CN115216045A - 偏光片用低温固化双面抗静电离型膜及其制备方法 - Google Patents

偏光片用低温固化双面抗静电离型膜及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种偏光片用低温固化双面抗静电离型膜及其制备方法，包括：基材层和位于基材层上表面和下表面的抗静电层，至少一个所述抗静电层与基材层相背的表面具有一离型层；所述离型层由以下重量份的组分组成：端乙烯基有机硅树脂100份、有机溶剂800~1100份、含氢有机硅树脂2~8份、硅烷偶联剂A0.5~1.5份、硅烷偶联剂B0.1~1.0份、铂催化剂2~5份；抗静电层由以下重量份的组分获得：聚噻吩的水溶液100份、5~8份的三聚氰胺类固化剂。本发明溶剂型丙烯酸脂压敏胶使得溶剂型丙烯酸脂压敏胶粘着力高，胶膜产品透光率高、雾度低、耐候性好、耐黄变性好，制成胶膜产品填充性好，从而具有优异返修性能。

Description

偏光片用低温固化双面抗静电离型膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及离型膜技术领域，尤其涉及一种偏光片用低温固化双面抗静电离型膜及其制备方法。
背景技术
2020年偏光片离型膜、保护膜市场需求在保持持续增长的基础上实现突破性大幅度增长，总产值达28.31亿元。而且，随着2021年各大偏光片企业2500mm、2600mm宽幅生产线的产能逐渐提升，预计2021年以后市场需求将继续保持较大的增幅。目前，偏光片离型膜的国产化程度低，离型膜领域布局企业也少之又少且并未实现量产。离型膜主要生产企业有三菱化学、东丽、琳得科、藤森、日东，目前中国偏光片离型膜市场中三菱化学和东丽所占份额超90%，一直处于国外垄断状态。
偏光片一般由保护膜层、TAC薄膜层、PVA薄膜层、TAC 薄膜层、压敏胶层、离型膜层组成，是液晶显示成像的重要组成部分，该离型膜主要起到出货及使用过程中保护底层PSA的作用，后续再使用偏光片时需要剥离掉离型膜，此过程中对于离型膜的离型力的稳定性及平整度要求较高，同时在高速剥离的过程中离型膜的非离型面容易产生静电，吸附环境中灰尘，影响产品洁净度，离型面在高速剥离过程中同样产生静电会影响与PSA剥离的效果，影响作业的连续性。
因此，国产化的双面抗静电，且平整度高和离型力稳定的偏光片离型膜的研究和制备具有重要意义。
发明内容
本发明目的在于提供一种偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，该偏光片用低温固化双面抗静电离型膜收缩性和平整性较佳，具有优异的稳定的离型力的同时具备双面抗静电的功能，避免了在高速剥离时产生的静电，以及运输过程和模切过程吸附灰尘的技术缺陷。同时，提供一种用于上述的偏光片用低温固化双面抗静电离型膜的制备方法。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，包括：基材层和位于基材层上表面和下表面的抗静电层，至少一个所述抗静电层与基材层相背的表面具有一离型层；
所述离型层由以下重量份的组分组成：
端乙烯基有机硅树脂 100份，
有机溶剂 800~1100份，
含氢有机硅树脂 2~8份，
硅烷偶联剂A 0 .5~1 .5份，
硅烷偶联剂B 0.1~1.0份，
铂催化剂 2~5份；
所述抗静电层由以下重量份的组分获得：聚噻吩的水溶液100份、5~8份的三聚氰胺类固化剂，所述聚噻吩水溶液的浓度为2~6％，所述抗静电层的固化温度为60~100℃。
上述技术方案中进一步改进的技术方案如下：
1、上述方案中，所述端乙烯基有机硅树脂选用低温固化体系LTC761、LTC762、LTC759、LTC750A中的至少一种。
2、上述方案中，所述离型层的固化温度在80~100摄氏度。
3、上述方案中，所述基材层为高平整度的光学级PET基膜。
4、上述方案中，所述基材层厚度12~100μm。
本发明采用的方法技术方案是：一种用于上述的偏光片用低温固化双面抗静电离型膜的制备方法，包括以下步骤：
