定量的聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG),有利于极端化拉伸比例情况下的成膜外观,能有效改善高倍率拉伸下的条状或面状斑纹不良。但是,如果PETG的质量比例低于10%,所得光学聚酯膜起不到改善拉伸斑和破膜现象;如果PETG的质量比例高于50%,会影响所得光学聚酯膜整体的耐热性能,导致收缩率恶化。开口剂的粒径和添加量会影响到薄膜的收卷性,粒径越小/添加量越低,抗粘效果差,聚酯膜层易粘黏,不易于聚酯膜收卷,收卷加工性越差。对比文件6在开口剂含量过高时,会降低聚酯光学膜的透过度。
以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求保护范围内。
Claims (12)
1.一种光学聚酯膜,其特征在于,所述光学聚酯膜的横向拉伸比例(TD)为3~9倍,纵向拉伸比例(MD)为1.5~2.5倍,TD/MD=2.5~6。
2.根据权利要求1所述的光学聚酯膜,其特征在于,所述光学聚酯膜在整个幅宽上的配向角低于6°。
3.根据权利要求1所述的光学聚酯膜,其特征在于,所述光学聚酯膜每平方米上尺寸大小在0.1~0.5mm的点缺数少于0.01个。
4.根据权利要求1所述的光学聚酯膜,其特征在于,所述聚酯选自聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚-2,6-萘二甲酸乙二醇酯(PEN);优选地,所述PET和所述PEN的特性粘度为0.3~0.9,优选为0.5~0.7。
5.根据权利要求4所述的光学聚酯膜,其特征在于,所述聚酯还包括聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯(PETG),优选地,所述PETG的特性粘度高于0.7;优选地,PETG相比总树脂的质量比例为10%~50%。
6.根据权利要求1所述的光学聚酯膜,其特征在于,所述光学聚酯膜的透光率高于87%,雾度低于7%。
7.一种权利要求1~6任一项所述的光学聚酯膜的制备方法,其特征在于,所述的制备方法包括如下步骤:(S1)将聚酯母粒干燥并进行预结晶;(S2)所述聚酯母粒和助剂经加热熔融单层挤出或多层共挤出,经冷却棍冷却,经双轴拉伸后,再热定型制得;(S3)收卷。
8.根据权利要求7所述的光学聚酯膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(S1)中所述聚酯母粒的干燥温度为60~180℃,优选130~160℃,干燥时间为2~6小时;优选地,所述聚酯母粒干燥后粒子含水率低于100ppm,优选粒子含水率低于50ppm。
9.根据权利要求7所述的光学聚酯膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(S2)的所述助剂包括高分子光学膜开口剂;所述高分子光学膜开口剂选自氧化硅、碳酸钙、硫酸钡中的至少一种;优选地,所述高分子光学膜开口剂相比总树脂的质量比例为100~500ppm;优选地,所述高分子光学膜开口剂的粒径低于5μm,优选1~3.5μm;优选地,所述助剂还包括抗静电剂、热稳定剂、耐候剂中的一种或多种。
10.根据权利要求9所述的光学聚酯膜的制备方法,其特征在于,所述光学聚酯膜为多层结构,所述光学聚酯膜的至少一层包括所述高分子光学膜开口剂;优选所述光学聚酯膜的表层包括所述高分子光学膜开口剂。
11.根据权利要求7所述的光学聚酯膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(S2)的双轴拉伸具体为先进行纵向拉伸,纵向拉伸比例(MD)为1.5~2.5倍,拉伸温度为75~135℃;然后再进行横向拉伸,横向拉伸比例(TD)为3~9倍,优选3.5~5.5倍;拉伸温度为90~140℃。
12.一种偏光片离型膜,其特征在于,所述偏光片离型膜包括权利要求1~6任一项所述的光学聚酯膜或权利要求7~11任一项的制备方法得到的光学聚酯膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202211010249.1A CN115386114A (zh) | 2022-08-23 | 2022-08-23 | 光学聚酯膜及其制备方法和应用 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202211010249.1A CN115386114A (zh) | 2022-08-23 | 2022-08-23 | 光学聚酯膜及其制备方法和应用 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN115386114A true CN115386114A (zh) | 2022-11-25 |
Family
ID=84121291
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202211010249.1A Pending CN115386114A (zh) | 2022-08-23 | 2022-08-23 | 光学聚酯膜及其制备方法和应用 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN115386114A (zh) |
-
2022
- 2022-08-23 CN CN202211010249.1A patent/CN115386114A/zh active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110028687B (zh) | 聚酯膜及其制备方法 | |
JP6344506B2 (ja) | ポリエステルフィルム | |
JP5640488B2 (ja) | 偏光板離型用二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム | |
JP5703566B2 (ja) | 偏光板離型用二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム | |
WO2016136615A1 (ja) | 積層ポリエステルフィルム | |
JP5651960B2 (ja) | 偏光板離型用二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム | |
CN111873587A (zh) | 一种低粗糙度mlcc制程用离型膜基膜及其制备方法 | |
JP2004042318A (ja) | 二軸配向ポリエステルフィルム | |
CN113071122A (zh) | 一种偏光片保护膜用基膜制备工艺及设备 | |
JP2008163263A (ja) | 離型フィルム用ポリエステルフィルム | |
JP6852264B2 (ja) | 光学フィルム検査用二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム | |
CN115386114A (zh) | 光学聚酯膜及其制备方法和应用 | |
JP5119469B2 (ja) | 偏光板離型用ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルムおよびその製造方法 | |
JP4644885B2 (ja) | 脂肪族ポリエステル系フィルム | |
JP5450941B2 (ja) | 成形加工用二軸延伸積層ポリエステルフィルム | |
KR20180036378A (ko) | 폴리에스테르 필름 및 이의 제조방법 | |
JP2016130020A (ja) | 二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム | |
CN113056507A (zh) | 金属板被覆用膜和树脂被覆金属板 | |
JP6272048B2 (ja) | ポリエステルフィルム | |
TW202308831A (zh) | 雙軸定向聚酯膜之製造方法 | |
JP2013194107A (ja) | 偏光板用ポリエステルフィルム | |
TW201813802A (zh) | 聚酯多層膜及其製造方法 | |
JP6701790B2 (ja) | ポリエステルフィルム | |
JP2011252048A (ja) | 偏光板保護用ポリエステルフィルム | |
KR20180000929A (ko) | 폴리에스테르 다층필름 및 이의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |