CN115128872A - 一种针对液晶分子及器件垂直取向的无机取向方法 - Google Patents
一种针对液晶分子及器件垂直取向的无机取向方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115128872A CN115128872A CN202210827752.XA CN202210827752A CN115128872A CN 115128872 A CN115128872 A CN 115128872A CN 202210827752 A CN202210827752 A CN 202210827752A CN 115128872 A CN115128872 A CN 115128872A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- liquid crystal
- inorganic
- orientation
- lcos
- vertical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims abstract description 16
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 48
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 32
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 26
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 10
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 61
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
本发明公开了一种针对液晶分子及器件垂直取向的无机取向方法。本发明通过在紫外臭氧清洗机里产生的臭氧及活性氧原子结合可见光波段偏振片的使用，对磁控溅射所沉积的ZnO无机膜进行处理，从而获得垂直无机取向膜实现液晶分子的垂直取向，凸显了无机膜取向的高稳定性和膜层薄的优势，是一种非接触式的无机取向技术。
Description
技术领域
本发明属于液晶器件制造技术领域，尤其涉及一种针对液晶分子及器件垂直取向的无机取向方法。
背景技术
液晶取向技术是液晶显示技术的核心之一，是一种用来诱导杂乱无章的液晶分子进行有序排列，是使液晶器件实现不同工作模式和优异光电性能的关键技术。在液晶取向技术领域，广泛使用摩擦聚酰亚胺(PI)的方式、或者紫外曝光光取向膜的技术实现液晶分子的取向。有机膜一直面临着取向膜的高温稳定性问题，以及有机膜的厚度导致液晶器件驱动电压损失的问题。因此，无机取向技术由于其自身的高稳定性、薄膜层等优势，逐渐成为液晶取向技术领域的研究热点。
无机取向是一种将无机材料沉积在衬底表面，形成能对液晶分子产生取向作用的无机膜的取向技术。在众多能够使液晶分子产生垂直取向的无机取向技术方案中，需要增加一道摩擦工艺用来给液晶分子施加一个一致性方向的力，从而使液晶分子产生均匀的垂直取向效果。然而接触式摩擦工艺会在摩擦过程中产生静电以及灰尘污染，从而降低了液晶器件的光电性能。
从以上分析可以看出，无机取向技术虽然具有高稳定性、薄膜层等优势，非接触式的无机取向技术是实现高分辨率高性能的液晶器件有前途的技术趋势。
发明内容
本发明目的在于提供一种针对液晶分子及器件垂直取向的无机取向方法,该方法是一种非接触式的无机取向技术以解决现有的有机垂直取向技术中膜稳定性、膜较厚的问题，以及无机垂直取向技术中接触式摩擦工艺导致的灰尘污染和静电的问题的技术问题。
为解决上述技术问题，本发明的具体技术方案如下：
一种针对液晶分子垂直取向的无机取向方法，在紫外臭氧清洗机中，通过产生的臭氧及活性氧原子结合可见光波段偏振片的方式来处理磁控溅射的ZnO无机膜，从而获得垂直无机取向膜，实现液晶分子的垂直取向。
本发明还公开了一种针对VA型液晶器件垂直取向的无机取向方法，ZnO无机膜在ITO玻璃的上表面进行磁控溅射。
进一步的，还包括以下步骤：
将2片ITO玻璃分别作为上玻璃基板和下玻璃基板，将封框胶用丝网印刷的方法对下基板印封框胶，再将衬底料均匀分布在下基板上表面，作用是使上基板和下基板分隔开一定的厚度，且控制厚度的均匀性；
按对位标记上基板与下基板对位粘合，再在高温下使封框胶固化形成液晶盒；
往液晶盒内灌注负性液晶材料并封口，最终制得VA型液晶器件。
本发明还公开了一种针对VA型LCoS器件垂直取向的无机取向方法，ZnO无机膜在ITO玻璃和LCoS芯片的上表面进行磁控溅射。
进一步的，还包括以下步骤：
将ITO玻璃作为上基板，LCoS芯片作为下基板，将封框胶用丝网印刷的方法对下基板印封框胶；当LCoS芯片尺寸≤1英寸时，将衬底料掺入封框胶里；当LCoS芯片尺寸＞1英寸时，将衬底料均匀分布在下基板的上表面；
将上基板与下基板对位粘合，再在高温下使封框胶固化形成液晶盒；
往液晶盒内灌注负性液晶材料并封口，最终制得VA型LCoS器件。
进一步的，LCoS芯片为LCoS芯片裸片或LCoS芯片晶圆。
本发明的一种针对液晶分子及器件垂直取向的无机取向方法，具有以下优点：