称量重量比例为100份的聚噻吩水溶液以及5~8份的三聚氰胺类固化剂，所述聚噻吩水溶液的浓度为2~6％，搅拌均匀得到抗静电剂；
将所述抗静电剂均匀涂覆于基材层的上表面和下表面，所述涂覆分两步涂布并烘烤固化，从而在基材层两面形成抗静电层；
将重量比例为100份的端乙烯基有机硅树脂、有机溶剂800~1100份、含氢有机硅树脂2~8份、硅烷偶联剂A0.5~1 .5份、硅烷偶联剂B0.1~1.0份、铂催化剂2~5份，搅拌均匀得到低温固化型离型剂；
将所述低温固化型离型剂均匀涂覆于至少一个抗静电层与基材层相背的表面，并烘烤固化，从而在抗静电涂层的表面形成低温固化型离型涂层，烘烤熟化获得低温固化双面抗静电离型膜。
上述技术方案中进一步改进的技术方案如下：
1、上述方案中，所述抗静电剂的涂布湿量为5~10g/m2。
2、上述方案中，所述低温固化型离型剂涂覆于面向基材层的电晕面一侧。
3、上述方案中，所述烘烤熟化的温度为50~60℃。
由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：
本发明偏光片用低温固化双面抗静电离型膜及其制备方法，其采用低温100℃固化的离型剂体系，保证了基膜的收缩性和平整性较佳的优点，在具有优异的稳定的离型力的同时具备双面抗静电的功能，靠近离型层的抗静电层是为了解决离型膜和胶带贴合之后，在高速剥离时产生的静电，远离离型层的抗静电层是为了解决离型膜在运输过程和模切过程产生的静电吸附灰尘等，解决了生产运输，模切过程中静电带来的影响。
附图说明
附图1为本发明双面抗静电离型膜的结构示意图。
以上附图中：1、基材层；2、抗静电层；3、离型层。
具体实施方式
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制；术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下面结合实施例对本发明作进一步描述：
实施例1：一种偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，包括：基材层1和位于基材层1上表面和下表面的抗静电层2，至少一个所述抗静电层2与基材层1相背的表面具有一离型层3；
所述离型层3由以下重量份的组分组成：
LTC761 100份，
有机溶剂 1100份，
含氢有机硅树脂 6.5份，
硅烷偶联剂A 1.5份，
硅烷偶联剂B 1.0份，
铂催化剂 5份；
上述抗静电层2称量重量比例为100份的聚噻吩水溶液以及5份的三聚氰胺类固化剂，使用去离子水将水溶液稀释为2%的固含；使用微凹辊涂布方式在PET两面涂覆抗静电剂，所述抗静电剂的涂布湿量为5g/m2，烘烤温度为60~100℃，烘烤时间为20s
离型剂对应的组分充分混合，混合均匀之后，静置消泡，使用微凹涂布方式涂布在基材层抗静电层，涂布厚度为6.5um，涂布后在90-100℃的温度下烘烤45s，在放置55度烘房后熟化得到低温固化抗静电光学离型膜。
实施例2：一种偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，包括：基材层1和位于基材层1上表面和下表面的抗静电层2，至少一个所述抗静电层2与基材层1相背的表面具有一离型层3；
所述离型层3由以下重量份的组分组成：
LTC761 100份，
有机溶剂 800份，
含氢有机硅树脂 6.5份，
硅烷偶联剂A 1.5份，
硅烷偶联剂B 1.0份，
铂催化剂 5份；
上述抗静电层2称量重量比例为100份的聚噻吩水溶液以及8份的三聚氰胺类固化剂，使用去离子水将水溶液稀释为2%的固含；使用微凹辊涂布方式在PET两面涂覆抗静电剂，所述抗静电剂的涂布湿量为5g/m2，烘烤温度为60～100℃，烘烤时间为20s。
离型剂对应的组分充分混合，混合均匀之后，静置消泡，使用微凹涂布方式涂布在基材层抗静电层，涂布厚度为6.5um，涂布后在90-100℃的温度下烘烤45s，在放置55度烘房后熟化得到低温固化抗静电光学离型膜。
实施例3：一种偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，包括：基材层1和位于基材层1上表面和下表面的抗静电层2，至少一个所述抗静电层2与基材层1相背的表面具有一离型层3；
所述离型层3由以下重量份的组分组成：
LTC761 100份，
有机溶剂 800份，
含氢有机硅树脂 2份，
硅烷偶联剂A 1.5份，
硅烷偶联剂B 1.0份，
铂催化剂 5份；
上述抗静电层2称量重量比例为100份的聚噻吩水溶液以及8份的三聚氰胺类固化剂，使用去离子水将水溶液稀释为2%的固含；使用微凹辊涂布方式在PET两面涂覆抗静电剂，所述抗静电剂的涂布湿量为5g/m2，烘烤温度为60～100℃，烘烤时间为20s。
离型剂对应的组分充分混合，混合均匀之后，静置消泡，使用微凹涂布方式涂布在基材层抗静电层，涂布厚度为6.5um，涂布后在90-100℃的温度下烘烤45s，在放置55度烘房后熟化得到低温固化抗静电光学离型膜。
实施例4：一种偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，包括：基材层1和位于基材层1上表面和下表面的抗静电层2，至少一个所述抗静电层2与基材层1相背的表面具有一离型层3；
所述离型层3由以下重量份的组分组成：
LTC761 100份，
有机溶剂 800份，
含氢有机硅树脂 8份，
硅烷偶联剂A 1.5份，
硅烷偶联剂B 1.0份，
铂催化剂 5份；
上述抗静电层2称量重量比例为100份的聚噻吩水溶液以及8份的三聚氰胺类固化剂，使用去离子水将聚噻吩水溶液稀释为6%的固含；使用微凹辊涂布方式在PET两面涂覆抗静电剂，所述抗静电剂的涂布湿量为10g/m2，烘烤温度为60～100℃，烘烤时间为20s。
离型剂对应的组分充分混合，混合均匀之后，静置消泡，使用微凹涂布方式涂布在基材层抗静电层，涂布厚度为6.5um，涂布后在90-100℃的温度下烘烤45s，在放置55度烘房后熟化得到低温固化抗静电光学离型膜。
本发明实施例1~4的偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，性能指标如表1所示：
表1
Figure 200451DEST_PATH_IMAGE002
如表1的评价结果所示，实施例1~4的双面抗静电离型膜，实施例采用低温100℃固化的离型剂体系，保证了基膜的收缩性和平整性较佳的优点，在具有优异的稳定的离型力的同时具备双面抗静电的功能，靠近离型层的抗静电层是为了解决离型膜和胶带贴合之后，在高速剥离时产生的静电，远离离型层的抗静电层是为了解决离型膜在运输过程和模切过程产生的静电吸附灰尘等，解决了生产运输，模切过程中静电带来的影响。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，其特征在于：包括：基材层（1）和位于基材层（1）上表面和下表面的抗静电层（2），至少一个所述抗静电层（2）与基材层（1）相背的表面具有一离型层（3）；
所述离型层（3）由以下重量份的组分组成：
端乙烯基有机硅树脂 100份，
有机溶剂 800~1100份，
含氢有机硅树脂 2~8份，
硅烷偶联剂A 0 .5~1 .5份，
硅烷偶联剂B 0.1~1.0份，
铂催化剂 2~5份；
所述抗静电层（2）由以下重量份的组分获得：聚噻吩的水溶液100份、5~8份的三聚氰胺类固化剂，所述聚噻吩水溶液的浓度为2~6％，所述抗静电层（2）的固化温度为60~100℃。
2.根据权利要求1所述的偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，其特征在于：所述端乙烯基有机硅树脂选用低温固化体系LTC761、LTC762、LTC759、LTC750A中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，其特征在于：所述离型层的固化温度在80~100摄氏度。
4.根据权利要求1所述的偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，其特征在于：所述基材层（1）为高平整度的光学级PET基膜。
