CN115354305B - 一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置 - Google Patents
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- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 238000005507 spraying Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 16
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 238000007790 scraping Methods 0.000 abstract description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 244000309464 bull Species 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45563—Gas nozzles
- C23C16/45565—Shower nozzles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4407—Cleaning of reactor or reactor parts by using wet or mechanical methods
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/10—Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置，包括反应箱，所述反应箱的上侧壁设有混合罐，所述混合罐的上侧壁固定有输出端与其内部连通的增压泵，所述混合罐的外壁上连接有进气管一和进气管二，所述反应箱内固定有用于气相沉淀的沉淀盘，所述反应箱内安装有两组联动机构，两组所述联动机构包括位于右侧的两个皮带辊一以及左侧的两个皮带辊二，两个所述皮带辊一以及两个皮带辊二之间均固定有连杆。本发明通过刮板的运动实现沉淀盘表面的不断清洁，避免了沉淀盘堵塞，并将沉淀的物料刮下后分开存放在收集槽，避免了单一收集槽存放过重，便于后续的取出。
Description
技术领域
本发明涉及气相沉淀技术领域，尤其涉及一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置。
背景技术
化学气相沉积是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。
CN107502872B公开了一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置，包括固定在地面上的下气室和反应腔室，所述下气室一侧外壁开有第一通孔，且第一通孔内壁套接有水蒸气管，所述下气室靠近水蒸气管一侧外壁开有第二通孔，且第二通孔内壁套接有Zn(C2H5)2气管，所述上气室顶部外壁开有第三通孔，且Zn(C2H5)2气管远离下气室一端套接在第三通孔内壁上，所述反应腔室内壁两侧卡接有同一沉淀板，且反应腔室内壁一侧开有第四通孔；但存在以下缺陷：不能进行沉淀盘表面的清洁，沉淀盘容易出现堵塞，影响后续的气相沉淀效果。
为解决上述问题，我们提出了一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置。
发明内容
本发明的目的是为了解决背景技术中的问题，而提出的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置。
为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置，包括反应箱，所述反应箱的上侧壁设有混合罐，所述混合罐的上侧壁固定有输出端与其内部连通的增压泵，所述反应箱内转动安装有喷头，所述混合罐的下端外壁连接有软管，所述软管的端部贯穿延伸至反应箱内与喷头连接，所述混合罐的外壁上连接有进气管一和进气管二，所述反应箱内固定有用于气相沉淀的沉淀盘，所述反应箱内安装有两组联动机构，两组所述联动机构包括位于右侧的两个皮带辊一以及左侧的两个皮带辊二，两个所述皮带辊一以及两个皮带辊二之间均固定有连杆，前侧的所述皮带辊一和皮带辊二之间以及后侧的皮带辊一和皮带辊二之间均套设有皮带，两个所述皮带之间固定连接有与沉淀盘上侧壁相接触的刮板。
在上述的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置中，其中一个所述皮带辊二的外壁固定有蜗轮，所述反应箱的上侧壁固定连接有支架，所述支架的端部固定连接有电机，所述电机的驱动端竖直向下固定连接有转杆，所述转杆的端部贯穿延伸至反应箱内固定连接有与蜗轮相啮合的蜗杆。
在上述的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置中，所述反应箱的内底壁固定有轴承一，所述蜗杆的下端与轴承一的内圈固定连接
在上述的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置中，所述反应箱的内顶壁固定有导向板，所述导向板上滑动插设有推杆，所述推杆的端部与喷头的外壁相接触，所述推杆外壁套设有复位弹簧，所述复位弹簧的两端分别与推杆以及导向板的外壁固定连接，所述推杆的另一端固定连接有弧形板一，所述蜗杆的外壁上固定连接有与弧形板一外壁相接触的弧形板二。
在上述的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置中，所述反应箱内固定有呈弧形设置的刷板，所述喷头的端部的转动路径与刷板的内壁一致