本发明通过在紫外臭氧清洗机中产生的臭氧及活性氧原子结合可见光波段偏振片的方式来处理磁控溅射的ZnO无机膜，从而获得垂直无机取向膜，实现液晶分子的垂直取向，是一种非接触式的无机取向方案，耐高温，膜层薄，可以实现取向膜的高稳定性，降低液晶器件的驱动电压，又可以避免由于接触式机械摩擦所导致的灰尘缺陷以及静电问题。
附图说明
图1为本发明的臭氧及活性氧原子结合可见光偏振片处理ZnO无机膜示意图；
图2为本发明的针对VA型液晶器件垂直取向的无机取向示意图；
图3为本发明的针对VA型LCoS器件垂直取向的无机取向示意图；
图4为本发明的臭氧及活性氧原子结合可见光偏振片处理LCoS芯片晶圆ZnO无机膜示意图；
图中标记说明：1、ITO玻璃；2、ZnO无机膜；3、可见光波段偏振片；4、臭氧及活性氧原子；5、垂直无机取向膜；6、衬底料；7、封框胶；8、负性液晶；9、LCoS芯片裸片；10、LCoS芯片晶圆。
具体实施方式
为了更好地了解本发明的目的、结构及功能，下面结合附图，对本发明一种针对液晶分子及器件垂直取向的无机取向方法做进一步详细的描述。
一种针对液晶分子及器件垂直取向(Vertical Alignment，VA型)的无机取向方法，包括ZnO无机膜2的制备、ZnO无机膜2的处理、基于垂直无机取向膜5的液晶器件；
所述ZnO无机膜2的制备是通过磁控溅射的方式在ITO玻璃1(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)衬底表面沉积ZnO无机材料，所制备得到的ZnO无机膜2层厚度在15nm至100nm；
所述ZnO无机膜2的处理如下：在紫外臭氧清洗机中，低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光，185nm波长紫外光的光能量能够将空气中的氧气分解成臭氧，而254nm波长紫外光的光能量能够将臭氧分解成氧气和活性氧原子。该光敏氧化反应过程是连续进行的，在这两种短波紫外光的照射下，臭氧和活性氧原子会不断产生，再结合可见光波段偏振片3处理ZnO无机膜2表面。处理后ZnO无机膜2成为垂直无机取向膜5实现对液晶分子的垂直取向。在上述情况下，将ZnO无机膜2处理15min至30min；
所述基于ZnO垂直无机取向膜5的VA模式液晶器件，其封装工艺流程包括：
在ITO玻璃1表面上进行磁控溅射以获得ZnO无机膜2、将ZnO无机膜2进行臭氧以及活性氧原子4结合可见光波段偏振片3的处理，得到垂直无机取向膜5、后续工艺采用常规工艺将其封装成VA型液晶器件；
所述基于ZnO垂直无机取向膜5的VA模式LCoS器件，其封装工艺流程包括：
在ITO玻璃1以及LCoS芯片裸片9上进行磁控溅射以获得ZnO无机膜2、将ZnO无机膜2进行臭氧以及活性氧原子4结合可见光波段偏振片3的处理，得到垂直无机取向膜5、后续工艺采用常规工艺将其封装成VA型LCoS液晶器件；
在ITO玻璃1以及LCoS芯片晶圆10上进行磁控溅射以获得ZnO无机膜2、将ZnO无机膜2进行臭氧以及活性氧原子4结合可见光波段偏振片3的处理，得到垂直无机取向膜5、后续工艺采用常规工艺将其封装成VA型LCoS液晶器件。
针对液晶分子垂直取向的无机取向方法的第一实施例：
1、对所述的ITO玻璃1依次用洗洁精、去离子水、丙酮、无水乙醇超声清洗15min，然后烘干；
2、在ITO玻璃1上通过磁控溅射的方式沉积ZnO无机膜2，时长7min至20min，膜厚15nm至100nm；
3、在紫外臭氧清洗机中，进行臭氧以及活性氧原子4结合可见光波段偏振片3处理ZnO无机膜2，时长25min至35min，获得ZnO垂直无机取向膜5；
针对VA型液晶器件垂直取向的无机取向方法的第一实施例：
1、对所述的ITO玻璃1依次用洗洁精、去离子水、丙酮、无水乙醇超声清洗15min，然后烘干；
2、在ITO玻璃1上通过磁控溅射的方式沉积ZnO无机膜2，时长7min至20min，膜厚15nm至100nm；
3、在紫外臭氧清洗机中，进行臭氧以及活性氧原子4结合可见光波段偏振片3处理ZnO无机膜2，时长25min至35min,获得ZnO垂直无机取向膜5；
4、将2片ITO玻璃(1)分别作为上基板和下基板，将封框胶(7)用丝网印刷的方法对下基板印封框胶(7)，再将衬底料(6)均匀分布在下基板上表面；
5、按对位标记上基板与下基板对位粘合，再在高温下使封框胶7固化形成液晶盒。
6、往液晶盒内灌注负性液晶8材料并封口，最终制得VA型LCD器件。
针对VA型LCoS器件垂直取向的无机取向方法的第一实施例：
1、对所述的ITO玻璃1和LCoS芯片裸片9依次用洗洁精、去离子水、丙酮、无水乙醇超声清洗15min，然后烘干；
2、在ITO玻璃1和LCoS芯片裸片9上通过磁控溅射的方式沉积ZnO无机膜2，时长7min至20min，膜厚15nm至100nm；
3、在紫外臭氧清洗机中，进行臭氧以及活性氧原子4结合可见光波段偏振片3处理ZnO无机膜2，时长25min至35min,获得ZnO垂直无机取向膜5；
4、将ITO玻璃1作为上基板，LCoS芯片裸片9作为下基板，将封框胶7用丝网印刷的方法对下基板印封框胶7；当LCoS芯片裸片9尺寸≤1英寸时，将衬底料6掺入封框胶7里；当LCoS芯片裸片9尺寸＞1英寸时，将衬底料6均匀分布在下基板的上表面；
5、上基板与下基板对位粘合，再在高温下使封框胶7固化形成液晶盒。
6、往液晶盒内灌注负性液晶8材料并封口，最终制得VA型LCoS器件。
针对VA型LCoS器件垂直取向的无机取向方法的第二实施例：
1、对所述的ITO玻璃1和LCoS芯片晶圆10依次用洗洁精、去离子水、丙酮、无水乙醇超声清洗15min，然后烘干；