5.根据权利要求4所述的偏光片用低温固化双面抗静电离型膜，其特征在于：所述基材层（1）厚度12~100μm。
6.一种用于权利要求1所述的偏光片用低温固化双面抗静电离型膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
称量重量比例为100份的聚噻吩水溶液以及5~8份的三聚氰胺类固化剂，所述聚噻吩水溶液的浓度为2~6％，搅拌均匀得到抗静电剂；
将所述抗静电剂均匀涂覆于基材层（1）的上表面和下表面，所述涂覆分两步涂布并烘烤固化，从而在基材层（1）两面形成抗静电层（2）；
将重量比例为100份的端乙烯基有机硅树脂、有机溶剂800~1100份、含氢有机硅树脂2~8份、硅烷偶联剂A0.5~1 .5份、硅烷偶联剂B0.1~1.0份、铂催化剂2~5份，搅拌均匀得到低温固化型离型剂；
将所述低温固化型离型剂均匀涂覆于至少一个抗静电层（2）与基材层（1）相背的表面，并烘烤固化，从而在抗静电涂层的表面形成低温固化型离型涂层，烘烤熟化获得低温固化双面抗静电离型膜。
7.根据权利要求6所述的低温固化双面抗静电离型膜的制备方法，其特征在于：所述抗静电剂的涂布湿量为5~10g/m2。
8.根据权利要求6所述的低温固化双面抗静电离型膜的制备方法，其特征在于：所述，所述低温固化型离型剂涂覆于面向基材层（1）的电晕面一侧。
9.根据权利要求6所述的低温固化双面抗静电离型膜的制备方法，其特征在于：所述烘烤熟化的温度为50~60℃。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115772283A (zh) * 2022-12-26 2023-03-10 苏州泰仑电子材料有限公司 Oca光学胶涂布专用防静电离型膜及其制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110527122A (zh) * 2019-07-12 2019-12-03 四川羽玺新材料股份有限公司 一种双面防静电超轻pet离型膜及其制备方法
CN112280085A (zh) * 2020-09-24 2021-01-29 浙江日久新材料科技有限公司 可流延使用的低粗糙度mlcc功能离型膜及其制备方法
CN113308007A (zh) * 2021-05-19 2021-08-27 浙江日久新材料科技有限公司 一种偏光片用抗静电光学离型膜及其制备方法
CN113333250A (zh) * 2021-06-04 2021-09-03 江阴通利光电科技有限公司 一种双面抗静电超轻离型膜的生产工艺及离型膜

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110527122A (zh) * 2019-07-12 2019-12-03 四川羽玺新材料股份有限公司 一种双面防静电超轻pet离型膜及其制备方法
CN112280085A (zh) * 2020-09-24 2021-01-29 浙江日久新材料科技有限公司 可流延使用的低粗糙度mlcc功能离型膜及其制备方法
CN113308007A (zh) * 2021-05-19 2021-08-27 浙江日久新材料科技有限公司 一种偏光片用抗静电光学离型膜及其制备方法
CN113333250A (zh) * 2021-06-04 2021-09-03 江阴通利光电科技有限公司 一种双面抗静电超轻离型膜的生产工艺及离型膜

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115772283A (zh) * 2022-12-26 2023-03-10 苏州泰仑电子材料有限公司 Oca光学胶涂布专用防静电离型膜及其制备方法
CN115772283B (zh) * 2022-12-26 2024-01-30 苏州泰仑电子材料有限公司 Oca光学胶涂布专用防静电离型膜及其制备方法

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