CN115132796A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，显示面板包括基板、功能层组、发光元件层和阻隔结构，功能层组包括像素定义层和隔离柱，像素定义层设置于基板的一侧且包括沿厚度方向贯穿像素定义层的多个子像素开口，隔离柱设置于像素定义层背离基板的一侧；发光元件层包括多个发光单元，各发光单元一一对应设置于子像素开口，各发光单元包括位于基板上的第一电极和位于第一电极背离基板一侧的第一载流子层；其中，功能层组包括阻隔结构，阻隔结构包括至少一个第一凹部，第一凹部形成于功能层组中与隔离柱相对应的区域，第一载流子层中的至少部分区域经阻隔结构隔断。本申请提供的显示面板可改善由于横向电流引起发光单元非正常发光的现象，提升显示质量。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本申请属于显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)又称为有机电激光显示或有机发光半导体。OLED显示面板具有驱动电压低、主动发光、视角宽、效率高、响应速度快、易实现全彩色大面积壁挂式显示和柔性显示的许多特点而逐渐取代液晶显示面板(Liquid Crystal Display，LCD)。

随着显示技术的不断发展，对显示面板的亮度、功耗与寿命要求越来越高，新的高效OLED材料与器件开发势在必行。但是高效的OLED材料易使得相邻子像素间具有横向电流，会导致子像素的非正常开启，从而影响显示质量。

发明内容

本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，该显示面板可改善由于横向电流引起发光单元非正常发光的现象，提升显示质量。

本申请实施例第一方面的实施例提供了一种显示面板，包括：

基板；

功能层组，包括像素定义层和隔离柱，像素定义层设置于所述基板的一侧且包括沿厚度方向贯穿所述像素定义层的多个子像素开口，隔离柱设置于所述像素定义层背离所述基板的一侧；

发光元件层，包括多个发光单元，各所述发光单元一一对应设置于所述子像素开口，各所述发光单元包括位于所述基板上的第一电极和第一载流子层，所述第一载流子层位于所述第一电极背离所述基板一侧；

其中，所述功能层组包括阻隔结构，所述阻隔结构包括至少一个第一凹部，所述第一凹部形成于所述功能层组中与所述隔离柱相对应的区域，所述第一载流子层中的至少部分区域经所述阻隔结构隔断。

根据本申请第一方面的实施方式，所述第一凹部包括沿所述隔离柱厚度方向贯穿所述隔离柱的第一开孔；或者，

所述第一凹部沿所述隔离柱厚度方向贯穿所述隔离柱的第一开孔、以及形成于所述像素定义层且与所述第一开孔连通的第一凹槽。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，所述第一凹部在平行于所述基板所在平面的方向上，沿所述子像素开口的侧边设置，所述第一凹部包括相对设置的两个侧壁、以及位于远离所述基板一侧的第一开口，所述第一凹部在所述基板的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面中，所述第一开口的尺寸小于两个所述侧壁之间的最大间距；

所述第一凹部沿所述基板厚度方向的深度为A，所述第一载流子层沿所述基板厚度方向的厚度为a，A＞a；

优选的，所述第一凹部在所述基板的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面中所述第一开口的尺寸为b，1.5μm≤b≤10μm；优选的，沿所述基板的厚度方向，0.5μm≤A≤3μm，所述像素定义层的厚度为d，0.5μm≤d≤2μm，所述隔离柱的高度为h，1μm≤h≤1.5μm；

优选的，所述第一凹部在所述基板的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面为梯形，所述梯形的底角为c，c<90°；或者，所述第一凹部在所述基板的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面的边缘线为弧线；

优选的，所述功能层组采用一种材质制备形成。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，所述第一载流子层包括空穴注入层、空穴传输层和电子阻挡层中的至少一者。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，所述功能层组包括沿所述基板厚度方向层叠设置的第一膜层和第二膜层；

优选的，所述第一凹部包括位于所述第一膜层的第一部分以及位于第二膜层的第二部分，所述第一部分沿所述基板厚度方向的深度大于所述第一载流子层沿所述基板厚度方向的厚度；所述第一凹部沿所述子像素开口的侧边设置，所述第一凹部位于所述第二膜层的部分沿垂直于自身延伸方向的截面中，且在平行于所述基板所在平面的方向上，所述第二部分朝向所述基板的一端的尺寸为L1，所述第一部分中的最大尺寸为L2，L1<L2；沿垂直于自身延伸方向的截面中，两个所述侧壁中位于第二膜层的部分中各个位置之间的间距相等，或者，沿垂直于自身延伸方向的截面中，两个所述侧壁中位于第二膜层的部分之间的间距沿所述基板的厚度方向且由所述基板向所述第一凹部的方向逐渐增大。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，所述阻隔结构包围所述子像素开口设置；或者，

至少部分所述子像素开口周围设置有多个所述阻隔结构，多个所述阻隔结构沿围绕所述子像素开口的方向排列。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，所述阻隔结构在所述基板上的正投影为条状或弧状。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，还包括支撑柱，所述支撑柱设置于所述像素定义层背离所述基板的一侧，所述支撑柱包括位于背离所述基板的一侧的第一表面，所述隔离柱包括位于背离所述基板一侧的第二表面，所述第一表面到所述基板的距离大于所述第二表面到所述基板的距离；

优选的，沿所述基板的厚度方向，所述支撑柱的高度为H，1.3μm≤H≤2μm。

本申请第二方面的实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括：

在基板上形成第一电极；

在所述第一电极背离所述基板的一侧形成第一材料层，所述第一材料层包括与所述第一电极相对应的第一区域、用于形成像素定义层的第二区域、用于形成隔离柱的第三区域；

对所述第一材料层进行第一次图案化工艺，以使所述第一区域形成子像素开口、所述第二区域形成所述像素定义层的第一部分、所述第三区域形成所述像素定义层的第二部分和所述隔离柱，所述像素定义层的第二部分与所述隔离柱层叠设置；

在所述第一材料层背离所述基板一侧形成刻蚀阻挡层，所述刻蚀阻挡层包括用于暴露所述隔离柱中的部分区域的开口；

在所述开口处对所述第一材料层进行第二次图案化工艺，以使所述第三区域形成具有至少一个第一凹部的阻隔结构；

去除所述刻蚀阻挡层；

在所述第一电极背离所述基板的一侧形成第一载流子层，所述第一载流子层中的至少部分区域经所述阻隔结构隔断。

本申请第三方面的实施例还提供了一种显示装置，包括本申请第一方面提供的任意一种显示面板。

本申请提供的显示面板中，阻隔结构包括至少一个第一凹部，第一凹部形成于功能层组中与隔离柱相对应的区域，隔离柱位于像素定义层远离基板的一侧，即隔离柱位于子像素开口之间、阻隔结构也位于子像素开口之间。第一载流子层位于像素定义层背离基板一侧的部分经阻隔结构隔断，从而使得第一载流子层中位于相邻发光单元之间的区域中，至少部分与阻隔结构相对应的区域被阻隔结构隔断。当第一电极中的电流传递至第一载流子层以驱动发光材料层发光时，由于至少部分与阻隔结构相对应的区域被阻隔结构隔断，从而可减少第一载流子层与不同发光单元对应的部分之间的横向电流的传递，减小发光单元误发光的几率，改善不同发光单元之间的串扰问题。同时将第一凹部设置于功能层组中与隔离柱相对应的区域，可通过隔离柱增加第一凹部的深度，使得阻隔结构对第一载流子层的隔断效果更好，从而使得显示面板的显示效果更好。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2是本申请实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；

图3是图2中沿Q-Q’的截面示意图；

图4是本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图5是本申请实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；

图6是图5中沿O-O’的截面示意图；

图7是本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图8是图7的P区域的局部放大图；

图9是本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图10是本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图11是本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图12是本申请实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；

图13是本申请实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；

图14是本申请实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；

图15是本申请实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；

图16是本申请实施例提供的一种显示面板的制备流程图；

图17至图22是本申请实施例提供的一种显示面板的制备过程中的膜层变化示意图；

图23和图24是本申请实施例提供的另一种显示面板的制备过程中的膜层变化示意图；

图25是本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本申请的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请的更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

随着显示技术的发展，对显示面板的亮度、功耗与寿命要求越来越高，因此可采用更高效的OLED材料以提升显示质量。发明人经研究发现，由于OLED显示面板包括第一电极、第二电极以及位于第一电极与第二电极之间的发光层，发光层包括发光材料层和共通层，采用高效的共通层材料可使得子像素的发光性能更好，但是高效的共通层材料会使得相邻子像素之间的横向电流更强。具体地，当一个子像素的驱动电路驱动其发光时，会控制电流通过该子像素的第一电极和第二电极，同时电流会通过共通层向相邻的子像素扩散(即产生横向电流)，从而容易造成相邻的子像素非正常发光。共通层内的横向电流会导致子像素的非正常开启，从而引起色度不纯或者显示不均，严重影响显示效果。基于对上述问题的研究，发明人提供了一种显示面板和显示装置，以改善由于横向电流引起子像素非正常发光的现象，提升显示面板的显示质量。

为了更好地理解本申请，下面结合图1至图25根据本申请实施例的显示面板和显示装置进行详细描述。

请参阅图1，本申请实施例提供了一种显示面板1，包括基板10、功能层组11和发光元件层12。功能层组11包括像素定义层111和隔离柱112，像素定义层111设置于基板10的一侧且包括沿厚度方向贯穿像素定义层111的多个子像素开口1111，隔离柱112设置于像素定义层111背离基板10的一侧。

发光元件层12包括多个发光单元121，多个发光单元121可以至少包括三种颜色的发光单元121，各发光单元121一一对应设置于子像素开口1111，各发光单元121包括位于基板10上的第一电极1211和第一载流子层1212，第一载流子层1212位于第一电极1211背离基板10一侧。

发光元件层12至少包括红色发光单元121、绿色发光单元121和蓝色发光单元121；还可以包括白色的发光单元，以提升显示面板1的亮度，本申请不做特别限定。发光单元121包括沿远离基板10方向层叠设置于基板10的第一电极1211、发光层和第二电极1216。第一电极1211可以为阳极、第二电极1216可为阴极，本申请不做特别限定。当第一电极1211为阳极时，各个第一电极1211独立设置，每个第一电极1211对应一个子像素开口1111，每个子像素开口1111暴露一个第一电极1211。发光层包括沿远离基板10方向层叠设置的第一载流子层1212和发光材料层1215，发光材料层1215对应设置于子像素开口1111内，第一载流子层1212包括位于子像素开口1111内且与第一电极1211接触的部分、以及形成于像素定义层111背离基板10一侧且与像素定义层111接触的部分。当电流通过发光单元121的第一电极1211和第二电极1216后可驱动发光材料层1215发光，此时第一电极1211提供的电流经第一载流子层1212传递至发光材料层1215。

其中，功能层组11包括阻隔结构13，阻隔结构13包括至少一个第一凹部131，第一凹部131形成于功能层组11中与隔离柱112相对应的区域，即，第一凹部131由隔离柱112背离基板10的表面向靠近基板10方向凹陷形成。第一载流子层1212中的至少部分区域经阻隔结构13隔断。

本申请提供的显示面板1中，阻隔结构13包括至少一个第一凹部131，第一凹部131形成于功能层组11中与隔离柱112相对应的区域，隔离柱112位于像素定义层111远离基板10的一侧，即隔离柱112位于子像素开口1111之间、阻隔结构13也位于子像素开口1111之间。第一载流子层1212位于像素定义层111背离基板10一侧的部分经阻隔结构13隔断，从而使得第一载流子层1212中位于相邻发光单元121之间的区域中，至少部分与阻隔结构13相对应的区域被阻隔结构13隔断。当第一电极1211中的电流传递至第一载流子层1212以驱动发光材料层1215发光时，由于至少部分与阻隔结构13相对应的区域被阻隔结构13隔断，从而可减少第一载流子层1212与不同发光单元121对应的部分之间的横向电流的传递，减小发光单元121误发光的几率，改善不同发光单元121之间的串扰问题。同时将第一凹部131设置于功能层组11中与隔离柱112相对应的区域，可通过隔离柱112增加第一凹部131的深度，使得阻隔结构13对第一载流子层1212的隔断效果更好，从而使得显示面板1的显示效果更好。

如图2和图3所示，当阻隔结构13包括多个第一凹部131时，在平行于基板10所在平面的方向上，每个第一凹部131可沿围绕子像素开口1111的方向n延伸、沿垂直于自身延伸方向排列。从而可进一步提升对第一载流子层1212的隔断效果，以进一步阻隔电流在第一载流子层1212内的横向传递。

在一种可行的实施方式中，第一载流子层1212包括空穴注入层1213(HIL)、空穴传输层1214(HTL)和电子阻挡层(EBL)中的至少一者。

在上述实施方式中，沿远离基板10厚度方向，第一载流子层1212可包括设置于基板10上的空穴注入层1213和空穴传输层1214。上述显示面板1中，第一载流子层1212中的至少部分膜层经阻隔结构13隔断，使得第一载流子层1212中的至少部分膜层与不同发光单元相对应的部分连通面积减小，从而可减小第一电极1211中的电流经第一载流子层1212的横向传递的几率，改善相邻发光单元121之间的串扰现象，使得显示面板1的显示效果更好。

在一种可行的实施方式中，显示面板1还包括第二载流子层(图中未示出)，第二载流子层位于发光材料层1215背离基板10的一侧，第二电极1216位于第二载流子层背离衬底的一侧。阻隔结构13可同时将第二载流子层隔断。同时，阻隔结构13可同时将第二电极1216隔断，本申请不做特别限定。其中，第二载流子层包括电子注入层(EIL)、电子传输层(ETL)、空穴阻挡层(HBL)中的至少一者

在一种可行的实施方式中，如图4所示，第一凹部131包括沿隔离柱112厚度方向贯穿隔离柱112的第一开孔1311。

在上述实施方式中，第一凹部131包括沿基板10厚度方向贯穿隔离柱112的第一开孔1311，第一开孔1311朝向基板10的一侧为像素定义层111，从而第一开孔1311与像素定义层111配合形成第一凹部131。由于第一开孔1311与基板10之间具有像素定义层111，从而可防止在形成第一开孔1311的时候对基板10上的结构(例如第一电极1211、信号线等)造成影响，保证了基板10的良率，从而保证了显示面板1的良率。

在另一种可行的实施方式中，如图5和图6所示，第一凹部131沿隔离柱112厚度方向贯穿隔离柱112的第一开孔1311、以及形成于像素定义层111且与第一开孔1311连通的第一凹槽1312。

在上述实施方式中，第一凹部131包括相连通的第一开孔1311和第一凹槽1312，第一开孔1311靠近基板10的开口与第一凹槽1312背离基板10一侧的开口可重叠，从而便于制备，且便于保证隔断效果。同时由于第一凹槽1312未沿基板10厚度方向贯穿像素定义层111，从而可在制备第一凹槽1312的时候防止对基板10上的结构(例如第一电极1211、信号线等)造成影响，保证了基板10的良率，从而保证了显示面板1的良率。同时，该实施方式中，由于第一凹槽1312形成于像素定义层111，从而可在第一凹部131沿基板10厚度方向深度保持不变的同时，降低隔离柱112沿基板10厚度方向的高度，从而降低功能层组11的整体厚度，便于实现显示面板1的轻薄化。

在一种可行的实施方式中，如图5和图6所示，第一凹部131在平行于基板10所在平面的方向上，沿子像素开口1111的侧边设置，第一凹部131包括相对设置的两个侧壁1313、以及位于远离基板10一侧的第一开口1314，第一凹部131在基板10的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面中，第一开口1314的尺寸小于两个侧壁1313之间的最大间距。同时，第一凹部131沿基板10厚度方向的深度为A，第一载流子层1212沿基板10厚度方向的厚度为a，A>a。

在上述实施方式中，由于第一凹部131沿基板10厚度方向的深度A大于第一载流子层1212沿基板10厚度方向的厚度a，从而使得位于第一凹部131中的第一载流子层1212背离基板10一侧的表面与第一开口1314之间具有预设距离；同时，将第一凹部131在基板10的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面中，第一开口1314的尺寸小于两个侧壁1313之间的最大间距，从而在第一载流子层1212的制备过程中，与上述预设距离处于同一高度的侧壁1313上无法形成第一载流子层1212，即第一载流子层1212无法布满侧壁1313。从而通过上述阻隔结构13使得第一载流子层1212在侧壁1313处断开，即实现了对第一载流子层1212的隔断。

在一种可行的实施方式中，如图6所示，第一凹部131在基板10的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面中，第一开口1314的尺寸为b，1.5μm≤b≤10μm。具体地，b可以为1.5μm、1.7μm、2.0μm、2.3μm、3.1μm、4.6μm、5.2μm、7.0μm、8.5μm、9.7μm、10μm等等，本申请不做特别限定。从而可保证第一载流子层1212在第一开口1314处断开的距离，防止出现粘连而影响隔断效果。

在一种可行的实施方式中，沿基板10的厚度方向，第一凹部131沿基板10厚度方向的深度为A，0.5μm≤A≤3μm，具体地，A可以为0.5μm、1.0μm、1.2μm、1.5μm、1.9μm、2μm、2.7μm、3μm等等，本申请不做特别限定。像素定义层111的厚度为d，0.5μm≤d≤2μm，具体地，d可以为0.5μm、1.0μm、1.1μm、1.6μm、1.8μm、2μm等等，本申请不做特别限定。隔离柱112的高度为h，1μm≤h≤1.5μm，具体地，h可以为1.0μm、1.1μm、1.2μm、1.4μm、1.5μm等等，本申请不做特别限定。

在上述实施方式中，沿基板10的厚度方向，像素定义层111与隔离柱112层叠设置的位置处厚度为1.5μm-3.5μm，将第一凹部131形成于功能层组11中像素定义层111与隔离柱112层叠设置的位置处，可提升第一凹部131沿基板10厚度方向的厚度范围，使得第一凹部131对第一载流子层1212的隔断效果更好。具体地，第一凹部131沿基板10厚度方向的深度为0.5μm-3μm，可在保证第一凹部131沿基板10厚度方向的深度以保证隔断效果的同时，使得第一凹部131靠近基板10的底面与基板10之间具有一定的距离，防止在形成第一凹部131时对基板10造成损伤。

在一种可行的实施方式中，如图7所示，显示面板1还包括支撑柱14，支撑柱14设置于像素定义层111背离基板10的一侧，支撑柱14包括位于背离基板10的一侧的第一表面M1，隔离柱112包括位于背离基板10一侧的第二表面M2，第一表面M1到基板10的距离大于第二表面M2到基板10的距离。

在上述实施方式中，在后续通过蒸镀工艺形成发光材料层1215时，支撑柱14可对蒸镀过程中使用的掩膜板进行支撑，防止掩膜板与基板10上已形成的膜层接触，以便于保证膜层平坦性，使得后续在发光材料层1215背离基板10一侧形成封装层时，可保证封装层的封装效果。

具体地，如图8所示，沿基板10的厚度方向，支撑柱14的高度为H，1.3μm≤H≤2μm。由于沿基板10的厚度方向，像素定义层111的厚度为d，0.5μm≤d≤2μm，隔离柱112的高度为h，1μm≤h≤1.5μm，因此，沿基板10的厚度方向，像素定义层111与隔离柱112层叠设置的位置处，像素定义层111与隔离柱112的总厚度D1为1.5μm-3.5μm，像素定义层111与支撑柱14层叠设置的位置处，像素定义层111与支撑柱14的总厚度D2为1.8μm-4μm，从而可通过将D2设置为大于D1，从而保证良好的封装效果。

在一种可行的实施方式中，如图8所示，第一凹部131在基板10的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面为梯形，梯形的底角为c，即侧壁1313与平行于基板10所在平面的夹角为c，c<90°。

在上述实施方式中，夹角c为侧壁1313与平行于基板10所在平面的夹角中朝向第一凹部131内部的夹角。c<90°从而可使得第一开口1314较小，以便于实现对第一载流子层1212的隔断。具体地，可将夹角c设置为小于80°，以进一步提升隔断效果。

具体地，夹角c可以为45°、50°、57°、61°、73°、79°等，具体可根据相邻子像素开口1111之间的距离进行设置，本申请不做特别限定。

在另一种可行的实施方式中，如图9所示，第一凹部131在所述基板的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面的边缘线为弧线。具体地，第一凹部131沿垂直于自身延伸方向的截面的边缘线可为椭圆弧，从而可实现平滑过渡，便于制备。同时，可将该椭圆弧对应的椭圆的长轴方向设置为与基板10厚度方向平行，从而可使得该阻隔结构13沿发光单元121排列方向的尺寸较小，同时使第一凹部131沿基板10厚度方向的深度较大，进一步提升其隔断效果。

在另一种可行的实施方式中，如图10所示，第一凹部131沿垂直于自身延伸方向的截面的边缘线还可以为折线，本申请不做特别限定。

在一种可行的实施方式中，功能层组11采用一种材质制备形成。具体地，可采用聚酰亚胺或者其它有机材料。采用同一种材料制备功能层组11，即将隔离柱112与像素定义层111一体成型，可简化制备工艺，减少制造成本。

在另一种可行的实施方式中，如图11所示，功能层组11包括沿基板10厚度方向层叠设置的第一膜层113和第二膜层114，第一膜层113和第二膜层114的材料可相同或不同，第一膜层113和第二膜层114可均采用有机材料，例如聚酰亚胺、光刻胶等；或者第一膜层113采用无机材料、第二膜层114采用有机材料，本申请不做特别限定。

当功能层组11包括沿基板10厚度方向层叠设置的第一膜层113和第二膜层114时，第一凹部131包括位于第一膜层113的第一部分1315以及位于第二膜层114的第二部分1316，第一部分1315沿基板10厚度方向的深度大于第一载流子层1212沿基板10厚度方向的厚度；第一凹部131沿围绕子像素开口1111的方向延伸，第一凹部131位于第二膜层114的部分沿垂直于自身延伸方向的截面中，且在平行于基板所在平面的方向上，第二部分1316靠近基板10的一端的间距为L1，第一部分1315中的最大间距为L2，L1<L2；沿垂直于自身延伸方向的截面中，两个侧壁1313中位于第二膜层114的部分中各个位置之间的间距相等，或者，沿垂直于自身延伸方向的截面中，两个侧壁1313中位于第二膜层114的部分之间的间距沿基板10厚度方向且由基板10向第一凹部131的方向逐渐增大。

在上述实施方式中，第一凹部131的第一部分1315用于隔断第一载流子层1212，从而改善相邻发光单元121之间的串扰问题。第二部分1316可使得第一载流子层1212背离基板10一侧的后续膜层连续，例如第二电极1216。当第二电极1216连续设置时，可减小第二电极1216的电阻，防止由于阴极电阻过高而导致显示不均或者其他良率问题，从而可进一步提升显示面板1的性能。

具体地，还可以通过将发光材料层1215设置于第一凹部131内以填充第一凹部131，使得后续形成的第二电极1216连续设置，以减小第二电极1216的电阻，防止由于阴极电阻过高而导致显示不均或者其他良率问题，从而可进一步提升显示面板1的性能。

在一种可行的实施方式中，如图12所示，阻隔结构13包围子像素开口1111设置。

上述实施方式中，可在至少部分子像素开口1111的周围形成包围该子像素开口1111的阻隔结构13，从而可使得第一载流子层1212与该子像素开口1111对应的部分完全独立，防止位于该子像素开口1111内的发光单元121受到其它发光单元121的串扰。

在一种可行的实施方式中，当发光元件层12包括三种颜色的发光单元121时，可在任意两种颜色的发光单元121对应的全部子像素开口1111周围形成上述包围子像素开口1111设置的阻隔结构13，从而可简化制备工艺，同时可实现全部发光单元121的防串扰。

在另一种可行的实施方式中，如图13所示，至少部分子像素开口1111周围设置有多个阻隔结构13，多个阻隔结构13沿围绕子像素开口1111的方向排列，从而可减小第一载流子层1212中的横向电流，同时简化制备工艺。

在一种可行的实施方式中，如图13、图14和图15所示所示，阻隔结构13在基板10上的正投影为条状或弧状，还可以为折线状等，本申请不做特别限定。如图13所示，当子像素开口1111在基板10上的正投影为矩形时，可将阻隔结构13在基板10上的正投影设置为条状，条状结构可以使得阻隔结构13在子像素开口1111方向正投影相同的情况下，减小阻隔结构13的延伸长度，可简化制备工艺。如图14和图15所示，当子像素开口1111在基板10上的正投影为圆形时，可将阻隔结构13在基板10上的正投影设置为弧状，具体地，如图14所示，可在子像素开口1111周围设置有多个阻隔结构13，或者如图15所示，阻隔结构13包围子像素开口1111设置，本申请不做特别限定。

本申请还提供了一种显示面板1的制备方法，如图16所示，包括：

S100，如图17所示，在基板10上形成第一电极1211。

S200，如图18所示，在第一电极1211背离基板10的一侧形成第一材料层15，第一材料层15包括与第一电极1211相对应的第一区域151、用于形成像素定义层111的第二区域152、用于形成隔离柱112的第三区域153。

S300，如图19所示，对第一材料层15进行第一次图案化工艺，以使第一区域151形成子像素开口1111、第二区域152形成像素定义层111的第一部分、第三区域153形成像素定义层111的第二部分和隔离柱112，像素定义层11的第二部分与隔离柱112层叠设置。

S400，如图20所示，在第一材料层15背离基板10一侧形成刻蚀阻挡层16，刻蚀阻挡层16包括用于暴露隔离柱112中的部分区域的开口161。

S500，如图21所示，在开口161处对第一材料层15进行第二次图案化工艺，以使第三区域153形成具有至少一个第一凹部131的阻隔结构13。

S600，如图22所示，去除刻蚀阻挡层16。

S700，如图22所示，在第一电极1211背离基板10的一侧形成第一载流子层1212，第一载流子层1212中的至少部分区域经阻隔结构13隔断。

在上述实施方式中，第一次图案化工艺可采用光刻工艺，此时第一材料层15采用光刻胶材料，如图18和图19所示，将光刻胶材料涂覆在第一电极1211背离基板10的一侧，然后在第一材料层15背离基板10的一侧放置光罩17，光罩17包括与第一区域151相对应的第一透光区171、与第二区域152相对应的第二透光区172以及与第三区域153相对应的第三透光区173。其中，第一透光区171的透光率大于第二透光区172的透光率，第二透光区172的透光率大于第三透光区173的透光率。然后通过曝光、显影以形成子像素开口1111、像素定义层111和位于像素定义层111上的隔离柱112。

具体地，第一透光区171的透光率可为百分之百，即第一透光区171可为贯穿光罩17厚度方向的开孔。第二透光区172的透光率可为百分之十五到百分之五十。第三透光区173的透光率可小于百分之五。本申请不作特别限定。

上述实施方式中，将像素定义层111与隔离柱112同时制备，不增加制备步骤，简化了制备过程、减少了制备成本。

在上述实施方式中，第二次图案化工艺可采用干刻工艺，在第一材料层15背离基板10的一侧形成刻蚀阻挡层16，以对要刻蚀区域进行定位、对非刻蚀区域进行保护，刻蚀阻挡层16的材质可以为无机材料，具体可为氧化铟锌或者氧化硅等，本申请不作特别限定。

然后可通过干刻工艺或湿刻工艺去除刻蚀阻挡层16。

在一种可行的实施方式中，如图23和图24所示，第一材料层15还包括用于形成支撑柱14的第四区域154，对第一材料层15进行第一次图案化工艺还包括：使第三区域153的厚度小于第四区域154的厚度，从而形成与像素定义层111层叠设置的支撑柱14。

上述实施方式中，光罩17还包括与第四区域154相对应的第四透光区174，第三透光区173的透光率大于第四透光区174的透光率，或者第三透光区173的面积小于第四透光区174的面积，从而使得在曝光、显影后第三区域153的厚度小于第四区域154的厚度。

本申请还提供了一种显示装置2，如图25所示，包括本申请上述实施方式提供的任意一种显示面板1。从而该显示装置2在显示过程中，相邻发光单元121之间串扰的问题得以改善，显示效果得以提升，从而有助于进一步提升用户体验。

上述显示装置2可以为手机、平板等移动终端，或者为电视机、显示器等固定终端，还可以为手表等可穿戴设备，本申请不作特别限定。

依照本申请如上文的实施例，这些实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该申请仅为的具体实施例。显然，根据以上描述，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本申请的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本申请以及在本申请基础上的修改使用。本申请仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板；

功能层组，包括像素定义层和隔离柱，像素定义层设置于所述基板的一侧且包括沿厚度方向贯穿所述像素定义层的多个子像素开口，隔离柱设置于所述像素定义层背离所述基板的一侧；

发光元件层，包括多个发光单元，各所述发光单元一一对应设置于所述子像素开口，各所述发光单元包括位于所述基板上的第一电极和第一载流子层，所述第一载流子层位于所述第一电极背离所述基板一侧；

其中，所述功能层组包括阻隔结构，所述阻隔结构包括至少一个第一凹部，所述第一凹部形成于所述功能层组中与所述隔离柱相对应的区域，所述第一载流子层中的至少部分区域经所述阻隔结构隔断。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一凹部包括沿所述隔离柱厚度方向贯穿所述隔离柱的第一开孔；或者，

所述第一凹部沿所述隔离柱厚度方向贯穿所述隔离柱的第一开孔、以及形成于所述像素定义层且与所述第一开孔连通的第一凹槽。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一凹部在平行于所述基板所在平面的方向上，沿所述子像素开口的侧边设置，所述第一凹部包括相对设置的两个侧壁、以及位于远离所述基板一侧的第一开口，所述第一凹部在所述基板的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面中，所述第一开口的尺寸小于两个所述侧壁之间的最大间距；

所述第一凹部沿所述基板厚度方向的深度为A，所述第一载流子层沿所述基板厚度方向的厚度为a，A＞a；

优选的，所述第一凹部在所述基板的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面中所述第一开口的尺寸为b，1.5μm≤b≤10μm；优选的，沿所述基板的厚度方向，0.5μm≤A≤3μm，所述像素定义层的厚度为d，0.5μm≤d≤2μm，所述隔离柱的高度为h，1μm≤h≤1.5μm；

优选的，所述第一凹部在所述基板的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面为梯形，所述梯形的底角为c，c<90°；或者，所述第一凹部在所述基板的厚度方向上且沿垂直于自身延伸方向的截面的边缘线为弧线；

优选的，所述功能层组采用一种材质制备形成。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一载流子层包括空穴注入层、空穴传输层和电子阻挡层中的至少一者。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述功能层组包括沿所述基板厚度方向层叠设置的第一膜层和第二膜层；

优选的，所述第一凹部包括位于所述第一膜层的第一部分以及位于第二膜层的第二部分，所述第一部分沿所述基板厚度方向的深度大于所述第一载流子层沿所述基板厚度方向的厚度；所述第一凹部沿所述子像素开口的侧边设置，所述第一凹部位于所述第二膜层的第二部分沿垂直于自身延伸方向的截面中，所述第二部分靠近所述基板的一端的间距为L1，所述第一部分中的最大间距为L2，L1<L2；沿垂直于自身延伸方向的截面中，两个所述侧壁中位于所述第二膜层的部分中各个位置之间的间距相等，或者，沿垂直于自身延伸方向的截面中，两个所述侧壁中位于所述第二膜层的部分之间的间距沿所述基板的厚度方向且由所述基板向所述第一凹部的方向逐渐增大。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻隔结构包围所述子像素开口设置；或者，

至少部分所述子像素开口周围设置有多个所述阻隔结构，多个所述阻隔结构沿围绕所述子像素开口的方向排列。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻隔结构在所述基板上的正投影为条状或弧状。

8.根据权利要求1-7任一项所述的显示面板，其特征在于，还包括支撑柱，所述支撑柱设置于所述像素定义层背离所述基板的一侧，所述支撑柱包括位于背离所述基板的一侧的第一表面，所述隔离柱包括位于背离所述基板一侧的第二表面，所述第一表面到所述基板的距离大于所述第二表面到所述基板的距离；

优选的，沿所述基板的厚度方向，所述支撑柱的高度为H，1.3μm≤H≤2μm。

9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

在基板上形成第一电极；

在所述第一电极背离所述基板的一侧形成第一材料层，所述第一材料层包括与所述第一电极相对应的第一区域、用于形成像素定义层的第二区域、用于形成隔离柱的第三区域；

对所述第一材料层进行第一次图案化工艺，所述第一区域形成子像素开口、所述第二区域形成所述像素定义层的第一部分、所述第三区域形成所述像素定义层的第二部分和所述隔离柱，所述像素定义层的第二部分与所述隔离柱层叠设置；

在所述第一材料层背离所述基板一侧形成刻蚀阻挡层，所述刻蚀阻挡层包括用于暴露所述隔离柱中的部分区域的开口；

在所述开口处对所述第一材料层进行第二次图案化工艺，所述第三区域形成具有至少一个第一凹部的阻隔结构；

去除所述刻蚀阻挡层；

在所述第一电极背离所述基板的一侧形成第一载流子层，所述第一载流子层中的至少部分区域经所述阻隔结构隔断。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的显示面板。

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