CN115193662B - 一种镭射转移膜生产装置及其生产方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种镭射转移膜生产装置及其生产方法，包括前进料部，该前进料部上设置有托架，所述托架上设置有托杆和位于托杆下方的托梁，该托梁的上端开设滚槽，所述托架上设置有弹性滑动连接的限位轴且滑动方向位和托梁的长度方向相同，该限位轴位于滚槽的上方。本发明中，设置前进料部，前进料部上设置托架、托杆、托梁、触发辊和对接梁，将待对接的转移膜卷绕辊搭在托杆上后，通过控制对接梁旋转就可以将转移膜卷绕辊接收并转移至托梁上的滚槽内，其中设置的限位轴在上述转移过程中具有自动开启滚槽和关闭滚槽的功能，起到对转移膜卷绕辊限位的作用，进而不仅大大提高了生产效率，而且降低了劳动强度。

Description

一种镭射转移膜生产装置及其生产方法

技术领域

本发明涉及镭射转移膜生产技术领域，尤其涉及一种镭射转移膜生产装置及其生产方法。

背景技术

镭射转移膜的生产主要涉及到涂胶、镭射和真空镀铝，在分别使用涂胶设备、镭射设备和真空镀铝设备生产时都涉及到转移膜的对接上料操作，简单的说就是将转移膜和设备上的放料机构对接，现有的对接方式采用人工对接，具体是使用行吊将转移膜卷绕辊吊放至放料机构上，然后对转移膜卷绕辊锁定，并将转移膜导入膜压机构，然后向后续加工送料，此种采用人工上料的方式大大降低生产效率，而且需要人工登高作业，劳动强度大；另外，现有的转移膜在涂布后需要进行冷却，冷却后在进行卷绕，现有的冷却方式通常采用冷却辊的结构，在冷却辊内通有冷却水，由于烘干箱烘干(烘干温度7-150°)后的带有涂胶的转移膜的温度较高，采用转辊接触式水冷的方式冷却效率低下，而且转移膜涂胶层还容易冷缩的现象。

为此，本发明提供一种镭射转移膜生产装置及其生产方法。

发明内容

本发明的目的在于：为了解决背景技术中提到的问题，而提出的一种镭射转移膜生产装置及其生产方法。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

一种镭射转移膜生产装置，包括前进料部，该前进料部上设置有托架，所述托架上设置有托杆和位于托杆下方的托梁，该托梁的上端开设滚槽，所述托架上设置有弹性滑动连接的限位轴且滑动方向位和托梁的长度方向相同，该限位轴位于滚槽的上方，所述托架上设置有触发辊和对接梁，所述对接梁的一端和托架转动连接且其上开设有转接槽，所述触发辊转动设置在对接梁的另一端，所述的限位轴上设置有推杆，当对接梁转动时，触发辊呈现继续推动推杆并使得限位轴滑动的过程中，限位轴呈远离滚槽的变化，此时转接槽呈靠近滚槽的变化。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述托梁和托杆的数量为两个且分别为平行设置，所述限位轴的数量为两个且为平行分布，两个所述限位轴之间设置有定位杆，所述推杆上套设有滚套。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述对接梁为门型结构且其开口端和触发辊转动连接，且转动轴线和限位轴的滑动方向垂直，两个所述限位轴均在同一水平面上。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述托架上设置有位于托梁一端的立式门型架，该立式门型架上的两个立板的一侧分别和两个托梁的一端转动连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述托架上设置有和托梁另一端连接的定位套，所述定位套的外周壁固定设置有限位轴滑动配合的导向套。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述托梁两端分别与定位套和立板的一侧转动连接，所述定位套的另一端固定设置有一个横梁，该横梁上设置有用于控制两个托梁同步对向或者反向旋转的驱动机构。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述托杆的底部弹性滑动设置和触发辊配合使用的触发架，该触发架上设置挡杆，所述托杆上开设有和挡杆间隙配合的让位孔，所述托杆为楔形结构且斜面朝上，所述挡杆为竖直设置且位于让位孔内。

一种镭射转移膜生产方法，包括以下步骤：

步骤一)将前进料部分别与涂布机、镭射设备和真空镀铝设备对接，使用涂布机、镭射设备和真空镀铝设备上的压辊对转移膜进行放卷；

步骤二)使用涂布机对前进料部上的转移膜进行涂布处理，涂布后冷却时，转移膜依次进行第一级冷却、第二级冷却和第三级冷却，第一级冷却采用TPX冷却，TPX的厚度为30-35微米，第二冷却采用纳米光子冷却，纳米光子厚度为12-18微米，第三冷却采用水冷；

步骤三)利用激光全息对前进料部上的转移膜进行压纹处理；

步骤四)使用真空镀铝设备对前进料部上的转移膜进行真空镀铝。

作为上述技术方案的进一步描述：

在第一冷却辊上涂有TPX塑料层，第一冷却辊上的出膜温度控制在88±5°，在第二冷却辊上涂有纳米光子层，第二冷却辊出膜温度控制在63±5。

作为上述技术方案的进一步描述：

控制转移膜卷辊的辊轴由滚槽托举后在未放卷前旋转，旋转速度在300-450r/min内，旋转时间1-2min，控制转移膜辊轴轴向位移在2-4mm范围内，超出此范围时对托梁进行调平。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：

1、本发明中，设置前进料部，前进料部上设置托架、托杆、托梁、触发辊和对接梁，将待对接的转移膜卷绕辊搭在托杆上后，通过控制对接梁旋转就可以将转移膜卷绕辊接收并转移至托梁上的滚槽内，其中设置的限位轴在上述转移过程中具有自动开启滚槽和关闭滚槽的功能，起到对转移膜卷绕辊限位的作用，进而不仅大大提高了生产效率，而且降低了劳动强度。

2、本发明中，设置横梁，横梁上设置定位套，定位套和托梁转动连接，设置用于控制托梁相对横梁旋转的驱动机构，当托梁旋转至滚槽的开口处于水平且其开口朝内时，使用完毕的转移膜辊轴会自行脱离滚槽，方便下一转移膜卷绕辊的上料。

3、本发明中，设置触发架，触发辊在向下运动时，会首先和触发架接触，托杆上设置斜面，触发架被推动后托杆斜面上放置的转移膜卷绕辊会直接滚动对接梁上转接槽内，简单的说就是无需操作人员控制转移膜卷绕辊的释放，提高上料的安全性。

4、本发明中，涂布冷却时采用三级冷却，第一级冷却采用TPX冷却，第二冷却采用纳米光子冷却，第三机冷却采用水冷，TPX和纳米光子分别包裹在第一冷却辊和第二冷却辊的外周壁上，TPX利用其热反射功能可以加速转移膜上的热量向外转移，处于非接触式冷却，纳米光子在冷却的同时进一步将通过TPX冷却后的转移膜进行二次热转移，此种梯度式冷却方式可以大大提高冷却效率，而且不会出现因温度降低带来的涂胶层冷缩的变化。

附图说明

图1为本发明提出的一种镭射转移膜生产装置的前进料部的结构示意图；

图2为本发明提出的一种镭射转移膜生产装置的图1主视图的结构示意图；

图3为本发明提出的一种镭射转移膜生产装置的立式门型架、对接梁、触发辊、限位轴和托梁详细配合的结构示意图；

图4为本发明提出的一种镭射转移膜生产装置的触发架和托杆配合的结构示意图。

图例说明：

1、前进料部；2、托架；21、托杆；212、让位孔；22、托梁；221、滚槽；23、限位轴；231、推杆；2311、滚套；232、定位杆；24、触发辊；25、对接梁；251、转接槽；26、立式门型架；261、立板；27、定位套；271、横梁；272、导向套；28、触发架；281、挡杆；3、驱动机构。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1

请参阅图1至图3，一种镭射转移膜生产装置，包括前进料部1，前进料部1的作用是用来固定转移膜卷辊，也就是说在单独进行涂布，镭射和真空镀铝时，转移膜由前进进料部1上的转移膜卷辊旋转提供，本申请的技术方案时对前进料部1进行创新，该前进料部1上设置有托架2，托架2上设置有托杆21和位于托杆21下方的托梁22，托杆21用来托举待安装的转移膜卷辊，也就是说转移膜卷辊的辊轴搭在托杆21上，该托梁22的上端开设滚槽221，滚槽221的作用是和转移膜辊轴对接，滚槽221内设置若干支撑滚轮(图中未示出)，托架2上设置有弹性滑动连接的限位轴23且滑动方向位和托梁22的长度方向相同，该限位轴23位于滚槽221的上方，此限位轴23起到防止转移膜辊轴离开滚槽221的作用，托架2上设置有触发辊24和对接梁25，对接梁25的一端和托架2转动连接且其上开设有转接槽251，也就是说，托杆21上的转移膜辊轴可以滚入转接槽251内，整个对接梁25向下转动时可以将转移膜辊轴送至滚槽221内，触发辊24转动设置在对接梁25的另一端，限位轴23上设置有推杆231，触发辊24起到推动推杆231的作用，进而可以推动限位轴23，使得真个滚槽221的开口处显露出，具体的是托梁22和托杆21的数量为两个且分别为平行设置，限位轴23的数量为两个且为平行分布，两个限位轴23之间设置有定位杆232，推杆231上套设有滚套2311，进一步的对接梁25为门型结构且其开口端和触发辊24转动连接，且转动轴线和限位轴23的滑动方向垂直，两个限位轴23均在同一水平面上，进一步的托架2上设置有和托梁22另一端连接的定位套27，定位套27的外周壁固定设置有限位轴23滑动配合的导向套272，由此当对接梁25转动时，触发辊24呈现继续推动推杆231上的滚套2311并使得限位轴23滑动的过程中，限位轴23呈远离滚槽221的变化，此时转接槽251呈靠近滚槽221的变化。

实施例2

请参阅图3，和实施例1的区别为托架2上设置有位于托梁22一端的立式门型架26，该立式门型架26上的两个立板261的一侧分别和两个托梁22的一端转动连接，托梁22两端分别与定位套27和立板261的一侧转动连接，定位套27的另一端固定设置有一个横梁271，该横梁271上设置有用于控制两个托梁22同步对向或者反向旋转的驱动机构3，具体的是将托梁22的一端固定焊接一个贯穿定位套27的传动轴，然后在横梁271的一侧转动连接驱动齿轮和滑动连接两个相对驱动齿轮轴线周向对称分布的齿条，齿条和传动轴啮合，当使用外部的去驱动电机控制驱动齿轮旋转时就可以带动两个托梁22同步对向或者反向旋转，此种设置的目的是方便使用完的转移膜辊轴由滚槽221自动脱落。

实施例3

请参阅图2和图4，与实施例1和实施例2的区别为托杆21的底部弹性滑动设置和触发辊24配合使用的触发架28，在触发架28和托杆21之间设置一个复位弹簧，该触发架28上设置挡杆281，托杆21上开设有和挡杆281间隙配合的让位孔212，托杆21为楔形结构且斜面朝上，挡杆281为竖直设置且位于让位孔212内，挡杆281的作用是将转移膜卷辊辊轴阻挡在挡杆281的一侧，当触发辊24向下转动碰触到触发架28后，挡杆281会沿着托杆21底部横向滑动，由于托杆21上斜面的作用，挡杆281不再和上述辊轴接触，此时辊轴会沿着斜面向下滚动至转接槽251内，具有自动自动补料的作用。

