CN115382832A - 清洗芯片、测序仪的清洗装置以及测序仪 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种清洗芯片、测序仪的清洗装置以及测序仪，其中，清洗芯片，包括：清洗盖板，清洗盖板包括框架及连接在框架上的玻璃片；清洗部，设置在框架上，清洗部和玻璃片位于框架的同一侧；密封部，设置在清洗部的外周；胶体，设置在框架和玻璃片之间；其中，清洗部被配置为能够使流体从中间分流向四周。本申请的技术方案有效地解决了相关技术中的出液口的清洗效率较低的问题。

Description

清洗芯片、测序仪的清洗装置以及测序仪

技术领域

本发明涉及测序仪技术领域，具体而言，涉及一种清洗芯片、测序仪的清洗装置以及测序仪。

背景技术

高通量测序仪作为人类全基因组测序的重要组成部分，起到至关重要的作用。实际测序时，试剂多次经过管路以及测序平台，往往随着测序时间的加长，平台上的试剂进出液口会出现不同程度的试剂残留，这样会影响测序的效果。

在相关技术中，出液口的清洗是通过人工操作的，即操作人员通过喷头冲刷出液口，这样会导致清洗的效率较低。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种清洗芯片、测序仪的清洗装置以及测序仪，以解决相关技术中的出液口的清洗效率较低的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种清洗芯片，包括：清洗盖板，清洗盖板包括框架及连接在框架上的玻璃片；清洗部，设置在框架上，清洗部和玻璃片位于框架的同一侧；密封部，设置在清洗部的外周；胶体，设置在框架和玻璃片之间；其中，清洗部被配置为能够使流体从中间分流向四周。

进一步地，清洗盖板还包括连接板，连接板位于框架的第一侧，清洗部和玻璃片设置于框架的第二侧，玻璃片粘贴在连接板朝向第二侧的一面。

进一步地，清洗部包括交叉设置的多个清洗槽，或者，清洗部包括球形面。

进一步地，清洗槽的数量大于等于3。

进一步地，清洗槽的端部设置有弧形部。

进一步地，框架的材质为疏水材料。

进一步地，胶体包括聚氨酯胶。

进一步地，框架上设置有定位孔，定位孔位于相邻的两个清洗部之间。

根据本发明的另一方面，提供了一种测序仪的清洗装置，包括：平台部，平台部上设置有多个出液口；清洗芯片，清洗芯片可拆卸地安装在平台部上，清洗芯片的清洗部和出液口对应设置；其中，清洗芯片为权利要求1至8中任一项的清洗芯片。

进一步地，清洗芯片的清洗槽与平台部之间的距离，在多个清洗槽的交叉点至清洗槽的端部的方向上逐渐减小。

进一步地，多个清洗槽的交叉点与出液口的中心对应。

进一步地，由平台部至清洗盖板的方向上，清洗槽的宽度逐渐减小。

进一步地，清洗芯片的玻璃片和平台部吸附配合。

根据本发明的另一方面，提供了一种测序仪，包括测序仪的清洗装置，测序仪的清洗装置为上述的测序仪的清洗装置。

应用本发明的技术方案，清洗盖板包括框架和连接在框架上的玻璃片，框架上设置有多个清洗部，多个清洗部的外周设置有密封部，密封部能够实现对清洗部的密封，这样能够使得清洗的过程中清洗液不会外溢。胶体设置在框架和玻璃片之间，这样能够使得玻璃片和框架的连接更加稳定。通过上述的设置，由于清洗部能够被配置为使流体从中间分流向四周，这样在进行清洗时，流体能够对侧壁进行冲刷，并且通过使得清洗芯片后，不需要人工操作，这样有效地节约了清洗的时间。因此本申请的技术方案有效地解决了相关技术中的出液口的清洗效率较低的问题。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本发明的清洗芯片的实施例的立体结构示意图；

图2示出了图1的清洗芯片的A处局部放大图；

图3示出了图1的清洗芯片的俯视示意图；

图4示出了图3的清洗芯片的B处局部放大图；

图5示出了图1的清洗芯片的分解结构示意图；

图6示出了根据本发明的测序仪的清洗装置的平台部的分解结构示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

