CN205774790U - 一种金属有机化学气相沉积装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种金属有机化学气相沉积装置，包括载流气体容器、反应气体容器、混合容器、反应腔、加热器、支撑板和支撑腿，所述的载流气体容器内设有载流气体，所述的反应气体容器内设有镀膜反应气体，载流气体容器和反应气体容器与混合容器连接，所述的混合容器的出气管接入到反应腔内，反应腔内设有承载基体，承载基体位于加热器上，所述的反应腔固定于支撑板上，支撑板下表面设有支撑腿，本实用新型结构简单，使用方便，可以独立控制载流气体和反应气体的流速比例等，便于适应不同的反应情况，设有寄生物清除容器，保证观察窗整洁，设有均气管可以使得基体表面反应均匀，保证反应膜均匀。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体外延生长设备技术领域，尤其涉及一种金属有机化学气相沉积装置。
背景技术
金属有机化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition，MOCVD)通常以III族金属有机源和V族氢化物源作为反应气体，用氢气、氮气或氩气作为载气，以热分解反应方式在基片上进行气相外延生长，从而生长各种III-V族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料，如氮化镓GaN、砷化镓GaAs、磷化铟InP等。现有的金属有机化学气相沉淀装置在使用过程中存在载流气体和反应气体比例不可调节、温度不易控制、承载集体表面所受气体不均匀导致生成的薄厚度不一致，观察窗会由于寄生物的生成而阻挡视线等缺点。
实用新型内容
本实用新型提供了一种金属有机化学气相沉积装置，结构简单，使用方便，可以独立控制载流气体和反应气体的流速比例等，便于适应不同的反应情况，设有寄生物清除容器，保证观察窗整洁，设有均气管可以使得基体表面反应均匀，保证反应膜均匀。
为解决上述技术问题，本申请实施例提供了一种金属有机化学气相沉积装置，包括载流气体容器、反应气体容器、混合容器、反应腔、加热器、支撑板和支撑腿，所述的载流气体容器内设有载流气体，所述的反应气体容器内设有镀膜反应气体，载流气体容器和反应气体容器与混合容器连接，所述的混合容器的出气管接入到反应腔内，反应腔内设有承载基体，承载基体位于加热器上，所述的反应腔固定于支撑板上，支撑板下表面设有支撑腿。
作为本方案的优选实施例，所述的载流气体容器和反应气体容器与混合容器之间设有流量调节阀和干燥室，所述的干燥室内设有硅胶干燥剂。
作为本方案的优选实施例，所述的混合容器和反应腔之间设有单向阀，反应腔侧面设有密封门，下部设有出气口。
作为本方案的优选实施例，所述的混合容器与位于反应腔内的均气管连接，所述的均气管表面设有多个均匀分布的出气孔，出气孔正下方为承载基体。
作为本方案的优选实施例，所述的反应腔内设有温度传感器，所述的温度传感器与反应腔侧面的控制面板连接，控制面板电连接加热器。
作为本方案的优选实施例，所述的反应腔侧面设有观察窗，反应腔上部设有寄生物清除容器。
本申请实施例中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：
结构简单，使用方便，可以独立控制载流气体和反应气体的流速比例等，便于适应不同的反应情况，设有寄生物清除容器，保证观察窗整洁，设有均气管可以使得基体表面反应均匀，保证反应膜均匀。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例的结构示意图；
图1中，1、载流气体容器，2、反应气体容器，3、混合容器，4、反应腔，5、加热器，6、支撑板，7、支撑腿，8、流量调节阀，9、干燥室，10、单向阀，11、均气管，12、出气孔，13、承载基体，14、温度传感器，15、控制面板，16、出气口，17、密封门，18、寄生物清除容器，19、观察窗。
具体实施方式
本实用新型提供了一种金属有机化学气相沉积装置，结构简单，使用方便，可以独立控制载流气体和反应气体的流速比例等，便于适应不同的反应情况，设有寄生物清除容器，保证观察窗整洁，设有均气管可以使得基体表面反应均匀，保证反应膜均匀。
为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。
如图1所示，本实施例所述的一种金属有机化学气相沉积装置，包括载流气体容器1、反应气体容器2、混合容器3、反应腔4、加热器5、支撑板6和支撑腿7，所述的载流气体容器1内设有氮气等载流气体，所述的反应气体容器2内 设有镀膜反应气体，载流气体容器1和反应气体容器2与混合容器3连接，所述的混合容器3的出气管接入到反应腔4内，反应腔4内设有承载基体13，承载基体13位于加热器5上，所述的反应腔4固定于支撑板6上，支撑板6下表面设有支撑腿7。
其中，在实际应用中，所述的载流气体容器1和反应气体容器2与混合容器3之间设有流量调节阀8和干燥室9，所述的干燥室9内设有硅胶干燥剂。
其中，在实际应用中，所述的混合容器3和反应腔4之间设有单向阀10，反应腔4侧面设有密封门17，下部设有出气口16。
其中，在实际应用中，所述的混合容器3与位于反应腔4内的均气管11连接，所述的均气管11表面设有多个均匀分布的出气孔12，出气孔12正下方为承载基体13。
其中，在实际应用中，所述的反应腔4内设有温度传感器14，所述的温度传感器14与反应腔4侧面的控制面板15连接，控制面板15可控制加热器5的工作。
其中，在实际应用中，所述的反应腔4侧面设有观察窗19，反应腔4上部设有寄生物清除容器18，所述的寄生物清除容器18内设有可与生成的多余寄生物发生反应的氨气等气体。
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
Claims (6)
1.一种金属有机化学气相沉积装置，包括载流气体容器(1)、反应气体容器(2)、混合容器(3)、反应腔(4)、加热器(5)、支撑板(6)和支撑腿(7)，其特征在于，所述的载流气体容器(1)内设有载流气体，所述的反应气体容器(2)内设有镀膜反应气体，载流气体容器(1)和反应气体容器(2)与混合容器(3)连接，所述的混合容器(3)的出气管接入到反应腔(4)内，反应腔(4)内设有承载基体(13)，承载基体(13)位于加热器(5)上，所述的反应腔(4)固定于支撑板(6)上，支撑板(6)下表面设有支撑腿(7)。
2.根据权利要求1所述的一种金属有机化学气相沉积装置，其特征在于，所述的载流气体容器(1)、反应气体容器(2)与混合容器(3)之间设有流量调节阀(8)和干燥室(9)，所述的干燥室(9)内设有硅胶干燥剂。
3.根据权利要求1所述的一种金属有机化学气相沉积装置，其特征在于，所述的混合容器(3)和反应腔(4)之间设有单向阀(10)，反应腔(4)侧面设有密封门(17)，下部设有出气口(16)。
4.根据权利要求1所述的一种金属有机化学气相沉积装置，其特征在于，所述的混合容器(3)与位于反应腔(4)内的均气管(11)连接，所述的均气管(11)表面设有多个均匀分布的出气孔(12)，出气孔(12)正下方为承载基体(13)。
5.根据权利要求1所述的一种金属有机化学气相沉积装置，其特征在于，所述的反应腔(4)内设有温度传感器(14)，所述的温度传感器(14)与反应腔(4)侧面的控制面板(15)连接，控制面板(15)电连接加热器(5)。
6.根据权利要求1所述的一种金属有机化学气相沉积装置，其特征在于，所述的反应腔(4)侧面设有观察窗(19)，反应腔(4)上部设有寄生物清除容器(18)。
Priority Applications (1)
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| CN201620425791.7U CN205774790U (zh) | 2016-05-12 | 2016-05-12 | 一种金属有机化学气相沉积装置 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114686852A (zh) * | 2020-12-28 | 2022-07-01 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 | 镀膜系统、供料设备及其方法 |
| CN115354305A (zh) * | 2022-08-29 | 2022-11-18 | 西北大学 | 一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置 |
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2016
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| CN115354305A (zh) * | 2022-08-29 | 2022-11-18 | 西北大学 | 一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置 |
| CN115354305B (zh) * | 2022-08-29 | 2024-04-19 | 西北大学 | 一种金属有机化学气相沉淀反应器喷淋装置 |
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