在上述的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置中，所述混合罐的上侧壁固定嵌设有轴承二，所述轴承二内圈固定有转轴，所述转轴和转杆的外壁均固定套设有链轮，两个所述链轮的外壁共同套设有链条，所述转轴位于混合罐内的一端外壁上固定有混合叶。
在上述的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置中，所述反应箱的内底壁设有延伸槽，所述延伸槽内滑动设置有滑板，所述滑板的下端固定连接有连接块，所述连接块与延伸槽的内底壁之间固定连接有伸缩弹簧，所述滑板的上侧设有多个收集槽，所述延伸槽内固定连接有横板，所述横板上设置有与连接块相匹配的开口，所述连接块滑动设置在开口内，所述开口的两侧内壁上均固定嵌设有导电片一，所述连接块内嵌设有多个电阻板，每个所述电阻板的端部均固定有导电片二，所述滑板上滑动设置有移动板，多个所述收集槽放置在移动板内，所述移动板的端部固定连接有磁铁板，所述滑板的上侧壁固定连接有位于磁铁板左侧的电磁铁，所述电磁铁通过导线与其中一个导电片一连接，另一个所述导电片一通过导线外部电源连接。
在上述的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置中，多个所述电阻板由上至下电阻依次增大。
与现有的技术相比，本金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置的优点在于：
本发明通过刮板的运动实现沉淀盘表面的不断清洁，避免了沉淀盘堵塞，并将沉淀的物料刮下后分开存放在收集槽，避免了单一收集槽存放过重，便于后续的取出。
附图说明
图1为本发明提出的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置的结构示意图；
图2为图1中A部分结构的放大图；
图3为本发明提出的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置中连接块的侧视图。
图中：1反应箱、2喷头、3混合罐、4进气管一、5进气管二、6皮带辊一、7皮带、8蜗轮、9轴承一、10蜗杆、11电机、12推杆、13复位弹簧、14弧形板一、15弧形板二、16刮板、17轴承二、18转轴、19刷板、20滑板、21连接块、22伸缩弹簧、23收集槽、24电磁铁、25磁铁板、26移动板、27电阻板、28链条、29沉淀盘、30横板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
参照图1-3，一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置，包括反应箱1，反应箱1的上侧壁设有混合罐3，混合罐3的上侧壁固定有输出端与其内部连通的增压泵，混合罐3的外壁上连接有进气管一4和进气管二5，进气管一4用于导入Zn(C2H5)2或其它有机化学气体，进气管二5用于导入水蒸气，有机化学气体和水蒸气导入混合罐3内进行混合，再通过喷头2喷出在沉淀盘29表面形成纳米材料，反应箱1内固定有用于气相沉淀的沉淀盘29，反应箱1内安装有两组联动机构，两组联动机构包括位于右侧的两个皮带辊一6以及左侧的两个皮带辊二，两个皮带辊一6以及两个皮带辊二之间均固定有连杆，前侧的皮带辊一6和皮带辊二之间以及后侧的皮带辊一6和皮带辊二之间均套设有皮带7，两个皮带7之间固定连接有与沉淀盘29上侧壁相接触的刮板16，皮带7转动过程中带动刮板16沿着沉淀盘29的表面运动，将沉积的材料刮下，落至收集槽23内进行收集。
其中一个皮带辊二的外壁固定有蜗轮8，反应箱1的上侧壁固定连接有支架，支架的端部固定连接有电机11，电机11的驱动端竖直向下固定连接有转杆，混合罐3的上侧壁固定嵌设有轴承二17，轴承二17内圈固定有转轴18，转轴18和转杆的外壁均固定套设有链轮，两个链轮的外壁共同套设有链条28，转轴18位于混合罐3内的一端外壁上固定有混合叶，电机11带动蜗杆10转动，蜗杆10用过与蜗轮8的啮合带动皮带辊一6、皮带辊二、皮带7以及刮板16进行运动，使刮板16对沉淀盘29的表面进行清理，转杆转动的过程中，通过链条28带动转轴18转动，进而带动混合叶转动对水蒸气和有机化学气体进行混合反应。
转杆的端部贯穿延伸至反应箱1内固定连接有与蜗轮8相啮合的蜗杆10，反应箱1的内底壁固定有轴承一9，蜗杆10的下端与轴承一9的内圈固定连接，反应箱1内转动安装有喷头2，反应箱1内固定有呈弧形设置的刷板19，喷头2的端部的转动路径与刷板19的内壁一致，混合罐3的下端外壁连接有软管，软管的端部贯穿延伸至反应箱1内与喷头2连接，反应箱1的内顶壁固定有导向板，导向板上滑动插设有推杆12，推杆12的端部与喷头2的外壁相接触，推杆12外壁套设有复位弹簧13，复位弹簧13的两端分别与推杆12以及导向板的外壁固定连接，推杆12的另一端固定连接有弧形板一14，蜗杆10的外壁上固定连接有与弧形板一14外壁相接触的弧形板二15，蜗杆10转动过程中弧形板二15间歇与弧形板一14接触，挤压弧形板一14由左往右移动，即推杆12往右侧移动，推动喷头2往右转动，弧形板二15脱离弧形板一14后，喷头2回转，进而实现了喷头2的左右摆动，使水蒸气和有机化学气体混合混匀喷洒在反应箱1的内部空间，增加了混合后气体与沉淀盘29的接触面积，加速沉淀。