10、平台部；11、出液口；20、清洗盖板；21、框架；211、定位孔；212、凸弧面；22、玻璃片；221、凹弧面；23、清洗部；231、清洗槽；2311、弧形部；24、密封部；25、连接板；30、胶体；40、条形孔。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

在实际测序过程中，试剂多次经过管路以及平台部，往往随着测序时间的加长，平台部上的试剂进出液口会出现不同程度的试剂残留，而一个干净的试剂进出液口位置就显得尤为重要，平台部的清洁程度直接关系到测序质量，为了保证测序质量，如图1至图5所示，在本实施例中，清洗芯片包括：清洗盖板20、清洗部23、密封部24以及胶体30。清洗盖板20包括框架21及连接在框架21上的玻璃片22。清洗部23设置在框架21上，清洗部23和玻璃片22位于框架21的同一侧。密封部24设置在清洗部23的外周。胶体30设置在框架21和玻璃片22之间。其中，清洗部23被配置为能够使流体从中间分流向四周。

应用本实施例的技术方案，清洗盖板20包括框架21和连接在框架21上的玻璃片22，框架21上设置有多个清洗部23，多个清洗部23的外周设置有密封部24，密封部24能够实现对清洗部23的密封，这样能够使得清洗的过程中清洗液不会外溢。胶体30设置在框架21和玻璃片22之间，这样能够使得玻璃片22和框架21的连接更加稳定。通过上述的设置，由于清洗部23能够被配置为使流体从中间分流向四周，这样在进行清洗时，流体能够对侧壁进行冲刷，并且通过使得清洗芯片后，不需要人工操作，这样有效地节约了清洗的时间。因此本实施例的技术方案有效地解决了相关技术中的出液口的清洗效率较低的问题。

在相关技术中，清洗装置的吸附面是不锈钢，试剂沾染上后还是容易腐蚀，而且不易清洗掉，残留于吸附面，影响到负压吸附。同时框架为不锈钢，机械爪手抓取次数多了之后，会影响到机械爪手的精度，其他塑料材质，变形严重，两种类型的框，偏亲水性，高低温的韧性不够。为了避免上述的情况，发明人经过大量的研究后发现，玻璃片22能够避免被腐蚀并且能够保证吸附的效果，具体地，如图1至图5所示，在本实施例中，清洗盖板20还包括连接板25，连接板25位于框架21的第一侧，清洗部23和玻璃片22设置于框架21的第二侧，玻璃片22和连接板25粘贴。连接板25和框架21之间形成凹部，玻璃片22安装在凹部内，这样使得玻璃片22的位置稳定，具体地，玻璃片22和平台部10吸合，这样能够保证清洗盖板20的位置更加稳定，进而使得清洗部23和出液口11的位置对应更加稳定。

清洗部23包括交叉设置的多个清洗槽231。通过上述的设置能够更好地实现对流体进行分流，即能够使得流体沿密封部24的侧壁流下。

在图中未示出的实施例中，清洗部包括球形面，清洗液能够沿着球形面流动，进而实现了清洗。

具体地，在本实施例中，密封部24为围板，围板具有弹性。

优选地，清洗槽231的数量大于等于3。具体地，在本实施例中，清洗槽231的数量为3，当然，清洗槽231的数量还可以为四个或者五个或者是更多的数量。

在图中未示出的实施例中，清洗槽的数量可以为两个。同样地，清洗槽可以为一个平面，平面为锥形面，锥形面的最高点位于出液口的中心处。

如图1至图5所示，在本实施例中，清洗槽231的端部设置有弧形部2311。上述的弧形部2311的设置能够实现对清洗液的导向，避免清洗液与清洗槽231的端部冲击力过大，进而能够使得清洗液的清洗效果更好。

如图1至图5所示，在本实施例中，框架21的材质为疏水材料。疏水材料能够保证清洗液不会残留在框架21上，这样能够保证清洗的效果，具体地，框架21的材质为PSU(聚砜)。

现有技术中的粘接胶会随着时间延长以及平台部的高低温循环，这样则容易导致脱胶，为了避免上述的问题，如图1至图5所示，在本实施例中，框架21和玻璃片22之间设置有胶体30，胶体30包括聚氨酯胶。上述的设置能够保证玻璃片22和框架21的连接的效果，具体地，玻璃片22和框架21之间设置有四个胶点，将胶体30设置在四个胶点。

如图1至图5所示，在本实施例中，框架21上设置有定位孔211，定位孔211位于相邻的两个清洗部23之间。定位孔211的设置能够进一步提高清洗盖板20的位置的准确性。

根据本申请的另一个方面，提供了一种测序仪的清洗装置，如图6所示，本实施例的测序仪的清洗装置包括：平台部10和清洗芯片，平台部10上设置有多个出液口11；清洗芯片可拆卸地安装在平台部10上，清洗芯片的清洗部23和出液口11对应设置；其中，清洗芯片为上述的清洗芯片。平台部10上设置有多个出液口11。清洗芯片可拆卸地安装在平台部10上。多个清洗部23和多个出液口11一一对应地设置通过上述的设置，出液口喷出的清洗液冲入至清洗槽内，并能够随着清洗槽流动，进而流动至出液口11的侧壁上，这样能够保证清洗的效果，并且相比于人工清洗而言效率更高。

如图6所示，在本实施例中，清洗芯片的清洗槽231与平台部10之间的距离，在多个清洗槽231的交叉点至清洗槽231的端部的方向上逐渐减小。上述的设置能够实现对清洗液的导向，这样能够进一步地提高清洗的效果。

如图6所示，在本实施例中，多个清洗槽231的交叉点与出液口11的中心对应。上述的设置能够提高清洗液的清洗效果。具体地，能够保证清洗液冲向每一个清洗槽231中。

如图6所示，在本实施例中，由平台部10至清洗盖板20的方向上，清洗槽231的宽度逐渐减小。上述的设置能够对清洗液进行导向，使得清洗液按照预设的方向进行移动。

如图6所示，在本实施例中，清洗芯片的玻璃片22和平台部10吸附配合。上述的设置能够保证清洗盖板20的位置的稳定性。

如图6所示，在本实施例中，框架21和连接板25之间设置有条形孔40。上述的条形孔40的设置位于连接板25的两侧，这样的设置能够实现对清洗盖板20的安装，即操作人员能够通过条形孔40观察到平台部10的位置，这样能够保证清洗部23和出液口11的位置对准。

如图6所示，在本实施例中，框架21上设置有朝向框架21的中部凸出的多个凸弧面212，多个凸弧面212和清洗部23对应设置，玻璃片22的角部设置有与凸弧面212对应的凹弧面221。上述的设置能够实现玻璃片22和框架21的定位，并且能够保证玻璃片22的位置的稳定性。

具体地，如图6所示，在本实施例中，清洗液会通过四个清洗部23，然后回流，框架21起到一个盖子的作用，让清洗液喷出到清洗部23的中间，经过密封部24流下来，清洗了平台部10的出液口11，同时输水材料可以保证没有清洗液留在密封部24内。框架21有2个定位孔211，方便定位在平台部10上，也使四个清洗部23能很好的与平台部10上出液口11对应上。胶体30是聚氨酯胶，常温固化，在框架21上点4个胶点，就具有很好的粘接力，该胶体能经受测序过程中设定的高低温变化，有很好的可靠性；玻璃片22有很好的表面平整度，能很好的吸附于平台部10上。

如图6所示，本实施例的技术方案能很好的吸附于平台部上，同时该清洗盖板20能经受平台部10高低温的冲击，框架21上4个密封部24能与平台部10的进出液口11一一对应上，在测序过程中，每上机10个或者15个周期后，就通过该清洗盖板20，对出液口11进行清洗，保证了平台部10无试剂残留和结晶，故使测序可持续，保证测序完整性，测序质量，测序通量、准确性和效率。

本实施例的技术方案具有如下的优点：

为了解决测序仪上清洗平台在工作过程中试剂进出液口的试剂残留问题，该清洗盖板20设计简单，通过3种不同的材料结合在一起成为可以实现一定功能的整体。清洗盖板20成本相对比较低，生产人员方便封装，不需要大型的设备。

框架21是注塑件，批次一致性比较好，4个清洗部基本相同，且与平台部10的出液口11对应，一对一的匹配；清洗过程中，清洗液喷出，经过密封部24，流到出液口11的外围，带走残留的试剂，保证出液口11的干净；框架21材料是PSU，具有很好的输水性，保证了清洗液经过后不会残留。

清洗盖板20中，胶体30是很重要的一个组成部分，它是一种聚氨酯胶水，有很好的耐热性，同时保持了一定的收缩率，在平台部10吸附以及真空释放过程中，起到的缓冲作用，它也有很好的粘结力，测序过程中不会导致玻璃片22与框架1发生脱离。

玻璃片22的厚度为1mm，保证了测序过程应有的强度，同时玻璃片22有很好的平整度，更容易吸附在平台部10上面。

玻璃片22与框架21上的密封部端面，有一个固定的高度公差范围0.44mm-0.68mm之间，这个数值范围的清洗盖板20，既可以保证清洗盖板20可以吸附，而且能起到很好的清洗效果。

根据本申请的另一个方面，提供了一种测序仪，本实施例的测序仪包括测序仪的清洗装置，测序仪的清洗装置为上述的测序仪的清洗装置。上述的测序仪的清洗装置能够更好地实现清洗，因此具有上述的测序仪的清洗装置的测序仪也具有上述的优点。

在本发明的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明保护范围的限制；方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

此外，需要说明的是，使用“第一”、“第二”等词语来限定零部件，仅仅是为了便于对相应零部件进行区别，如没有另行声明，上述词语并没有特殊含义，因此不能理解为对本发明保护范围的限制。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (14)

1.一种清洗芯片，其特征在于，包括：

清洗盖板(20)，所述清洗盖板(20)包括框架(21)及连接在所述框架(21)上的玻璃片(22)；

清洗部(23)，设置在所述框架(21)上，所述清洗部(23)和所述玻璃片(22)位于所述框架(21)的同一侧；

密封部(24)，设置在所述清洗部(23)的外周；

胶体(30)，设置在所述框架(21)和所述玻璃片(22)之间；

其中，所述清洗部(23)被配置为能够使流体从中间分流向四周。

2.根据权利要求1所述的清洗芯片，其特征在于，所述清洗盖板(20)还包括连接板(25)，所述连接板(25)位于所述框架(21)的第一侧，所述清洗部(23)和玻璃片(22)设置于所述框架(21)的第二侧，所述玻璃片(22)粘贴在所述连接板(25)朝向第二侧的一面。

3.根据权利要求1所述的清洗芯片，其特征在于，所述清洗部(23)包括交叉设置的多个清洗槽(231)，或者，所述清洗部(23)包括球形面。

4.根据权利要求3所述的清洗芯片，其特征在于，所述清洗槽(231)的数量大于等于3。

5.根据权利要求3所述的清洗芯片，其特征在于，所述清洗槽(231)的端部设置有弧形部(2311)。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的清洗芯片，其特征在于，所述框架(21)的材质为疏水材料。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的清洗芯片，其特征在于，所述胶体(30)包括聚氨酯胶。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的清洗芯片，其特征在于，所述框架(21)上设置有定位孔(211)，所述定位孔(211)位于相邻的两个所述清洗部(23)之间。

9.一种测序仪的清洗装置，其特征在于，包括：

平台部(10)，所述平台部(10)上设置有多个出液口(11)；

清洗芯片，所述清洗芯片可拆卸地安装在所述平台部(10)上，所述清洗芯片的清洗部(23)和所述出液口(11)对应设置；

其中，所述清洗芯片为权利要求1至8中任一项所述的清洗芯片。

10.根据权利要求9所述的测序仪的清洗装置，其特征在于，所述清洗芯片的清洗槽(231)与所述平台部(10)之间的距离，在多个所述清洗槽(231)的交叉点至所述清洗槽(231)的端部的方向上逐渐减小。

11.根据权利要求10所述的测序仪的清洗装置，其特征在于，多个所述清洗槽(231)的交叉点与所述出液口(11)的中心对应。

12.根据权利要求10所述的测序仪的清洗装置，其特征在于，由所述平台部(10)至所述清洗盖板(20)的方向上，所述清洗槽(231)的宽度逐渐减小。

13.根据权利要求9所述的测序仪的清洗装置，其特征在于，所述清洗芯片的玻璃片(22)和所述平台部(10)吸附配合。

14.一种测序仪，包括测序仪的清洗装置，其特征在于，所述测序仪的清洗装置为权利要求9至13中任一项所述的测序仪的清洗装置。

Images