CN115215560A - Af玻璃通用治具和af玻璃生产方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种AF玻璃通用治具和AF玻璃生产方法。所述通用治具包括底座(1)、靠尺(2)、标记插块(3)、挡板(4)和防滑垫(5),所述底座(1)水平放置用于承载待加工玻璃,所述靠尺(2)设置为能够靠近或者远离所述待加工玻璃的直角边,并且,所述靠尺(2)上靠近所述待加工玻璃的边缘处开设有多个标记孔,所述标记孔内插设有所述标记插块(3),所述标记插块(3)用于紧靠所述待加工玻璃;所述挡板(4)设置为与所述防滑垫(5)相贴合并将所述防滑垫(5)压盖在所述待加工玻璃的非刻蚀区域上。该AF玻璃通用治具通用性高,适用性强,安装简单,操作方便。

Description

AF玻璃通用治具和AF玻璃生产方法
技术领域
本发明涉及玻璃生产加工设备,具体地,涉及一种AF玻璃通用治具和AF玻璃生产方法。
背景技术
现有的多种产品需要在表面贴合触摸屏组件,然后整体灌封进金属结构件中,并在周围使用硅橡胶进行密封,以达到防盐雾、防霉菌、防水汽的功能。其中,在触摸屏外表面镀有防指纹膜(AF膜),以便提高人机功效。但是,由于AF膜表面水滴角大,导致产品在灌封时硅橡胶容易在AF膜表面收缩成团,无法起到密封作用。
当前的处理方案是在AF膜加工时,用掩模遮盖,让灌封位置没有AF膜。但是,该方案存在如下缺陷:一是不够灵活,一旦确定了尺寸就无法更改;二是每个项目都需要重新定制,成本高、周期长,不符合小批次,多品种的产品特点。
发明内容
本发明的目的是提供一种AF玻璃通用治具,该AF玻璃通用治具通用性高,适用性强,安装简单,操作方便。
本发明的另一个目的是提供一种AF玻璃生产方法,该AF玻璃生产方法成品效果好,生产效率高,大大降低了成本。
为了实现上述目的,本发明提供了一种AF玻璃通用治具,该通用治具包括底座、靠尺、标记插块、挡板和防滑垫,底座水平放置用于承载待加工玻璃,靠尺设置为能够靠近或者远离待加工玻璃的直角边,并且,靠尺上靠近待加工玻璃的边缘处开设有多个标记孔,标记孔内插设有标记插块,标记插块用于紧靠待加工玻璃;
挡板设置为与防滑垫相贴合并将防滑垫压盖在待加工玻璃的非刻蚀区域上。
优选地,多个标记孔均匀间隔设置。
优选地,标记插块上套设有圆盘,当标记插块插入标记孔内,圆盘能够紧靠住待加工玻璃的边缘,并且,标记插块突出靠尺3-10mm。
本发明另一方便提供了一种AF玻璃生产方法,该AF玻璃生产方法包括:首先,用玻璃切割机将大片玻璃切割成预定尺寸;其次,将待加工玻璃放置到如上述的AF玻璃通用治具的底座上,根据需要刻蚀的尺寸将标记插块安装到靠尺对应的标记孔内;然后,沿着待加工玻璃的直角边放置靠尺,使待加工玻璃边缘紧靠标记插块突出靠尺的边缘;接着,将相同大小的挡板、防滑垫贴合在一起,防滑垫朝向玻璃,将挡板沿着标记插块突出靠尺的边缘放到玻璃上;最后,撤去靠尺,将底座、待加工玻璃、挡板一并放入Plasma设备中,待刻蚀完成后,将玻璃旋转180°,再重复上述步骤,即可将玻璃四周AF刻蚀掉,得到AF玻璃。
优选地,Plasma设备采用两种气体,气路一使用压缩空气,气体流量≥500sccm;气路二使用氮气,气体流量≥500sccm;并且,设置等离子体功率≥500W;真空度≤30pa。
优选地,压缩空气的气体流量为200sccm。
优选地,氮气的气体流量为150sccm。
优选地,Plasma设备的刻蚀时间为80s。
根据上述技术方案,本发明利用真空Plasma中高能粒子轰击AF膜表面,让AF膜脱离的原理,刻蚀出需要灌封硅胶的位置,因此无需定制特定尺寸的玻璃,可直接使用货架产品。即先利用玻璃切割机切割出需要的尺寸,然后利用通用治具标记边缘需要刻蚀的AF膜尺寸,沿标记线位置盖上遮挡玻璃,放入Plasma设备中,利用等离子体刻蚀掉AF膜,即可得到和定制AF玻璃效果一样的成品。
本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1是本发明提供的AF玻璃通用治具的结构示意图;
图2是本发明提供的AF玻璃通用治具的使用状态图。
附图标记说明
1-底座
2-靠尺
3-标记插块
4-挡板
5-防滑垫
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。
在本发明中,在未作相反说明的情况下,“远、近、内、外”等包含在术语中的方位词仅代表该术语在常规使用状态下的方位,或为本领域技术人员理解的俗称,而不应视为对该术语的限制。
参见图1和图2,本发明提供一种AF玻璃通用治具,该通用治具包括底座1、靠尺2、标记插块3、挡板4和防滑垫5,底座1水平放置用于承载待加工玻璃,靠尺2设置为能够靠近或者远离待加工玻璃的直角边,并且,靠尺2上靠近待加工玻璃的边缘处开设有多个标记孔,标记孔内插设有标记插块3,标记插块3用于紧靠待加工玻璃;
挡板4设置为与防滑垫5相贴合并将防滑垫5压盖在待加工玻璃的非刻蚀区域上。
为了使得该AF玻璃通用治具在使用时,靠尺2能够紧紧靠住玻璃,优选地,多个标记孔均匀间隔设置。
进一步的,为了优化治具的尺寸,变化靠尺2的操作,优选标记插块3上套设有圆盘,当标记插块3插入标记孔内,圆盘能够紧靠住待加工玻璃的边缘,并且,标记插块3突出靠尺23-10mm。
具体的,在一种实施方式中,标记插块3上圆盘的半径为13mm,靠尺2最外面标记孔距靠尺2边缘为3mm,最里面标记孔距靠尺2边缘为10mm。通过将标记插块3插在不同位置的标记孔中,可实现标记插块3突出靠尺2。沿着玻璃的直角边放置靠尺2,使玻璃边缘紧靠标记插块3突出靠尺2的边缘即可。
同时,本发明为了使得AF玻璃成品效果好,提高生产效率,还能够大大降低成本,提供了一种AF玻璃生产方法,该AF玻璃生产方法包括:首先,用玻璃切割机将大片玻璃切割成预定尺寸;其次,将待加工玻璃放置到如权利要求1-3中任意一项的AF玻璃通用治具的底座1上,根据需要刻蚀的尺寸将标记插块3安装到靠尺2对应的标记孔内;然后,沿着待加工玻璃的直角边放置靠尺2,使待加工玻璃边缘紧靠标记插块3突出靠尺2的边缘;接着,将相同大小的挡板4、防滑垫5贴合在一起,防滑垫5朝向玻璃,将挡板4沿着标记插块3突出靠尺2的边缘放到玻璃上;最后,撤去靠尺2,将底座1、待加工玻璃、挡板4一并放入Plasma设备中,待刻蚀完成后,将玻璃旋转180°,再重复上述步骤,即可将玻璃四周AF刻蚀掉,得到AF玻璃。
其中,Plasma设备采用两种气体,气路一使用压缩空气,气体流量≥500sccm;气路二使用氮气,气体流量≥500sccm;并且,设置等离子体功率≥500W;真空度≤30pa。
进一步,优选,压缩空气的气体流量为200sccm。氮气的气体流量为150sccm。Plasma设备的刻蚀时间为80s。
由此可见,本发明利用真空Plasma中高能粒子轰击AF膜表面,让AF膜脱离的原理,刻蚀出需要灌封硅胶的位置,因此无需定制特定尺寸的玻璃,可直接使用货架产品。即先利用玻璃切割机切割出需要的尺寸,然后利用通用治具标记边缘需要刻蚀的AF膜尺寸,沿标记线位置盖上遮挡玻璃,放入Plasma设备中,利用等离子体刻蚀掉AF膜,即可得到和定制AF玻璃效果一样的成品。
以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式,但是,本发明并不限于上述实施方式中的具体细节,在本发明的技术构思范围内,可以对本发明的技术方案进行多种简单变型,这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是,在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征,在不矛盾的情况下,可以通过任何合适的方式进行组合,为了避免不必要的重复,本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外,本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合,只要其不违背本发明的思想,其同样应当视为本发明所公开的内容。