反应箱1的内底壁设有延伸槽，延伸槽内滑动设置有滑板20，滑板20的下端固定连接有连接块21，连接块21与延伸槽的内底壁之间固定连接有伸缩弹簧22，滑板20的上侧设有多个收集槽23，延伸槽内固定连接有横板27，横板27上设置有与连接块21相匹配的开口，连接块21滑动设置在开口内，开口的两侧内壁上均固定嵌设有导电片一，连接块21内嵌设有多个电阻板27，多个电阻板27由上至下电阻依次增大，每个电阻板27的端部均固定有导电片二，滑板20上滑动设置有移动板26，多个收集槽23放置在移动板26内，移动板26的端部固定连接有磁铁板25，滑板20的上侧壁固定连接有位于磁铁板25左侧的电磁铁24，电磁铁24通过导线与其中一个导电片一连接，另一个导电片一通过导线外部电源连接，沉淀盘29上刮下的物料落入沉淀盘29端部正下方的收集槽23内进行收集，当位于沉淀盘29端部正下方的收集槽23即将盛满时，在滑板20整体的重量增大，在重量作用下往下运动，挤压伸缩弹簧22，与导电片一连接的电阻板27阻值减小，电磁铁24通入的电流增大，电磁铁24的磁性增大，在电磁铁24与磁铁板25之间的磁性斥力作用下推动磁铁板25和移动板26往右侧移动，使左侧的收集槽23更换至沉淀盘29的端部下侧，继续进行物料的盛装。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置，包括反应箱(1)，其特征在于，所述反应箱(1)的上侧壁设有混合罐(3)，所述混合罐(3)的上侧壁固定有输出端与其内部连通的增压泵，所述反应箱(1)内转动安装有喷头(2)，所述混合罐(3)的下端外壁连接有软管，所述软管的端部贯穿延伸至反应箱(1)内与喷头(2)连接，所述混合罐(3)的外壁上连接有进气管一(4)和进气管二(5)，所述反应箱(1)内固定有用于气相沉淀的沉淀盘(29)，所述反应箱(1)内安装有两组联动机构，两组所述联动机构包括位于右侧的两个皮带辊一(6)以及左侧的两个皮带辊二，两个所述皮带辊一(6)以及两个皮带辊二之间均固定有连杆，前侧的所述皮带辊一(6)和皮带辊二之间以及后侧的皮带辊一(6)和皮带辊二之间均套设有皮带(7)，两个所述皮带(7)之间固定连接有与沉淀盘(29)上侧壁相接触的刮板(16)；
其中一个所述皮带辊二的外壁固定有蜗轮(8)，所述反应箱(1)的上侧壁固定连接有支架，所述支架的端部固定连接有电机(11)，所述电机(11)的驱动端竖直向下固定连接有转杆，所述转杆的端部贯穿延伸至反应箱(1)内固定连接有与蜗轮(8)相啮合的蜗杆(10)；
所述反应箱(1)的内底壁固定有轴承一(9)，所述蜗杆(10)的下端与轴承一(9)的内圈固定连接；
所述反应箱(1)的内顶壁固定有导向板，所述导向板上滑动插设有推杆(12)，所述推杆(12)的端部与喷头(2)的外壁相接触，所述推杆(12)外壁套设有复位弹簧(13)，所述复位弹簧(13)的两端分别与推杆(12)以及导向板的外壁固定连接，所述推杆(12)的另一端固定连接有弧形板一(14)，所述蜗杆(10)的外壁上固定连接有与弧形板一(14)外壁相接触的弧形板二(15)。
2.根据权利要求1所述的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置，其特征在于，所述反应箱(1)内固定有呈弧形设置的刷板(19)，所述喷头(2)的端部的转动路径与刷板(19)的内壁一致。
3.根据权利要求1所述的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置，其特征在于，所述混合罐(3)的上侧壁固定嵌设有轴承二(17)，所述轴承二(17)内圈固定有转轴(18)，所述转轴(18)和转杆的外壁均固定套设有链轮，两个所述链轮的外壁共同套设有链条(28)，所述转轴(18)位于混合罐(3)内的一端外壁上固定有混合叶。
4.根据权利要求1所述的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置，其特征在于，所述反应箱(1)的内底壁设有延伸槽，所述延伸槽内滑动设置有滑板(20)，所述滑板(20)的下端固定连接有连接块(21)，所述连接块(21)与延伸槽的内底壁之间固定连接有伸缩弹簧(22)，所述滑板(20)的上侧设有多个收集槽(23)，所述延伸槽内固定连接有横板(30)，所述横板(30)上设置有与连接块(21)相匹配的开口，所述连接块(21)滑动设置在开口内，所述开口的两侧内壁上均固定嵌设有导电片一，所述连接块(21)内嵌设有多个电阻板(27)，每个所述电阻板(27)的端部均固定有导电片二，所述滑板(20)上滑动设置有移动板(26)，多个所述收集槽(23)放置在移动板(26)内，所述移动板(26)的端部固定连接有磁铁板(25)，所述滑板(20)的上侧壁固定连接有位于磁铁板(25)左侧的电磁铁(24)，所述电磁铁(24)通过导线与其中一个导电片一连接，另一个所述导电片一通过导线外部电源连接。
5.根据权利要求4所述的一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置，其特征在于，多个所述电阻板(27)由上至下电阻依次增大。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202211059563.9A CN115354305B (zh) | 2022-08-29 | 2022-08-29 | 一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202211059563.9A CN115354305B (zh) | 2022-08-29 | 2022-08-29 | 一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115354305A CN115354305A (zh) | 2022-11-18 |
| CN115354305B true CN115354305B (zh) | 2024-04-19 |
Family
ID=84004188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202211059563.9A Active CN115354305B (zh) | 2022-08-29 | 2022-08-29 | 一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN115354305B (zh) |
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|---|---|
| CN115354305A (zh) | 2022-11-18 |
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |