CN115261800A - 蒸发源装置及蒸镀设备 - Google Patents

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CN115261800A CN202211035457.7A CN202211035457A CN115261800A CN 115261800 A CN115261800 A CN 115261800A CN 202211035457 A CN202211035457 A CN 202211035457A CN 115261800 A CN115261800 A CN 115261800A
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nozzles
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刘华猛
白珊珊
关新兴
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Abstract

本申请实施例提供了一种蒸发源装置及蒸镀设备。该蒸发源装置包括:第一蒸发源组件,包括第一蒸发源和至少一个第一喷嘴,各第一喷嘴均与第一蒸发源的第一蒸发腔连通,各第一喷嘴的出口均朝向待蒸镀基板设置;第二蒸发源组件,包括第二蒸发源和至少一个第二喷嘴,各第二喷嘴均与第二蒸发源的第二蒸发腔连通,各第二喷嘴的出口均朝向待蒸镀基板设置;其中:第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口均布置在同一预设平面内,预设平面垂直于待蒸镀基板,且沿平行于待蒸镀基板的方向,第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口依次交替排列。本申请实施例解决了现有技术存在的在材料蒸镀过程中,两种或两种以上材料的混合掺杂比例不均,膜层厚度均一性较差的技术问题。

Description

蒸发源装置及蒸镀设备
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体而言,本申请涉及一种蒸发源装置及蒸镀设备。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)的响应时间快,可视角度大,对比度高,重量轻,功耗低,是当下显示器件研究热门领域之一,并且由于其特有的柔性,应用范围越来越广泛。
在制备OLED显示面板过程中,需要将各层有机发光材料均匀蒸镀到基板上,以形成高质量的膜层。但是,在材料蒸镀过程中,有些膜层需要将两种或两种以上材料混合掺杂共同蒸镀,例如发光材料,这容易导致材料的混合掺杂比例不均,膜层厚度均一性较差,影响OLED显示器件的显示质量及使用寿命。
发明内容
本申请针对现有方式的缺点,提出一种蒸发源装置及蒸镀设备,用以解决现有技术存在的在材料蒸镀过程中,两种或两种以上材料的混合掺杂比例不均,膜层厚度均一性较差的技术问题。
第一个方面,本申请实施例提供了一种蒸发源装置,包括:第一蒸发源组件,包括第一蒸发源和至少一个第一喷嘴,各第一喷嘴均与第一蒸发源的第一蒸发腔连通,各第一喷嘴的出口均朝向待蒸镀基板设置;第二蒸发源组件,包括第二蒸发源和至少一个第二喷嘴,各第二喷嘴均与第二蒸发源的第二蒸发腔连通,各第二喷嘴的出口均朝向待蒸镀基板设置;其中:第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口均布置在同一预设平面内,预设平面垂直于待蒸镀基板,且沿平行于待蒸镀基板的方向,第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口依次交替排列。
可选地,第一喷嘴的出口中心和待蒸镀基板之间的距离等于第二喷嘴的出口中心和待蒸镀基板之间的距离。
可选地,在预设平面内,第一喷嘴出口的轴线与平行于待蒸镀基板的方向之间具有第一预设夹角;和/或,第二喷嘴出口的轴线与平行于待蒸镀基板的方向之间具有第二预设夹角。
可选地,第一预设夹角大于或等于70°且小于或等于90°;和/或,第二预设夹角大于或等于70°且小于或等于90°。
可选地,第一喷嘴和第二喷嘴的数量相同;或者,第一喷嘴的数量为N+1,第二喷嘴的数量为N,其中,N为正整数;第一喷嘴和第二喷嘴依次交替排列,第一个喷嘴和最后一个喷嘴均为第一喷嘴。
可选地,第一喷嘴包括第一出口段和第一弯折段,第一弯折段的一端与第一蒸发腔连通,第一弯折段的另一端与第一出口段连通,第一出口段远离第一弯折段的一端设有第一喷嘴的出口;和/或,第二喷嘴包括第二出口段和第二弯折段,第二弯折段的一端与第二蒸发腔连通,第二弯折段的另一端与第二出口段连通,第二出口段远离第二弯折段的一端设有第二喷嘴的出口。
可选地,第一出口段包括位于预设平面内的第一直段,第一弯折段包括第一曲段和/或第一斜段;和/或,第二出口段包括位于预设平面内的第二直段,第二弯折段包括第二曲段和/或第二斜段。
可选地,还包括第三蒸发源组件,第三蒸发源组件位于第一蒸发源组件和第二蒸发源组件之间;第三蒸发源组件包括第三蒸发源和至少一个第三喷嘴,各第三喷嘴均与第三蒸发源的第三蒸发腔连通,各第三喷嘴的出口均朝向待蒸镀基板设置;第三喷嘴的出口、第二喷嘴的出口和第一喷嘴的出口均布置在预设平面内,且沿平行于待蒸镀基板的方向,第一喷嘴的出口、第二喷嘴的出口和第三喷嘴的出口依次交替排列。
可选地,第一喷嘴、第二喷嘴和第三喷嘴的数量相同;或者,第一喷嘴的数量为M+1,第二喷嘴和第三喷嘴的数量为M,其中,M为正整数;第一喷嘴、第二喷嘴和第三喷嘴依次交替排列,第一个喷嘴和最后一个喷嘴均为第一喷嘴;或者,第三喷嘴包括位于预设平面内的第三直段。
第二个方面,本申请实施例提供了一种蒸镀设备,包括:如上述的蒸发源装置。
本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括:
本申请实施例中,第一喷嘴的出口喷出第一蒸镀材料,以在待蒸镀基板上形成蒸镀图形,第二喷嘴的出口喷出第二蒸镀材料,以在待蒸镀基板上形成蒸镀图形。第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口均布置在同一预设平面内,该预设平面垂直于待蒸镀基板,这样,在垂直于该预设平面的方向上,第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口之间不存在间距,且沿平行于待蒸镀基板的方向,第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口依次交替排列,使得第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口依次交替排列呈线型。
通过依次交替且呈线型排列的第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口,能够将第一蒸镀材料和第二蒸镀材料均匀蒸镀到待蒸镀基板上,以形成高质量的膜层,从而能够解决现有技术中蒸发源装置由于装有不同蒸镀材料的蒸发源组件的喷嘴在移动方向上存在一定的间距,不同蒸发源组件的喷嘴的蒸镀区域不同,所导致的材料混合比例不均,膜层厚度均一性差的问题,进而改善OLED显示器件的显示质量,提高使用寿命。
本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,这些将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1为现有技术中蒸发源装置的结构示意图;
图2为现有技术中蒸发源装置的主视图;
图3为采用现有技术中蒸发源装置进行蒸镀,蒸镀过程中不同时刻基板上某处的掺杂比例变化模拟结果示意图;
图4为本申请实施例提供的一种蒸发源装置的结构示意图;
图5为本申请实施例提供的一种蒸发源装置的主视图;
图6为本申请实施例提供的一种蒸发源装置的侧视图;
图7为图4的蒸发源装置的局部放大图;
图8为本申请实施例提供的另一蒸发源装置的结构示意图;
图9为本申请实施例提供的又一蒸发源装置的结构示意图。
附图标记:
100-蒸发源装置;10-第一蒸发源组件;11-第一蒸发源;12-第一喷嘴;121-第一出口段;122-第一弯折段;20-第二蒸发源组件;21-第二蒸发源;22-第二喷嘴;30-第三蒸发源组件;31-第三蒸发源;32-第三喷嘴;40-重叠区域;200-待蒸镀基板。
具体实施方式
下面结合本申请中的附图描述本申请的实施例。应理解,下面结合附图所阐述的实施方式,是用于解释本申请实施例的技术方案的示例性描述,对本申请实施例的技术方案不构成限制。
本技术领域技术人员可以理解,除非特意声明,这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是,本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件,但不排除实现为本技术领域所支持其他特征、信息、数据、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合等。应该理解,当我们称一个元件被“连接”或“耦接”到另一元件时,该一个元件可以直接连接或耦接到另一元件,也可以指该一个元件和另一元件通过中间元件建立连接关系。此外,这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的术语“和/或”指该术语所限定的项目中的至少一个,例如“A和/或B”可以实现为“A”,或者实现为“B”,或者实现为“A和B”。
为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。
在制备OLED显示面板过程中,需要将各层有机发光材料均匀蒸镀到基板上:将基板置于磁板下通过磁力吸附平整,在基板下方放置蒸发源装置,通过线圈加热使蒸发源内的材料汽化,并通过喷嘴喷出,均匀的附着在基板上,以形成高质量的膜层。
在材料蒸镀过程中,有些膜层需要将两种或两种以上材料混合掺杂共同蒸镀,例如发光材料,需要将第一发光材料与第二发光材料以一定的比例掺杂混合,此时需要两个蒸发源分别装载这两种材料,并通过控制蒸发速率,使这两种材料以某种比例进行掺杂蒸镀。
下面结合图1至图3对现有技术中蒸发源装置进行说明:
图1为现有技术中蒸发源装置的结构示意图。现有技术中蒸发源装置包括第一蒸发源组件101和第二蒸发源组件102,其中第一蒸发源组件101包括第一坩埚1011和第一喷嘴1012;第二蒸发源组件102包括第二坩埚1021和第二喷嘴1022。
图2为现有技术中蒸发源装置的主视图。第一喷嘴1012和第二喷嘴1022在移动方向(该移动方向为第一坩埚1011和第二坩埚1021的布置方向,即如图2所示左右方向)上存在一定的间距。
第一坩埚1011中的第一发光材料经由第一喷嘴1012喷出蒸镀到基板104上,第一发光材料在基板104上形成的第一蒸镀区域1013如图2所示;第二坩埚1021中的第二发光材料经由第二喷嘴1022喷出蒸镀到基板104上,第二发光材料在基板104上形成的第二蒸镀区域1023如图2所示。
如图2所示,第一蒸镀区域1013和第二蒸镀区域1023存在重叠部分103,即某一瞬时时刻,重叠部分103内存在第一发光材料与第二发光材料的混合,而其他区域仅存在一种发光材料(即第一发光材料或第二发光材料)。这导致基板104上各个位置两种发光材料比例均不同,材料混合比例不均,膜层厚度均一性差,进而影响OLED显示器件的显示质量与使用寿命。而且随着蒸发源组件的数量增加,这种缺陷会更加明显。
图3为采用现有技术中蒸发源装置进行蒸镀,蒸镀过程中不同时刻基板上某处的掺杂比例变化模拟结果(以掺杂比例为3%为目标掺杂比例,此处的掺杂比例指重量比)示意图,由图3可知,图3中横坐标表示时间,纵坐标表示掺杂比例,不同时刻基板上两种发光材料的掺杂比例一直处于变化的状态,材料混合比例不均,膜层厚度均一性较差。
也就是说,现有技术中蒸发源装置由于装有不同蒸镀材料的蒸发源组件的喷嘴在移动方向(该移动方向为第一坩埚1011和第二坩埚1021的布置方向,即如图2所示左右方向)上存在一定的间距,不同蒸发源组件的喷嘴的蒸镀区域不同,容易导致两种或两种以上发光材料的混合掺杂比例不均,膜层厚度均一性较差,影响OLED显示器件的显示质量及使用寿命。
本申请提供的蒸发源装置及蒸镀设备,旨在解决现有技术的如上技术问题。
下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。需要指出的是,下述实施方式之间可以相互参考、借鉴或结合,对于不同实施方式中相同的术语、相似的特征以及相似的实施步骤等,不再重复描述。
本申请实施例提供了一种蒸发源装置,该蒸发源装置100的结构示意图如图4、图5、图8和图9所示,包括:第一蒸发源组件10和第二蒸发源组件20。
第一蒸发源组件10包括第一蒸发源11和至少一个第一喷嘴12,各第一喷嘴12均与第一蒸发源11的第一蒸发腔连通,各第一喷嘴12的出口均朝向待蒸镀基板200设置。
第二蒸发源组件20包括第二蒸发源21和至少一个第二喷嘴22,各第二喷嘴22均与第二蒸发源21的第二蒸发腔连通,各第二喷嘴22的出口均朝向待蒸镀基板200设置。
其中:第一喷嘴12的出口和第二喷嘴22的出口均布置在同一预设平面内,预设平面垂直于待蒸镀基板200,且沿平行于待蒸镀基板200的方向,第一喷嘴12的出口和第二喷嘴22的出口依次交替排列。
本申请实施例中,第一蒸发源组件10用于将第一蒸镀材料蒸镀到待蒸镀基板200上。第二蒸发源组件20用于将第二蒸镀材料蒸镀到待蒸镀基板200上。
具体地,第一蒸发源11具有第一蒸发腔,第一蒸发源11的第一蒸发腔用于盛放第一蒸镀材料,第一喷嘴12与第一蒸发腔连通,当对第一蒸发源11进行加热时,第一蒸发腔内的第一蒸镀材料受热气化蒸发,蒸发后的第一蒸镀材料经第一喷嘴12和第一喷嘴12的出口喷出,最终沉积在待蒸镀基板200上,在待蒸镀基板200上形成蒸镀图形。
同理,第二蒸发源21具有第二蒸发腔,第二蒸发源21的第二蒸发腔用于盛放第二蒸镀材料,第二喷嘴22与第二蒸发腔连通,当对第二蒸发源21进行加热时,第二蒸发腔内的第二蒸镀材料受热气化蒸发,蒸发后的第二蒸镀材料经第二喷嘴22和第二喷嘴22的出口喷出,最终沉积在待蒸镀基板200上,在待蒸镀基板200上形成蒸镀图形。
本申请实施例中,第一喷嘴12的出口喷出第一蒸镀材料,以在待蒸镀基板200上形成蒸镀图形,第二喷嘴22的出口喷出第二蒸镀材料,以在待蒸镀基板200上形成蒸镀图形。第一喷嘴12的出口和第二喷嘴22的出口均布置在同一预设平面内,该预设平面垂直于待蒸镀基板200,这样,在垂直于该预设平面的方向(如图5所示的左右方向)上,第一喷嘴12的出口和第二喷嘴22的出口之间不存在间距,且沿平行于待蒸镀基板200的方向,第一喷嘴12的出口和第二喷嘴22的出口依次交替排列,使得第一喷嘴12的出口和第二喷嘴22的出口依次交替排列呈线型。
通过依次交替且呈线型排列的第一喷嘴12的出口和第二喷嘴22的出口,能够将第一蒸镀材料和第二蒸镀材料均匀蒸镀到待蒸镀基板200上,以形成高质量的膜层,从而能够解决现有技术中蒸发源装置由于装有不同蒸镀材料的蒸发源组件的喷嘴在移动方向(该移动方向为第一坩埚1011和第二坩埚1021的布置方向,即如图2所示左右方向)上存在一定的间距,不同蒸发源组件的喷嘴的蒸镀区域不同,所导致的材料混合比例不均,膜层厚度均一性差的问题,进而改善OLED显示器件的显示质量,提高使用寿命。
可选地,本申请实施例中,第一蒸发源11为坩埚。第二蒸发源21为坩埚。
需要说明的是,本申请实施例中,第一蒸发源11和第二蒸发源21的具体结构及设置方式与现有技术类似,这里不再赘述。
可选地,如图4以及图6至图9所示,本申请实施例中,第一喷嘴12和第二喷嘴22的数量均为多个,这样设置能够提高蒸镀效率。当然,在一种可选的实施例中,还可以根据实际需要,使第一喷嘴12和第二喷嘴22的数量均为一个。
可选地,如图4、图5、图8和图9所示,本申请实施例中,第一喷嘴12的出口中心和待蒸镀基板200之间的距离等于第二喷嘴22的出口中心和待蒸镀基板200之间的距离。
本申请实施例中,第一喷嘴12的出口中心和待蒸镀基板200之间的距离与第二喷嘴22的出口中心和待蒸镀基板200之间的距离相等,并且由于第一喷嘴12的出口和第二喷嘴22的出口依次交替排列呈线型,因此,当通过第一喷嘴12的出口喷出第一蒸镀材料,通过第二喷嘴22的出口喷出第二蒸镀材料时,第一蒸镀材料在待蒸镀基板200上形成的第一蒸镀区域,与第二蒸镀材料在待蒸镀基板200上形成的第二蒸镀区域之间的重叠区域面积最大。
也就是说,通过这种设置方式,可以提高将第一蒸镀材料和第二蒸镀材料均匀蒸镀到待蒸镀基板200上的均匀蒸镀面积,使第一蒸镀材料和第二蒸镀材料的混合比例更加均匀,提高膜层厚度均一性,以形成高质量的膜层,从而改善OLED显示器件的显示质量,提高使用寿命。
当然,在一种可选的实施例中,还可以根据实际需要,使第一喷嘴12的出口中心和待蒸镀基板200之间的距离,与第二喷嘴22的出口中心和待蒸镀基板200之间的距离具有预设差值,该预设差值大于0mm。
可选地,如图4、图8和图9所示,本申请实施例中,第一喷嘴12的出口为圆形;第二喷嘴22的出口为圆形。此时,第一喷嘴12的出口中心即为圆形出口的圆心,第二喷嘴22的出口中心即为圆形出口的圆心。
当然,在一种可选的实施例中,还可以根据实际需要,将第一喷嘴12的出口形状设置为椭圆形或多边形等。将第二喷嘴22的出口形状设置为椭圆形或多边形等。可选地,第一喷嘴12的出口形状与第二喷嘴22的出口形状相同。
可选地,如图6所示,本申请实施例中,在预设平面内,第一喷嘴12出口的轴线与平行于待蒸镀基板200的方向(即图6中的水平方向)之间具有第一预设夹角;第二喷嘴22出口的轴线与平行于待蒸镀基板200的方向之间具有第二预设夹角。
通过这种设置方式,一方面能够提高第一蒸镀材料在待蒸镀基板200上形成的第一蒸镀区域,与第二蒸镀材料在待蒸镀基板200上形成的第二蒸镀区域之间的重叠区域面积,提高蒸镀效果,另一方面能够使结构紧凑。
需要说明的是,本申请实施例中,第一喷嘴12出口的轴线为垂直于第一喷嘴12出口所在平面的直线,同理,第二喷嘴22出口的轴线为垂直于第二喷嘴22出口所在平面的直线。
可选地,如图6所示,本申请实施例中,第一预设夹角大于或等于70°且小于或等于90°;第二预设夹角大于或等于70°且小于或等于90°。
当第一预设夹角小于70°和/或第二预设夹角小于70°时,通过第一喷嘴12的出口喷出的第一蒸镀材料和第二喷嘴22的出口喷出的第二蒸镀材料,能够沉积在待蒸镀基板200上的量较少,一方面导致蒸镀效果差,另一方面会造成浪费。
当第一预设夹角大于或等于70°且小于或等于90°;第二预设夹角大于或等于70°且小于或等于90°时,不仅能够保证第一蒸镀材料和第二蒸镀材料在待蒸镀基板200上的沉积量,还能够提高第一蒸镀材料和第二蒸镀材料在待蒸镀基板200上的重叠区域面积,从而提高蒸镀效果。
可选地,本申请实施例中第一预设夹角α的位置示意图如图6所示。本申请实施例以如图6所示第一预设夹角α的位置来对第一喷嘴12出口的轴线与平行于待蒸镀基板200的方向之间的夹角进行说明。
可以理解的是,第二预设夹角的位置与如图6所示第一预设夹角α的位置相同,区别仅在于第二预设夹角为第二喷嘴22出口的轴线与平行于待蒸镀基板200的方向之间的夹角,而第一预设夹角α为第一喷嘴12出口的轴线与平行于待蒸镀基板200的方向之间的夹角。
当然,在一种可选的实施例中,还可以根据实际需要,在预设平面内,仅使第一喷嘴12出口的轴线与平行于待蒸镀基板200的方向之间具有第一预设夹角。第一预设夹角大于或等于70°且小于或等于90°。或者,在预设平面内,仅使第二喷嘴22出口的轴线与平行于待蒸镀基板200的方向之间具有第二预设夹角。第二预设夹角大于或等于70°且小于或等于90°。
可选地,如图4和图8所示,本申请实施例中,第一喷嘴12的数量为N+1,第二喷嘴22的数量为N,其中,N为正整数;第一喷嘴12和第二喷嘴22依次交替排列,第一个喷嘴和最后一个喷嘴均为第一喷嘴12。
本申请实施例中,第一喷嘴12的出口喷出第一蒸镀材料,第二喷嘴22的出口喷出第二蒸镀材料。通过这种设置方式,能够提高第一蒸镀材料和第二蒸镀材料的混合掺杂比例的均匀性,提高膜层厚度均一性,从而提高蒸镀效果,改善OLED显示器件的显示质量及使用寿命。
当然,在一种可选的实施例中,还可以根据实际需要,使第一喷嘴12和第二喷嘴22的数量相同。
可选地,如图4、图7至图9所示,本申请实施例中,第一喷嘴12包括第一出口段121和第一弯折段122,第一弯折段122的一端与第一蒸发腔连通,第一弯折段122的另一端与第一出口段121连通,第一出口段121远离第一弯折段122的一端设有第一喷嘴12的出口。
本申请实施例中,第一喷嘴12的出口和第二喷嘴22的出口均布置在同一预设平面内。通过设置第一出口段121和第一弯折段122,能够实现第一蒸发腔和第一喷嘴12的出口之间的位置过渡及连通,从而保证第一喷嘴12的出口能够布置在该预设平面内。
可选地,如图4、图7和图9所示,本申请实施例中,第一出口段121包括位于预设平面内的第一直段,第一弯折段122包括第一曲段。第一曲段的一端与第一蒸发腔连通,第一曲段的另一端与第一直段连通,第一直段远离第一曲段的一端设有第一喷嘴12的出口。
可选地,如图7所示,本申请实施例中,第一曲段包括依次连接的第一直线结构、第一弧结构、第二直线结构和第二弧结构,第二弧结构远离第二直线结构的一端与第一直段连通。
在一种可选的实施方式中,如图7和图8所示,第一弯折段122包括第一斜段,第一斜段的一端与第一蒸发腔连通,第一斜段的另一端与第一出口段121连通。
当然,在一种可选的实施方式中,还根据实际需要,使第一曲段为弧形结构或其他结构;或者,使第一弯折段122包括相连接的第一曲段和第一斜段,只要能够实现第一蒸发腔和第一喷嘴12的出口之间的位置过渡及连通即可。
可选地,如图4、图8和图9所示,本申请实施例中,第二喷嘴22包括第二出口段和第二弯折段,第二弯折段的一端与第二蒸发腔连通,第二弯折段的另一端与第二出口段连通,第二出口段远离第二弯折段的一端设有第二喷嘴22的出口。
本申请实施例中,第一喷嘴12的出口和第二喷嘴22的出口均布置在同一预设平面内。通过设置第二出口段和第二弯折段,能够实现第二蒸发腔和第二喷嘴22的出口之间的位置过渡及连通,从而保证第二喷嘴22的出口能够布置在该预设平面内。
可选地,如图4和图9所示,本申请实施例中,第二出口段包括位于预设平面内的第二直段,第二弯折段包括第二曲段。第二曲段的一端与第二蒸发腔连通,第二曲段的另一端与第二直段连通,第二直段远离第二曲段的一端设有第二喷嘴22的出口。
可选地,如图4和图9所示,本申请实施例中,第二曲段包括依次连接的第三直线结构、第三弧结构、第四直线结构和第四弧结构,第四弧结构远离第四二直线结构的一端与第二直段连通。
需要说明的是,如图4和图7所示,本申请实施例中,第二喷嘴22的结构与第一喷嘴12的结构类似。
在一种可选的实施方式中,如图8所示,第二弯折段包括第二斜段。第二斜段的一端与第二蒸发腔连通,第二斜段的另一端与第二出口段连通。
当然,在一种可选的实施方式中,还根据实际需要,使第二曲段为弧形结构或其他结构;或者,使第二弯折段包括相连接的第二曲段和第二斜段,只要能够实现第二蒸发腔和第二喷嘴22的出口之间的位置过渡及连通即可。
具体地,如图4至图8所示,本申请实施例中,蒸发源装置包括第一蒸发源组件10和第二蒸发源组件20,其中第一蒸发源组件10包括第一蒸发源11和第一喷嘴12;第二蒸发源组件20包括第二蒸发源21和第二喷嘴22,第一喷嘴12的出口与第二喷嘴22的出口位于同一竖直平面内,且第一喷嘴12的出口中心与第二喷嘴22的出口中心的高度相同,第一喷嘴12和第二喷嘴22呈交替排列。第一喷嘴12和第二喷嘴22可存在弯折,第一喷嘴12的出口的轴线与待蒸镀基板200垂直或在该竖直平面内倾斜一定角度。第一喷嘴12的数为N+1,第二喷嘴22的数量为N(如图4和图8所示,N为4)。
本申请实施例中,由于第一喷嘴12的出口和第二喷嘴22的出口位于同一竖直平面,且第一喷嘴12和第二喷嘴22呈交替排列,因此,第一蒸镀材料和第二蒸镀材料的蒸镀区域也完全重合(如图5所示的重叠区域40),可以有效的使两种蒸镀材料(如发光材料)掺杂混合稳定,提高膜厚均一性,进而提高OLED显示器件的显示质量与使用寿命。
当然,在一种可选的实施方式中,还可以根据实际需要,使第一喷嘴12包括第一出口段121和第一弯折段122,第二喷嘴22仅包括第二出口段,第二出口段包括位于预设平面内的第二直段;或者,使第一喷嘴12仅包括第一出口段121,第一出口段121包括位于预设平面内的第一直段,第二喷嘴22包括第二出口段和第二弯折段。
可选地,如图9所示,本申请实施例的蒸发源装置,还包括:第三蒸发源组件30,第三蒸发源组件30位于第一蒸发源组件10和第二蒸发源组件20之间。
第三蒸发源组件30包括第三蒸发源31和至少一个第三喷嘴32,各第三喷嘴32均与第三蒸发源31的第三蒸发腔连通,各第三喷嘴32的出口均朝向待蒸镀基板200设置。
第三喷嘴32的出口、第二喷嘴22的出口和第一喷嘴12的出口均布置在预设平面内,且沿平行于待蒸镀基板200的方向,第一喷嘴12的出口、第二喷嘴22的出口和第三喷嘴32的出口依次交替排列。
本申请实施例中,第三蒸发源组件30用于将第三蒸镀材料蒸镀到待蒸镀基板200上。
具体地,第三蒸发源31具有第三蒸发腔,第三蒸发源31的第三蒸发腔用于盛放第三蒸镀材料,第三喷嘴32与第三蒸发腔连通,当对第三喷嘴32进行加热时,第三蒸发腔内的第三蒸镀材料受热气化蒸发,蒸发后的第三蒸镀材料经第三喷嘴32和第三喷嘴32的出口喷出,最终沉积在待蒸镀基板200上,在待蒸镀基板200上形成蒸镀图形。
本申请实施例中,第一喷嘴12的出口喷出第一蒸镀材料,第二喷嘴22的出口喷出第二蒸镀材料,第三喷嘴32的出口喷出第三蒸镀材料,以在待蒸镀基板200上形成蒸镀图形。第一喷嘴12的出口、第二喷嘴22的出口和第三喷嘴32的出口均布置在同一预设平面内,该预设平面垂直于待蒸镀基板200,这样,在垂直于该预设平面的方向(如图9所示的左右方向)上,第一喷嘴12的出口、第二喷嘴22的出口和第三喷嘴32的出口之间不存在间距,且沿平行于待蒸镀基板200的方向,第一喷嘴12的出口、第二喷嘴22的出口和第三喷嘴32的出口依次交替排列,使得第一喷嘴12的出口、第二喷嘴22的出口和第三喷嘴32的出口依次交替排列呈线型。
通过依次交替且呈线型排列的第一喷嘴12的出口、第二喷嘴22的出口和第三喷嘴32的出口,能够将第一蒸镀材料、第二蒸镀材料和第三蒸镀材料均匀蒸镀到待蒸镀基板200上,以形成高质量的膜层,从而解决现有技术中材料混合比例不均,膜层厚度均一性差的问题,进而改善OLED显示器件的显示质量,提高使用寿命。
可选地,本申请实施例中,第三蒸发源31为坩埚。
需要说明的是,本申请实施例中,第三蒸发源31和第三喷嘴32的具体结构及设置方式与现有技术类似,这里不再赘述。
可选地,如图9所示,本申请实施例中,第三喷嘴32的数量为多个,这样设置能够提高蒸镀效率。当然,在一种可选的实施例中,还可以根据实际需要,使第三喷嘴32的数量为一个。
可选地,如图9所示,本申请实施例中,第三喷嘴32的出口中心和待蒸镀基板200之间的距离等于第一喷嘴12的出口中心和待蒸镀基板200之间的距离。
可选地,如图9所示,本申请实施例中,第一喷嘴12的数量为M+1,第二喷嘴22和第三喷嘴32的数量为M,其中,M为正整数;第一喷嘴12、第二喷嘴22和第三喷嘴32依次交替排列,第一个喷嘴和最后一个喷嘴均为第一喷嘴12。
本申请实施例中,第一喷嘴12的出口喷出第一蒸镀材料,第二喷嘴22的出口喷出第二蒸镀材料,第三喷嘴32的出口喷出第三蒸镀材料。通过这种设置方式,能够提高第一蒸镀材料、第二蒸镀材料和第三蒸镀材料的混合掺杂比例的均匀性,提高膜层厚度均一性,从而提高蒸镀效果,改善OLED显示器件的显示质量及使用寿命。
可选地,本申请实施例中,第一喷嘴12和第二喷嘴22的数量为M,第三喷嘴32的数量为M+1(如图9所示,M为3)。
当然,在一种可选的实施例中,还可以根据实际需要,使第一喷嘴12、第二喷嘴22和第三喷嘴32的数量相同。
可选地,如图9所示,本申请实施例中,第三喷嘴32包括位于预设平面内的第三直段。第三直段的一端与第三蒸发腔连通,第三直段的另一端设有第三喷嘴32的出口,通过第三直段,实现第三蒸发腔与第三喷嘴32的出口之间的连通。
当然,本申请实施例的蒸发源装置,还包括第一加热部件、第二加热部件和第三加热部件。第一加热部件被配置为用于对第一蒸发源11进行加热,以使第一蒸发腔内的第一蒸镀材料受热气化蒸发。第二加热部件被配置为用于对第二蒸发源21进行加热,以使第二蒸发腔内的第二蒸镀材料受热气化蒸发。第三加热部件被配置为用于对第三蒸发源31进行加热,以使第三蒸发腔内的第三蒸镀材料受热气化蒸发。
需要说明的是,本申请实施例中,第一加热部件、第二加热部件和第三加热部件的具体结构及设置方式与现有技术类似,这里不再赘述。
本申请实施例中,蒸发源装置100可用于对两种或两种以上材料以一定比例进行混合掺杂共同蒸镀,例如发光材料,材料混合比例均匀性较高,膜层厚度均一性较好,能够改善OLED显示器件的显示质量与使用寿命。
需要说明的是,本申请实施例的蒸发源装置包括两个或两个以上蒸发源组件,至少两个蒸发源组件的蒸发源用于容纳不同蒸镀材料,各蒸发源组件的喷嘴出口均位于同一预设平面内,该预设平面垂直于待蒸镀基板,且沿平行于待蒸镀基板的方向,容纳有不同蒸镀材料的喷嘴的出口依次交替排列。
可选地,各喷嘴的出口中心与待蒸镀基板之间的距离均相同。可选地,喷嘴出口的轴线与待蒸镀基板垂直或者在该预设平面内相对于待蒸镀基板倾斜一定角度,即喷嘴出口的轴线与平行于待蒸镀基板的方向之间的夹角为大于或等于70°且小于或等于90°。
可选地,本申请实施例中,可以根据实际需要,使喷嘴存在弯折,以便于使各喷嘴的出口均位于同一预设平面内。
可选地,本申请实施例中,可以根据实际需要,使各蒸发源组件的喷嘴数量相同,或者,使一部分蒸发源组件的喷嘴比另一部分蒸发源组件的喷嘴数量多一个,以使交替排列后的首尾喷嘴为同一蒸发源组件的喷嘴。
通过这种设置方式,可实现对多种材料的稳定掺杂混合。
基于同一发明构思,本申请实施例提供的一种蒸镀设备,包括:如上述的蒸发源装置100。
需要说明的是,由于本申请实施例的蒸镀设备包括本申请实施例的蒸发源装置,因此,本申请实施例的蒸镀设备也具有本申请实施例的蒸发源装置的上述有益效果,此处不再赘述。
应用本申请实施例,至少能够实现如下有益效果:
本申请实施例中,第一喷嘴的出口喷出第一蒸镀材料,以在待蒸镀基板上形成蒸镀图形,第二喷嘴的出口喷出第二蒸镀材料,以在待蒸镀基板上形成蒸镀图形。第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口均布置在同一预设平面内,该预设平面垂直于待蒸镀基板,这样,在垂直于该预设平面的方向上,第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口之间不存在间距,且沿平行于待蒸镀基板的方向,第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口依次交替排列,使得第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口依次交替排列呈线型。
通过依次交替且呈线型排列的第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口,能够将第一蒸镀材料和第二蒸镀材料均匀蒸镀到待蒸镀基板上,以形成高质量的膜层,从而能够解决现有技术中蒸发源装置由于装有不同蒸镀材料的蒸发源组件的喷嘴在移动方向上存在一定的间距,不同蒸发源组件的喷嘴的蒸镀区域不同,所导致的材料混合比例不均,膜层厚度均一性差的问题,进而改善OLED显示器件的显示质量,提高使用寿命。
本技术领域技术人员可以理解,本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地,具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地,现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。
在本申请的描述中,词语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系,为基于附图所示的示例性的方向或位置关系,是为了便于描述或简化描述本申请的实施例,而不是指示或暗示所指的装置或部件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本说明书的描述中,具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述仅是本申请的部分实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请的方案技术构思的前提下,采用基于本申请技术思想的其他类似实施手段,同样属于本申请实施例的保护范畴。

Claims (10)

1.一种蒸发源装置,其特征在于,包括:
第一蒸发源组件,包括第一蒸发源和至少一个第一喷嘴,各所述第一喷嘴均与所述第一蒸发源的第一蒸发腔连通,各所述第一喷嘴的出口均朝向待蒸镀基板设置;
第二蒸发源组件,包括第二蒸发源和至少一个第二喷嘴,各所述第二喷嘴均与所述第二蒸发源的第二蒸发腔连通,各所述第二喷嘴的出口均朝向所述待蒸镀基板设置;
其中:
所述第一喷嘴的出口和所述第二喷嘴的出口均布置在同一预设平面内,所述预设平面垂直于所述待蒸镀基板,且沿平行于所述待蒸镀基板的方向,所述第一喷嘴的出口和所述第二喷嘴的出口依次交替排列。
2.根据权利要求1所述的蒸发源装置,其特征在于,所述第一喷嘴的出口中心和所述待蒸镀基板之间的距离等于所述第二喷嘴的出口中心和所述待蒸镀基板之间的距离。
3.根据权利要求1所述的蒸发源装置,其特征在于,在所述预设平面内,所述第一喷嘴出口的轴线与平行于所述待蒸镀基板的方向之间具有第一预设夹角;和/或,所述第二喷嘴出口的轴线与平行于所述待蒸镀基板的方向之间具有第二预设夹角。
4.根据权利要求3所述的蒸发源装置,其特征在于,
第一预设夹角大于或等于70°且小于或等于90°;和/或,
第二预设夹角大于或等于70°且小于或等于90°。
5.根据权利要求1所述的蒸发源装置,其特征在于,
所述第一喷嘴和所述第二喷嘴的数量相同;或者,
所述第一喷嘴的数量为N+1,所述第二喷嘴的数量为N,其中,N为正整数;所述第一喷嘴和所述第二喷嘴依次交替排列,第一个喷嘴和最后一个喷嘴均为第一喷嘴。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的蒸发源装置,其特征在于,
所述第一喷嘴包括第一出口段和第一弯折段,所述第一弯折段的一端与所述第一蒸发腔连通,所述第一弯折段的另一端与所述第一出口段连通,所述第一出口段远离所述第一弯折段的一端设有所述第一喷嘴的出口;和/或,
所述第二喷嘴包括第二出口段和第二弯折段,所述第二弯折段的一端与所述第二蒸发腔连通,所述第二弯折段的另一端与所述第二出口段连通,所述第二出口段远离所述第二弯折段的一端设有所述第二喷嘴的出口。
7.根据权利要求6所述的蒸发源装置,其特征在于,
所述第一出口段包括位于所述预设平面内的第一直段,所述第一弯折段包括第一曲段和/或第一斜段;
和/或,
所述第二出口段包括位于所述预设平面内的第二直段,所述第二弯折段包括第二曲段和/或第二斜段。
8.根据权利要求1至5中任一项所述的蒸发源装置,其特征在于,还包括第三蒸发源组件,所述第三蒸发源组件位于所述第一蒸发源组件和所述第二蒸发源组件之间;
所述第三蒸发源组件包括第三蒸发源和至少一个第三喷嘴,各所述第三喷嘴均与所述第三蒸发源的第三蒸发腔连通,各所述第三喷嘴的出口均朝向所述待蒸镀基板设置;
所述第三喷嘴的出口、所述第二喷嘴的出口和所述第一喷嘴的出口均布置在所述预设平面内,且沿平行于所述待蒸镀基板的方向,所述第一喷嘴的出口、所述第二喷嘴的出口和所述第三喷嘴的出口依次交替排列。
9.根据权利要求8所述的蒸发源装置,其特征在于,
所述第一喷嘴、所述第二喷嘴和所述第三喷嘴的数量相同;或者,
所述第一喷嘴的数量为M+1,所述第二喷嘴和所述第三喷嘴的数量为M,其中,M为正整数;所述第一喷嘴、所述第二喷嘴和所述第三喷嘴依次交替排列,第一个喷嘴和最后一个喷嘴均为第一喷嘴;或者,
所述第三喷嘴包括位于所述预设平面内的第三直段。
10.一种蒸镀设备,其特征在于,包括:如上述权利要求1至9中任一项所述的蒸发源装置。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB732978A (en) * 1952-06-27 1955-07-06 Power Jets Res & Dev Ltd Reaction jet nozzles for aircraft
JP2005351762A (ja) * 2004-06-10 2005-12-22 Fuji Photo Film Co Ltd 蛍光体シート製造装置
JP2007012874A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Omron Corp 基板加熱方法、基板加熱装置および熱風式リフロー装置
CN206244866U (zh) * 2016-12-20 2017-06-13 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种蒸发源系统及真空蒸镀装置
CN110240481A (zh) * 2018-03-07 2019-09-17 应用材料公司 用于等离子体环境中的腔室部件的氧化钇-二氧化锆耐蚀材料

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB732978A (en) * 1952-06-27 1955-07-06 Power Jets Res & Dev Ltd Reaction jet nozzles for aircraft
JP2005351762A (ja) * 2004-06-10 2005-12-22 Fuji Photo Film Co Ltd 蛍光体シート製造装置
JP2007012874A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Omron Corp 基板加熱方法、基板加熱装置および熱風式リフロー装置
CN206244866U (zh) * 2016-12-20 2017-06-13 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种蒸发源系统及真空蒸镀装置
CN110240481A (zh) * 2018-03-07 2019-09-17 应用材料公司 用于等离子体环境中的腔室部件的氧化钇-二氧化锆耐蚀材料

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