Claims (8)

1.一种AF玻璃通用治具,其特征在于,所述通用治具包括底座(1)、靠尺(2)、标记插块(3)、挡板(4)和防滑垫(5),所述底座(1)水平放置用于承载待加工玻璃,所述靠尺(2)设置为能够靠近或者远离所述待加工玻璃的直角边,并且,所述靠尺(2)上靠近所述待加工玻璃的边缘处开设有多个标记孔,所述标记孔内插设有所述标记插块(3),所述标记插块(3)用于紧靠所述待加工玻璃;
所述挡板(4)设置为与所述防滑垫(5)相贴合并将所述防滑垫(5)压盖在所述待加工玻璃的非刻蚀区域上。
2.根据权利要求1所述的AF玻璃通用治具,其特征在于,多个所述标记孔均匀间隔设置。
3.根据权利要求1所述的AF玻璃通用治具,其特征在于,所述标记插块(3)上套设有圆盘,当所述标记插块(3)插入所述标记孔内,所述圆盘能够紧靠住所述待加工玻璃的边缘,并且,所述标记插块(3)突出所述靠尺(2)3-10mm。
4.一种AF玻璃生产方法,其特征在于,所述AF玻璃生产方法包括:首先,用玻璃切割机将大片玻璃切割成预定尺寸;其次,将待加工玻璃放置到如权利要求1-3中任意一项所述的AF玻璃通用治具的底座(1)上,根据需要刻蚀的尺寸将标记插块(3)安装到靠尺(2)对应的标记孔内;然后,沿着待加工玻璃的直角边放置靠尺(2),使待加工玻璃边缘紧靠标记插块(3)突出靠尺(2)的边缘;接着,将相同大小的挡板(4)、防滑垫(5)贴合在一起,防滑垫(5)朝向玻璃,将挡板(4)沿着标记插块(3)突出靠尺(2)的边缘放到玻璃上;最后,撤去靠尺(2),将底座(1)、待加工玻璃、挡板(4)一并放入Plasma设备中,待刻蚀完成后,将玻璃旋转180°,再重复上述步骤,即可将玻璃四周AF刻蚀掉,得到AF玻璃。
5.根据权利要求4所述的AF玻璃生产方法,其特征在于,所述Plasma设备采用两种气体,气路一使用压缩空气,气体流量≥500sccm;气路二使用氮气,气体流量≥500sccm;并且,设置等离子体功率≥500W;真空度≤30pa。
6.根据权利要求5所述的AF玻璃生产方法,其特征在于,压缩空气的气体流量为200sccm。
7.根据权利要求5所述的AF玻璃生产方法,其特征在于,氮气的气体流量为150sccm。
8.根据权利要求4所述的AF玻璃生产方法,其特征在于,所述Plasma设备的刻蚀时间为80s。
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