2、在ITO玻璃1和LCoS芯片晶圆10上通过磁控溅射的方式沉积ZnO无机膜2，时长7min至20min，膜厚15nm至100nm；
3、在紫外臭氧清洗机中，进行臭氧以及活性氧原子4结合可见光波段偏振片3处理ZnO无机膜2，时长25min至35min,获得ZnO垂直无机取向膜5；
4、将ITO玻璃1作为上基板，LCoS芯片晶圆10作为下基板，将封框胶7用丝网印刷的方法对下基板印封框胶7，当LCoS芯片晶圆10尺寸≤1英寸时，将衬底料6掺入封框胶7里；当LCoS芯片晶圆10尺寸＞1英寸时，将衬底料6均匀分布在下基板的上表面；
5、将上基板与下基板对位粘合，再在高温下使封框胶7固化形成液晶盒。
6、往液晶盒内灌注负性液晶8材料并封口，最终切割制得VA型LCoS器件。
可以理解，本发明是通过一些实施例进行描述的，本领域技术人员知悉的，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，可以对这些特征和实施例进行各种改变或等效替换。另外，在本发明的教导下，可以对这些特征和实施例进行修改以适应具体的情况及材料而不会脱离本发明的精神和范围。因此，本发明不受此处所公开的具体实施例的限制，所有落入本申请的权利要求范围内的实施例都属于本发明所保护的范围内。
Claims (6)
1.一种针对液晶分子垂直取向的无机取向方法，其特征在于，在紫外臭氧清洗机中，通过产生的臭氧及活性氧原子(4)结合可见光波段偏振片(3)的方式来处理磁控溅射的ZnO无机膜(2)，从而获得垂直无机取向膜(5)，实现液晶分子的垂直取向。
2.根据权利要求1所述的一种针对VA型液晶器件垂直取向的无机取向方法，其特征在于，所述ZnO无机膜(2)在ITO玻璃(1)的上表面进行磁控溅射。
3.根据权利要求2所述的针对VA型液晶器件垂直取向的无机取向方法，其特征在于，还包括以下步骤：
将2片ITO玻璃(1)分别作为上基板和下基板，将封框胶(7)用丝网印刷的方法对下基板印封框胶(7)，再将衬底料(6)均匀分布在下基板上表面；
按对位标记上基板与下基板对位粘合，再在高温下使封框胶(7)固化形成液晶盒；
往液晶盒内灌注负性液晶(8)材料并封口，最终制得VA型液晶器件。
4.根据权利要求1所述的一种针对VA型LCoS器件垂直取向的无机取向方法，其特征在于，所述ZnO无机膜(2)在ITO玻璃(1)和LCoS芯片的上表面进行磁控溅射。
5.根据权利要求4所述的针对VA型LCoS器件垂直取向的无机取向方法，其特征在于，还包括以下步骤：
步骤1、将ITO玻璃(1)作为上基板，LCoS芯片作为下基板，将封框胶(7)用丝网印刷的方法对下基板印封框胶(7)；当LCoS芯片尺寸≤1英寸时，将衬底料(6)掺入封框胶(7)里；当LCoS芯片尺寸＞1英寸时，将衬底料(6)均匀分布在下基板的上表面；
步骤2、将上基板与下基板对位粘合，再在高温下使封框胶(7)固化形成液晶盒；
步骤3、往液晶盒内灌注负性液晶(8)材料并封口，最终制得VA型LCoS器件。
6.根据权利要求5所述的针对VA型LCoS器件垂直取向的无机取向方法，其特征在于，所述LCoS芯片为LCoS芯片裸片(9)或LCoS芯片晶圆(10)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210827752.XA CN115128872A (zh) | 2022-07-13 | 2022-07-13 | 一种针对液晶分子及器件垂直取向的无机取向方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210827752.XA CN115128872A (zh) | 2022-07-13 | 2022-07-13 | 一种针对液晶分子及器件垂直取向的无机取向方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115128872A true CN115128872A (zh) | 2022-09-30 |
Family
ID=83383329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210827752.XA Pending CN115128872A (zh) | 2022-07-13 | 2022-07-13 | 一种针对液晶分子及器件垂直取向的无机取向方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN115128872A (zh) |
Citations (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000020574A (ko) * | 1998-09-22 | 2000-04-15 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시장치의 배향막 형성방법 |
| JP2001305553A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Fuji Xerox Co Ltd | 液晶表示素子およびその製造方法 |
| JP2003302637A (ja) * | 2002-04-12 | 2003-10-24 | Seiko Epson Corp | 液晶装置用基板、液晶装置用基板の製造方法、液晶装置、並びに投射型表示装置 |
| KR20060017416A (ko) * | 2004-08-20 | 2006-02-23 | 삼성전자주식회사 | 다공성 무기막을 포함하는 액정 표시 패널 및 이를 갖는액정표시 장치 |
| CN1841168A (zh) * | 2005-03-28 | 2006-10-04 | 精工爱普生株式会社 | 密封结构、密封方法、液晶装置及其制造方法、投影仪 |
| JP2006284722A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Citizen Miyota Co Ltd | 液晶表示素子、及び配向膜形成方法 |
| JP2007047253A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Seiko Epson Corp | 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 |
| CN101046584A (zh) * | 2006-03-29 | 2007-10-03 | 斯坦雷电气株式会社 | 液晶显示装置 |
| JP2007286468A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造方法 |
| KR100865540B1 (ko) * | 2007-04-24 | 2008-10-29 | 이화여자대학교 산학협력단 | 배향막의 형성 방법 및 이를 포함하는 액정 표시 장치 |
| US20100006538A1 (en) * | 2008-07-10 | 2010-01-14 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing liquid crystal device |
| JP2011221115A (ja) * | 2010-04-06 | 2011-11-04 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造方法 |
| CN103403127A (zh) * | 2011-03-30 | 2013-11-20 | 株式会社艾迪科 | 聚合性液晶组合物、偏振发光性涂料、新型萘内酰胺衍生物、新型香豆素衍生物、新型尼罗红衍生物以及新型蒽衍生物 |
| CN108681157A (zh) * | 2018-05-17 | 2018-10-19 | 东南大学 | 一种针对LCoS液晶屏的屏外光取向方法 |
| CN109471303A (zh) * | 2017-09-08 | 2019-03-15 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置及其制造方法 |
| CN110928055A (zh) * | 2018-09-20 | 2020-03-27 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置 |
-
2022
- 2022-07-13 CN CN202210827752.XA patent/CN115128872A/zh active Pending
Patent Citations (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000020574A (ko) * | 1998-09-22 | 2000-04-15 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시장치의 배향막 형성방법 |
| KR100539581B1 (ko) * | 1998-09-22 | 2006-02-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치의 배향막 형성방법 |
| JP2001305553A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Fuji Xerox Co Ltd | 液晶表示素子およびその製造方法 |
| JP2003302637A (ja) * | 2002-04-12 | 2003-10-24 | Seiko Epson Corp | 液晶装置用基板、液晶装置用基板の製造方法、液晶装置、並びに投射型表示装置 |
| KR20060017416A (ko) * | 2004-08-20 | 2006-02-23 | 삼성전자주식회사 | 다공성 무기막을 포함하는 액정 표시 패널 및 이를 갖는액정표시 장치 |
| CN1841168A (zh) * | 2005-03-28 | 2006-10-04 | 精工爱普生株式会社 | 密封结构、密封方法、液晶装置及其制造方法、投影仪 |
| JP2006284722A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Citizen Miyota Co Ltd | 液晶表示素子、及び配向膜形成方法 |
| JP2007047253A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Seiko Epson Corp | 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 |