实施例4

一种镭射转移膜生产方法，包括以下步骤：

步骤一)将前进料部1分别与涂布机、镭射设备和真空镀铝设备对接，由前进料部承载转移膜卷辊，并将转移膜导入涂布机、镭射设备和真空镀铝设备中的挤压辊内，需要注意的是，分别与涂布机、镭射设备和真空镀铝设备对应的转移膜卷辊对应的转移膜状态不同，其中控制转移膜卷辊的辊轴由滚槽221托举后在未放卷前旋转，控制旋转的方式采用手动拨动，然后利用激光测速仪对转移膜卷辊旋转测速，旋转速度在300-450r/min内，优选的是340r/min，旋转时间1-2min，优选的是1min，此种方法是为了检测在滚槽内旋转的转移膜卷旋转的稳定性，提高转移膜放卷时的精度，具体就是不会出现转移膜出现倾斜拉应力的现象出现，进而不会出现变形的现象；另外当转移膜卷辊的辊轴由滚槽221托举并旋转时，还可以控制转移膜辊轴轴向位移在2-4mm范围内，依次也可以判断转移膜卷旋转的稳定性，为后续放卷旋转提供保障，超出此范围时对托梁22进行调平，使用调平仪对两个托梁22进行水平调平；

步骤二)使用涂布机对前进料部1上的转移膜进行涂布处理，具体是将带有基膜的卷绕辊向涂布机内的压辊机构送料，然后其内的涂布设备进行涂胶处理，涂胶完毕后进行烘干处理，烘干处理后的涂布转移膜再进行冷却处理，涂布后冷却时，转移膜依次进行第一级冷却、第二级冷却和第三级冷却，第一级冷却采用TPX冷却，TPX的厚度为30-35微米，具体的是在第一冷却辊上涂有TPX塑料层，第一冷却辊上的出膜温度控制在88±5°，第一冷却辊利用TPX层将转移膜上的热辐射快速向冷却箱内传输，加速转移膜上的热量转移，脱离第一冷却辊的转移膜的温度通过激光测温器检测，依次标准来控制第一冷却辊旋转的转速，第二冷却采用纳米光子冷却，纳米光子厚度为12-18微米，具体的是在第二冷却辊上涂有纳米光子层，纳米光子层内含有15-28％的石英和7-13％的氧化铪，此种不仅可以冷却而且还可以加速经过TPX冷却后的转移膜热量的转移，第二冷却辊出膜温度控制在63±5度，第三冷却采用水冷，水冷后的转移控制在30±5度，采用阶段性冷却的方式可以降低涂胶层因传统水冷带来的冷却效率低的问题，而且涂胶层不会出现因冷缩出现变形的现象，冷却后的转移膜会被重新卷绕；

步骤三)利用激光全息对前进料部1上的转移膜进行压纹处理，具体是将步骤二中烘干处理的带有胶层的涂布转移膜卷辊对镭射设备进行送料，然后利用激光全息辊对转移膜进行膜压镭射，然后对镭射后的转移膜进行冷却卷绕；

步骤四)使用真空镀铝设备对前进料部1上的转移膜进行真空镀铝，具体是将镭射后的转移膜放置在真空环境中的前进料部1上并向真空镀铝设备的真空腔内送料，真空镀铝设备对镭射后的转移膜进行镀铝处理。

工作原理：本前进料部1在使用时，将转移膜卷辊的辊轴搭在托杆21上，在其上斜面的作用下，转移膜卷辊和被挡杆281阻挡，然后在立板261的一侧安装驱动电机，驱动电机的输出轴和对接梁25的非开口端固定连接，驱动电机旋转时可以带动对接梁25旋转，当触发辊24由上向下摆动时会碰触到图示结构的触发架28时，触发架28会沿着托杆21滑动，此时转移膜卷辊会脱离挡杆281然后向下滑动至转接槽251内，随着对接梁25持续向下摆动，触发辊24会碰触到滚套2311，此时会间接带动限位轴23向后方运动，整个滚槽221显露出，此时转接槽251内的辊轴搭在滚槽221内，随着对接梁25的继续旋转，整个转移膜卷辊会全部由滚槽221支撑，然后可以进行下一步加工。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种镭射转移膜生产装置，包括前进料部（1），该前进料部（1）上设置有托架（2），其特征在于，所述托架（2）上设置有托杆（21）和位于托杆（21）下方的托梁（22），该托梁（22）的上端开设滚槽（221），所述托架（2）上设置有弹性滑动连接的限位轴（23）且滑动方向位和托梁（22）的长度方向相同，该限位轴（23）位于滚槽（221）的上方，所述托架（2）上设置有触发辊（24）和对接梁（25），所述对接梁（25）的一端和托架（2）转动连接且其上开设有转接槽（251），所述触发辊（24）转动设置在对接梁（25）的另一端，所述限位轴（23）上设置有推杆（231），当对接梁（25）转动时，触发辊（24）呈现继续推动推杆（231）并使得限位轴（23）滑动的过程中，限位轴（23）呈远离滚槽（221）的变化，此时转接槽（251）呈靠近滚槽（221）的变化。

2.根据权利要求1所述的一种镭射转移膜生产装置，其特征在于，所述托梁（22）和托杆（21）的数量为两个且分别为平行设置，所述限位轴（23）的数量为两个且为平行分布，两个所述限位轴（23）之间设置有定位杆（232），所述推杆（231）上套设有滚套（2311）。

3.根据权利要求2所述的一种镭射转移膜生产装置，其特征在于，所述对接梁（25）为门型结构且其开口端和触发辊（24）转动连接，且转动轴线和限位轴（23）的滑动方向垂直，两个所述限位轴（23）均在同一水平面上。

4.根据权利要求3所述的一种镭射转移膜生产装置，其特征在于，所述托架（2）上设置有位于托梁（22）一端的立式门型架（26），该立式门型架（26）上的两个立板（261）的一侧分别和两个托梁（22）的一端转动连接。

5.根据权利要求1所述的一种镭射转移膜生产装置，其特征在于，所述托架（2）上设置有和托梁（22）另一端连接的定位套（27），所述定位套（27）的外周壁固定设置有限位轴（23）滑动配合的导向套（272）。

6.根据权利要求4所述的一种镭射转移膜生产装置，其特征在于，所述托梁（22）两端分别与定位套（27）和立板（261）的一侧转动连接，所述定位套（27）的另一端固定设置有一个横梁（271），该横梁（271）上设置有用于控制两个托梁（22）同步对向或者反向旋转的驱动机构（3）。

7.根据权利要求4所述的一种镭射转移膜生产装置，其特征在于，所述托杆（21）的底部弹性滑动设置和触发辊（24）配合使用的触发架（28），该触发架（28）上设置挡杆（281），所述托杆（21）上开设有和挡杆（281）间隙配合的让位孔（212），所述托杆（21）为楔形结构且斜面朝上，所述挡杆（281）为竖直设置且位于让位孔（212）内。

8.一种镭射转移膜生产方法，其特征在于，使用如权利要求1-7任一所述的生产装置，包括以下步骤：

步骤一）将前进料部（1）分别与涂布机、镭射设备和真空镀铝设备对接，使用涂布机、镭射设备和真空镀铝设备上的压辊对转移膜进行放卷；

步骤二）使用涂布机对前进料部（1）上的转移膜进行涂布处理，涂布后冷却时，转移膜依次进行第一级冷却、第二级冷却和第三级冷却，第一级冷却采用TPX冷却，TPX的厚度为30-35微米，第二级冷却采用纳米光子冷却，纳米光子厚度为12-18微米，第三级冷却采用水冷；在第一级冷却辊上涂有TPX塑料层，第一级冷却辊上的出膜温度控制在88±5°，在第二级冷却辊上涂有纳米光子层，纳米光子层内含有15-28%的石英和7-13%的氧化铪，第二级冷却辊出膜温度控制在63±5°；

步骤三）利用激光全息对前进料部（1）上的转移膜进行压纹处理；

步骤四）使用真空镀铝设备对前进料部（1）上的转移膜进行真空镀铝。

9.根据权利要求8所述一种镭射转移膜生产方法，其特征在于，控制转移膜卷辊的辊轴由滚槽（221）托举后在未放卷前旋转，旋转速度在300-450r/min内，旋转时间1-2min，控制转移膜辊轴轴向位移在2-4mm范围内，超出此范围时对托梁（22）进行调平。

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