CN115178435B - 一种自动化晶圆涂胶机 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种自动化晶圆涂胶机，包括：工作台、涂胶机构、烘干机构、遮挡机构和传送机构，所述涂胶机构和所述烘干机构沿所述工作台的长度方向依次设置，所述涂胶机构、所述烘干机构、所述遮挡机构和所述传送机构均设置于所述工作台上，所述涂胶机构用于对晶圆进行涂胶，所述烘干机构用于对晶圆进行烘干，所述传送机构用于将所述涂胶机构上的晶圆转移至所述烘干机构上，所述遮挡机构可操作地遮挡于所述涂胶机构与所述传送机构之间。可以实现对大批量的晶圆进行全自动的涂胶和烘干等处理工序，并且能够实现对晶圆的稳定运送，且不会对晶圆表面的涂胶部分造成不良影响；本涂胶机整体布局合理，进一步提高晶圆的涂胶效率，保障了晶圆的涂胶质量。

Description

一种自动化晶圆涂胶机

技术领域

本发明涉及集成电路制造技术领域，尤其涉及一种自动化晶圆涂胶机。

背景技术

一般，在对半导体器件进行生产制造的过程中往往需要使用光刻工艺来实现对半导体器件的精细化加工，而在具体地光刻过程中，需要对晶圆进行相应的光刻胶涂覆、曝光和显影等步骤的处理。其中，光刻胶涂覆过程中，其涂胶质量的好坏也直接影响着晶圆产品的产品质量，现有的涂覆操作过程中往往会配合使用相应的涂胶机于晶圆承载台上完成对晶圆表面的涂胶和洗边等处理。但随着企业生产需求的不断增加，现有的涂胶机难以满足对批量化的晶圆进行高效且优质的光刻胶涂覆作业；并且，现有的涂胶机中各个功能部件的整体布置也不够合理，不易进行定期的维护和清洁作业，且难以保障完成涂覆作业的晶圆产品的最终质量。

发明内容

有鉴于此，为解决上述问题，本发明的目的在于提供一种自动化晶圆涂胶机，包括：工作台、涂胶机构、烘干机构、遮挡机构和传送机构，所述涂胶机构和所述烘干机构沿所述工作台的长度方向依次设置，所述涂胶机构、所述烘干机构、所述遮挡机构和所述传送机构均设置于所述工作台上，所述涂胶机构用于对晶圆进行涂胶，所述烘干机构用于对晶圆进行烘干，所述传送机构用于将所述涂胶机构上的晶圆转移至所述烘干机构上，所述遮挡机构可操作地遮挡于所述涂胶机构与所述传送机构之间；

在另一个优选的实施例中，所述传送机构包括：两移动装置、两升降装置和两吸附条，两所述移动装置分别安装于所述工作台的上表面的两侧，两所述升降装置分别安装于两所述移动装置上，每一所述移动装置均用于驱动一所述升降装置沿所述工作台的长度方向移动，两所述吸附条分别安装于两所述升降装置上，每一所述升降装置均用于驱动一所述吸附条的上下移动，每一所述吸附条的长度方向均与所述工作台的长度方向平行设置，每一所述吸附条上均沿长度方向至少设置有两第一真空吸嘴，且每一所述第一真空吸嘴均具有沿竖直方向的弹性形变。

在另一个优选的实施例中，所述吸附条内设置有吸气通道，每一所述第一真空吸嘴均与所述吸气通道连接，每一所述第一真空吸嘴均包括：连接头、柔性嘴和伸缩节，所述柔性嘴、所述伸缩节和所述连接头由上至下依次连接，所述伸缩节具有沿竖直方向的弹性形变，所述柔性嘴的上端可操作地与晶圆相抵，所述连接头的下端与所述吸附条连接。

在另一个优选的实施例中，所述涂胶机构包括：支撑座、旋转盘、胶供给装置和喷胶头，所述支撑座安装于所述工作台上，所述旋转盘可转动地安装于所述支撑座上，所述胶供给装置的输出端与所述喷胶头连接，所述喷胶头设置于所述旋转盘的上方，所述晶圆可操作地放置于所述旋转盘上，所述旋转盘的外径小于晶圆的外径，所述喷胶头的输出端可操作地正对所述晶圆的中心位置设置。

在另一个优选的实施例中，所述涂胶机构还包括：洗边液供给装置和洗边喷头，所述洗边液供给装置的输出端与所述洗边喷头连接，所述洗边喷头设置于所述旋转盘的上方，所述洗边喷头的输出端可操作地朝向所述晶圆的边缘设置。

在另一个优选的实施例中，所述旋转盘上设置有若干第二真空吸嘴，所述第二真空吸嘴可操作地与所述晶圆相抵设置。

在另一个优选的实施例中，所述遮挡机构包括：两支架、两驱动装置和两挡件，两所述支架分别设置于所述工作台的两侧，两所述驱动装置分别安装于两所述支架上，两所述挡件分别安装于两所述驱动装置上，每一所述驱动装置均用于驱动所述挡件移动至所述吸附条的上方，每一所述挡件均可操作地遮挡于所述吸附条与所述旋转盘之间。

在另一个优选的实施例中，每一所述挡件均包括：侧挡板和斜挡板，当所述挡件遮挡于所述吸附条和所述旋转盘之间时，所述侧挡板沿竖直方向设置，所述斜挡板相对于水平方向呈倾斜设置，所述斜挡板的较低的一侧与所述侧挡板的下侧连接，所述斜挡板的较高的一侧朝向靠近所述旋转盘的底部的方向延伸设置，所述斜挡板设置于所述吸附条的上方，所述斜挡板的较高的一侧设置于所述旋转盘的下方。

在另一个优选的实施例中，还包括：废液槽和导出管，所述侧挡板与所述斜挡板之间形成有一凹槽，所述导出管的一端与所述凹槽的底部连通设置，所述导出管的另一端设置于所述废液槽内。

在另一个优选的实施例中，还包括：位置检测装置，所述位置检测装置设置于所述涂胶机构的上方，所述晶圆的一侧形成有一定位边，所述位置检测装置用于检测所述定位边的位置。

在另一个优选的实施例中，所述位置检测装置包括：检测相机和标记件，所述检测相机设置于所述涂胶机构的上方，所述标记件上设置有两十字形标记，所述标记件靠近所述支撑座设置。

本发明由于采用了上述技术方案，使之与现有技术相比具有的积极效果是：通过对本发明的应用，可以实现对大批量的晶圆进行全自动的涂胶和烘干等处理工序，并且能够实现对晶圆的稳定运送，且不会对晶圆表面的涂胶部分造成不良影响；本涂胶机整体布局合理，可进一步提高晶圆的涂胶效率，保障了晶圆的涂胶质量。

附图说明

图1为本发明的一种自动化晶圆涂胶机的内部结构示意图；

图2为本发明的一种自动化晶圆涂胶机的遮挡机构配合示意图；

图3为本发明的一种自动化晶圆涂胶机的挡件配合示意图；

图4为本发明的一种自动化晶圆涂胶机的位置检测装置检测示意图；

图5为本发明的一种自动化晶圆涂胶机的存片盒的晶圆取出示意图。

附图中： 1、工作台；2、涂胶机构；3、烘干机构；4、遮挡机构；5、传送机构；6、晶圆；51、移动装置；52、升降装置；53、吸附条；54、第一真空吸嘴；21、支撑座；22、旋转盘；23、胶供给装置；24、喷胶头；25、洗边液供给装置；26、洗边喷头；41、支架；42、驱动装置；43、挡件；431、侧挡板；432、斜挡板；44、废液槽；45、导出管；7、位置检测装置；61、定位边；71、检测相机；72、标记件；73、十字形标记；31、上烘干罩；32、下烘干台；8、存片盒；81、盒体；82、支撑板；83、定位板；9、封闭式工作箱；91、箱门；92、上吹扫机构；93、下吹扫机构；94、控制面板；95、提示灯。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明，但不作为本发明的限定。

如图1和图2所示，示出一种较佳实施例的自动化晶圆涂胶机，包括：工作台1、涂胶机构2、烘干机构3、遮挡机构4和传送机构5，涂胶机构2和烘干机构3沿工作台1的长度方向依次设置，涂胶机构2、烘干机构3、遮挡机构4和传送机构5均设置于工作台1上，涂胶机构2用于对晶圆6进行涂胶，烘干机构3用于对晶圆6进行烘干，传送机构5用于将涂胶机构2上的晶圆6转移至烘干机构3上，遮挡机构4可操作地遮挡于涂胶机构2与传送机构5之间；其中，传送机构5包括：两移动装置51、两升降装置52和两吸附条53，两移动装置51分别安装于工作台1的上表面的两侧，两升降装置52分别安装于两移动装置51上，每一移动装置51均用于驱动一升降装置52沿工作台1的长度方向移动，两吸附条53分别安装于两升降装置52上，每一升降装置52均用于驱动一吸附条53的上下移动，每一吸附条53的长度方向均与工作台1的长度方向平行设置，每一吸附条53上均沿长度方向至少设置有两第一真空吸嘴54，且每一第一真空吸嘴54均具有沿竖直方向的弹性形变。进一步地，在本发明的实际使用过程中，只需对本传送机构5进行合理控制即可实现对晶圆6在各个工序间的全程稳定输送，具体地说，通过传送机构5可将晶圆6移动至涂胶机构2，待晶圆6的表面完成光刻胶涂覆后，再由涂胶机构2移动至烘干机构3对晶圆6进行烘干，最后由烘干机构3移动至本系统的末端；尤其是对于表面并不完全平齐的部分晶圆6而言，涂胶机构2的两移动装置51可带动升降装置52移动至涂胶机构2或烘干机构3处，升降装置52带动吸附条53进行竖直方向的移动，直至吸附条53靠近晶圆6的下表面且第一真空吸嘴54与晶圆6的下表面相抵且吸附，从而形成对晶圆6的吸附，并且当第一真空吸嘴54与晶圆6接触时，各个第一真空吸嘴54的上端均与晶圆6的底面相适配，如果晶圆6的底面存在有不平齐的情况时，受晶圆6自身的重力作用各个第一真空吸嘴54自然进行相应的竖直方向的弹性形变，以确保每一第一真空吸嘴54均能与晶圆6形成吸附接触，然后，升降装置52继续带动吸附条53向上将晶圆6顶起，移动装置51即可带动升降装置52和吸附条53使得晶圆6进行移动。

进一步，作为一种较佳的实施例，移动装置51可为移动小车或其他任意可以实现沿工作台1的长度方向进行移动的直线移动装置51；升降装置52可为任意可以实现沿竖直方向进行移动的直线升降装置52。

进一步，作为一种较佳的实施例，每一吸附条53的上表面的中部可设置有距离传感器，距离传感器的检测端竖直向上设置，距离传感器用于检测吸附条53与晶圆6之间的距离。进一步地，通过吸附条53的距离传感器的数据可以便于工作人员对吸附条53的位置及工作状态进行判断。

进一步，作为一种较佳的实施例，工作台1上沿宽度方向设置有若干卡接位，移动装置51可拆卸地安装于卡接位处。进一步地，通过安装的卡接位的不同，可以使得两移动装置51的间距不同，进而调整两吸附条53的间距从而适配于不同尺寸的晶圆6，具体地，卡接位可为任何能够对移动装置51的固定部分进行限位的安装结构。

进一步，作为一种较佳的实施例，吸附条53内设置有吸气通道，每一第一真空吸嘴54均与吸气通道连接，每一第一真空吸嘴54均包括：连接头、柔性嘴和伸缩节，柔性嘴、伸缩节和连接头由上至下依次连接，伸缩节具有沿竖直方向的弹性形变，柔性嘴的上端可操作地与晶圆6相抵，连接头的下端与吸附条53连接。进一步地，伸缩节被配置为只可进行竖直方向弹性变形的部分，当柔性嘴与晶圆表面接触后，受晶圆的重力影响，原本处在伸长状态的伸缩节会自然而然地产生一定量的竖直变形压缩，从而保证与晶圆的适配；另外，吸附条53可与相应的吸气装置连接，吸气装置通过管路与吸气通道连接，且应控制第一真空吸嘴54处的吸力，具体地说第一真空吸嘴54处的吸力应使得第一真空吸嘴54与晶圆6恰好形成稳定地吸附，且不会因为该吸力使得第一真空吸嘴54发生轴向的弹性形变。

进一步，作为一种较佳的实施例，涂胶机构2包括：支撑座21、旋转盘22、胶供给装置23和喷胶头24，支撑座21安装于工作台1上，旋转盘22可转动地安装于支撑座21上，胶供给装置23的输出端与喷胶头24连接，喷胶头24设置于旋转盘22的上方，晶圆6可操作地放置于旋转盘22上，旋转盘22的外径小于晶圆6的外径，喷胶头24的输出端可操作地正对晶圆6的中心位置设置。进一步地，旋转盘22带动晶圆6做旋转，且同时使得胶供给装置23开始工作，通过喷胶头24对晶圆6进行滴胶。

进一步，作为一种较佳的实施例，涂胶机构2还包括：洗边液供给装置25和洗边喷头26，洗边液供给装置25的输出端与洗边喷头26连接，洗边喷头26设置于旋转盘22的上方，洗边喷头26的输出端可操作地朝向晶圆6的边缘设置。进一步地，在上述的滴胶工作完成后启动洗边液供给装置25对洗边喷头26进行洗边液进行供给，从而对晶圆6的边缘处进行洗边处理。

进一步，作为一种较佳的实施例，旋转盘22上设置有若干第二真空吸嘴，第二真空吸嘴可操作地与晶圆6相抵设置。进一步地，在旋转盘22进行工作时，第二真空吸嘴开始工作以形成对旋转盘22与晶圆6之间的吸附式固定，当结束涂胶和洗边操作后，第二真空吸嘴停止工作。

进一步，作为一种较佳的实施例，遮挡机构4包括：两支架41、两驱动装置42和两挡件43，两支架41分别设置于工作台1的两侧，两驱动装置42分别安装于两支架41上，两挡件43分别安装于两驱动装置42上，每一驱动装置42均用于驱动挡件43移动至吸附条53的上方，每一挡件43均可操作地遮挡于吸附条53与旋转盘22之间。进一步地，驱动装置42用于驱动挡件43进行移动，该移动可为旋转或平移或两者的结合，以使得挡件43处于合适的位置处，尤其是为了进一步缩小整个系统的占用空间时，随着吸附条53与旋转盘22之间的缝隙减小，应使得驱动装置42带动挡件43以适宜的角度伸入。

进一步，作为一种较佳的实施例，每一挡件43均包括：侧挡板431和斜挡板432，当挡件43遮挡于吸附条53和旋转盘22之间时，侧挡板431沿竖直方向设置，斜挡板432相对于水平方向呈倾斜设置，斜挡板432的较低的一侧与侧挡板431的下侧连接，斜挡板432的较高的一侧朝向靠近旋转盘22的底部的方向延伸设置，斜挡板432设置于吸附条53的上方，斜挡板432的较高的一侧设置于旋转盘22的下方。进一步地，斜挡板432主要参与对吸附条53的上方的遮挡，侧挡板431主要参与对旋转盘22旋转时晶圆6上溅出的液体进行阻拦。

进一步，作为一种较佳的实施例，如图3所示，为本发明的挡件43的一种实施例，即两挡件43采用半环形结构，具体地说，每一挡件43的侧挡板431和斜挡板432均呈半圆环板体结构，且斜挡板432设置于侧挡板431的内侧，斜挡板432与侧挡板431同心设置，两挡件43可操作地相互靠近并闭合形成一圆环，圆环的内侧的下部形成有一容置口，该容置口由两挡件43的斜挡板432的上缘组合而成，且该容置口的内径小于晶圆6的外径。

进一步，作为一种较佳的实施例，每一挡件43上还设置有一半环形吹气管，半环形吹气管设置于上述的容置口处，半环形吹气管上设置有若干吹气嘴，每一吹气嘴的轴线方向均向外且向上并朝向晶圆6的底面的边缘处设置，以防止晶圆6表面的液体流至下表面的边缘处并堆积，同时也形成了对旋转盘22的表面的保护。

进一步，作为一种较佳的实施例，还包括：废液槽44和导出管45，侧挡板431与斜挡板432之间形成有一凹槽，导出管45的一端与凹槽的底部连通设置，导出管45的另一端设置于废液槽44内。进一步地，当液体由旋转的晶圆6的表面甩出后溅落至侧挡板431和斜挡板432上，并最终进入上述的凹槽处，并通过导出管45导出至废液槽44进行集中收集处理。

进一步，作为一种较佳的实施例，还包括：排液阀，排液阀安装于导出管45靠近凹槽的一端，优选地，可设置两废液槽44和两导出管45，且两导出管45的另一端均与凹槽连通，两导出管45的一端分别设置有两排液阀，从而使得根据排液阀的控制可实现对胶液和洗边液的分别收集，从而便于后期处理。

进一步，作为一种较佳的实施例，还包括：位置检测装置7，位置检测装置7设置于涂胶机构2的上方，晶圆6的一侧形成有一定位边61，位置检测装置7用于检测定位边61的位置。进一步，通过位置检测装置7用于确认晶圆6的位置以确保传送机构5的吸附条53能够与晶圆6的指定位置进行吸附接触，具体地说，在旋转盘22完成工作后应转动至使得定位边61的延长线与工作台1的宽度方向平行，以使得晶圆6的较宽的两侧分别靠近两吸附边，且定位边61朝向移动的方向设置。

进一步，作为一种较佳的实施例，位置检测装置7包括：检测相机71和标记件72，检测相机71设置于涂胶机构2的上方，标记件72上设置有两个十字形标记73，标记件72靠近支撑座21设置。进一步地，如图4所示，检测相机71的摄像端竖直向下并朝向标记件72，检测相机71用于检测十字形标记73的状态，即只有检测相机71检测到十字形标记73被部分遮挡且呈T字形的标记时，则说明此时晶圆6的定位边61与工作台1的宽度方向平行，晶圆处于可进行下一步操作的角度位置；当检测相机71检测到完整的十字形标记73或检测不到标记或检测到非T字形的标记时则说明旋转盘22上没有放置晶圆6或晶圆6位置出现较大偏差，应通过旋转盘22旋转晶圆6进行调整，直到显示为两个T字形标记位置，如果旋转一周后仍未出现T字形标记，则系统应提醒工作人员进行检查；此外，检测相机71还可用于对晶圆6表面的涂胶以及洗边状况进行观察。

以上所述仅为本发明较佳的实施例，并非因此限制本发明的实施方式及保护范围。

本发明在上述基础上还具有如下实施方式：本发明的进一步实施例中，烘干机构3包括：上烘干罩31和下烘干台32，所述上烘干罩31设置于下烘干台32的上方，所述上烘干罩31与下烘干台32之间可操作地相互靠近，上烘干罩31和下烘干台32内均设置有烘干组件。进一步地，晶圆6可操作地通过传送机构5移动至下烘干台32上，下烘干台32的外径小于晶圆6的外径，上烘干罩31或下烘干台32上设置有一升降组件，上烘干罩31向下或下烘干台32向上移动使得晶圆6移动至上烘干罩31的内侧，同时多个烘干组件开始工作以对晶圆6进行烘干，上述的烘干组件可为加热件或其他用于对晶圆6进行烘干的装置，同时，上烘干罩31的外壁和下烘干台32的底部均可设置有保温层，以减少烘干机构3工作时产生的温度变化对涂胶工作的影响，也可设置相应的隔离电动门对涂胶机构2和烘干机构3之间进行可选择的相对隔离。

本发明的进一步实施例中，还包括：封闭式工作箱9和两箱门91，所述封闭式工作箱9罩设于工作台1上，封闭式工作箱9的内部与工作台1的上表面之间形成一相对封闭的空间，两箱门91分别设置于封闭式工作箱9的两端。进一步地，尽量减少涂胶烘干过程中晶圆6与外界的接触，从而确保晶圆6表面保持清洁。

本发明的进一步实施例中，还包括：两存片盒8，两存片盒8分别设置于工作台1的两端，两存片盒8分别正对两箱门91设置，两存片盒8均用于存放若干晶圆6。

本发明的进一步实施例中，存片盒8包括：盒体81、支撑板82和定位板83。进一步地，如图5所示，以靠近涂胶机构2的存片盒8为例，盒体81内由上至下的设置有若干支撑板82，每一支撑板82上均设置有一定位板83，定位板83可操作地与晶圆6的定位边61相抵，且支撑板82的两侧分别与盒体81的内部具有一定间隔。进一步地，传送机构5的两吸附条53可操作地由下至上的伸入盒体81内，并将最下面的一个晶圆6片从支撑板82上顶起并由相邻的支撑板82之间的缝隙中取出。

本发明的进一步实施例中，还包括：放置架，存片盒8可操作地放置于放置架上。进一步地，工作人员可以一次性将多片晶圆6放置存片盒8内，并打开箱门91将存片盒8放置于放置架上。

本发明的进一步实施例中，上述的胶供给装置23、洗边液供给装置25和检测相机71均可采用悬挂式安装，即均安装于封闭式工作箱9的内顶部。

本发明的进一步实施例中，还包括：上吹扫机构92和下吹扫机构93，所述上吹扫机构92设置于封闭式工作箱9的内顶部，上吹扫机构92设置于涂胶机构2和相靠近的一存片盒8之间，下吹扫机构93设置于靠近涂胶机构2的存片盒8的下方，存片盒8的下方呈敞开式设置。进一步地，当需要取一片未涂胶的晶圆6时，下吹扫机构93开始工作，下吹扫机构93对存片盒8内最下方的一晶圆6的底部进行由下至上地吹气，以清除污物，便于吸附条53在与晶圆6的底部接触后保持清洁，且当吸附条53带动晶圆6移出存片盒8时，上吹扫机构92对晶圆6进行由上至下的吹气以使得晶圆6需要涂胶的一面保持清洁。

本发明的进一步实施例中，还包括：控制面板94，所述控制面板94设置于所述封闭式工作箱9靠近所述存片盒8的一端。

本发明的进一步实施例中，还包括：提示灯95，所述提示灯95安装于封闭式工作箱9的外顶部。

以上仅为本发明较佳的实施例，并非因此限制本发明的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本发明说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本发明的保护范围内。

Claims (6)

1.一种自动化晶圆涂胶机，其特征在于，包括：工作台、涂胶机构、烘干机构、遮挡机构和传送机构，所述涂胶机构和所述烘干机构沿所述工作台的长度方向依次设置，所述涂胶机构、所述烘干机构、所述遮挡机构和所述传送机构均设置于所述工作台上，所述涂胶机构用于对晶圆进行涂胶，所述烘干机构用于对晶圆进行烘干，所述传送机构用于将所述涂胶机构上的晶圆转移至所述烘干机构上，所述遮挡机构可操作地遮挡于所述涂胶机构与所述传送机构之间；

其中，所述传送机构包括：两移动装置、两升降装置和两吸附条，两所述移动装置分别安装于所述工作台的上表面的两侧，两所述升降装置分别安装于两所述移动装置上，每一所述移动装置均用于驱动一所述升降装置沿所述工作台的长度方向移动，两所述吸附条分别安装于两所述升降装置上，每一所述升降装置均用于驱动一所述吸附条的上下移动，每一所述吸附条的长度方向均与所述工作台的长度方向平行设置，每一所述吸附条上均沿长度方向至少设置有两第一真空吸嘴，且每一所述第一真空吸嘴均具有沿竖直方向的弹性形变；

其中，所述涂胶机构包括：支撑座、旋转盘、胶供给装置和喷胶头，所述支撑座安装于所述工作台上，所述旋转盘可转动地安装于所述支撑座上，所述胶供给装置的输出端与所述喷胶头连接，所述喷胶头设置于所述旋转盘的上方，所述晶圆可操作地放置于所述旋转盘上，所述旋转盘的外径小于晶圆的外径，所述喷胶头的输出端可操作地正对所述晶圆的中心位置设置；

其中，所述遮挡机构包括：两支架、两驱动装置和两挡件，两所述支架分别设置于所述工作台的两侧，两所述驱动装置分别安装于两所述支架上，两所述挡件分别安装于两所述驱动装置上，每一所述驱动装置均用于驱动所述挡件移动至所述吸附条的上方，每一所述挡件均可操作地遮挡于所述吸附条与所述旋转盘之间；两所述挡件均呈半环形结构，两所述挡件可操作地相互靠近并闭合形成一圆环；

还包括：位置检测装置，所述位置检测装置设置于所述涂胶机构的上方，所述晶圆的一侧形成有一定位边，所述位置检测装置用于检测所述定位边的位置；其中，所述位置检测装置包括：检测相机和标记件，所述检测相机设置于所述涂胶机构的上方，所述标记件上设置有两十字形标记，所述标记件靠近所述支撑座设置。

2.根据权利要求1所述的自动化晶圆涂胶机，其特征在于，所述吸附条内设置有吸气通道，每一所述第一真空吸嘴均与所述吸气通道连接，每一所述第一真空吸嘴均包括：连接头、柔性嘴和伸缩节，所述柔性嘴、所述伸缩节和所述连接头由上至下依次连接，所述伸缩节具有沿竖直方向的弹性形变，所述柔性嘴的上端可操作地与晶圆相抵，所述连接头的下端与所述吸附条连接。

3.根据权利要求1所述的自动化晶圆涂胶机，其特征在于，所述涂胶机构还包括：洗边液供给装置和洗边喷头，所述洗边液供给装置的输出端与所述洗边喷头连接，所述洗边喷头设置于所述旋转盘的上方，所述洗边喷头的输出端可操作地朝向所述晶圆的边缘设置。

4.根据权利要求1所述的自动化晶圆涂胶机，其特征在于，所述旋转盘上设置有若干第二真空吸嘴，所述第二真空吸嘴可操作地与所述晶圆相抵设置。

5.根据权利要求1所述的自动化晶圆涂胶机，其特征在于，每一所述挡件均包括：侧挡板和斜挡板，当所述挡件遮挡于所述吸附条和所述旋转盘之间时，所述侧挡板沿竖直方向设置，所述斜挡板相对于水平方向呈倾斜设置，所述斜挡板的较低的一侧与所述侧挡板的下侧连接，所述斜挡板的较高的一侧朝向靠近所述旋转盘的底部的方向延伸设置，所述斜挡板设置于所述吸附条的上方，所述斜挡板的较高的一侧设置于所述旋转盘的下方。

6.根据权利要求5所述的自动化晶圆涂胶机，其特征在于，还包括：废液槽和导出管，所述侧挡板与所述斜挡板之间形成有一凹槽，所述导出管的一端与所述凹槽的底部连通设置，所述导出管的另一端设置于所述废液槽内。

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