| CN101046584A (zh) * | 2006-03-29 | 2007-10-03 | 斯坦雷电气株式会社 | 液晶显示装置 |
| JP2007286468A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造方法 |
| KR100865540B1 (ko) * | 2007-04-24 | 2008-10-29 | 이화여자대학교 산학협력단 | 배향막의 형성 방법 및 이를 포함하는 액정 표시 장치 |
| US20100006538A1 (en) * | 2008-07-10 | 2010-01-14 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing liquid crystal device |
| JP2011221115A (ja) * | 2010-04-06 | 2011-11-04 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造方法 |
| CN103403127A (zh) * | 2011-03-30 | 2013-11-20 | 株式会社艾迪科 | 聚合性液晶组合物、偏振发光性涂料、新型萘内酰胺衍生物、新型香豆素衍生物、新型尼罗红衍生物以及新型蒽衍生物 |
| CN109471303A (zh) * | 2017-09-08 | 2019-03-15 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置及其制造方法 |
| CN108681157A (zh) * | 2018-05-17 | 2018-10-19 | 东南大学 | 一种针对LCoS液晶屏的屏外光取向方法 |
| CN110928055A (zh) * | 2018-09-20 | 2020-03-27 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100557513C (zh) | 薄膜蚀刻方法以及使用该方法制造液晶显示器件的方法 | |
| US7679710B2 (en) | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof | |
| CN105733608A (zh) | 液晶材料、液晶显示面板的制作方法、及液晶显示面板 | |
| US7253866B2 (en) | Method of fabricating liquid crystal display device | |
| CN104950541A (zh) | Boa型液晶显示面板及其制作方法 | |
| CN102305978A (zh) | 硅基液晶屏生产系统及其生产方法 | |
| CN108803125A (zh) | 液晶面板及其制作方法 | |
| CN202351590U (zh) | 光配向装置 | |
| CN114355659B (zh) | 基于阵列基板结构的光学显示器件制作方法 | |
| JPH0534699A (ja) | 液晶表示素子 | |
| CN105068375B (zh) | 用于光配向的光罩及光配向方法 | |
| JP2004310031A5 (zh) | ||
| JP2004310031A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| KR20070003500A (ko) | 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
| CN115128872A (zh) | 一种针对液晶分子及器件垂直取向的无机取向方法 | |
| US20030075849A1 (en) | Structure of vacuum chuck for absorbing substrate | |
| TWI297411B (en) | An apparatus for manufacturing a liquid crystal display | |
| CN100360997C (zh) | 液晶显示设备及其形成方法 | |
| US6741322B2 (en) | Production line of liquid crystal display device having shield of UV blocking material | |
| KR101097537B1 (ko) | 횡전계 방식 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
| CN108681157A (zh) | 一种针对LCoS液晶屏的屏外光取向方法 | |
| JP2003270652A (ja) | 液晶拡散制御装置及び液晶表示装置の製造方法 | |
| WO2018113150A1 (zh) | 一种面板制程装置 | |
| JPH01210932A (ja) | 液晶表示装置の配向処理方法 | |
| JP2006003896A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |